JP2003161903A - 複数ビーム走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は、複数の発光部を有する光源が容
器内に収納された光源部を複数有する場合に光源部から
の拡散光が被走査面に到達して異常画像を発生させると
いう課題を解決しようとするものである。 【解決手段】 この発明は、光源部を複数有し、光源１
ａ、１ｂと被走査面６との間に配置され光源１ａ、１ｂ
の裏側から出射されて容器内で拡散されてから容器の外
部へ射出された拡散光が被走査面６に到達するのを防止
する遮光部材を備えたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザプリンタ、複
写機、ファクシミリなどに用いられる複数ビーム走査装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザプリンタ、複写機、ファクシミリ
などの画像形成装置では、レーザ光を偏向器で偏向し被
走査面に光スポットとして結像して該光スポットで被走
査面を走査する光走査装置が用いられている。この光走
査装置は、半導体レーザから単一のレーザ光を偏向器で
偏向し被走査面に光スポットとして結像して該光スポッ
トで被走査面を走査する光走査装置や、半導体レーザア
レイから複数のレーザ光を偏向器で偏向し被走査面に複
数の光スポットとして結像して該複数の光スポットで被
走査面を平行に走査する複数ビーム走査装置がある。

【０００３】特開２０００−１３７１８０号公報には、
複数ビーム走査装置において、半導体レーザアレイから
発するゴースト光、つまり、半導体レーザチップからの
光束をモニターするモニター用受光素子の表面での反射
により発生する拡散光を遮光する部材を半導体レーザア
レイを含む光源部と被走査面との間に配置し、ゴースト
光による画像への影響を除去するようにしたものが記載
されている。

【０００４】特開２００１−６６５２５号公報には，複
数ビーム走査装置において、半導体レーザアレイから発
するゴースト光の射出方向を偏向器のカバー方向にし、
ゴースト光の遮光もしくは除去を行う部材として偏向器
のカバーを用いてゴースト光の画像への影響を除去する
ようにしたものが記載されている。特開平５−２７１８
９号公報には，光走査装置において、半導体レーザ及び
発光出力モニター用フォトダイオードを収納したパッケ
ージの内部に遮蔽板を配置してゴースト光を除去し、又
は上記遮蔽板を開口絞りを兼ねて使用してゴースト光を
除去するものが記載されている。

【０００５】図８は複数ビーム走査装置の一例を示す。
複数の発光部としての発光点を有する光源１は、半導体
レーザアレイからなり、複数の発散光束を放射する。こ
の光源１からの複数本の光束は、集光レンズ２を透過し
た後に、光束を規制する絞り３により光束径が規制され
る。この絞り３からの複数本の光束は線像結像光学系４
により偏向器５の偏向反射面５ａ近傍に線状に結像さ
れ、偏向器５は入射光束を等角速度的に偏向する。

【０００６】偏向器５と被走査面６との間にはｆθレン
ズ７と長尺レンズ８が配置され、これらの合成系により
偏向器５からの複数本の光束がミラー９を介して被走査
面６上に光スポットとして結像されて該光スポットが偏
向器５の回動によって被走査面６上を走査する。また、
同期をとるための同期検知系１０は同期検知センサ１
１、結像素子１２及びミラー１３により構成され、ｆθ
レンズ７からの光束がミラー１３により反射された後に
結像素子１２によりにより同期検知センサ１１に結像さ
れて検知される。

【０００７】結像素子１２は、副走査方向にのみパワー
を持つレンズでも、主走査方向にのみパワーを持つレン
ズでも、主走査方向及び副走査方向の両方にパワーを持
つレンズでもよい。また、結像素子１２は、レンズの代
りにパワーを持つミラーを用いてもよい。また、結像素
子１２を用いずに、ミラー１３に上記のようなパワーを
持たせて同期検知系１０を構成してもよい。

【０００８】光源１は例えば４つの発光点ｃｈ１〜ｃｈ
４を有する半導体レーザアレイがパッケージ内に収納さ
れており、半導体レーザアレイはその構造から前側（偏
向器４側）に複数本の光束ＦＢ１〜ＦＢ４を放射すると
ともに後側に複数の光束ＢＢ１〜ＢＢ４を放射する。半
導体レーザアレイ１から後側に放射された複数の光束Ｂ
Ｂ１〜ＢＢ４は発光出力モニター用フォトダイオード１
４によって受光されて半導体レーザアレイ１の発光出力
のモニターが行われる。

