JP4541523B2 - マルチビーム光走査光学系及びマルチビーム光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
マルチビーム光走査光学系及びマルチビーム光走査装置及び画像形成装置 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置に関し、レーザービームプリンタやデジタル複写機等に使用される光走査光学系及び光走査装置に関するものであり、特に、高速・高記録密度を達成する為に光源として複数光源を使用したマルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図9に従来の複数光源を使用したマルチビーム光走査光学系の主走査方向の断面を示す。21は複数の発光点から構成される半導体レーザー等から成る複数光源であり、複数の光源から射出したそれぞれの光ビームはコリメータレンズ22で略平行光若しくは収束光とされ、開口絞り23でその光ビームの断面形状を整形しシリンドリカルレンズ24によって副走査方向にのみ収束されて、光偏向器であるポリゴンミラー25の偏向反射面25a近傍において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像される。さらに図中矢印A方向に一定角速度で回転しているポリゴンミラー25によって反射され偏向走査されたそれぞれの光ビームは、fθレンズ26によって感光ドラム等から成る被走査面27上にスポット状に集光され図中矢印B方向に一定速度で走査される。28は、書き出し位置検知の為のBD光学系である。28aは、BDスリットで、28bは、BDレンズで、28cは、BDセンサ(同期位置検出素子)である。
【0003】
この様なマルチビーム走査光学系においては、図10の様に複数の光源を副走査方向に縦に並べて配置してしまうと、被走査面上における副走査方向のそれぞれの線の間隔が記録密度よりも大幅に間隔が開いてしまう為、通常は図11に示す様に複数の光源を斜めに配置してその斜めの角度δを調整することにより、被走査面上における副走査方向のそれぞれの線の間隔を記録密度に合わせて正確に調整している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来の様な構成の光走査光学系においては、複数の光源を斜めに配置している為に図12に示す様に複数の光源から出射した光ビームはポリゴンの反射面上で主走査方向に離れた位置に到達し且つポリゴンから反射される光ビームの角度もそれぞれ異なる為、被走査面上においてお互いに主走査方向に離れた位置にスポットが結像されることになる(光線Aと光線B)。
【0005】
よって、この様な構成のマルチビーム光走査光学系においては、ある1つの基準の光源が被走査面上に結像する位置に他の光源からの光束の結像位置を合わせる様に所定時間δΤだけタイミングをずらして画像データを送っている。
【0006】
δΤだけ時間がずれたときのポリゴン面は同図の25a′の角度に設定され、この時に反射される光線はB′の方向、即ちAと同じ方向に反射されることによってお互いのスポットの結像位置が一致することになる。
【0007】
このとき、何らかの原因(例えば光学系を保持する光学ユニットと被走査面との位置誤差、光学ユニットに光学部品を組み付けるときの組つけ誤差、等)で主走査方向のピントずれが発生した場合、ここでは被走査面27が27′の位置にずれてしまったと仮定すると、同図から明らかなようにそれぞれの光線の結像位置が主走査方向にδYだけずれてしまう。
【0008】
従来、この様に複数光源からの光ビームの結像位置にずれが発生することによって、印字精度の低下・画質の劣化を招いてしまうという問題が存在していた。
【0009】
主走査方向にピントがずれる要因はさまざまであり、それら全てをゼロにすることは不可能である。それを仮に調整するにしても調整工程にコストがかかってしまう。さらに、最近においてはコストの観点からfθレンズにプラスチック材料を用いた光学系を使用することが多い。プラスチックレンズは射出成形で製造されるが、その面精度は光学ガラスを研磨することによって得られる精度に比べて劣っている。特にレンズのある部分では設計値に対して凸に誤差が生じるが他の部分では凹に誤差が生じるということが起こりやすい。この様な面精度の誤差によるピントずれに対しては被走査面全域に亙ってピントずれを補正することは不可能である。
【0010】
よって、複数光源からの光ビームの結像位置ずれによる画質の劣化を補正することは非常に困難なことであった。
【0011】
