JP3197996B2 - 走査光学系 - Google Patents
走査光学系Info
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/124—Details of the optical system between the light source and the polygonal mirror
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、デジタル複写機、レー
ザプリンタ、レーザファクシミリ等に装備される走査光
学系に関する。
ザプリンタ、レーザファクシミリ等に装備される走査光
学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】デジタル複写機、レーザプリンタ、レー
ザファクシミリ等においては、感光体への潜像書き込み
手段として、光源からの発光光束を集光レンズ（カップ
リングレンズ）で集光し、偏向器を介した後、走査用レ
ンズにより光束を感光体上に集束させる走査光学系が装
備されているが、従来の走査光学系では、感光体上での
ビーム形状が一般的にガウシアン強度分布を持ってい
た。これは、光源として半導体レーザやガスレーザを用
いた場合、光源から発光する光束はガウシアン強度分布
を持って発散され、それが収差が比較的小さい走査光学
系を経て結像されると、結像位置においてはガウシアン
分布となるためである。
ザファクシミリ等においては、感光体への潜像書き込み
手段として、光源からの発光光束を集光レンズ（カップ
リングレンズ）で集光し、偏向器を介した後、走査用レ
ンズにより光束を感光体上に集束させる走査光学系が装
備されているが、従来の走査光学系では、感光体上での
ビーム形状が一般的にガウシアン強度分布を持ってい
た。これは、光源として半導体レーザやガスレーザを用
いた場合、光源から発光する光束はガウシアン強度分布
を持って発散され、それが収差が比較的小さい走査光学
系を経て結像されると、結像位置においてはガウシアン
分布となるためである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、走査光学系
でビームスポットを走査し、感光体上に潜像を書き込む
際に、ビームスポットがガウシアン分布を持っている場
合、光源の発光出力のばらつきや感光体のバイアス露光
量のばらつきのために、潜像の大きさも変化してしま
い、出力画像が不鮮明になってしまうという問題があ
り、これは特に、高密度画像を実現する際の障害となっ
ていた。ここで、ビームスポットが矩型強度分布を有す
る場合には、光源の発光出力のばらつきや感光体のバイ
アス露光量のばらつきが生じても、ビームスポット径の
変動が少ないため、上記の不具合は生じない。
でビームスポットを走査し、感光体上に潜像を書き込む
際に、ビームスポットがガウシアン分布を持っている場
合、光源の発光出力のばらつきや感光体のバイアス露光
量のばらつきのために、潜像の大きさも変化してしま
い、出力画像が不鮮明になってしまうという問題があ
り、これは特に、高密度画像を実現する際の障害となっ
ていた。ここで、ビームスポットが矩型強度分布を有す
る場合には、光源の発光出力のばらつきや感光体のバイ
アス露光量のばらつきが生じても、ビームスポット径の
変動が少ないため、上記の不具合は生じない。
【０００４】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
って、その目的は、感光体上に集束されるビームスポッ
トの強度分布を矩型状に生成することのできる走査光学
系を提供することにある。
って、その目的は、感光体上に集束されるビームスポッ
トの強度分布を矩型状に生成することのできる走査光学
系を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、光源からの発光光束を集光レン
ズ（カップリングレンズ）で集光し、偏向器を介した
後、走査用レンズにより光束を感光体上に集束させる走
査光学系において、上記光源として面発光型レーザ等の
エリア発光光源を用いると共に、該光源と感光体を幾何
光学的に略共役関係に配置することにより略矩型形状の
ビームスポットを得ることを特徴とする。