【０００９】図９は半導体レーザアレイ１及び発光出力
モニター用フォトダイオード１４をパッケージ１５内に
収納した光源部を示す一部切欠斜視図である。半導体レ
ーザアレイ１は、光走査に用いられる光束ＦＢ１〜ＦＢ
４を前側に放射するだけでなく、発光出力モニターに用
いられる光束ＢＢ１〜ＢＢ４を後側に放射する。この光
束ＢＢ１〜ＢＢ４は発光出力モニター用フォトダイオー
ド１４によりモニターされ、図示しないフィードバック
回路は発光出力モニター用フォトダイオード１４の出力
信号に基づいて半導体レーザアレイ１の発光出力を正規
の値に制御する。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】半導体レーザアレイ
は、その構造上、一般的な１本のレーザビームを発する
レーザダイオードと異なり、ゴースト光を発生させてし
まう。さらに、半導体レーザアレイを複数個組み合わせ
て用いる場合は、各半導体レーザアレイから射出される
ゴースト光の射出方向を定めておかないと、正しくゴー
スト光を遮光することができない。各半導体レーザアレ
イからのゴースト光を遮光する遮光部材を配置する場合
には、各半導体レーザアレイからのゴースト光が遮光部
材により有効に遮光されるように半導体レーザアレイを
レイアウトする必要がある。

【００１１】特開２０００−１３７１８０号公報、特開
２００１−６６５２５号公報記載のものは、ともに半導
体レーザアレイからのゴースト光の遮光もしくは除去に
関するものであるが、上記のような複数の半導体レーザ
アレイを組み合わせて用いる場合については全く考慮さ
れていない。

【００１２】上記図８に示す複数ビーム走査装置では、
半導体レーザアレイ１から放射されて発光出力モニター
用フォトダイオード１４に当った光束は、発光出力モニ
ター用フォトダイオード１４の表面で反射され、拡散光
となってパッケード１５の開口部であるレーザ窓１５ｏ
を通過していわゆるゴースト光となる。このゴースト光
は、当該複数ビーム走査装置の光学ハウジング内で反射
されて被走査面６にたどりつき、異常画像を引き起こす
ことがあった。

【００１３】この不具合に対して一般的には発光出力モ
ニター用フォトダイオード１４を傾けて配置することに
より、ゴースト光がパッケード１５の外に出ないよう
に、もしくは被走査面６と関係ない方向に逃がすように
構成されている。しかし、このような構成では、発光出
力モニター用フォトダイオード１４をあまり傾けすぎる
と発光出力モニター用フォトダイオード１４の感度が鈍
くなるため、発光出力モニター用フォトダイオード１４
を傾けることが可能な角度に限界がある。

【００１４】そこで、特開平５−２７１８９号公報記載
のものは、半導体レーザ及び発光出力モニター用フォト
ダイオードを収納したパッケージの内部に遮蔽板を配置
してゴースト光を除去することを試みている。しかし、
この特開平５−２７１８９号公報記載のものでは、半導
体レーザの発光点の近傍に遮蔽板を配置するので、半導
体レーザからの正規の必要な光を遮蔽板でカットするこ
とになったり、遮蔽板を半導体レーザからの正規の光の
妨げにならないように配置したためにゴースト光を十分
に除去することができない等の問題があり、実用的且つ
効果的ではない。

【００１５】また、特開平５−２７１８９号公報記載の
ものは、上記遮蔽板を開口絞りを兼ねて使用することを
提案しているが、開口絞りが半導体レーザの発光点近傍
にあり、しかも半導体レーザからの発散している光束の
途中に開口絞りを配置する必要があるので、その位置精
度が非常に厳しくなり、現実的ではない。また、半導体
レーザ及び発光出力モニター用フォトダイオードをパッ
ケージに収納した光源ユニットの間での光量ばらつきが
大きく発生し、光源ユニットの光量調整範囲を大きくと
る必要が生じ，光源ユニット構成上の技術課題が増えて
しまう。