ここでは、簡単の為、発光点の数を2として図示し説明しているが、発光点の数が3、4、5、6と増加すればするほど、両端の光源間において発生する上記δYの値が比例的に増大してくることが容易に理解出来る。即ち、上記従来のマルチビーム光走査光学系においては、高速化を達成する為に発光点の数を増加させようとしても、前述の複数光源からの光ビームの結像位置のずれが増大することにより印字精度の低下・画質の劣化を招いてしまい、高速化が非常に難しいという問題があった。
【0012】
本発明は、上記問題点を解決する為になされたものであり、複数の光源と集光レンズとの間にリレー光学系を配置することによって、複雑な調整を必要とせず、効果的に複数光源からの光束の結像位置ずれを防止することによって、高速でしかも高画質に最適なマルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明のマルチビーム光走査光学系は、少なくとも主走査方向にずらして配置された複数の発光点と、前記複数の発光点から出射した複数の光ビームを光偏向器の偏向面に入射させる集光レンズを有する入射光学系と、前記光偏向器の偏向面にて偏向走査された複数の光ビームを被走査面に結像させる走査光学系と、を有するマルチビーム光走査光学系であって、
前記入射光学系は、前記複数の発光点と前記集光レンズの間にリレー光学系が配置され、かつ、前記入射光学系は、主走査断面内において、前記リレー光学系により前記複数の発光点から出射された複数の光ビームのそれぞれの結像点よりも前記発光点側に前記複数の発光点から出射した複数の光ビームのそれぞれの光ビームのビーム幅を制限する開口絞りが配置されており、
主走査断面内において、前記集光レンズにより、前記開口絞りと前記光偏向器の偏向面は、共役な関係とされていることを特徴としている。
【0027】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の実施形態1のマルチビーム光走査光学系をレーザービームプリンタやデジタル複写機等の画像形成装置に適用したときの主走査方向要部断面図である。
【0028】
同図において、1は複数の発光点を有する半導体レーザー等から成る光源であり、図11に示す様に複数の光源を斜めに配置してその斜めの角度δを調整することにより、被走査面上における副走査方向のそれぞれの線の間隔を記録密度に合わせて正確に調整している。また、本実施形態1においては理解を簡単にする為発光点の数を2としているが、発光点が増えても同様に考えることが出来る。
【0029】
それぞれの発光点から射出したそれぞれの光ビームはリレー光学系であるリレーレンズ2によってP点の位置に結像される。P点の位置に結像されたそれぞれの光ビームは、集光レンズ3によって略平行光または収束光または発散光とされ、シリンドリカルレンズ4によって副走査方向にのみ収束されて、光偏向器であるポリゴンミラー5の偏向反射面5a近傍において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像される。シリンドリカルレンズ4はガラス材料から成る凸のパワーの第1シリンドリカルレンズと、プラスチック材料から成る凹のパワーの第2シリンドリカルレンズから構成されており、走査光学系であるプラスチック材料から成るfθレンズ7の環境変動による副走査方向のピント移動を補正している。
【0030】
また、6はリレーレンズ2を通過した後で収束光とされたそれぞれの光ビームのビーム幅を制限する開口絞りである。
【0031】
開口絞り6は、リレーレンズ2による前記複数の発光点の結像位置であるP点よりも、前記複数の発光点を有する光源1側に配置されている。
【0032】
また、集光レンズ3は、前記開口絞り6と前記偏向反射面5aとを略共役な関係とするように配置されている。上記、光源1、リレーレンズ2、集光レンズ3、シリンドリカルレンズ4、開口絞り6、により、光ビーム入射光学系が構成されている。
【0033】
さらに図中矢印A方向に一定角速度で回転しているポリゴンミラー5によって反射され偏向走査されたそれぞれの光ビームは、走査光学系であるfθレンズ7によって感光ドラム等から成る被走査面8上にスポット状に集光され図中矢印B方向に一定速度で走査される。
【0034】
以下図2に従って、マルチビーム光走査光学系における光ビーム入射光学系を詳説する。
【0035】
図2(a)は、本発明の実施形態1の効果を説明する為の、マルチビーム光走査光学系における光ビーム入射光学系の主走査方向断面図、図2(b)は、同様副走査方向断面図を示している。但し、ここでは、前記開口絞り6が存在しない場合を説明する為、開口絞り6を配置していない構成となっている。
【0036】
