JPH0527189A - 走査光学装置 - Google Patents
走査光学装置Info
- Publication number
- JPH0527189A JPH0527189A JP3182386A JP18238691A JPH0527189A JP H0527189 A JPH0527189 A JP H0527189A JP 3182386 A JP3182386 A JP 3182386A JP 18238691 A JP18238691 A JP 18238691A JP H0527189 A JPH0527189 A JP H0527189A
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- Japan
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- laser
- light
- optical system
- scanning optical
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザーチップの裏面から射出された光がレ
ーザー基台１４の内面で拡散され、レーザー窓９を通過
してコリメート光学系に入射する拡散光１２が、感光体
７に結像して外乱光を形成することを防ぐ。 【構成】 レーザー基台１４内に設けられているレーザ
ーチップ８の裏面から射出された光のうち、レーザー基
台１４の内壁で拡散されレーザー窓９を通過した拡散光
１２を、コリメートレンズ３と半導体レーザー１との間
に設けられた遮光部材２によって遮光し、コリメートレ
ンズ３への到達を防止する。
ーザー基台１４の内面で拡散され、レーザー窓９を通過
してコリメート光学系に入射する拡散光１２が、感光体
７に結像して外乱光を形成することを防ぐ。 【構成】 レーザー基台１４内に設けられているレーザ
ーチップ８の裏面から射出された光のうち、レーザー基
台１４の内壁で拡散されレーザー窓９を通過した拡散光
１２を、コリメートレンズ３と半導体レーザー１との間
に設けられた遮光部材２によって遮光し、コリメートレ
ンズ３への到達を防止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は画像信号によって変調さ
れた半導体レーザーからのレーザー光によって被走査面
上に画像を形成する走査光学装置に関する。
れた半導体レーザーからのレーザー光によって被走査面
上に画像を形成する走査光学装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図５は従来の走査光学装置の説明図、図
６は図５に示す半導体レーザー１とコリメートレンズ３
の縦断面図である。
６は図５に示す半導体レーザー１とコリメートレンズ３
の縦断面図である。
【０００３】この走査光学装置は、半導体レーザー１
と、コリメート光学系と、回転多面鏡５と結像レンズ６
と、感光体７とからなる。半導体レーザー１はレーザー
基台１４と、レーザ基台１４内に設置されたレーザーチ
ップ８とフォトダイオードセル１０と、レーザーチップ
８から出力されるレーザー光の射出方向にレーザー基台
１４に固定されたレーザー窓９からなる。コリメート光
学系はコリメートレンズ３とコリメートレンズ絞り１３
とシリンドリカルレンズ４からなる。
と、コリメート光学系と、回転多面鏡５と結像レンズ６
と、感光体７とからなる。半導体レーザー１はレーザー
基台１４と、レーザ基台１４内に設置されたレーザーチ
ップ８とフォトダイオードセル１０と、レーザーチップ
８から出力されるレーザー光の射出方向にレーザー基台
１４に固定されたレーザー窓９からなる。コリメート光
学系はコリメートレンズ３とコリメートレンズ絞り１３
とシリンドリカルレンズ４からなる。
【０００４】原稿像を露光し走査して得た画像信号によ
って変調された半導体レーザー１からのレーザー光はコ
リメート光学系で平行光とされ、回転多面鏡５に入射す
る。走査単位時間毎のレーザー光が回転多面鏡５を介
し、結像レンズ６を通過して感光体７上に結像され、走
査の継続により像が形成される構成となっていた。
って変調された半導体レーザー１からのレーザー光はコ
リメート光学系で平行光とされ、回転多面鏡５に入射す
る。走査単位時間毎のレーザー光が回転多面鏡５を介
し、結像レンズ６を通過して感光体７上に結像され、走
査の継続により像が形成される構成となっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の走査光
学装置は、図６に示すとおりレーザーチップ８の裏面か
らの光がレーザー基台１４で拡散され、拡散光１２とな
ってその一部がレーザー窓９を通過し、コリメート光学
系を経て感光体７上に外乱光として照射されるので、画
質の劣化を生じ、高画質化を阻害するという欠点があ
る。
学装置は、図６に示すとおりレーザーチップ８の裏面か
らの光がレーザー基台１４で拡散され、拡散光１２とな
ってその一部がレーザー窓９を通過し、コリメート光学
系を経て感光体７上に外乱光として照射されるので、画
質の劣化を生じ、高画質化を阻害するという欠点があ
る。
【０００６】本発明の目的は拡散光により結像用の感光
体上に照射される外乱光が生じない走査光学装置を提供
することである。
体上に照射される外乱光が生じない走査光学装置を提供
することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の走査光学装置
は、半導体レーザーのレーザーチップの裏面から発出さ
れた光がレーザー基台で拡散され、そのなかのレーザー
窓を通過した拡散光が被走査面上に到達するのを防ぐ遮
光部材を有している。
は、半導体レーザーのレーザーチップの裏面から発出さ
れた光がレーザー基台で拡散され、そのなかのレーザー
窓を通過した拡散光が被走査面上に到達するのを防ぐ遮
光部材を有している。
【０００８】また、前記遮光部材は、半導体レーザーと