【００１６】一方，光源部が複数の発光点を有する場合
には、光源部の発光点が１つである場合に比べて、発光
出力モニター用フォトダイオードの大きさは約発光点数
倍に大きくする必要があり、より一層ゴースト光を発生
させ易くなる。例えば，光源部の発光点が１つである場
合の発光出力モニター用フォトダイオードの大きさが２
０μｍ角であったとすると、光源部が４つの発光点を有
する場合の発光出力モニター用フォトダイオードの大き
さはその４倍の約８０μｍの長さが必要になる。また、
光源部の光束を射出するレーザ窓に関しては、光源部が
複数の発光点を有する場合には、光源部の発光点が１つ
である場合に比べて大きくする必要があり、ゴースト光
がレーザ窓から射出される可能性がより大きくなる。

【００１７】図１０は図８に示した複数ビーム走査装置
を主走査方向から見た図である。この複数ビーム走査装
置では、線像結像光学系４とミラー５との間にミラー１
６を配置してレイアウトのコンパクト化を図っている。
複数の発光点を有する光源１から射出された光束が正規
の光路を通って被走査面６を走査する状態が図１０にＬ
で示されている。これに対して，光源１から後側に放射
されて発光出力モニター用フォトダイオード１４で反射
された拡散光がゴースト光となって被走査面６に到達す
る状態が図１０にｇで示されている。

【００１８】発光出力モニター用フォトダイオード１４
は光源１から後側に放射された光が正規の走査光近傍を
通らないように傾けて配置されているので、図１０に示
す例ではゴースト光が図示のように斜めに走査光学系を
横切て被走査面６に到達する。このゴースト光は、偏向
器５で偏向されないため、絶えず同じ位置（図１０の例
では被走査面６上の位置Ｇ）に当り続け，微量の光であ
ってもそのエネルギーは被走査面６上に蓄積されて画像
を形成し得るに十分なエネルギーとなり、異常画像とし
て現れてしまう。

【００１９】本発明は、複数の発光部を有する光源が容
器内に収納された光源部を複数有することにより偏向器
の回転数を減らすことができる上に、光源部からの拡散
光が被走査面に到達することを防止して異常画像の発生
を未然に防ぐことができ、遮光部材の配置を容易にする
ことができ、複数の光源部からの拡散光を共通の遮光部
材で効率良く遮光することができる複数ビーム走査装置
を提供することを目的とする。

【００２０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に係る発明は、複数の光束を被走査面で副
走査方向に所定の間隔となるように出射する複数の発光
部を有する光源を備え、この光源が容器内に収納された
光源部と、この光源部の前側からの光束を偏向する偏向
器とを具備し、この偏向器からの光束を被走査面に光ス
ポットとして結像して該光スポットで前記被走査面を走
査する複数ビーム走査装置において、前記光源部を複数
有し、前記光源と前記被走査面との間に配置され前記光
源の裏側から出射されて前記容器内で拡散されてから前
記容器の外部へ射出された拡散光が前記被走査面に到達
するのを防止する遮光部材を備えたものである。

【００２１】請求項２に係る発明は、複数の光束を被走
査面で副走査方向に所定の間隔となるように出射する複
数の発光部を有する光源を備え、この光源が容器内に収
納された光源部と、この光源部の前側からの光束を偏向
する偏向器とを具備し、この偏向器からの光束を被走査
面に光スポットとして結像して該光スポットで前記被走
査面を走査する複数ビーム走査装置において、前記光源
部を複数有し、前記光源の裏側から出射されて前記容器
内で拡散されてから前記容器の外部へ射出された拡散光
が前記被走査面の画像領域に到達しないように前記拡散
光の射出方向を設定したものである。

【００２２】請求項３に係る発明は、請求項１または２
記載の複数ビーム走査装置において、前記各光源部から
射出される前記拡散光の射出方向が前記各光源部の光軸
に対して逆方向であるものである。

【００２３】請求項４に係る発明は、請求項３記載の複
数ビーム走査装置において、前記拡散光が前記各光源部
の光軸によって形成される所定の領域の外側へ射出され
るものである。

【００２４】請求項５に係る発明は、請求項３記載の複
数ビーム走査装置において、前記拡散光が前記各光源部
の光軸によって形成される所定の領域内で、主走査方向
と平行な面内又は副走査方向と平行な面内において交差
するものである。

