JPH0645363U - 半導体レーザ素子 - Google Patents
半導体レーザ素子Info
- Publication number
- JPH0645363U JPH0645363U JP8206892U JP8206892U JPH0645363U JP H0645363 U JPH0645363 U JP H0645363U JP 8206892 U JP8206892 U JP 8206892U JP 8206892 U JP8206892 U JP 8206892U JP H0645363 U JPH0645363 U JP H0645363U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- semiconductor laser
- receiving element
- laser device
- package
- Prior art date
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- Pending
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- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体レーザ装置のパッケージ内での光の乱
反射を防止し、光学的特性に支障をきたさないようにす
る。 【構成】 半導体レーザチップ2とこのレーザチップ2
の光出力をモニタするためのフォトダイオード3とをそ
れぞれヒートシンク4とステム5に取付け、円筒パッケ
ージ6によって気密封止されて構成し、前記フォトダイ
オード3は、遮蔽箱22で覆われ、該遮蔽箱22にはレ
ーザチップ2からの光をフォトダイオード3へ入射する
開口部22aを設けている。
反射を防止し、光学的特性に支障をきたさないようにす
る。 【構成】 半導体レーザチップ2とこのレーザチップ2
の光出力をモニタするためのフォトダイオード3とをそ
れぞれヒートシンク4とステム5に取付け、円筒パッケ
ージ6によって気密封止されて構成し、前記フォトダイ
オード3は、遮蔽箱22で覆われ、該遮蔽箱22にはレ
ーザチップ2からの光をフォトダイオード3へ入射する
開口部22aを設けている。
Description
【0001】
本考案は、半導体レーザ装置に係り、特に光出力モニタ用受光素子の乱反射を 防止する構造に関する。
【0002】
従来、この種の半導体レーザ装置1は、図3に示すように、半導体レーザチッ プ2とこのレーザチップ2の光出力をモニタするためのフォトダイオード3とを 、それぞれヒートシンク4とステム5に取り付け、円筒パッケージ6によって気 密封止されて構成されている。
【0003】 上記構成の半導体レーザ装置1において、半導体レーザチップ2の光Aは、ホ トダイオード3に入射され、ホトダイオード3より光B方向に反射させていた。 該反射光Bは、円筒パッケージ6内壁で反射し、乱反射光Cが発生する。
【0004】
上記のように、パッケージ6内で乱反射光Cが発生すると、乱反射光Cは、出 力をモニタするフォトダイオード3に入射する。そのため、フォトダイオード3 の出力にオフセットが加えられ、出射光の出力制御に誤差を生じ光学的特性に悪 い影響を及ぼしていた。
【0005】 本考案は、半導体レーザ装置のパッケージ内での光の乱反射を防止し、正確な 出力制御が行なえる半導体レーザ装置を提供することを目的とする。
【0006】
上記目的を達成するために本考案は、光源と光出力モニタ用受光素子(以下受 光素子という)とを同一パッケージ内に具備した半導体レーザ装置において、前 記光源から受光素子への光の入射を妨げず、受光素子からの反射光を前記パッケ ージへの入射を防止する遮蔽装置を設ける。
【0007】 また、前記遮蔽装置として、受光素子への光の入射孔を有する遮蔽箱を設け、 該遮蔽箱で受光素子を覆うことによって本考案の目的を達成することができる。
【0008】 さらに、前記受光素子を透明樹脂で埋設し、該透明樹脂の表面を無透過膜で被 覆しても本考案の目的を達成することができる。
【0009】
光源から受光素子へ入射した光は、受光素子より反射しても、パッケージ内壁 への入射は妨げられ、パッケージ内での乱反射を防止することができる。
【0010】
図1は本考案の一実施例を示す半導体レーザ装置の要部断面図である。なお、 従来の技術と同一の箇所には同じ符号を付している。
【0011】 本考案の半導体レーザ装置21は、半導体レーザチップ2とこのレーザチップ 2の光出力をモニタするためのフォトダイオード3とを、それぞれヒートシンク 4とステム5に取付け、円筒パッケージ6によって気密封止されて構成されてい る。
【0012】 前記フォトダイオード3は、遮蔽箱22で覆われている。該遮蔽箱22は、レ ーザチップ2からの光をフォトダイオード3へ入射する開口部22aを有してい る。
【0013】 上記のように構成された半導体レーザ装置21において、レーザチップ2から の光は、開口部22aよりフォトダイオード3に入射される。入射光Aは、反射 光Bとして反射されるが、遮蔽箱22の内壁で遮られ、パッケージ6内での乱反 射は生じない。
【0014】 また、他の実施例としては、図2の要部断面図に示すように、フォトダイオー ド3を透明樹脂23で埋設し、該透明樹脂23の表面23aを無透過膜24で被 覆すると、レーザチップ2からフォトダイオード3へ入射された入射光Aは、反 射光Bとして反射されるが、無透過膜24で遮られ、パッケージ6内での乱反射 は生じない。