め、請求項１の発明は、光源からの発光光束を集光レン
ズ（カップリングレンズ）で集光し、偏向器を介した
後、走査用レンズにより光束を感光体上に集束させる走
査光学系において、上記光源として面発光型レーザ等の
エリア発光光源を用いると共に、該光源と感光体を幾何
光学的に略共役関係に配置することにより略矩型形状の
ビームスポットを得ることを特徴とする。
【０００６】請求項２の発明は、請求項１の走査光学系
において、面発光型レーザ等のエリア発光光源の近傍に
矩型形状のアパーチャを設け、該アパーチャと感光体を
幾何光学的に略共役関係に配置することにより略矩型形
状のビームスポットを得ると共に任意のビームスポット
径を得ることを特徴とする。
において、面発光型レーザ等のエリア発光光源の近傍に
矩型形状のアパーチャを設け、該アパーチャと感光体を
幾何光学的に略共役関係に配置することにより略矩型形
状のビームスポットを得ると共に任意のビームスポット
径を得ることを特徴とする。
【０００７】請求項３の発明は、請求項１の走査光学系
において、集光レンズを凹レンズ群と凸レンズ群からな
るレトロフォーカス系の構成とすることにより略矩型形
状の微小ビームスポット径を得ることを特徴とする。
において、集光レンズを凹レンズ群と凸レンズ群からな
るレトロフォーカス系の構成とすることにより略矩型形
状の微小ビームスポット径を得ることを特徴とする。
【０００８】請求項４の発明は、光源からの発光光束を
集光レンズ（カップリングレンズ）で集光し、偏向器を
介した後、走査用レンズにより光束を感光体上に集束さ
せる走査光学系において、上記光源として点光源からな
る通常の半導体レーザを用い、該光源からの光束を集光
レンズを介した後、拡散板に照射し、且つ拡散板近傍に
矩型形状のアパーチャを設け、該アパーチャと感光体を
幾何光学的に略共役関係になるように配置することによ
り略矩型形状のビームスポットを得ることを特徴とす
る。
集光レンズ（カップリングレンズ）で集光し、偏向器を
介した後、走査用レンズにより光束を感光体上に集束さ
せる走査光学系において、上記光源として点光源からな
る通常の半導体レーザを用い、該光源からの光束を集光
レンズを介した後、拡散板に照射し、且つ拡散板近傍に
矩型形状のアパーチャを設け、該アパーチャと感光体を
幾何光学的に略共役関係になるように配置することによ
り略矩型形状のビームスポットを得ることを特徴とす
る。
【０００９】請求項５の発明は、請求項４の走査光学系
において、拡散板と走査レンズの間にリレーレンズを設
けることにより、光学系の光量損失を抑えて、略矩型形
状のビームスポットを得ることを特徴とする。
において、拡散板と走査レンズの間にリレーレンズを設
けることにより、光学系の光量損失を抑えて、略矩型形
状のビームスポットを得ることを特徴とする。
【００１０】請求項６の発明は、請求項５の走査光学系
において、リレーレンズを凹レンズ群と凸レンズ群から
なるレトロフォーカス系の構成とすることにより、略矩
型形状の微小ビームスポットを得ることを特徴とする。
において、リレーレンズを凹レンズ群と凸レンズ群から
なるレトロフォーカス系の構成とすることにより、略矩
型形状の微小ビームスポットを得ることを特徴とする。
【００１１】
【作用】請求項１〜６の走査光学系においては、感光体
上に集束されるビームスポット形状を矩型形状にする手
段を備えたことにより、感光体上のビームスポットの強
度分布を矩型強度分布とすることができる。ここで、感
光体上に集束されるビームスポットの強度が変動した場
合の、ガウシアン分布と矩型強度分布のビームスポット
径の変化を図５に示す。図５に示すように、ガウシアン
分布の場合、ビームスポットの強度がａ→ｂに変化した
際、ａの状態の強度の最大強度の0.135 におけるビーム
径ωは、ｂの状態でω’と小さくなる。これに対して矩
型強度分布の場合、ａ→ｂに変動してもビームスポット
径は変化しない。従って、請求項１〜６の走査光学系に
おいては、光源の発光出力のばらつきや感光体のバイア
ス露光量のばらつきが生じても、ビームスポット径の変
動を最小限に抑えることができる。
上に集束されるビームスポット形状を矩型形状にする手
段を備えたことにより、感光体上のビームスポットの強