コリメート光学系との間に設けられてもよいし、または
コリメート光学系の絞りを兼ねたものであってもよく、
あるいは半導体レーザーのレーザー窓の部位に設けられ
てもよい。
コリメート光学系との間に設けられてもよいし、または
コリメート光学系の絞りを兼ねたものであってもよく、
あるいは半導体レーザーのレーザー窓の部位に設けられ
てもよい。
【０００９】
【作用】レーザー窓を通過する拡散光を遮断する遮光部
材を設けることにより、回転多面鏡を経由する結像光学
系への拡散光の入光が遮断される。
材を設けることにより、回転多面鏡を経由する結像光学
系への拡散光の入光が遮断される。
【００１０】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１１】図１は本発明の走査光学装置の第１の実施
例の説明図、図２は図１に示す半導体レーザー１とコリ
メート光学系の縦断面図である。
例の説明図、図２は図１に示す半導体レーザー１とコリ
メート光学系の縦断面図である。
【００１２】この走査光学装置は、半導体レーザー１
と、コリメート光学系と、走査光学系と、感光体７とか
ら構成されている。半導体レーザー１は従来の走査光学
装置と同様で、レーザー基台１４内にレーザーチップ８
とフォトダイオードセル１０とレーザー窓９が設けられ
ている。コリメート光学系は、コリメートレンズ３とコ
リメートレンズ絞り１３のほかに本発明の遮光部材２が
半導体レーザー１とコリメートレンズ３との中間に設け
られている。
と、コリメート光学系と、走査光学系と、感光体７とか
ら構成されている。半導体レーザー１は従来の走査光学
装置と同様で、レーザー基台１４内にレーザーチップ８
とフォトダイオードセル１０とレーザー窓９が設けられ
ている。コリメート光学系は、コリメートレンズ３とコ
リメートレンズ絞り１３のほかに本発明の遮光部材２が
半導体レーザー１とコリメートレンズ３との中間に設け
られている。
【００１３】次に、この走査光学装置の動作について説
明する。
明する。
【００１４】原画像を露光し走査して得られた画像信号
によって変調された半導体レーザー１の出力であるレー
ザー光束１１は、レーザー窓９を通過後コリメートレン
ズ３で平行光にされ、シリンダレンズ４を介して、一方
向のみに回転する回転多面鏡５に入射し、ここで反射さ
れた光は結像レンズ６により感光体７上に結像される。
一方、半導体レーザー１内でレーザーチップ８の裏面か
ら射出された光は、通常フォトダイオードセル１０で検
出され、レーザー光量制御等に利用されているが、一部
はレーザー基台１４の、フォトダイオードセル１０以外
の一般に金属面である内壁によって拡散される。この拡
散光のうちのレーザー窓９を通過して射出された拡散光
１２は、遮光部材２によって遮断され、コリメートレン
ズ３を経て感光体７上まで到達し外乱光となるものは大
幅に削減される。
によって変調された半導体レーザー１の出力であるレー
ザー光束１１は、レーザー窓９を通過後コリメートレン
ズ３で平行光にされ、シリンダレンズ４を介して、一方
向のみに回転する回転多面鏡５に入射し、ここで反射さ
れた光は結像レンズ６により感光体７上に結像される。
一方、半導体レーザー１内でレーザーチップ８の裏面か
ら射出された光は、通常フォトダイオードセル１０で検
出され、レーザー光量制御等に利用されているが、一部
はレーザー基台１４の、フォトダイオードセル１０以外
の一般に金属面である内壁によって拡散される。この拡
散光のうちのレーザー窓９を通過して射出された拡散光
１２は、遮光部材２によって遮断され、コリメートレン
ズ３を経て感光体７上まで到達し外乱光となるものは大
幅に削減される。
【００１５】図３は本発明の走査光学装置の第２の実施
例の遮光部材２の設置位置を示す縦断面図である。
例の遮光部材２の設置位置を示す縦断面図である。
【００１６】この走査光学装置は、コリメートレンズ絞
り１３がコリメートレンズ３の半導体レーザー１側に設
けられ、遮光部材２の作用を兼ねて使用され、拡散光１
２を遮光し、有効なレーザー光束１１のみを通過させる
ように絞りを調節するもので、特に遮光部材を必要とし
ない。
り１３がコリメートレンズ３の半導体レーザー１側に設
けられ、遮光部材２の作用を兼ねて使用され、拡散光１
２を遮光し、有効なレーザー光束１１のみを通過させる
ように絞りを調節するもので、特に遮光部材を必要とし
ない。
【００１７】図４は本発明の走査光学装置の第３の実施
例の遮光部材２の設置位置を示す縦断面図である。
例の遮光部材２の設置位置を示す縦断面図である。
【００１８】この走査光学装置は、遮光部材２を半導体
レーザー１のレーザー窓９のコリメートレンズ側に接し
て設けたもので、特に遮光部材を単独に取り付けたり、
光軸調整の必要性がなく、さらにレーザーチップ８に近
いため、拡散光１２の遮光の割合を向上できる。
レーザー１のレーザー窓９のコリメートレンズ側に接し
て設けたもので、特に遮光部材を単独に取り付けたり、
光軸調整の必要性がなく、さらにレーザーチップ８に近
いため、拡散光１２の遮光の割合を向上できる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、レーザー
光をコリメート光学系により平行光とし、回転多面鏡お
よび結像レンズにより被走査面上に走査結像する走査光
学系に、レーザー裏面からの拡散光を遮光する遮光部材
を設けることにより、拡散光が外乱光として感光体上に
到達することを防ぐことができ、良好なレーザースポッ
トが得られ、それにより画質の高画質化が達せられると
いう効果がある。
光をコリメート光学系により平行光とし、回転多面鏡お
よび結像レンズにより被走査面上に走査結像する走査光
学系に、レーザー裏面からの拡散光を遮光する遮光部材
を設けることにより、拡散光が外乱光として感光体上に
到達することを防ぐことができ、良好なレーザースポッ
トが得られ、それにより画質の高画質化が達せられると
いう効果がある。
【図１】本発明の走査光学装置の第１の実施例の説明図
