JP4077191B2 - 複数ビーム走査装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はレーザプリンタ、複写機、ファクシミリなどに用いられる複数ビーム走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
レーザプリンタ、複写機、ファクシミリなどの画像形成装置では、レーザ光を偏向器で偏向し被走査面に光スポットとして結像して該光スポットで被走査面を走査する光走査装置が用いられている。この光走査装置は、半導体レーザから単一のレーザ光を偏向器で偏向し被走査面に光スポットとして結像して該光スポットで被走査面を走査する光走査装置や、半導体レーザアレイから複数のレーザ光を偏向器で偏向し被走査面に複数の光スポットとして結像して該複数の光スポットで被走査面を平行に走査する複数ビーム走査装置がある。
【0003】
特開2000−137180号公報には、複数ビーム走査装置において、半導体レーザアレイから発するゴースト光、つまり、半導体レーザチップからの光束をモニターするモニター用受光素子の表面での反射により発生する拡散光を遮光する部材を半導体レーザアレイを含む光源部と被走査面との間に配置し、ゴースト光による画像への影響を除去するようにしたものが記載されている。
【0004】
特開2001−66525号公報には,複数ビーム走査装置において、半導体レーザアレイから発するゴースト光の射出方向を偏向器のカバー方向にし、ゴースト光の遮光もしくは除去を行う部材として偏向器のカバーを用いてゴースト光の画像への影響を除去するようにしたものが記載されている。
特開平5−27189号公報には,光走査装置において、半導体レーザ及び発光出力モニター用フォトダイオードを収納したパッケージの内部に遮蔽板を配置してゴースト光を除去し、又は上記遮蔽板を開口絞りを兼ねて使用してゴースト光を除去するものが記載されている。
【0005】
図8は複数ビーム走査装置の一例を示す。複数の発光部としての発光点を有する光源1は、半導体レーザアレイからなり、複数の発散光束を放射する。この光源1からの複数本の光束は、集光レンズ2を透過した後に、光束を規制する絞り3により光束径が規制される。この絞り3からの複数本の光束は線像結像光学系4により偏向器5の偏向反射面5a近傍に線状に結像され、偏向器5は入射光束を等角速度的に偏向する。
【0006】
偏向器5と被走査面6との間にはfθレンズ7と長尺レンズ8が配置され、これらの合成系により偏向器5からの複数本の光束がミラー9を介して被走査面6上に光スポットとして結像されて該光スポットが偏向器5の回動によって被走査面6上を走査する。また、同期をとるための同期検知系10は同期検知センサ11、結像素子12及びミラー13により構成され、fθレンズ7からの光束がミラー13により反射された後に結像素子12によりにより同期検知センサ11に結像されて検知される。
【0007】
結像素子12は、副走査方向にのみパワーを持つレンズでも、主走査方向にのみパワーを持つレンズでも、主走査方向及び副走査方向の両方にパワーを持つレンズでもよい。また、結像素子12は、レンズの代りにパワーを持つミラーを用いてもよい。また、結像素子12を用いずに、ミラー13に上記のようなパワーを持たせて同期検知系10を構成してもよい。
【0008】
光源1は例えば4つの発光点ch1〜ch4を有する半導体レーザアレイがパッケージ内に収納されており、半導体レーザアレイはその構造から前側(偏向器4側)に複数本の光束FB1〜FB4を放射するとともに後側に複数の光束BB1〜BB4を放射する。半導体レーザアレイ1から後側に放射された複数の光束BB1〜BB4は発光出力モニター用フォトダイオード14によって受光されて半導体レーザアレイ1の発光出力のモニターが行われる。
【0009】