【0015】
本考案の半導体レーザ装置は、上記の如く構成されているので以下のような効 果を奏する。レーザチップ2からフォトダイオード3へ入射された入射光Aは、 パッケージ6内へ漏れることがないので、パッケージ6内での乱反射光を防止で き、その結果、乱反射光の影響を受けることなく安定した光学的特性を得ること ができる。
【図1】本考案の半導体レーザ装置の要部断面図であ
る。
る。
【図2】同じく他の実施例の半導体装置の要部断面図で
ある。
ある。
【図3】従来の半導体レーザ装置の要部断面図である。
2 レーザチップ 3 フォトダイオード 4 ヒートシンク 5 ステム 6 円筒パッケージ 22 遮蔽箱 23 透明樹脂 24 無透過膜 A 入射光 B,C 反射光
Claims (3)
- 【請求項1】 光源と光出力モニタ用受光素子とを同一
パッケージ内に具備した半導体レーザ装置において、前
記光源から光出力モニタ用受光素子への光の入射を妨げ
ず、光出力モニタ用受光素子からの反射光を前記パッケ
ージへの入射を防止する遮蔽装置を設けたことを特徴と
する半導体レーザ装置。 - 【請求項2】 前記光出力モニタ用受光素子への光の入
射孔を有する光出力モニタ用受光素子を覆う遮蔽箱を設
けたことを特徴する請求項1記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項3】 前記光出力モニタ用受光素子を透明樹脂
で埋設し、該透明樹脂の表面を無透過膜で被覆したこと
を特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8206892U JPH0645363U (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 半導体レーザ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8206892U JPH0645363U (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 半導体レーザ素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0645363U true JPH0645363U (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=13764175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8206892U Pending JPH0645363U (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 半導体レーザ素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0645363U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001066525A (ja) * | 1999-08-30 | 2001-03-16 | Ricoh Co Ltd | 複数ビーム走査装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6154689A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-18 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置 |
JPS62196881A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レ−ザ |
JPH0411795A (ja) * | 1990-04-28 | 1992-01-16 | Rohm Co Ltd | レーザダイオード |
JPH0414888A (ja) * | 1990-05-08 | 1992-01-20 | Rohm Co Ltd | レーザダイオード |
-
1992
- 1992-11-27 JP JP8206892U patent/JPH0645363U/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6154689A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-18 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置 |
JPS62196881A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レ−ザ |
JPH0411795A (ja) * | 1990-04-28 | 1992-01-16 | Rohm Co Ltd | レーザダイオード |
JPH0414888A (ja) * | 1990-05-08 | 1992-01-20 | Rohm Co Ltd | レーザダイオード |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001066525A (ja) * | 1999-08-30 | 2001-03-16 | Ricoh Co Ltd | 複数ビーム走査装置 |
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