度分布を矩型強度分布とすることができる。ここで、感
光体上に集束されるビームスポットの強度が変動した場
合の、ガウシアン分布と矩型強度分布のビームスポット
径の変化を図５に示す。図５に示すように、ガウシアン
分布の場合、ビームスポットの強度がａ→ｂに変化した
際、ａの状態の強度の最大強度の0.135 におけるビーム
径ωは、ｂの状態でω’と小さくなる。これに対して矩
型強度分布の場合、ａ→ｂに変動してもビームスポット
径は変化しない。従って、請求項１〜６の走査光学系に
おいては、光源の発光出力のばらつきや感光体のバイア
ス露光量のばらつきが生じても、ビームスポット径の変
動を最小限に抑えることができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を図示の実施例に基づいて詳細
に説明する。 ［実施例１］図１は請求項１の一実施例を示す走査光学
系の説明図であって、図中符号１は光源、２は集光レン
ズ（カップリングレンズ）、３は回転多面鏡等の偏向器
の偏向面、４は走査用レンズ、５は感光体の感光面を示
している。図１に示す走査光学系では、光源１として面
発光型半導体レーザあるいはレーザアレイ等のエリアで
発光する素子を用いる。この際、光源１と感光体の感光
面５とが幾何光学的に略共役関係になるように集光レン
ズ２と走査用レンズ４のパワーを配置する。ここで、光
学系が幾何光学的に共役関係の配置となっているため、
光源１の実像が感光体上にそのまま形成され、発光部の
ニアフィールド像の光強度分布は矩型状であるため、感
光体上のビームスポットも矩型形状の強度分布を示す。
また、集光レンズ２によりコリメート光に変換する場
合、集光レンズ２の焦点距離をｆ1 、走査用レンズ４の
焦点距離をｆ2 とすると、光学系の横倍率βは、 β＝ｆ2／ｆ1 ・・・ となり、光源部の径をω0 とすると、感光体上でのビー
ムスポット径ωは、 ω＝βω0 ・・・ となる。
に説明する。 ［実施例１］図１は請求項１の一実施例を示す走査光学
系の説明図であって、図中符号１は光源、２は集光レン
ズ（カップリングレンズ）、３は回転多面鏡等の偏向器
の偏向面、４は走査用レンズ、５は感光体の感光面を示
している。図１に示す走査光学系では、光源１として面
発光型半導体レーザあるいはレーザアレイ等のエリアで
発光する素子を用いる。この際、光源１と感光体の感光
面５とが幾何光学的に略共役関係になるように集光レン
ズ２と走査用レンズ４のパワーを配置する。ここで、光
学系が幾何光学的に共役関係の配置となっているため、
光源１の実像が感光体上にそのまま形成され、発光部の
ニアフィールド像の光強度分布は矩型状であるため、感
光体上のビームスポットも矩型形状の強度分布を示す。
また、集光レンズ２によりコリメート光に変換する場
合、集光レンズ２の焦点距離をｆ1 、走査用レンズ４の
焦点距離をｆ2 とすると、光学系の横倍率βは、 β＝ｆ2／ｆ1 ・・・ となり、光源部の径をω0 とすると、感光体上でのビー
ムスポット径ωは、 ω＝βω0 ・・・ となる。
【００１３】［実施例２］走査光学系では、通常、主走
査方向及び副走査方向に任意のビームスポット径を得る
必要がある。そこで請求項２の発明では、図１の走査光
学系において、面発光型半導体レーザ等のエリア発光光
源１の近傍に矩型形状のアパーチャ（図示せず）を設
け、該アパーチャと感光体を幾何光学的に略共役関係に
配置することにより略矩型形状のビームスポットを得る
と共に任意のビームスポット径を得ることを可能とした
ものである。ここで、アパーチャとしては、矩型（長方
形）のアパーチャを光源１に貼付ても良い。また、半導
体レーザ作成の過程でマスキング処理によりアパーチャ
を形成しても良い。
査方向及び副走査方向に任意のビームスポット径を得る
必要がある。そこで請求項２の発明では、図１の走査光
学系において、面発光型半導体レーザ等のエリア発光光
源１の近傍に矩型形状のアパーチャ（図示せず）を設
け、該アパーチャと感光体を幾何光学的に略共役関係に
配置することにより略矩型形状のビームスポットを得る
と共に任意のビームスポット径を得ることを可能とした
ものである。ここで、アパーチャとしては、矩型（長方
形）のアパーチャを光源１に貼付ても良い。また、半導
体レーザ作成の過程でマスキング処理によりアパーチャ
