JP2000307403A - 半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導体リレー - Google Patents

半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導体リレー

Info

Publication number
JP2000307403A
JP2000307403A JP11117703A JP11770399A JP2000307403A JP 2000307403 A JP2000307403 A JP 2000307403A JP 11117703 A JP11117703 A JP 11117703A JP 11770399 A JP11770399 A JP 11770399A JP 2000307403 A JP2000307403 A JP 2000307403A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
voltage
chip
semiconductor
switch element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11117703A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3509623B2 (ja
Inventor
Hirofumi Aoki
宏文 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Motor Corp filed Critical Toyota Motor Corp
Priority to JP11770399A priority Critical patent/JP3509623B2/ja
Publication of JP2000307403A publication Critical patent/JP2000307403A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3509623B2 publication Critical patent/JP3509623B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/0212Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers
    • H01L2224/02122Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers being formed on the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/02163Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers being formed on the semiconductor or solid-state body on the bonding area
    • H01L2224/02165Reinforcing structures
    • H01L2224/02166Collar structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/0601Structure
    • H01L2224/0603Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4847Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond

Landscapes

  • Dram (AREA)
  • Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノイズに起因する誤動作を防止すると共にチ
ップの小型化を図る。 【解決手段】 温度の変化に対して負の線形性の温度電
圧特性を有するダイオード41を温度検出用の素子とし
てパワーMOS32と同一の半導体チップ30上に形成
すると共に、ダイオード41の両端子に接続されるロー
パスフィルタを構成する抵抗42とコンデンサ43とを
形成する。このローパスフィルタにより電磁傷害として
の高周波の外来ノイズが除去されるから、ノイズに起因
する誤動作を防止することができる。コンデンサ43
は、通常何も形成されないボンディングパッドの下に、
ゲート酸化膜を電極で挟持するよう形成する。この結
果、チップの小型化を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体スイッチ素
子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導
体リレーに関し、詳しくは、半導体スイッチ素子が形成
されたチップ上に形成され該チップの温度を検出可能な
温度検出構造および半導体スイッチ素子が形成されたチ
ップの温度を検出する温度検出装置並びに半導体スイッ
チ素子が形成されたチップの温度に基づいてオン状態の