上述の如く、2つの発光点1A・1Bを有する半導体レーザーから成る光源1は、図11に示す様に複数の光源を斜めに配置してその斜めの角度δを調整することにより、被走査面上における副走査方向のそれぞれの線の間隔を記録密度に合わせて正確に調整している。ここにおいて、発光点の数は2としているが本発明はこれに限定されるものではなく、むしろ発光点の数が3以上と数が増えたときに、より一層の効果を得ることが出来る。また、光源として半導体レーザーを仮定して以後の説明を進めるが本発明はこれに限定されるものではなく、他の光源、例えばLED等を光源として用いることも可能である。
【0037】
上記2つの発光点1A・1Bから出射したそれぞれの光ビームは、リレー光学系であるリレーレンズ2によってP点の位置にそれぞれ結像される。P点の位置に結像されたそれぞれの光ビームは、集光レンズ3によって略平行光または収束光または発散光とされ、シリンドリカルレンズ4によって副走査方向にのみ収束されて、光偏向器であるポリゴンミラー5の偏向反射面5a近傍において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像される。
【0038】
ここで、上記2つの発光点1A・1Bから出射したそれぞれの光ビームの主光線PA・PBを考える。これら2本の主光線が共に光ビーム入射光学系の光軸AXに平行に出射した場合、前記2本のそれぞれの主光線PA・PBは、前記リレー光学系の後側焦点位置Q点において交差する。
【0039】
一方、前記集光レンズ3は、主走査方向において前記リレー光学系の後側焦点位置Q点と前記偏向反射面5aとを略共役な関係とするように配置されている。
その様に集光レンズを配置した場合、Q点において交差したそれぞれの2本の主光線PA・PBは、集光レンズ3によって主走査方向において前記偏向反射面5a上の点Rにおいて再度交差する。
【0040】
この様に光ビーム入射光学系を構成した場合、図12にて説明した従来の如き主走査方向のピントずれに起因する、それぞれの2つのビームの主走査方向の結像位置ずれδYの発生をゼロとすることが可能となる。この、主走査方向の結像位置ずれδYは、図12における光線Aと光線B′とがお互いに主走査方向に離れていることが原因であることが容易に理解出来よう。
【0041】
本発明の実施形態1においては、2本の主光線PA・PBは、主走査方向において偏向反斜面5a上の同一の点Rに到達するように構成されている為、図12における光線Aに相当する光線PAと、図12における光線Bに相当する光線PB′とが完全に同一経路をたどることになり、その結果として、従来の如き主走査方向のピントずれに起因する、それぞれの2つのビームの主走査方向の結像位置ずれδYが原理的に発生しないことになる。
【0042】
次に、前記2つの発光点1A・1Bから出射したそれぞれの光ビームの主光線PA・PBが、光ビーム入射光学系の光軸AXに平行でない場合を考えてみる。半導体レーザーから出射される光ビームは理想的には光ビーム入射光学系の光軸AXに平行であるが、通常はある程度の角度誤差を有するのが普通である。この角度誤差は、電界振動面に平行な方向と垂直な方向とで若干の差はあるが、±2〜3の誤差は考慮する必要がある。
【0043】
ここでは、前記2本の主光線PA・PBのうち、PAのみが光ビーム入射光学系の光軸AXに平行でない場合を考える。図2(c)は、前記2本の主光線PA・PBのうち、PAのみが光ビーム入射光学系の光軸AXに平行でない場合のマルチビーム光走査光学系における光ビーム入射光学系の主走査方向断面図である。図2(c)を参照すると、発光点1Aから主走査方向に角度αを成して出射した主光線PAは、Q点において光ビーム入射光学系の光軸AXとは交差せず、Δ1=f2 ×tanαだけ主走査方向に離れた位置を通過することになる。さらに、偏向反射面5a上においては、集光レンズ3により前記Δ1が集光レンズ3の結像倍率β1 倍に拡大された量Δ2=Δ1×β1 だけ光ビーム入射光学系の光軸AXから主走査方向に離れた位置に到達してしまうことになる。この場合、2本の主光線PA・PBは、偏向反射面5a上の同一の点Rに到達しない為、前述した如く主走査方向のピントずれに起因する、それぞれの2つのビームの主走査方向の結像位置ずれδYが発生してしまうことになる。前述したとおり、この様な角度誤差は必ず存在するものであり、即ち、本発明の実施形態1の如くリレーレンズ2・集光レンズ3を構成したとしても、上記主走査方向の結像位置ずれδYをゼロにすることは殆ど不可能となる。
【0044】
そこで、本発明の実施形態1においては、前記リレー光学系による前記複数光源のそれぞれの結像点Pの位置よりも光源側に、前記複数光源から出射したそれぞれの光ビームのビーム幅を制限する開口絞り6を配置する構成をとる。