図9は半導体レーザアレイ1及び発光出力モニター用フォトダイオード14をパッケージ15内に収納した光源部を示す一部切欠斜視図である。半導体レーザアレイ1は、光走査に用いられる光束FB1〜FB4を前側に放射するだけでなく、発光出力モニターに用いられる光束BB1〜BB4を後側に放射する。この光束BB1〜BB4は発光出力モニター用フォトダイオード14によりモニターされ、図示しないフィードバック回路は発光出力モニター用フォトダイオード14の出力信号に基づいて半導体レーザアレイ1の発光出力を正規の値に制御する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
半導体レーザアレイは、その構造上、一般的な1本のレーザビームを発するレーザダイオードと異なり、ゴースト光を発生させてしまう。さらに、半導体レーザアレイを複数個組み合わせて用いる場合は、各半導体レーザアレイから射出されるゴースト光の射出方向を定めておかないと、正しくゴースト光を遮光することができない。各半導体レーザアレイからのゴースト光を遮光する遮光部材を配置する場合には、各半導体レーザアレイからのゴースト光が遮光部材により有効に遮光されるように半導体レーザアレイをレイアウトする必要がある。
【0011】
特開2000−137180号公報、特開2001−66525号公報記載のものは、ともに半導体レーザアレイからのゴースト光の遮光もしくは除去に関するものであるが、上記のような複数の半導体レーザアレイを組み合わせて用いる場合については全く考慮されていない。
【0012】
上記図8に示す複数ビーム走査装置では、半導体レーザアレイ1から放射されて発光出力モニター用フォトダイオード14に当った光束は、発光出力モニター用フォトダイオード14の表面で反射され、拡散光となってパッケージ15の開口部であるレーザ窓15oを通過していわゆるゴースト光となる。このゴースト光は、当該複数ビーム走査装置の光学ハウジング内で反射されて被走査面6にたどりつき、異常画像を引き起こすことがあった。
【0013】
この不具合に対して一般的には発光出力モニター用フォトダイオード14を傾けて配置することにより、ゴースト光がパッケージ15の外に出ないように、もしくは被走査面6と関係ない方向に逃がすように構成されている。しかし、このような構成では、発光出力モニター用フォトダイオード14をあまり傾けすぎると発光出力モニター用フォトダイオード14の感度が鈍くなるため、発光出力モニター用フォトダイオード14を傾けることが可能な角度に限界がある。
【0014】
そこで、特開平5−27189号公報記載のものは、半導体レーザ及び発光出力モニター用フォトダイオードを収納したパッケージの内部に遮蔽板を配置してゴースト光を除去することを試みている。しかし、この特開平5−27189号公報記載のものでは、半導体レーザの発光点の近傍に遮蔽板を配置するので、半導体レーザからの正規の必要な光を遮蔽板でカットすることになったり、遮蔽板を半導体レーザからの正規の光の妨げにならないように配置したためにゴースト光を十分に除去することができない等の問題があり、実用的且つ効果的ではない。
【0015】
また、特開平5−27189号公報記載のものは、上記遮蔽板を開口絞りを兼ねて使用することを提案しているが、開口絞りが半導体レーザの発光点近傍にあり、しかも半導体レーザからの発散している光束の途中に開口絞りを配置する必要があるので、その位置精度が非常に厳しくなり、現実的ではない。また、半導体レーザ及び発光出力モニター用フォトダイオードをパッケージに収納した光源ユニットの間での光量ばらつきが大きく発生し、光源ユニットの光量調整範囲を大きくとる必要が生じ,光源ユニット構成上の技術課題が増えてしまう。
【0016】
一方,光源部が複数の発光点を有する場合には、光源部の発光点が1つである場合に比べて、発光出力モニター用フォトダイオードの大きさは約発光点数倍に大きくする必要があり、より一層ゴースト光を発生させ易くなる。例えば,光源部の発光点が1つである場合の発光出力モニター用フォトダイオードの大きさが20μm角であったとすると、光源部が4つの発光点を有する場合の発光出力モニター用フォトダイオードの大きさはその4倍の約80μmの長さが必要になる。また、光源部の光束を射出するレーザ窓に関しては、光源部が複数の発光点を有する場合には、光源部の発光点が1つである場合に比べて大きくする必要があり、ゴースト光がレーザ窓から射出される可能性がより大きくなる。
【0017】