を形成しても良い。
【００１４】［実施例３］次に、図２は請求項３の一実
施例を示す走査光学系の説明図である。図１の走査光学
系では、前述の，式で示したように、感光体上のビ
ームスポット径はｆ1 とｆ2 の比で決定される。従っ
て、微小ビームスポットを得たい場合には、式の横倍
率βをできるだけ小さくすることが望ましい。この横倍
率βは集光レンズ２の焦点距離ｆ1 を大きくすれば小さ
くなるが、単にｆ1 を大きくすると集光レンズ２と光源
１の間の光路長が長くなるため、光学系の小型化には適
さない。そこで請求項３の発明は、図２に示すように、
集光レンズ２を凹レンズ群２ａと凸レンズ群２ｂからな
るレトロフォーカス系で構成することにより、見かけの
光路長が短い系にて微小ビームスポットが得られるよう
にしたものである。
施例を示す走査光学系の説明図である。図１の走査光学
系では、前述の，式で示したように、感光体上のビ
ームスポット径はｆ1 とｆ2 の比で決定される。従っ
て、微小ビームスポットを得たい場合には、式の横倍
率βをできるだけ小さくすることが望ましい。この横倍
率βは集光レンズ２の焦点距離ｆ1 を大きくすれば小さ
くなるが、単にｆ1 を大きくすると集光レンズ２と光源
１の間の光路長が長くなるため、光学系の小型化には適
さない。そこで請求項３の発明は、図２に示すように、
集光レンズ２を凹レンズ群２ａと凸レンズ群２ｂからな
るレトロフォーカス系で構成することにより、見かけの
光路長が短い系にて微小ビームスポットが得られるよう
にしたものである。
【００１５】［実施例４］次に、図３は請求項４，５の
一実施例を示す走査光学系の説明図である。請求項４の
発明は、光源１０からの発光光束を集光レンズ（カップ
リングレンズ）２で集光し、偏向器３を介した後、走査
用レンズ４により光束を感光体５上に集束させる走査光
学系において、上記光源１０として点光源からなる通常
の半導体レーザを用い、該光源１０からの光束を集光レ
ンズ２を介した後、拡散板６に照射し、且つ拡散板６近
傍に矩型形状のアパーチャ７を設け、該アパーチャ７と
感光体５を幾何光学的に略共役関係になるように配置す
ることにより略矩型形状のビームスポットが得られるよ
うにしたものである。すなわち、請求項４の走査光学系
では、点光源１０から発光する光束を集光レンズ２にて
集光した後、すりガラス等の拡散板６に照射するが、拡
散板６の近傍に矩型（長方形）のアパーチャ７を設ける
と、アパーチャ７から出射する光束の強度分布は略矩型
強度分布を有する。ここでアパーチャ７と感光体５が幾
何光学的に略共役関係を持つように走査用レンズ４のパ
ワーを配置すると、アパーチャ７の実像が感光体上に形
成され、ビームスポットの強度分布は矩型分布となる。
一実施例を示す走査光学系の説明図である。請求項４の
発明は、光源１０からの発光光束を集光レンズ（カップ
リングレンズ）２で集光し、偏向器３を介した後、走査
用レンズ４により光束を感光体５上に集束させる走査光
学系において、上記光源１０として点光源からなる通常
の半導体レーザを用い、該光源１０からの光束を集光レ
ンズ２を介した後、拡散板６に照射し、且つ拡散板６近
傍に矩型形状のアパーチャ７を設け、該アパーチャ７と
感光体５を幾何光学的に略共役関係になるように配置す
ることにより略矩型形状のビームスポットが得られるよ
うにしたものである。すなわち、請求項４の走査光学系
では、点光源１０から発光する光束を集光レンズ２にて
集光した後、すりガラス等の拡散板６に照射するが、拡
散板６の近傍に矩型（長方形）のアパーチャ７を設ける
と、アパーチャ７から出射する光束の強度分布は略矩型
強度分布を有する。ここでアパーチャ７と感光体５が幾
何光学的に略共役関係を持つように走査用レンズ４のパ
ワーを配置すると、アパーチャ７の実像が感光体上に形
成され、ビームスポットの強度分布は矩型分布となる。
【００１６】［実施例５］請求項４のように拡散板６と
アパーチャ７の構成だけでは拡散板６からの発散光束が
走査用レンズ４に到達するまでに大きく光量をロスして
しまう。そこで請求項５の発明では、図３に示すよう
に、拡散板６と走査用レンズ４の間にリレーレンズ８を
設ける。このようにリレーレンズ８を設けることによ
り、光量損失を抑えることが可能となる。すなわち、ア