【0045】
図3は、開口絞り6を前記光ビーム入射光学系の光軸AX上の点Qの位置に配置した本発明の実施形態1の光ビーム入射光学系の主走査方向断面図である。図3においては、図2(c)で説明したときと同じく、前記2本の主光線PA・PBのうち、PAのみが光ビーム入射光学系の光軸AXに平行でない場合の図である。
【0046】
図3を参照すると、発光点1Aから主走査方向に角度αを成して出射した主光線PAは、開口絞り6によってそのビーム幅を制限されることにより、発光点1Bから出射した主光線PBと同じくQ点において光ビーム入射光学系の光軸AXと交差することになる。よって、Q点において交差したそれぞれの2本の主光線PA・PBは、集光レンズ3によって前記偏向反射面5a上の点Rにおいて再度交差することになる。
【0047】
即ち、本発明の実施形態1においては、リレー光学系であるリレーレンズ2による前記複数光源のそれぞれの結像点Pの位置よりも光源側であるQ点に、前記複数光源から出射したそれぞれの光ビームのビーム幅を制限する開口絞り6を配置する構成をとったことによって、前記2つの発光点1A・1Bから出射したそれぞれの光ビームの主光線PA・PBが、光ビーム入射光学系の光軸AXに平行でない場合であっても、集光レンズ3によって前記偏向反射面5a上の点Rにおいて再度交差することになる。従って、前述した如く主走査方向のピントずれに起因する、それぞれの2つのビームの主走査方向の結像位置ずれδYの発生をゼロとすることが可能となる訳である。
【0048】
この様な構成をとることによって、各光源から出射される光ビームの角度誤差が存在したとしても、常に主走査方向の結像位置ずれδYをゼロとすることによって、効果的に印字精度の低下・画質の劣化を防止することが可能となり、さらには、走査光学系であるfθレンズに安価なプラスチックレンズを使用したとしても、fθレンズに起因するピントずれによる主走査方向の結像位置ずれδYの発生をゼロとすることが可能となる為、低コストな構成でありながら印字精度の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能なマルチビーム光走査光学系、及び画像形成装置を達成することが可能となる。
【0049】
一方、本発明の実施形態1の様に、リレー光学系であるリレーレンズ2・集光レンズ3・開口絞り6とから光ビーム入射光学系を構成すると、前記従来構成の入射光学系に比較して大型化してしまいがちである。従って、本発明の実施形態1においては、前記リレー光学系であるリレーレンズ2の焦点距離f2 、リレーレンズ2の結像倍率β2 、前記集光レンズ3の焦点距離f1 、前記リレー光学系の後側主点から前記開口絞りまでの距離d、等を適切な関係に設定することにより、効果的にコンパクトな構成とすることを可能としている。
【0050】
以下、図4を用いて詳説する。図4は図3同様、開口絞り6を前記光ビーム入射光学系の光軸AX上の点Qの位置に配置した本発明の実施形態1の光ビーム入射光学系の主走査方向断面図である。1A・1Bは半導体レーザー等からなる複数光源の各発光点であり、リレーレンズ2の焦点距離をf2 、リレーレンズ2の結像倍率をβ2 、集光レンズ3の焦点距離をf1 、リレー光学系であるリレーレンズ2の後側主点から開口絞り6までの距離をd、集光レンズ3の後側主点から偏向反射面5aまでの距離をS1 、開口絞り6から集光レンズ3の前側主点までの距離をSk、開口絞り6からリレーレンズ3による複数光源のそれぞれの結像点位置Pまでの距離をΔ、開口絞り6の絞り径をφ1 、集光レンズ3から出射する各光ビームのビーム系をφ0 、開口絞り6によって決定される各光ビームのリレーレンズ2による像側FナンバーをFn1、複数光源の各発光点1A・1Bから偏向反射面5aまでの距離をL、とし、集光レンズ3から出射する各光ビームを略平行光とする場合を考える。
【0051】
その場合、複数光源の各発光点1A・1Bから偏向反射面5aまでの距離をLは、
【外11】
【0052】
であらわされる。ここにおいてLの値を小さく、即ち、入射光学系をコンパクトに構成する為には、f2 ・f1 の値をそれぞれ小さく、且つ、β2 の値は1のときが一番Lの値を小さく出来ることが理解出来る。前記リレーレンズの焦点距離f2 と集光レンズの焦点距離f1 のLに対する寄与率は、上記式からf2 :f1 は4:1であることが解る。即ち、
【外12】
【0053】
以下に設定し且つβ2 =1とすればLの値を効果的に小さくすることが出来る。
【0054】