該半導体スイッチ素子をオフする半導体リレーに関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の半導体リレーとしては、
リレー出力端間に接続された半導体スイッチ素子近傍に
温度検出素子を設け、この温度検出素子からの信号によ
って半導体スイッチ素子をオフするものが提案されてい
る(例えば、特開平10−233669号公報など)。
この半導体リレーでは、温度検出素子として負の温度−
電圧特性をもつダイオードを用いており、このダイオー
ドの電圧降下が低くなると、半導体スイッチ素子がオフ
されるよう構成されている。即ち、半導体スイッチ素子
に大電流が流れてその温度が上昇すると、ダイオードの
電圧降下が低くなって、半導体スイッチ素子がオフされ
るのである。この構造を採ることにより、半導体スイッ
チ素子に過電流が流れることに起因する半導体スイッチ
素子の熱破壊を防止している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、こうし
た半導体リレーでは、半導体スイッチ素子に大電流が流
れていなくてもオフされる場合を生じるという問題があ
った。温度検出素子としてのダイオードの電圧降下は
0.7V程度であり、その温度−電圧特性は、半導体ス
イッチ素子のオフを考慮する温度領域では、−1.5〜
−2.4[mV/℃]の負の特性である。したがって、
こうしたダイオードを用いた温度検出構造は、その出力
電圧レベルが低いために外来ノイズの影響を受けやすい
ものとなり、ノイズによる誤動作を招いてしまう。
【0004】本発明の半導体スイッチ素子の温度検出構
造は、ノイズの影響の少ない温度検出構造を提供するこ
とを目的の一つとする。また、本発明の半導体スイッチ
素子の温度検出構造は、この温度検出構造を備えること
により生じるチップの大型化を低減することを目的の一
つとする。本発明の半導体スイッチ素子の温度検出装置
は、上述の本発明の半導体スイッチ素子の温度検出構造
の目的の他、ノイズの影響を受けずに半導体スイッチ素
子が形成されたチップの温度をより正確に検出すること
を目的の一つとする。本発明の半導体リレーは、上述の
本発明の半導体スイッチ素子の温度検出装置の目的の
他、ノイズに起因する誤動作を防止することを目的の一
つとする。
【0005】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】本
発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および
温度検出装置並びに半導体リレーは、上述の目的の少な
くとも一部を達成するために以下の手段を採った。
【0006】本発明の半導体スイッチ素子の温度検出構
造は、半導体スイッチ素子が形成されたチップ上に形成
され、該チップの温度を検出可能な温度検出構造であっ
て、温度の変化に対して所定の電圧特性を有する温度電
圧特性素子と、該温度電圧特性素子に接続されたローパ
スフィルタとを備えることを要旨とする。
【0007】この本発明の半導体スイッチ素子の温度検
出構造では、温度電圧特性素子に接続されたローパスフ
ィルタが高周波のノイズを除去する。これにより、温度
電圧特性素子から的確な温度の変化に対して所定の電圧
特性を取り出すことができる。
【0008】こうした本発明の半導体スイッチ素子の温
度検出構造において、前記温度電圧特性素子はダイオー
ドであるものとすることもできるし、前記温度電圧特性
素子は抵抗であるものとすることもできる。
【0009】また、本発明の半導体スイッチ素子の温度
検出構造において、前記半導体スイッチ素子は、電界効
果トランジスタまたはバイポーラトランジスタであるも
のとすることもできる。
【0010】これら各態様を含め本発明の半導体スイッ
チ素子の温度検出構造において、前記ローパスフィルタ
は、前記温度電圧特性素子に直列に接続された抵抗と、
該温度電圧特性素子と並列に接続されたコンデンサとか
ら構成されてなるフィルタであるものとすることもでき
る。こうすれば、チップに容易にフィルタを構成するこ
とができる。この態様の本発明の半導体スイッチ素子の
温度検出構造において、前記コンデンサは、前記チップ
の表面に形成される酸化膜を用いて構成されてなるもの
とすることもできる。こうすれば大容量のコンデンサを
構成することができる。
【0011】また、本発明の半導体スイッチ素子の温度
検出構造において、前記ローパスフィルタは、前記チッ
プの取り付けに用いられるボンディングパッドが該チッ
プに配置される部位に形成されてなるものとすることも
できる。こうすれば、全体として小型化を図ることがで
きる。
【0012】本発明の半導体スイッチ素子チップの温度
検出装置は、半導体スイッチ素子が形成されたチップの
温度を検出する温度検出装置であって、前述の各態様の
いずれかの本発明の半導体スイッチ素子チップの温度検
出構造と、前記温度電圧特性素子に所定の電流を供給す
る電流供給部と、前記温度電圧特性素子の電圧降下に基
づく電圧を検出する電圧検出部とを備えることを要旨と
する。
【0013】本発明の半導体スイッチ素子チップの温度
検出装置では、本発明の半導体スイッチ素子チップの温
度検出構造が、高周波のノイズの除去に基づいて温度電