図10は図8に示した複数ビーム走査装置を主走査方向から見た図である。この複数ビーム走査装置では、線像結像光学系4とミラー5との間にミラー16を配置してレイアウトのコンパクト化を図っている。複数の発光点を有する光源1から射出された光束が正規の光路を通って被走査面6を走査する状態が図10にLで示されている。これに対して,光源1から後側に放射されて発光出力モニター用フォトダイオード14で反射された拡散光がゴースト光となって被走査面6に到達する状態が図10にgで示されている。
【0018】
発光出力モニター用フォトダイオード14は光源1から後側に放射された光が正規の走査光近傍を通らないように傾けて配置されているので、図10に示す例ではゴースト光が図示のように斜めに走査光学系を横切て被走査面6に到達する。このゴースト光は、偏向器5で偏向されないため、絶えず同じ位置(図10の例では被走査面6上の位置G)に当り続け,微量の光であってもそのエネルギーは被走査面6上に蓄積されて画像を形成し得るに十分なエネルギーとなり、異常画像として現れてしまう。
【0019】
本発明は、複数の発光部を有する光源が容器内に収納された光源部を複数有することにより偏向器の回転数を減らすことができる上に、光源部からの拡散光が被走査面に到達することを防止して異常画像の発生を未然に防ぐことができ、遮光部材の配置を容易にすることができ、複数の光源部からの拡散光を共通の遮光部材で効率良く遮光することができる複数ビーム走査装置を提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1に係る発明は、複数の光束を被走査面で副走査方向に所定の間隔となるように出射する複数の発光部を有する光源と、この光源が容器内に収納された光源部とを備え、前記光源からの光束は前記容器の開口部から射出され、前記開口部から射出された光束は集光レンズにより集光され、前記集光レンズにより集光された光束は開口絞りにより光束径を規制され、前記開口絞りにより光束径を規制された光束は偏向器により偏向され、前記偏向器からの光束を被走査面に光スポットとして結像して該光スポットで前記被走査面を走査する複数ビーム走査装置において、前記光源部と前記集光レンズと前記開口絞りとから構成される光学系を複数有し、前記開口絞りは前記集光レンズと前記偏向器との間に配置され、前記光源の裏側から出射されて前記容器内で拡散されてから前記容器の前記開口部を通過した後、前記集光レンズ及び前記開口絞りを通過する拡散光が、前記各光源部の光軸によって形成される所定の領域内、かつ前記開口絞りと前記被走査面との間にて主走査方向と平行な面内又は副走査方向と平行な面内において交差し、該交差位置の近傍に一つの遮光部材を配置することにより前記拡散光が前記被走査面に到達するのを防止するものである。
【0021】
請求項2に係る発明は、請求項1に記載の複数ビーム走査装置において、前記光源が収納されている各容器が光束の射出光軸を中心として逆向きに設置されているものである。
【0026】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態は、従来の複数ビーム走査装置の上記問題点を解決したものである。複数の発光部としての発光点を有する光源及び発光出力モニター用受光素子としての発光出力モニター用フォトダイオードが容器内に収納された光源部における発光出力モニター用フォトダイオードの傾け角度からゴースト光の射出方向は一義的に決定されるので、ゴースト光の光路は容易に予測可能であり、ゴースト光が被走査面の画像領域に至らないような光学系配置の導出は可能である。そこで、本発明の実施形態は、ゴースト光が被走査面の画像領域に至らないような光学系配置の設計を行うことにより、異常画像の発生を防ぐようにしている。
【0027】