しかし、f1 の値に比してf2 の値を余りに小さく設定してしまうと、リレー光学系であるリレーレンズ2によって発生する球面収差、及び像面湾曲収差が大となってしまう。また、前記各収差を良好に補正する為には、f1 の値に比してf2 の値を大きく設定すれば良いが、f2 の値を余り大きく設定してしまうと上記Lの値を小さく設定することが出来ない為、入射光学系をコンパクトに構成することが不可能となってしまう。従って、本発明の実施形態1においては、上記f2 ・f1 の値を以下の条件式
【外13】
【0055】
を満足する様に設定している。
【0056】
また、開口絞り6の絞り径φ1 は、
【外14】
【0057】
であらわされる。即ち、開口絞り6の絞り径φ1 は、上記Δ・Fn1によって決定されることが解るが、上記Δの値は、前記S1 ・Sk・f1 の値によって決定される。通常の位置に集光レンズを配置した場合はΔの値は比較的小さな値をとることが普通である。その場合、Fn1の値が大きいと、前記開口絞り6の絞り径φ1 が小さくなってしまい、例えば、前記開口絞り6の絞り径φ1 に内径公差が存在した場合、内径公差に起因して被走査面におけるスポット径の変動が大きくなってきてしまい、安定したスポット径を得ることが困難となってきてしまう。よって上記内径公差の影響を低減する為には、Fn1の値を小さく設定することが好ましい。このことは、前記リレー光学系であるリレーレンズ2によって前記複数の光源を等倍以下に結像させることによって達成出来る。しかし、この結像倍率をあまり下げてしまうと、リレーレンズ2による光源からの光ビームのカップリング効率が劣化してしまうので好ましくない。よって、本発明の実施形態1においては、リレーレンズ2の結像倍率β2 を以下の条件式
【外15】
【0058】
を満足する様に設定している。
【0059】
また、前記開口絞り6は理想的にはリレー光学系であるリレーレンズ2の後側焦点位置に配置することが好ましい。しかし、入射光学系の全体構成及びメカ的な配置上の制限等から、上記位置に配置出来ない場合もある。その様な場合においては、前記それぞれのビームの主走査方向の結像位置ずれδYの発生量が許容出来る範囲内において、前記開口絞り6の配置位置を適宜変更しても構わない。よって、本発明の実施形態1においては、前記リレー光学系の焦点距離をf2 、前記リレー光学系の後側主点から前記開口絞りまでの距離をd、としたとき、以下の条件式
【外16】
【0060】
を満足する様に設定している。上記(1)式の下限を超えて開口絞り6を配置してしまうと、開口絞り6が集光レンズ3側に近づいてしまうことにより、絞り径φ1 を小さく設定しなければならず、前述した通り、前記開口絞り6の絞り径φ1 に内径公差が存在した場合、被走査面におけるスポット径の変動が大きくなってきてしまい、安定したスポット径を得ることが困難となってきてしまう。また上記(1)式の上限を超えて開口絞り6を配置してしまうと、前記それぞれのビームの主走査方向の結像位置ずれδYの発生量が許容出来なくなってくると共に、各光ビーム内部の光強度分布に非対称性が生じることによる結像性能の劣化、および、各光ビームの被走査面上における光量差が大きくなってしまうので好ましくない。
【0061】
さらに、本発明の実施形態1においては、入射光学系をコンパクトに構成する為、リレー光学系を1群構成とし、前記リレー光学系によって発生する球面収差、及び像面湾曲収差を集光レンズ3によって相殺することを特徴としている。
【0062】
前記(2)・(3)式で説明した如く、リレー光学系であるリレーレンズの焦点距離f2 はある程度小さい必要があり、且つリレーレンズ2の結像倍率も縮小側に設定するのが好ましい。また、リレーレンズ2、集光レンズ3も成るべく構成枚数を少なく、且つ小型に設計することが好ましい。しかし、特にリレーレンズ2において発生する球面収差と像面湾曲収差を補正することが非常に困難であり、例えば、少ない構成枚数である2枚構成などで設計することは事実上不可能である。
【0063】
そこで、本発明の実施形態1においては、リレーレンズ2を2枚のレンズで構成し、且つ、前記2枚のレンズは同一形状で構成することとし、それによって発生する球面収差と像面湾曲収差を、前記集光レンズ3で相殺する構成としている。
【0064】
前記リレーレンズ2によって発生する球面収差及び像面湾曲収差は共にアンダーであり、このアンダーな球面収差と像面湾曲収差を集光レンズ3を最適なレンズ構成をとることによって相殺している。具体的には、前記集光レンズ3は、光源側より順に凹レンズ・凸レンズの2枚構成としている。この様なレンズ構成とすることにより、集光レンズ3としてオーバーな球面収差と像面湾曲収差を発生させ、リレーレンズ2のアンダーな球面収差と像面湾曲収差を相殺させている。
【0065】