パーチャ７と感光体５が幾何光学的に略共役関係を持つ
ように走査用レンズ４とリレーレンズ８のパワーを配置
することにより、アパーチャ７の実像が感光体上に形成
され、ビームスポットの強度分布は矩型分布となる。こ
こで、リレーレンズ８の焦点距離をｆ3 、走査用レンズ
４の焦点距離をｆ2とすると、光学系の横倍率βは、 β＝ｆ2／ｆ3 ・・・ で表わされ、アパーチャ７の径をω0 とすると、感光体
上のビームスポット径ωは、次式で表わされる。 ω＝βω0 ・・・
アパーチャ７の構成だけでは拡散板６からの発散光束が
走査用レンズ４に到達するまでに大きく光量をロスして
しまう。そこで請求項５の発明では、図３に示すよう
に、拡散板６と走査用レンズ４の間にリレーレンズ８を
設ける。このようにリレーレンズ８を設けることによ
り、光量損失を抑えることが可能となる。すなわち、ア
パーチャ７と感光体５が幾何光学的に略共役関係を持つ
ように走査用レンズ４とリレーレンズ８のパワーを配置
することにより、アパーチャ７の実像が感光体上に形成
され、ビームスポットの強度分布は矩型分布となる。こ
こで、リレーレンズ８の焦点距離をｆ3 、走査用レンズ
４の焦点距離をｆ2とすると、光学系の横倍率βは、 β＝ｆ2／ｆ3 ・・・ で表わされ、アパーチャ７の径をω0 とすると、感光体
上のビームスポット径ωは、次式で表わされる。 ω＝βω0 ・・・
【００１７】［実施例６］次に、図４は請求項６の一実
施例を示す走査光学系の説明図である。図３の走査光学
系では、，式で示すように、感光上のビームスポッ
ト径はｆ3 とｆ2 の比で決定される。従って、微小ビー
ムスポットを得たい場合には、式の横倍率βをできる
だけ小さくすることが望ましく、この横倍率βを小さく
するためには、リレーレンズ８の焦点距離ｆ3 をできる
だけ長くすることが望ましい。ところが、ｆ3 を長くと
ると光学系の光路長が長くなるため、光学系の小型化に
は適さない。そこで請求項６の発明は、図４に示すよう
にリレーレンズ８を凹レンズ群８ａと凸レンズ群８ｂか
らなるレトロフォーカス系の構成とすることにより、光
路長を長くすることなしに横倍率を小さくし、微小ビー
ムスポットが得られるようにしたものである。
施例を示す走査光学系の説明図である。図３の走査光学
系では、，式で示すように、感光上のビームスポッ
ト径はｆ3 とｆ2 の比で決定される。従って、微小ビー
ムスポットを得たい場合には、式の横倍率βをできる
だけ小さくすることが望ましく、この横倍率βを小さく
するためには、リレーレンズ８の焦点距離ｆ3 をできる
だけ長くすることが望ましい。ところが、ｆ3 を長くと
ると光学系の光路長が長くなるため、光学系の小型化に
は適さない。そこで請求項６の発明は、図４に示すよう
にリレーレンズ８を凹レンズ群８ａと凸レンズ群８ｂか
らなるレトロフォーカス系の構成とすることにより、光
路長を長くすることなしに横倍率を小さくし、微小ビー
ムスポットが得られるようにしたものである。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜６の走
査光学系においては、感光体上に集束されるビームスポ
ット形状を矩型形状にする手段を備えたことにより、感
光体上のビームスポットの強度分布を矩型強度分布とす
ることができる。従って、請求項１〜５の走査光学系に
おいては、光源の発光出力の変動等に際してもビームス
ポット径の変動を最小限に抑えることができ、光源の発
光出力の変動や感光体の露光感度のばらつきが生じても
安定した潜像（すなわち、ドット径）を得ることができ
るため、高密度画像を達成することが可能となる。
査光学系においては、感光体上に集束されるビームスポ
ット形状を矩型形状にする手段を備えたことにより、感
光体上のビームスポットの強度分布を矩型強度分布とす
ることができる。従って、請求項１〜５の走査光学系に
おいては、光源の発光出力の変動等に際してもビームス
ポット径の変動を最小限に抑えることができ、光源の発
光出力の変動や感光体の露光感度のばらつきが生じても
安定した潜像（すなわち、ドット径）を得ることができ
るため、高密度画像を達成することが可能となる。
【図１】請求項１の一実施例を示す走査光学系の説明図
である。
である。
【図２】請求項３の一実施例を示す走査光学系の説明図