図1は本発明の一実施形態としての複数ビーム走査装置の一部を主走査方向に見た図である。この実施形態では、上述した図8に示す複数ビーム走査装置において、複数の発光部としての発光点ch1〜ch4を有する半導体レーザアレイからなる光源1を複数有する。すなわち、この実施形態は,複数の発光点ch1〜ch4を有する半導体レーザアレイからなる光源1a、集光レンズ2a、絞り3a及び線像結像光学系4aからなる第1の光学系と、これと同様な複数の発光点を有する半導体レーザアレイからなる光源1b、集光レンズ2b、絞り3b及び線像結像光学系4bからなる第2の光学系とを有する。ここに、集光レンズ2a、2bは、それぞれ半導体レーザアレイ1a、1bからの発散光束を以後の光学系にカップリングするレンズである。
【0028】
第1の光学系及び第2の光学系からの複数の光束は、偏向器5の略同じ位置にて偏向され、偏向器5からの複数本の光束が上述した図8に示す複数ビーム走査装置と同様にfθレンズ7と長尺レンズ8によりミラー9を介して被走査面6上に光スポットとして結像されて該光スポットが偏向器5の回動によって被走査面6上を走査する。
【0029】
半導体レーザアレイ1a及び発光出力モニター用フォトダイオードは同じ容器としてのパッケージ内に収納されており、このパッケージ内に収納された半導体レーザアレイ1a及び発光出力モニター用フォトダイオードと集光レンズ2aとは1つの電源部を構成している。同様に,半導体レーザアレイ1b及び発光出力モニター用フォトダイオードが同じ容器としてのパッケージ内に収納されており、このパッケージ内に収納された半導体レーザアレイ1b及び発光出力モニター用フォトダイオードと集光レンズ2bとは他の1つの電源部を構成している。
【0030】
半導体レーザアレイ1a、1bはその構造から前側(偏向器4a、4b側)に正規の複数本の光束を放射するとともに後側に複数の光束を放射する。半導体レーザアレイ1aから後側に放射された複数の光束は発光出力モニター用フォトダイオードによって受光されて半導体レーザアレイ1aの発光出力のモニターが行われる。また、半導体レーザアレイ1bから後側に放射された複数の光束は発光出力モニター用フォトダイオードによって受光されて半導体レーザアレイ1bの発光出力のモニターが行われる。
また、各光源部と被走査面6との間には各光源部から射出されたゴースト光ga、gbを遮光する遮光部材17a、17bが配置される。複数の半導体レーザアレイ1a、1bを用いる本実施形態では、各光源部からゴースト光ga、gbが射出される方向を図2に示すように光源部の光軸に対して逆の方向となる(光源部の光軸に対する角度の符号が逆になり、例えばゴースト光gaが光源部の光軸に対して上側となり、ゴースト光gbが光源部の光軸に対して下側となる)ように各光源部が配置され、更に各光源部から正規の光束の外側へゴースト光ga、gbが射出されるように(各光源部の光軸によって形成される所定の領域の外側へゴースト光ga、gbが射出されるように)各光源部が配置される。このような構成により、ゴースト光ga、gbを遮光する遮光部材17a、17bを容易に配置することができる。なお、図2は本実施形態の一部を主走査方向に見た図である。また、光源部が4つ以上ある場合には、2つずつ対をなす光源部から射出されるゴースト光の射出方向がそれぞれ光源部の光軸に対して逆の方向となるように各光源部が配置される。
【0031】
パッケージ内に収納された半導体レーザアレイ1a及び発光出力モニター用フォトダイオードと集光レンズ2aとにより構成される電源部と、パッケージ内に収納された半導体レーザアレイ1b及び発光出力モニター用フォトダイオードと集光レンズ2bとにより構成される電源部を小型化するためには、図1に示すように各電源部から出射される正規の光束のなす角度θを小さくする必要がある。
【0032】
θを小さくとった場合に各光源部から正規の光束の内側へゴースト光ga、gbが射出されるようにすると、線像結像光学系4a、4bと遮光部材17a、17bとが干渉し,遮光部材17a、17bの配置が困難になってしまう。そこで、本実施形態では、各光源部から正規の光束の外側へゴースト光ga、gbが射出されるように各光源部を配置している。
【0033】