本発明の実施形態1においては、この様な構成をとることによって、リレーレンズ2及び集光レンズ3を少ない構成枚数で構成することを可能とし、入射光学系をコンパクトに構成することが出来ると共に、入射系全体としての球面収差、及び像面湾曲収差を非常に良好に補正することを可能としている。それによって、被走査面におけるスポット形状を良好に補正し、且つ複数光源に対応するそれぞれの結像スポット性能の相対的な差も十分に小さく補正することが出来、その結果、低コスト・コンパクトな構成でありながら印字精度の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能なマルチビーム光走査光学系、及び画像形成装置を達成することが可能となる。
【0066】
なお、ここでは、複数の光源を図11に示すように配置した場合について述べたが、リレーレンズ2と集光レンズ3の合成焦点距離を図9に示す従来の構成のコリメーターレンズ22の焦点距離よりも長く設定してやれば、複数の光源を図10に示すように配置した場合の被走査面上に置ける各光ビームが走査する副走査方向の線の間隔を小さくすることが可能となる。即ち、複数の光源から出射した各光ビームを副走査断面内において、光走査光学系を構成する各光学系の光軸に近いところを使用することが可能となる為、各光源に対応した光ビームの結像性能の相対差を少なくすることができ、高画質な画像出力を得ることが可能となる。
【0067】
第1表に本発明の実施形態1のマルチビーム光走査光学系の諸特性を示す。
【0068】
走査レンズであるfθレンズの主走査断面の非球面形状は、各レンズ面と光軸との交点を原点とし、光軸方向をX軸、主走査断面内において光軸と直交する軸をY軸、副走査断面内において光軸と直交する軸をZ軸としたときに、
【外17】
【0069】
なる式で表わされる。
【0070】
なお、Rは曲率半径、k、B4〜B10は非球面係数である。
【0071】
ここで各係数がyの値の正負によって異なる場合は、yの値が正のときは係数として添字uのついたku、B4u〜B10uを、yの値が負のときは係数として添字lのついたkl、B4l〜B10lを使用する。
【0072】
一方副走査断面の形状は主走査方向のレンズ面座標がyであるところの曲率半径r′が、
r′=r(1+D2 y2+D4y4+D6y6+D8y8+D10y10)
なる式で表わされる形状をしている。
【0073】
なお、rは光軸上における曲率半径、D2 〜D10は各係数である。
【0074】
ここで各係数がyの値の正負によって異なる場合は、yの値が正のときは係数として添字uのついたD2u〜D10uを用いて計算された曲率半径r′となっており、yの値が負のときは係数として添字lのついたD2l〜D10lを用いて計算された曲率半径r′となっている。
【0075】
また第2表に、f1 、f2 、β2 、dの各値と前記各条件式(1)〜(3)に対応する各特性値を示す。各値とも前記各条件式を満足していることが解る。
【0076】
【表1】
【0077】
【表2】
【0078】
【表3】
【0079】
【表4】
【0080】
また、図5にリレー光学系であるリレーレンズ2で発生する球面収差と像面湾曲収差をそれぞれ示し、図6に集光レンズ3によって発生する球面収差と像面湾曲収差をそれぞれ示す。また、図7にリレーレンズ2と集光レンズ3による入射光学系トータルの球面収差と像面湾曲収差をそれぞれ示す。但し、ここにおける各収差図は、偏向反射面5a側から光線を入射させた状態で計算している。図から解る様に、リレーレンズ2で発生する球面収差と像面湾曲収差とを集光レンズ3で発生する球面収差と像面湾曲収差とで相殺している。ΔMは主走査断面内、ΔSは副走査断面内での像面湾曲である。
【0081】
次に、本発明の実施形態2について説明する。図8は本発明の実施形態2のマルチビーム光走査光学系をレーザービームプリンタやデジタル複写機等の画像形成装置に適用したときの主走査方向要部断面図である。
【0082】
本実施形態2においては、前記開口絞り6をリレー光学系であるリレーレンズ2の後側焦点位置df2 よりも光源側に配置している。その他の諸特性値は実施形態1と同様である。本実施形態2におけるf1 、f2 、β2 、dの各値と前記各条件式(1)〜(3)に対応する各特性値を第3表に示す。
【0083】
本実施形態2においては、前記開口絞り6をリレー光学系であるリレーレンズ2の後側焦点位置df2 よりも光源側に配置している為、前記開口絞り6の絞り径φ1 を実施形態1よりも大きく設定することが可能となり、絞り径φ1 の内径公差に対する被走査面上でのスポット径に与える影響を緩和している。それによって、開口絞りの内径公差の許容度を実施形態1に比べて2.02倍にすることが出来、部品精度を緩和することを可能にしている。