【００２５】請求項６に係る発明は、請求項１または２
記載の複数ビーム走査装置において、前記各光源が光束
の射出光軸を中心として逆向きに設置されているもので
ある。

【００２６】

【発明の実施の形態】本発明の実施形態は、従来の複数
ビーム走査装置の上記問題点を解決したものである。複
数の発光部としての発光点を有する光源及び発光出力モ
ニター用受光素子としての発光出力モニター用フォトダ
イオードが容器内に収納された光源部における発光出力
モニター用フォトダイオードの傾け角度からゴースト光
の射出方向は一義的に決定されるので、ゴースト光の光
路は容易に予測可能であり、ゴースト光が被走査面の画
像領域に至らないような光学系配置の導出は可能であ
る。そこで、本発明の実施形態は、ゴースト光が被走査
面の画像領域に至らないような光学系配置の設計を行う
ことにより、異常画像の発生を防ぐようにしている。

【００２７】図１は本発明の一実施形態としての複数ビ
ーム走査装置の一部を主走査方向に見た図である。この
実施形態では、上述した図８に示す複数ビーム走査装置
において、複数の発光部としての発光点ｃｈ１〜ｃｈ４
を有する半導体レーザアレイからなる光源１を複数有す
る。すなわち、この実施形態は，複数の発光点ｃｈ１〜
ｃｈ４を有する半導体レーザアレイからなる光源１ａ、
集光レンズ２ａ、絞り３ａ及び線像結像光学系４ａから
なる第１の光学系と、これと同様な複数の発光点を有す
る半導体レーザアレイからなる光源１ｂ、集光レンズ２
ｂ、絞り３ｂ及び線像結像光学系４ｂからなる第２の光
学系とを有する。ここに、集光レンズ２ａ、２ｂは、そ
れぞれ半導体レーザアレイ１ａ、１ｂからの発散光束を
以後の光学系にカップリングするレンズである。

【００２８】第１の光学系及び第２の光学系からの複数
の光束は、偏向器５の略同じ位置にて偏向され、偏向器
５からの複数本の光束が上述した図８に示す複数ビーム
走査装置と同様にｆθレンズ７と長尺レンズ８によりミ
ラー９を介して被走査面６上に光スポットとして結像さ
れて該光スポットが偏向器５の回動によって被走査面６
上を走査する。

【００２９】半導体レーザアレイ１ａ及び発光出力モニ
ター用フォトダイオードは同じ容器としてのパッケージ
内に収納されており、このパッケージ内に収納された半
導体レーザアレイ１ａ及び発光出力モニター用フォトダ
イオードと集光レンズ２ａとは１つの電源部を構成して
いる。同様に，半導体レーザアレイ１ｂ及び発光出力モ
ニター用フォトダイオードが同じ容器としてのパッケー
ジ内に収納されており、このパッケージ内に収納された
半導体レーザアレイ１ｂ及び発光出力モニター用フォト
ダイオードと集光レンズ２ｂとは他の１つの電源部を構
成している。

【００３０】半導体レーザアレイ１ａ、１ｂはその構造
から前側（偏向器４ａ、４ｂ側）に正規の複数本の光束
を放射するとともに後側に複数の光束を放射する。半導
体レーザアレイ１ａから後側に放射された複数の光束は
発光出力モニター用フォトダイオードによって受光され
て半導体レーザアレイ１ａの発光出力のモニターが行わ
れる。また、半導体レーザアレイ１ｂから後側に放射さ
れた複数の光束は発光出力モニター用フォトダイオード
によって受光されて半導体レーザアレイ１ｂの発光出力
のモニターが行われる。また、各光源部と被走査面６と
の間には各光源部から射出されたゴースト光ｇａ、ｇｂ
を遮光する遮光部材１７ａ、１７ｂが配置される。複数
の半導体レーザアレイ１ａ、１ｂを用いる本実施形態で
は、各光源部からゴースト光ｇａ、ｇｂが射出される方
向を図２に示すように光源部の光軸に対して逆の方向と
なる（光源部の光軸に対する角度の符号が逆になり、例
えばゴースト光ｇａが光源部の光軸に対して上側とな
り、ゴースト光ｇｂが光源部の光軸に対して下側とな
る）ように各光源部が配置され、更に各光源部から正規
の光束の外側へゴースト光ｇａ、ｇｂが射出されるよう
に（各光源部の光軸によって形成される所定の領域の外
側へゴースト光ｇａ、ｇｂが射出されるように）各光源
部が配置される。このような構成により、ゴースト光ｇ
ａ、ｇｂを遮光する遮光部材１７ａ、１７ｂを容易に配
置することができる。なお、図２は本実施形態の一部を
主走査方向に見た図である。また、光源部が４つ以上あ
る場合には、２つずつ対をなす光源部から射出されるゴ
ースト光の射出方向がそれぞれ光源部の光軸に対して逆
の方向となるように各光源部が配置される。