圧特性素子から的確な温度の変化に対して所定の電圧特
性を取り出すことを可能とするから、チップの温度をよ
り正確に検出することができる。しかも、電流供給部か
ら温度電圧特性素子に所定の電流を供給するから、電流
の変化に起因して生じる温度−電圧特性の変化を防止す
ることができる。
【0014】こうした本発明のスイッチ素子チップの温
度検出装置において、前記電圧検出部は、前記温度電圧
特性素子の電圧降下に基づく電圧と所定電圧とを比較
し、いずれの電圧が高いかを2値の信号で出力する比較
器であるものとすることもできる。温度電圧特性素子
は、温度の変化に対して所定の電圧特性を有するから、
チップの温度がこの特性における所定電圧に対応する温
度以上になったことを判定することができる。
【0015】本発明の半導体リレーは、半導体スイッチ
素子が形成されたチップの温度に基づいてオン状態の該
半導体スイッチ素子をオフする半導体リレーであって、
前述した本発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出
装置と、前記半導体スイッチ素子のオンオフを司る信号
を出力するオンオフ信号出力部と、前記電圧検出部によ
り検出された電圧が所定電圧以下または以上になったと
き、前記オンオフ信号出力部から前記半導体スイッチ素
子をオフする信号が出力されるよう該オンオフ信号出力
部にオフ信号を出力するオフ信号出力部とを備えること
を要旨とする。
【0016】この本発明の半導体リレーでは、本発明の
半導体スイッチ素子チップの温度検出装置が、高周波の
ノイズの除去に基づいて温度電圧特性素子から的確な温
度の変化に対して所定の電圧特性を取り出し、チップの
温度をより正確に検出するから、ノイズにより誤動作す
ることなく、チップの温度に基づいてオン状態の半導体
スイッチ素子をオフすることができる。
【0017】こうした本発明の半導体リレーにおいて、
温度検出装置は前記電圧検出部が前記比較器であり、前
記オフ信号出力部は前記2値の信号の一方をオフ信号と
する前記温度検出装置が備える比較器であるものとする
こともできる。
【0018】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例を用いて説明する。図1は、本発明の一実施例である
半導体スイッチ素子チップの温度検出構造を備える半導
体リレー20の構成の概略を示す構成図である。実施例
の半導体リレー20は、図示するように、Nチャンネル
パワーMOS(電界効果トランジスタ)32と温度検出
部40とが形成された半導体チップ30と、パワーMO
S32に駆動信号を出力する駆動部56と半導体チップ
30の温度検出部40からの信号を処理する温度処理部
52とを有する駆動回路50とを備える。
【0019】パワーMOS32は、そのドレイン33が
負荷48に接続されており、ソース35は接地されてい
る。負荷48の他端は、負荷駆動用電源49に接続され
ている。パワーMOS32のゲート34は、駆動回路5
0の駆動部56に接続されている。したがって、パワー
MOS32は、駆動部56からの駆動信号によりオンオ
フし、負荷48の駆動スイッチとして機能する。
【0020】パワーMOS32と同一のチップに形成さ
れた温度検出部40は、半導体チップ30の温度を検出
するためのダイオード41と、このダイオード41と直
列に接続された抵抗42と、ダイオード41と並列に接
続されたコンデンサ43とから構成されている。ダイオ
ード41は、順方向バイアス電流が一定であれば、順方
向電圧が−1.5〜−2.4mV/℃の負の線形性の高
い温度電圧特性を示す一般的なダイオードとして構成さ
れており、抵抗42とコンデンサ43は、ダイオード4
1の端子間電圧に対してローパスフィルタとして機能す
るよう構成されている。
【0021】駆動回路50の温度処理部52は、入力端
子の一方がパッド45を介して温度検出部40の抵抗4
2に接続されたコンパレータ53と、このコンパレータ
53の他方の入力端子に接続される温度に依存しない基
準電圧源54とから構成されている。コンパレータ53
は、基準電圧源54からの基準電圧とダイオード41の
順方向電圧とを比較し、その大小によって定まる2値の
信号を駆動部56に出力する。即ち、コンパレータ53
から駆動部56の出力は、ダイオード41の順方向電圧
が基準電圧より高いときにはHIであり、逆にダイオー
ド41の順方向電圧が基準電圧以下になるとLOWとな
る。基準電圧源54は、負荷48やパワーMOS32が
正常に動作しているときの温度より高い異常と判定すべ
き温度のときのダイオード41の順方向電圧が基準電圧
となるよう構成されている。したがって、コンパレータ
53の出力がHIからLOWに転じたときは、半導体チ
ップ30が異常過熱の状態にあるときを意味する。な
お、半導体チップ30のパッド46は、駆動回路50を
介して接地されている。
【0022】駆動部56は、コンパレータ53から入力
される信号がHIのときには、図示しない回路からの信
号に基づいてパワーMOS32のゲート34に駆動信号
を出力し、コンパレータ53から入力される信号がHI
からLOWに転じると、そのときまでパワーMOS32
のゲート34に出力していた駆動信号に拘わらず、パワ