また、各光源部からゴースト光ga、gbが射出される方向を各光源部の光軸に対して逆の方向にせずに図2に示すゴースト光ga、gb’のように同じ方向とすると、ゴースト光gbは偏向器5の偏向反射面5aに達して被走査面6に導かれてしまう。各光源部からゴースト光ga、gbが射出される方向を各光源部の光軸に対して逆の方向するのは、図3に示すように各光源部のパッケージ15a、15bに設けられている切り欠き部Ka、Kbを逆にする(パッケージ15a、15bの中心に対する切り欠き部Ka、Kbの方向を逆向きにする)ことにより達成される。なお、図3は光源部をパッケージ15a、15bの開口部としてのレーザ窓と逆の側から見た図である。
【0034】
光源部としての光源ユニットと偏向器5とを十分に離せる場合には、図4に示すように各光源部から正規の光束の内側へゴースト光ga、gbが射出されるように各光源部を配置することにより、1つの遮光部材17を各光源部と偏向器5との間に配置して遮光部材17で各光源部からゴースト光ga、gbを遮光することができるようになる。この場合,遮光部材17はゴースト光ga、gbが交差する(ゴースト光が各光源部の光軸によって形成される所定の領域内で、主走査方向と平行な面内又は副走査方向と平行な面内において交差する)位置の近傍に配置することが遮光部材17の小型化のためにも望ましい。なお、図4は本実施形態の一部を主走査方向に見た図である。
【0035】
また、光源ユニットと偏向器5とを十分に離せる場合には、ゴースト光ga、gbを遮光する遮光部材17を配置するスペースが十分にとれなくても、ゴースト光ga、gbが偏向器5から離れた位置に向かうため、図4に示すように遮光部材17a、17bを配置することができ、遮光部材17a、17bの配置スペースを十分に確保することが可能となる。
【0036】
次に,本実施形態の被走査面6における複数の半導体レーザアレイ1a、1bからの光束の配置について説明する。半導体レーザアレイ1a、1bは図5(a)に示すように半導体レーザアレイ1aから発せられる光束の光スポットa1、a2、a3、a4と、半導体レーザアレイ1bから発せられる光束の光スポットb1、b2、b3、b4とが互いに相手の光スポットa1、a2、a3、a4の各間、光スポットb1、b2、b3、b4の各間に配置されて(内挿されて)被走査面6の移動方向に一定の間隔で互い違い(千鳥状)になるように配置され、図5(b)に示すように被走査面6上で光スポットa1〜a4と光スポットb1〜b4が被走査面6の移動方向に一定の間隔で交互に一列に配列される。
【0037】
このような半導体レーザアレイ1a、1bの配置により、集光レンズ2a,2b、線像結像光学系4a,4b、fθレンズ7、長尺レンズ8により構成される走査光学系の構成(焦点距離、結像倍率など)を変えることなく被走査面6上の副走査方向の画素密度を上げることができる。また、半導体レーザアレイ1a、1bを傾けていないため、半導体レーザアレイ1a、1bの発光点から放射される光束が傾かないので、半導体レーザアレイ1a、1bの発散角を傾けずに使用することができる。
【0038】
また、図6(b)に示すように被走査面6に光スポットa1〜a4、b1〜b4を被走査面6の移動方向へ一定の間隔で形成する場合、図6(a)に示すように半導体レーザアレイ1a、1bを被走査面6の移動方向へ順次に配置することで半導体レーザアレイ1aからの光束の光スポットa1〜a4と半導体レーザアレイ1bからの光束の光スポットb1〜b4を被走査面6の移動方向へ一定の間隔で配置して光スポットa1〜a4、b1〜b4の走査方向に対する角度ψ、φを変えることにより被走査面6上の副走査方向への画素密度を自由に設定することができるため、簡単に高密度化を図ることができるようになる。
【0039】
遮光部材17a、17b、17に関しては、反射防止塗装を施し又は表面を荒らす等の反射防止加工を施し、二次的な拡散光・反射光(ゴースト光)の発生を抑える手段を講じておけば、又は反射率の低い材質を使えば、又は遮光部材17a、17b、17に反射率の低い材質のものを取り付ければ、遮光部材17a、17b、17が更なるゴースト光の発生要因となることを防止することができる。ここで、反射率が低いとは、少なくとも反射率が50%以下であることを指す。さらに望ましくは遮光部材17a、17b、17が反射率10%以下のものであればより効果的である。また、遮光部材17a、17b、17の反射防止塗装又は反射防止加工によるゴースト光の抑えに関しても、同様にゴースト光を50%以下、望ましくは10%以下に抑えることを指す。