【００３１】パッケージ内に収納された半導体レーザア
レイ１ａ及び発光出力モニター用フォトダイオードと集
光レンズ２ａとにより構成される電源部と、パッケージ
内に収納された半導体レーザアレイ１ｂ及び発光出力モ
ニター用フォトダイオードと集光レンズ２ｂとにより構
成される電源部を小型化するためには、図１に示すよう
に各電源部から出射される正規の光束のなす角度θを小
さくする必要がある。

【００３２】θを小さくとった場合に各光源部から正規
の光束の内側へゴースト光ｇａ、ｇｂが射出されるよう
にすると、線像結像光学系４ａ、４ｂと遮光部材１７
ａ、１７ｂとが干渉し，遮光部材１７ａ、１７ｂの配置
が困難になってしまう。そこで、本実施形態では、各光
源部から正規の光束の外側へゴースト光ｇａ、ｇｂが射
出されるように各光源部を配置している。

【００３３】また、各光源部からゴースト光ｇａ、ｇｂ
が射出される方向を各光源部の光軸に対して逆の方向に
せずに図２に示すゴースト光ｇａ、ｇｂ’のように同じ
方向とすると、ゴースト光ｇｂは偏向器５の偏向反射面
５ａに達して被走査面６に導かれてしまう。各光源部か
らゴースト光ｇａ、ｇｂが射出される方向を各光源部の
光軸に対して逆の方向するのは、図３に示すように各光
源部のパッケージ１５ａ、１５ｂに設けられている切り
欠き部Ｋａ、Ｋｂを逆にする（パッケージ１５ａ、１５
ｂの中心に対する切り欠き部Ｋａ、Ｋｂの方向を逆向き
にする）ことにより達成される。なお、図３は光源部を
パッケージ１５ａ、１５ｂの開口部としてのレーザ窓と
逆の側から見た図である。

【００３４】光源部としての光源ユニットと偏向器５と
を十分に離せる場合には、図４に示すように各光源部か
ら正規の光束の内側へゴースト光ｇａ、ｇｂが射出され
るように各光源部を配置することにより、１つの遮光部
材１７を各光源部と偏向器５との間に配置して遮光部材
１７で各光源部からゴースト光ｇａ、ｇｂを遮光するこ
とができるようになる。この場合，遮光部材１７はゴー
スト光ｇａ、ｇｂが交差する（ゴースト光が各光源部の
光軸によって形成される所定の領域内で、主走査方向と
平行な面内又は副走査方向と平行な面内において交差す
る）位置の近傍に配置することが遮光部材１７の小型化
のためにも望ましい。なお、図４は本実施形態の一部を
主走査方向に見た図である。

【００３５】また、光源ユニットと偏向器５とを十分に
離せる場合には、ゴースト光ｇａ、ｇｂを遮光する遮光
部材１７を配置するスペースが十分にとれなくても、ゴ
ースト光ｇａ、ｇｂが偏向器５から離れた位置に向かう
ため、図４に示すように遮光部材１７ａ、１７ｂを配置
することができ、遮光部材１７ａ、１７ｂの配置スペー
スを十分に確保することが可能となる。