ーMOS32をオフするオフ信号をゲート34に出力す
るよう構成されている。したがって、半導体チップ30
が過熱状態となってダイオード41の順方向電圧が基準
電圧以下になると、コンパレータ53からの信号がLO
Wとなり、駆動部56がパワーMOS32をオフする。
【0023】次に、半導体チップ30の温度検出部40
を構成するローパスフィルタの配置について説明する。
図2は、半導体チップ30のパッド46を含む断面を例
示する断面図である。図示するように、温度検出部40
を構成するローパスフィルタのコンデンサ43は、P+
のボディ31に形成されたゲート酸化膜43bをポリシ
リコンにより形成された電極43aとボディ31に形成
されたN+の電極43cとによって挟持するものとし
て、パッドワイヤ46aに接続されるパッド46の直下
に形成されている。カットオフ周波数の低いローパスフ
ィルタを構成するには、抵抗42かコンデンサ43を大
きくする必要があるが、いずれかを大きくすると、それ
に伴ってチップのサイズも大きくなる。一方、パワーM
OS系の素子のボンディングパッドは、通常、大電流に
対応できるよう太いワイヤを打つために大きなものが用
いられ、パッドの下には素子は配置されない。したがっ
て、実施例では、コンデンサ43を容量の大きなものを
用いるものとし、これを通常何も配置されないパッドの
下に形成することにより、カットオフ周波数の低いロー
パスフィルタを構成すると共にチップの小型化を図って
いる。
【0024】なお、図1に例示する温度検出部40は本
発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出構造の一実
施例を構成するものであり、温度検出部40と温度処理
部52は本発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出
装置の一実施例を構成するものである。
【0025】以上説明したように実施例の半導体リレー
20によれば、温度検出部40がローパスフィルタを備
えることにより、電磁傷害としての外来ノイズを除去す
ることができ、コンパレータ53の誤動作を防止するこ
とができる。この結果、誤動作によるパワーMOS32
のオフを防止することができる。しかも、通常、素子を
配置しないボンディングパッドの下に容量の大きなコン
デンサ43を形成するから、カットオフ周波数の低いロ
ーパスフィルタを構成することができると共にチップの
小型化を図ることができる。
【0026】この他、実施例の半導体リレー20によれ
ば、ゲート酸化膜を用いてコンデンサ43を構成したか
ら、コンデンサ43の特性を測定することにより、半導
体チップ30のゲート酸化膜の特性(例えば、膜厚な
ど)を推定することができる。この結果、パワーMOS
32のカットオフ電圧や応答時間特性などを推定するこ
とができる。また、ローパスフィルタを接続したパッド
45,46には大きな容量のコンデンサ43が接続され
るから、パッド45,46に印加された静電気は分圧さ
れ、内部の素子に印加されるエネルギも減衰される。こ
の結果、ローパスフィルタを接続した端子の静電気破壊
耐量を向上させることができる。
【0027】実施例の半導体リレー20では、Nチャン
ネルのパワーMOS32が形成された半導体チップ30
に温度検出部40を形成したが、ゲート酸化膜を持つ構
成であれば如何なる半導体チップでもコンデンサ43を
構成することができるから、他の半導体スイッチ素子が
形成された半導体チップに温度検出部40を形成するも
のとしてもよい。例えば、図3に例示するPチャンネル
のパワーMOS32Bが形成された半導体チップ30B
に温度検出部40を形成した構成や、図4に例示するN
チャンネルのIGBT32Cが形成された半導体チップ
30Cに温度検出部40を形成した構成としてもよい。
なお、ゲート酸化膜を持たないタイプの半導体チップに
も温度検出部40を形成することもでき、このタイプの
半導体スイッチ素子にも適用することができる。この場
合、酸化膜を用いないタイプのコンデンサによりローパ
スフィルタを形成してもいいし、酸化膜を形成してコン
デンサを構成し、このコンデンサによりローパスフィル
タを構成するものとしてもよい。
【0028】実施例の半導体リレー20では、半導体チ
ップ30の温度を検出する素子としてダイオード41を
用いたが、温度電圧特性を有するものであれば、如何な
る素子をも用いることができる。例えば、図5に例示す
るセンスソースに接続されたセンスソースの検出用の抵
抗41Dを温度検出用の素子として用いる半導体チップ
30Dとしてもよい。
【0029】さらに、実施例の半導体リレー20では、
抵抗42とコンデンサ43とによりローパスフィルタを
構成したが、図6に例示する半導体チップ30Eのよう
に、パッド46とローパスフィルタとの間に抵抗44を
挿入するものとしてもよい。即ち、外来ノイズを除去で
きればローパスフィルタを如何なる構成としてもよい。
【0030】実施例の半導体リレー20では、温度処理
部52を比較器であるコンパレータ53により構成した
が、ダイオード41の順方向電圧により半導体チップ3
0の温度を演算する回路により構成し、所定の温度にな
ったら駆動部56にLOW信号を出力するものとしても