【0040】
また、遮光部材17a、17b、17はその取り付け角度が遮光部材17a、17b、17で反射したゴースト光が被走査面6に到達しない角度になるように配置することによっても、遮光部材17a、17b、17が更なるゴースト光の発生要因となることを防止することができる。例えば遮光部材17a、17b、17を副走査方向に対して所定の角度を持たせて被走査面6の走査平面に対して所定の仰角又は俯角を有するように設置すれば、仮にゴースト光が遮光部材17a、17b、17で反射してもその反射光を被走査面6から逃がすことができる。また、ゴースト光の進行方向に偏向器5がある場合、偏向器5がカバーを有するものであれば偏向器5のカバーを遮光部材17a、17b、17の代りに用いてもよい。
【0041】
この実施形態によれば、複数の発光部を有する光源としての半導体レーザアレイ1a、1bが容器としてのパッケージ15a、15b内に収納された光源部を複数有するので、偏向器5の回転数を減らすことができ、それにより偏向器5の消費電力を減らすことができる。また、偏向器5の発熱も少なくすることができ、偏向器5の回転数の低減により音も小さくすることができる。
【0042】
また、この実施形態によれば、半導体レーザアレイ1a、1bと被走査面6との間に配置され、半導体レーザアレイ1a、1bの裏側から出射されてパッケージパッケージ15a、15b内で拡散されパッケージ15a、15bの外部へ射出された拡散光が被走査面6に到達するのを防止する遮光部材17a、17b又は遮光部材17を備えたので、ゴースト光が被走査面に行かないようにすることができ、異常画像の発生を未然に防止することができる。
【0043】
また、この実施形態によれば、ゴースト光が各光源部の光軸によって形成される所定の領域の外側へ射出されるので、遮光部材の配置が容易になる。
また、この実施形態によれば、ゴースト光が各光源部の光軸によって形成される所定の領域内で、主走査方向と平行な面内又は副走査方向と平行な面内において交差するようにすることにより、遮光部材を各光源部からのゴースト光に対して共通化でき、効率良くゴースト光の遮光を行うことができる。
【0044】
また、この実施形態によれば、被走査面6を走査する光スポットは各光源部から発せられた複数の光束により形成される複数の光スポットがそれぞれ内挿されるので、副走査方向の高密度化を図ることができる。
また、この実施形態によれば、被走査面6を走査する光スポットは各光源部から発せられた複数の光束により形成される複数の光スポットが各光源部毎に走査されるように配置されるので、副走査方向の高密度化を図ることができる。
【0045】
また、この実施形態によれば、遮光部材17a、17b、17は反射防止塗装又は反射防止加工が施されているので、遮光部材が新たなゴースト光の発生要因となることを未然に防止することができる。
また、この実施形態によれば、遮光部材17a、17b、17は反射率の低い材質を使い、又は反射率の低い材質のものを取り付けるので、遮光部材が新たなゴースト光の発生要因となることを未然に防止することができる。
【0046】
また、この実施形態によれば、各光源部からのゴースト光が遮光部材17a、17b、17で反射される場合にその反射光が被走査面6に到達しないように遮光部材17a、17b、17が被走査面6の走査平面に対して所定の仰角又は俯角を有する(副走査方向に所定の角度を有する)ように設置されているので、遮光部材が新たなゴースト光の発生要因となることを未然に防止することができる。
【0047】
図7は本発明の他の実施形態を示す。この実施形態の画像形成装置では、原稿18は原稿台としてのコンタクトガラス19上に載置され,光源としてのランプ20により照明されてその反射光がミラー21〜23によりスキャナレンズブロック24に導かれる。スキャナレンズブロック24は、ミラー23からの光をレンズにより撮像素子としてのCCDに結像して光電変換し、その電気信号を2値化等の処理を施した後に画像データとして出力する。
【0048】