【００３６】次に，本実施形態の被走査面６における複
数の半導体レーザアレイ１ａ、１ｂからの光束の配置に
ついて説明する。半導体レーザアレイ１ａ、１ｂは図５
（ａ）に示すように半導体レーザアレイ１ａから発せら
れる光束の光スポットａ１、ａ２、ａ３、ａ４と、半導
体レーザアレイ１ｂから発せられる光束の光スポットｂ
１、ｂ２、ｂ３、ｂ４とが互いに相手の光スポットａ
１、ａ２、ａ３、ａ４の各間、光スポットｂ１、ｂ２、
ｂ３、ｂ４の各間に配置されて（内挿されて）被走査面
６の移動方向に一定の間隔で互い違い（千鳥状）になる
ように配置され、図５（ｂ）に示すように被走査面６上
で光スポットａ１〜ａ４と光スポットｂ１〜ｂ４が被走
査面６の移動方向に一定の間隔で交互に一列に配列され
る。

【００３７】このような半導体レーザアレイ１ａ、１ｂ
の配置により、集光レンズ２ａ，２ｂ、線像結像光学系
４ａ，４ｂ、ｆθレンズ７、長尺レンズ８により構成さ
れる走査光学系の構成（焦点距離、結像倍率など）を変
えることなく被走査面６上の副走査方向の画素密度を上
げることができる。また、半導体レーザアレイ１ａ、１
ｂを傾けていないため、半導体レーザアレイ１ａ、１ｂ
の発光点から放射される光束が傾かないので、半導体レ
ーザアレイ１ａ、１ｂの発散角を傾けずに使用すること
ができる。

【００３８】また、図６（ｂ）に示すように被走査面６
に光スポットａ１〜ａ４、ｂ１〜ｂ４を被走査面６の移
動方向へ一定の間隔で形成する場合、図６（ａ）に示す
ように半導体レーザアレイ１ａ、１ｂを被走査面６の移
動方向へ順次に配置することで半導体レーザアレイ１ａ
からの光束の光スポットａ１〜ａ４と半導体レーザアレ
イ１ｂからの光束の光スポットｂ１〜ｂ４を被走査面６
の移動方向へ一定の間隔で配置して光スポットａ１〜ａ
４、ｂ１〜ｂ４の走査方向に対する角度ψ、φを変える
ことにより被走査面６上の副走査方向への画素密度を自
由に設定することができるため、簡単に高密度化を図る
ことができるようになる。

【００３９】遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７に関して
は、反射防止塗装を施し又は表面を荒らす等の反射防止
加工を施し、二次的な拡散光・反射光（ゴースト光）の
発生を抑える手段を講じておけば、又は反射率の低い材
質を使えば、又は遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７に反射
率の低い材質のものを取り付ければ、遮光部材１７ａ、
１７ｂ、１７が更なるゴースト光の発生要因となること
を防止することができる。ここで、反射率が低いとは、
少なくとも反射率が５０％以下であることを指す。さら
に望ましくは遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７が反射率１
０％以下のものであればより効果的である。また、遮光
部材１７ａ、１７ｂ、１７の反射防止塗装又は反射防止
加工によるゴースト光の抑えに関しても、同様にゴース
ト光を５０％以下、望ましくは１０％以下に抑えること
を指す。

【００４０】また、遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７はそ
の取り付け角度が遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７で反射
したゴースト光が被走査面６に到達しない角度になるよ
うに配置することによっても、遮光部材１７ａ、１７
ｂ、１７が更なるゴースト光の発生要因となることを防
止することができる。例えば遮光部材１７ａ、１７ｂ、
１７を副走査方向に対して所定の角度を持たせて被走査
面６の走査平面に対して所定の仰角又は俯角を有するよ
うに設置すれば、仮にゴースト光が遮光部材１７ａ、１
７ｂ、１７で反射してもその反射光を被走査面６から逃
がすことができる。また、ゴースト光の進行方向に偏向
器５がある場合、偏向器５がカバーを有するものであれ
ば偏向器５のカバーを遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７の
代りに用いてもよい。

【００４１】この実施形態によれば、複数の発光部を有
する光源としての半導体レーザアレイ１ａ、１ｂが容器
としてのパッケージパッケージ１５ａ、１５ｂ内に収納
された光源部を複数有するので、偏向器５の回転数を減
らすことができ、それにより偏向器５の消費電力を減ら
すことができる。また、偏向器５の発熱も少なくするこ
とができ、偏向器５の回転数の低減により音も小さくす
ることができる。