【0084】
一方、前記開口絞り6をリレー光学系であるリレーレンズ2の後側焦点位置からずらして配置している為、前記主走査方向のピントずれに起因する、それぞれの2つのビームの主走査方向の結像位置ずれδYの量はゼロとはなっていない。
【0085】
本実施形態2においては、前記偏向反射面5a上における各発光点から出射した光ビームの主光線PA・PBの離れ量Δ2は0.166mmとなる。ここで、走査レンズであるfθレンズの焦点距離は212mmであるから、例えば、主走査方向のピントずれが1mm発生したときのそれぞれの2つのビームの主走査方向の結像位置ずれΔYは、
【外18】
【0086】
であらわされる。
【0087】
通常の走査光学系においては、主走査方向のピントずれが2mmを超えてくると主走査方向のスポット径が肥大してしまう為、主走査方向のピントずれは2mm以下になる様に組み立て調整が成されるのが普通である。
【0088】
主走査方向のピントずれが2mmであった場合の前記それぞれの2つのビームの主走査方向の結像位置ずれδYは上式で計算された値の2倍の1.6μmである。通常、この主走査方向の結像位置ずれ量は7μmを超えてくると画像として目立ち始めることが本発明人らの実験によって確認されている。それに対して、本実施形態2における2つのビームの主走査方向の結像位置ずれ1.6μmは十分に許容範囲内であることが解る。
【0089】
本実施形態2においては、上記前記開口絞り6をリレー光学系であるリレーレンズ2の後側焦点位置よりも2.02倍に設定し、部品精度を緩和することを可能とし、且つ、それぞれのビームの主走査方向の結像位置ずれを十分許容範囲に収める設定とすることを可能としている。
【0090】
図13は、本発明の画像形成装置の実施形態を示す副走査方向の要部断面図である。図13において、符号104は本発明の画像形成装置を示す。この画像形成装置104には、パーソナルコンピュータ等の外部機器117からコードデータDcが入力する。このコードデータDcは、装置内のプリンタコントローラ111によって、画像データ(ドットデータ)Diに変換される。この画像データDiは、実施形態1〜2に示した構成を有するマルチビーム光走査光学系を使用したマルチビーム光走査装置100に入力される。そして、このマルチビーム光走査装置100からは、画像データDiに応じて変調された複数の光ビーム103が出射され、この複数の光ビーム103によって感光ドラム101の感光面が主走査方向に走査される。
【0091】
静電潜像担持体(感光体)たる感光ドラム101は、モータ115によって時計廻り或いは反時計周りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム101の感光面が光ビーム103に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム101の上方には、感光ドラム101の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ102が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ102によって帯電された感光ドラム101の表面に、前記マルチビーム光走査装置100によって走査される光ビーム103が照射されるようになっている。
【0092】
先に説明したように、複数の光ビーム103は、画像データDiに基づいて変調されており、この複数の光ビーム103を照射することによって感光ドラム101の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記複数の光ビーム103の照射位置よりもさらに感光ドラム101の回転方向の下流側で感光ドラム101に当接するように配設された現像器107によってトナー像として現像される。
【0093】
現像器107によって現像されたトナー像は、感光ドラム101の下方で、感光ドラム101に対向するように配設された回転ローラ108によって被転写材たる用紙112上に転写される。用紙112は感光ドラム101の前方(図13において右側)の用紙カセット109内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット109端部には、給紙ローラ110が配設されており、用紙カセット109内の用紙112を搬送路へ送り込む。
【0094】