である。
である。
【図３】請求項４，５の一実施例を示す走査光学系の説
明図である。
明図である。
【図４】請求項６の一実施例を示す走査光学系の説明図
である。
である。
【図５】感光体上に集束されるビームスポットの強度が
変動した場合の、ガウシアン分布と矩型強度分布のビー
ムスポット径の変化を示す図である。
変動した場合の、ガウシアン分布と矩型強度分布のビー
ムスポット径の変化を示す図である。
１ ：光源（エリア発光光源） ２ ：集光レンズ（カップリングレンズ） ２ａ：凹レンズ群 ２ｂ：凸レンズ群 ３ ：偏向器の偏向面 ４ ：走査用レンズ ５ ：感光体（感光面） ６ ：拡散板 ７ ：アパーチャ ８ ：リレーレンズ ８ａ：凹レンズ群 ８ｂ：凸レンズ群 １０：光源（点光源）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−64728（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−319022（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−236214（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−212121（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−185514（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−50344（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−19187（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−233510（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−42115（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/10
Claims (6)
- 【請求項１】光源からの発光光束を集光レンズ（カップ
リングレンズ）で集光し、偏向器を介した後、走査用レ
ンズにより光束を感光体上に集束させる走査光学系にお
いて、上記光源として面発光型レーザ等のエリア発光光
源を用いると共に、該光源と感光体を幾何光学的に略共
役関係に配置することにより略矩型形状のビームスポッ
トを得ることを特徴とする走査光学系。 - 【請求項２】請求項１記載の走査光学系において、面発
光型レーザ等のエリア発光光源の近傍に矩型形状のアパ
ーチャを設け、該アパーチャと感光体を幾何光学的に略
共役関係に配置することにより略矩型形状のビームスポ
ットを得ると共に任意のビームスポット径を得ることを
特徴とする走査光学系。 - 【請求項３】請求項１記載の走査光学系において、集光
レンズを凹レンズ群と凸レンズ群からなるレトロフォー
カス系の構成とすることにより略矩型形状の微小ビーム
スポット径を得ることを特徴とする走査光学系。 - 【請求項４】光源からの発光光束を集光レンズ（カップ
リングレンズ）で集光し、偏向器を介した後、走査用レ
ンズにより光束を感光体上に集束させる走査光学系にお
いて、上記光源として点光源からなる通常の半導体レー
ザを用い、該光源からの光束を集光レンズを介した後、
拡散板に照射し、且つ拡散板近傍に矩型形状のアパーチ
ャを設け、該アパーチャと感光体を幾何光学的に略共役
関係になるように配置することにより略矩型形状のビー
ムスポットを得ることを特徴とする走査光学系。 - 【請求項５】請求項４記載の走査光学系において、拡散
板と走査レンズの間にリレーレンズを設けることによ
り、光学系の光量損失を抑えて、略矩型形状のビームス
ポットを得ることを特徴とする走査光学系。 - 【請求項６】請求項５記載の走査光学系において、リレ
ーレンズを凹レンズ群と凸レンズ群からなるレトロフォ
ーカス系の構成とすることにより、略矩型形状の微小ビ
ームスポットを得ることを特徴とする走査光学系。
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