【００４２】また、この実施形態によれば、半導体レー
ザアレイ１ａ、１ｂと被走査面６との間に配置され、半
導体レーザアレイ１ａ、１ｂの裏側から出射されてパッ
ケージパッケージ１５ａ、１５ｂ内で拡散されパッケー
ジパッケージ１５ａ、１５ｂの外部へ射出された拡散光
が被走査面６に到達するのを防止する遮光部材１７ａ、
１７ｂ又は遮光部材１７を備えたので、ゴースト光が被
走査面に行かないようにすることができ、異常画像の発
生を未然に防止することができる。

【００４３】また、この実施形態によれば、ゴースト光
が各光源部の光軸によって形成される所定の領域の外側
へ射出されるので、遮光部材の配置が容易になる。ま
た、この実施形態によれば、ゴースト光が各光源部の光
軸によって形成される所定の領域内で、主走査方向と平
行な面内又は副走査方向と平行な面内において交差する
ようにすることにより、遮光部材を各光源部からのゴー
スト光に対して共通化でき、効率良くゴースト光の遮光
を行うことができる。

【００４４】また、この実施形態によれば、被走査面６
を走査する光スポットは各光源部から発せられた複数の
光束により形成される複数の光スポットがそれぞれ内挿
されるので、副走査方向の高密度化を図ることができ
る。また、この実施形態によれば、被走査面６を走査す
る光スポットは各光源部から発せられた複数の光束によ
り形成される複数の光スポットが各光源部毎に走査され
るように配置されるので、副走査方向の高密度化を図る
ことができる。

【００４５】また、この実施形態によれば、遮光部材１
７ａ、１７ｂ、１７は反射防止塗装又は反射防止加工が
施されているので、遮光部材が新たなゴースト光の発生
要因となることを未然に防止することができる。また、
この実施形態によれば、遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７
は反射率の低い材質を使い、又は反射率の低い材質のも
のを取り付けるので、遮光部材が新たなゴースト光の発
生要因となることを未然に防止することができる。

【００４６】また、この実施形態によれば、各光源部か
らのゴースト光が遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７で反射
される場合にその反射光が被走査面６に到達しないよう
に遮光部材１７ａ、１７ｂ、１７が被走査面６の走査平
面に対して所定の仰角又は俯角を有する（副走査方向に
所定の角度を有する）ように設置されているので、遮光
部材が新たなゴースト光の発生要因となることを未然に
防止することができる。

【００４７】図７は本発明の他の実施形態を示す。この
実施形態の画像形成装置では、原稿１８は原稿台として
のコンタクトガラス１９上に載置され，光源としてのラ
ンプ２０により照明されてその反射光がミラー２１〜２
３によりスキャナレンズブロック２４に導かれる。スキ
ャナレンズブロック２４は、ミラー２３からの光をレン
ズにより撮像素子としてのＣＣＤに結像して光電変換
し、その電気信号を２値化等の処理を施した後に画像デ
ータとして出力する。

【００４８】このスキャナレンズブロック２４からの画
像データ２５は光書込光学装置２６に転送され，この光
書込光学装置２６は上記実施形態の複数ビーム走査装置
が用いられる。像担持体としての感光体（ここではドラ
ム状の感光体）２７は図しない駆動部により回転駆動さ
れて帯電器２８により一様に帯電される。光書込光学装
置２６は、スキャナレンズブロック２４からの画像デー
タ２５により半導体レーザアレイ１ａ、１ｂの各発光点
がオン／オフされ、この各発光点からの複数の光束によ
り被走査面６としての感光体２７の表面を走査して露光
することで、感光体２７上に静電潜像を形成する。この
感光体２７上の静電潜像は現像器２９によりトナー像と
して現像される。

【００４９】一方、シート状媒体としての転写紙が給紙
トレイ３０から給紙ローラ３１により給紙されて感光体
２７へ送られる。この転写紙は、転写手段としての転写
ローラ３２により感光体２７上のトナー像が転写され、
定着装置３３によりトナー像が定着されて排紙ローラ３
４により排紙トレイ３５へ排出される。感光体２７は、
トナー像転写後に除電・クリーナ３６により除電及びク
リーニングがなされ、再び帯電器２８による帯電からの
各工程が繰返される。この実施形態の画像形成装置によ
れば、上記実施形態の複数ビーム走査装置を搭載したの
で、ゴースト光による異常画像の発生を未然に防ぐこと
ができる。