以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙112はさらに感光ドラム101後方(図13において左側)の定着器へと搬送される。定着器は内部に定着ヒータ(図示せず)を有する定着ローラ113とこの定着ローラ113に圧接するように配設された加圧ローラ114とで構成されており、転写部から搬送されてきた用紙112を定着ローラ113と加圧ローラ114の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙112上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ローラ113の後方には排紙ローラ116が配設されており、定着された用紙112を画像形成装置の外に排出せしめる。
【0095】
図13においては図示していないが、プリントコントローラ111は、先に説明データの変換だけでなく、モータ115を始め画像形成装置内の各部や、マルチビーム光走査装置内のポリゴンモータなどの制御をも行う。
【0096】
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明によるマルチビーム光走査光学系においては、入射光学系をリレー光学系と集光レンズとを最適な構成とすることによって、複雑な調整を必要とせず、効果的に複数光源からの光束の結像位置ずれを防止することによって、高速でしかも高画質に最適なマルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1のマルチビーム光走査光学系の主走査方向の要部断面図。
【図2】本発明の実施形態1効果を説明する為のマルチビーム光走査光学系における光ビーム入射光学系の図。
【図3】本発明の実施形態1のマルチビーム光走査光学系の主走査方向の断面図。
【図4】本発明の実施形態1のマルチビーム光走査光学系の主走査方向断面の構成を説明する図。
【図5】リレーレンズ2で発生する球面収差と像面湾曲収差を示す図。
【図6】集光レンズ3によって発生する球面収差と像面湾曲収差を示す図。
【図7】リレーレンズ2と集光レンズ3による入射光学系トータルの球面収差と像面湾曲収差を示す図。
【図8】本発明の実施形態2のマルチビーム光走査光学系の主走査方向の要部断面図。
【図9】従来のマルチビーム光走査光学系を説明する図。
【図10】従来のマルチビーム光走査光学系の発光点の配置のしかたを示す図。
【図11】従来のマルチビーム光走査光学系の発光点の配置のしかたを示す図。
【図12】従来のマルチビーム光走査光学系においてピントずれが発生した場合の説明図。
【図13】本発明の画像形成装置の実施形態を示す副走査方向の要部断面図。
【符号の説明】
1 複数光源(半導体レーザー)
2 リレーレンズ
3 集光レンズ
4 シリンドリカルレンズ
5 光偏向手段(ポリゴンミラー)
6 開口絞り
7 走査レンズ(fθレンズ)
8 被走査面(感光ドラム)
Claims (7)
- 少なくとも主走査方向にずらして配置された複数の発光点と、前記複数の発光点から出射した複数の光ビームを光偏向器の偏向面に入射させる集光レンズを有する入射光学系と、前記光偏向器の偏向面にて偏向走査された複数の光ビームを被走査面に結像させる走査光学系と、を有するマルチビーム光走査光学系であって、
前記入射光学系は、前記複数の発光点と前記集光レンズの間にリレー光学系が配置され、かつ、前記入射光学系は、主走査断面内において、前記リレー光学系により前記複数の発光点から出射された複数の光ビームのそれぞれの結像点よりも前記発光点側に前記複数の発光点から出射した複数の光ビームのそれぞれの光ビームのビーム幅を制限する開口絞りが配置されており、
主走査断面内において、前記集光レンズにより、前記開口絞りと前記光偏向器の偏向面は、共役な関係とされていることを特徴とするマルチビーム光走査光学系。 - 前記開口絞りは、主走査断面内において、前記リレー光学系の後側焦点位置に配置されている請求項1に記載のマルチビーム光走査光学系。
- 請求項1乃至5の何れか一項に記載のマルチビーム光走査光学系と、前記被走査面に配置された感光体と、前記マルチビーム光走査光学系で走査されたそれぞれの光ビームによって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、前記現像されたトナー像を被転写材に転写する転写手段と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とから成る画像形成装置。
- 請求項1乃至5の何れか一項に記載のマルチビーム光走査光学系と、外部機器から入力されたコードデータを画像信号に変換して前記マルチビーム光走査光学系に出力せしめるプリンタコントローラとから成ることを特徴とする画像形成装置。
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