このスキャナレンズブロック24からの画像データ25は光書込光学装置26に転送され,この光書込光学装置26は上記実施形態の複数ビーム走査装置が用いられる。像担持体としての感光体(ここではドラム状の感光体)27は図しない駆動部により回転駆動されて帯電器28により一様に帯電される。光書込光学装置26は、スキャナレンズブロック24からの画像データ25により半導体レーザアレイ1a、1bの各発光点がオン/オフされ、この各発光点からの複数の光束により被走査面6としての感光体27の表面を走査して露光することで、感光体27上に静電潜像を形成する。この感光体27上の静電潜像は現像器29によりトナー像として現像される。
【0049】
一方、シート状媒体としての転写紙が給紙トレイ30から給紙ローラ31により給紙されて感光体27へ送られる。この転写紙は、転写手段としての転写ローラ32により感光体27上のトナー像が転写され、定着装置33によりトナー像が定着されて排紙ローラ34により排紙トレイ35へ排出される。感光体27は、トナー像転写後に除電・クリーナ36により除電及びクリーニングがなされ、再び帯電器28による帯電からの各工程が繰返される。
この実施形態の画像形成装置によれば、上記実施形態の複数ビーム走査装置を搭載したので、ゴースト光による異常画像の発生を未然に防ぐことができる。
【0050】
【発明の効果】
以上のように請求項1、2に係る発明によれば、偏向器の回転数を減らすことができる上に、光源部からの拡散光が被走査面に到達することを防止して異常画像の発生を未然に防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態としての複数ビーム走査装置の一部を主走査方向に見た概略図である。
【図2】同実施形態の一部を主走査方向に見た概略図である。
【図3】同実施形態において光源部をパッケージのレーザ窓と逆の側から見た平面図である。
【図4】同実施形態の一部を説明するための図である。
【図5】同実施形態における光源部からの光束の光スポットと被走査面上の光スポットを示す図である。
【図6】同実施形態における光源部からの光束の光スポットと被走査面上の光スポットを説明するための図である。
【図7】本発明の他の実施形態としての画像形成装置を示す断面図である。
【図8】複数ビーム走査装置の一例を示す斜視図である。
【図9】同複数ビーム走査装置の光源部を示す一部切欠斜視図である。
【図10】同複数ビーム走査装置を主走査方向から見た概略図である。
【符号の説明】
1a、1b 半導体レーザアレイ
2a、2b 集光レンズ
3a、3b 絞り
4a、4b 線像結像光学系
5偏向器
6 被走査面
17a、17b、17 遮光部材
Claims (2)
- 複数の光束を被走査面で副走査方向に所定の間隔となるように出射する複数の発光部を有する光源と、この光源が容器内に収納された光源部とを備え、
前記光源からの光束は前記容器の開口部から射出され、前記開口部から射出された光束は集光レンズにより集光され、前記集光レンズにより集光された光束は開口絞りにより光束径を規制され、前記開口絞りにより光束径を規制された光束は偏向器により偏向され、前記偏向器からの光束を被走査面に光スポットとして結像して該光スポットで前記被走査面を走査する複数ビーム走査装置において、
前記光源部と前記集光レンズと前記開口絞りとから構成される光学系を複数有し、
前記開口絞りは前記集光レンズと前記偏向器との間に配置され、
前記光源の裏側から出射されて前記容器内で拡散されてから前記容器の前記開口部を通過した後、前記集光レンズ及び前記開口絞りを通過する拡散光が、前記各光源部の光軸によって形成される所定の領域内、かつ前記開口絞りと前記被走査面との間にて主走査方向と平行な面内又は副走査方向と平行な面内において交差し、
該交差位置の近傍に一つの遮光部材を配置することにより前記拡散光が前記被走査面に到達するのを防止すること
を特徴とする複数ビーム走査装置。 - 請求項1に記載の複数ビーム走査装置において、前記光源が収納されている各容器が光束の射出光軸を中心として逆向きに設置されていることを特徴とする複数ビーム走査装置。
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