である。
である。
【図２】図１に示す半導体レーザー１と、コリメート光
学系の縦断面図である。
学系の縦断面図である。
【図３】本発明の走査光学装置の第２の実施例の遮光部
材２の設置位置を示す縦断面図である。
材２の設置位置を示す縦断面図である。
【図４】本発明の走査光学装置の第３の実施例の遮光部
材２の設置位置を示す縦断面図である。
材２の設置位置を示す縦断面図である。
【図５】従来の走査光学装置の説明図である。
【図６】図５に示す半導体レーザー１とコリメートレン
ズ３の縦断面図である。
ズ３の縦断面図である。
１ 半導体レーザー
２ 遮光部材
３ コリメートレンズ
４ シリンドリカルレンズ
５ 回転多面鏡
６ 結像レンズ
７ 感光体
８ レーザーチップ
９ レーザー窓
１０ フォトダイオードセル
１１ レーザー光束
１２ 拡散光
１３ コリメートレンズ絞り
１４ レーザー基台
Claims (4)
- 【請求項１】 画像信号によって変調される半導体レー
ザーと、該半導体レーザーから出力されたレーザー光を
コリメートするコリメート光学系と、該コリメート光学
系からのレーザー光を偏光走査する偏光器と、該偏光器
により走査されたレーザー光を被走査面に結像する、結
像光学系とを有する走査光学装置において、 半導体レーザーのレーザーチップの裏面から発出された
光がレーザー基台で拡散され、そのなかのレーザー窓を
通過した拡散光が被走査面上に到達するのを防ぐ遮光部
材を有することを特徴とする走査光学装置。 - 【請求項２】 遮光部材が半導体レーザーとコリメート
光学系との間に設けられた請求項１記載の走査光学系装
置。 - 【請求項３】 遮光部材がコリメート光学系の絞りを兼
ねたものである請求項２記載の走査光学系装置。 - 【請求項４】 遮光部材が半導体レーザーのレーザー窓
の部位に設けられた請求項２に記載の走査光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3182386A JP2995108B2 (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 走査光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3182386A JP2995108B2 (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 走査光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0527189A true JPH0527189A (ja) | 1993-02-05 |
| JP2995108B2 JP2995108B2 (ja) | 1999-12-27 |
Family
ID=16117408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3182386A Expired - Fee Related JP2995108B2 (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 走査光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2995108B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001066525A (ja) * | 1999-08-30 | 2001-03-16 | Ricoh Co Ltd | 複数ビーム走査装置 |
| JP2008216697A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Ricoh Co Ltd | 光書込装置および画像形成装置 |
| US7522325B2 (en) | 2007-01-22 | 2009-04-21 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Light scanning device |
-
1991
- 1991-07-23 JP JP3182386A patent/JP2995108B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001066525A (ja) * | 1999-08-30 | 2001-03-16 | Ricoh Co Ltd | 複数ビーム走査装置 |
| US6381057B1 (en) | 1999-08-30 | 2002-04-30 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam scanning apparatus |
| US7522325B2 (en) | 2007-01-22 | 2009-04-21 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Light scanning device |
| JP2008216697A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Ricoh Co Ltd | 光書込装置および画像形成装置 |
| US7782354B2 (en) | 2007-03-05 | 2010-08-24 | Ricoh Company, Limited | Optical writing device and image forming apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2995108B2 (ja) | 1999-12-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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