【００５０】

【発明の効果】以上のように請求項１〜３、６に係る発
明によれば、偏向器の回転数を減らすことができる上
に、光源部からの拡散光が被走査面に到達することを防
止して異常画像の発生を未然に防ぐことができる。請求
項４に係る発明によれば、遮光部材の配置が容易にな
る。請求項５に係る発明によれば、複数の光源部からの
拡散光を共通の遮光部材で効率良く遮光することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態としての複数ビーム走査装
置の一部を主走査方向に見た概略図である。

【図２】同実施形態の一部を主走査方向に見た概略図で
ある。

【図３】同実施形態において光源部をパッケージのレー
ザ窓と逆の側から見た平面図である。

【図４】同実施形態の一部を説明するための図である。

【図５】同実施形態における光源部からの光束の光スポ
ットと被走査面上の光スポットを示す図である。

【図６】同実施形態における光源部からの光束の光スポ
ットと被走査面上の光スポットを説明するための図であ
る。

【図７】本発明の他の実施形態としての画像形成装置を
示す断面図である。

【図８】複数ビーム走査装置の一例を示す斜視図であ
る。

【図９】同複数ビーム走査装置の光源部を示す一部切欠
斜視図である。

【図１０】同複数ビーム走査装置を主走査方向から見た
概略図である。

【符号の説明】

１ａ、１ｂ 半導体レーザアレイ ２ａ、２ｂ 集光レンズ ３ａ、３ｂ 絞り ４ａ、４ｂ 線像結像光学系 ５偏向器 ６ 被走査面 １７ａ、１７ｂ、１７ 遮光部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA10 AA13 AA53 BA04 DA27 DA28 2H045 BA22 BA23 BA32 CB63 DA02 5C051 AA02 CA07 DA02 DC04 DC05 DC07 5C072 AA03 BA11 DA02 DA04 DA15 HA02 HA06 HA09 HA13 XA05

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数の光束を被走査面で副走査方向に所定
   の間隔となるように出射する複数の発光部を有する光源
   を備え、この光源が容器内に収納された光源部と、この
   光源部の前側からの光束を偏向する偏向器とを具備し、
   この偏向器からの光束を被走査面に光スポットとして結
   像して該光スポットで前記被走査面を走査する複数ビー
   ム走査装置において、前記光源部を複数有し、前記光源
   と前記被走査面との間に配置され前記光源の裏側から出
   射されて前記容器内で拡散されてから前記容器の外部へ
   射出された拡散光が前記被走査面に到達するのを防止す
   る遮光部材を備えたことを特徴とする複数ビーム走査装
   置。
2. 【請求項２】複数の光束を被走査面で副走査方向に所定
   の間隔となるように出射する複数の発光部を有する光源
   を備え、この光源が容器内に収納された光源部と、この
   光源部の前側からの光束を偏向する偏向器とを具備し、
   この偏向器からの光束を被走査面に光スポットとして結
   像して該光スポットで前記被走査面を走査する複数ビー
   ム走査装置において、前記光源部を複数有し、前記光源
   の裏側から出射されて前記容器内で拡散されてから前記
   容器の外部へ射出された拡散光が前記被走査面の画像領
   域に到達しないように前記拡散光の射出方向を設定した
   ことを特徴とする複数ビーム走査装置。
3. 【請求項３】請求項１または２記載の複数ビーム走査装
   置において、前記各光源部から射出される前記拡散光の
   射出方向が前記各光源部の光軸に対して逆方向であるこ
   とを特徴とする複数ビーム走査装置。
4. 【請求項４】請求項３記載の複数ビーム走査装置におい
   て、前記拡散光が前記各光源部の光軸によって形成され
   る所定の領域の外側へ射出されることを特徴とする複数
   ビーム走査装置。
5. 【請求項５】請求項３記載の複数ビーム走査装置におい
   て、前記拡散光が前記各光源部の光軸によって形成され
   る所定の領域内で、主走査方向と平行な面内又は副走査
   方向と平行な面内において交差することを特徴とする複
   数ビーム走査装置。
6. 【請求項６】請求項１または２記載の複数ビーム走査装
   置において、前記各光源が光束の射出光軸を中心として
   逆向きに設置されていることを特徴とする複数ビーム走
   査装置。