よい。
【0031】以上、本発明の実施の形態について実施例
を用いて説明したが、本発明はこうした実施例に何等限
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
内において、種々なる形態で実施し得ることは勿論であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例である半導体スイッチ素子
チップの温度検出構造を備える半導体リレー20の構成
の概略を示す構成図である。
【図2】 半導体チップ30のパッド46を含む断面を
例示する断面図である。
【図3】 変形例の半導体チップ30Bの概略の構成を
示す構成図である。
【図4】 変形例の半導体チップ30Cの概略の構成を
示す構成図である。
【図5】 変形例の半導体チップ30Dの概略の構成を
示す構成図である。
【図6】 変形例の半導体チップ30Eの概略の構成を
示す構成図である。
【符号の説明】
20 半導体リレー、30,30B,30C,30D,
30E 半導体チップ、31 ボディ、32 パワーM
OS、32B PチャンネルのパワーMOS、32C
NチャンネルのIGBT、33 ドレイン、34 ゲー
ト、35 ソース、40 温度検出部、41 ダイオー
ド、42 抵抗、43 コンデンサ、44 抵抗、4
5,46 パッド、46a パッドワイヤ、50 駆動
回路、52温度処理部、53 コンパレータ、54 基
準電圧源、56 駆動部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F056 JT01 JT08 5J055 AX21 AX23 AX44 BX16 CX00 DX03 DX13 DX22 DX55 EX01 EX02 EX11 EX23 EY01 EY10 EY12 EZ10 EZ14 EZ51 EZ61 FX05 FX06 FX11 FX18 FX33 GX01 GX07

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体スイッチ素子が形成されたチップ
    上に形成され、該チップの温度を検出可能な温度検出構
    造であって、 温度の変化に対して所定の電圧特性を有する温度電圧特
    性素子と、 該温度電圧特性素子に接続されたローパスフィルタとを
    備える温度検出構造。
  2. 【請求項2】 前記温度電圧特性素子は、ダイオードで
    ある請求項1記載の温度検出構造。
  3. 【請求項3】 前記温度電圧特性素子は、抵抗である請
    求項1記載の温度検出構造。
  4. 【請求項4】 前記半導体スイッチ素子は、電界効果ト
    ランジスタまたはバイポーラトランジスタである請求項
    1ないし3いずれか記載の温度検出構造。
  5. 【請求項5】 前記ローパスフィルタは、前記温度電圧
    特性素子に直列に接続された抵抗と、該温度電圧特性素
    子と並列に接続されたコンデンサとから構成されてなる
    フィルタである請求項1ないし4いずれか記載の温度検
    出構造。
  6. 【請求項6】 前記コンデンサは、前記チップの表面に
    形成される酸化膜を用いて構成されてなる請求項5記載
    の温度検出構造。
  7. 【請求項7】 前記ローパスフィルタは、前記チップの
    取り付けに用いられるボンディングパッドが該チップに
    配置される部位に形成されてなる請求項1ないし6記載
    の温度検出構造。
  8. 【請求項8】 半導体スイッチ素子が形成されたチップ
    の温度を検出する温度検出装置であって、 請求項1ないし7いずれか記載の温度検出構造と、 前記温度電圧特性素子に所定の電流を供給する電流供給
    部と、 前記温度電圧特性素子の電圧降下に基づく電圧を検出す
    る電圧検出部とを備える温度検出装置。
  9. 【請求項9】 前記電圧検出部は、前記温度電圧特性素
    子の電圧降下に基づく電圧と所定電圧とを比較し、いず
    れの電圧が高いかを2値の信号で出力する比較器である
    請求項8記載の温度検出装置。
  10. 【請求項10】 半導体スイッチ素子が形成されたチッ
    プの温度に基づいてオン状態の該半導体スイッチ素子を
    オフする半導体リレーであって、 請求項8または9記載の温度検出装置と、 前記半導体スイッチ素子のオンオフを司る信号を出力す
    るオンオフ信号出力部と、 前記電圧検出部により検出された電圧が所定電圧以下ま
    たは以上になったとき、前記オンオフ信号出力部から前
    記半導体スイッチ素子をオフする信号が出力されるよう
    該オンオフ信号出力部にオフ信号を出力するオフ信号出
    力部とを備える半導体リレー。
  11. 【請求項11】 前記オフ信号出力部は、前記2値の信
    号の一方をオフ信号とする前記温度検出装置が備える比
    較器である請求項9記載の温度検出装置を備える請求項
    10記載の半導体リレー。
JP11770399A 1999-04-26 1999-04-26 半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導体リレー Expired - Fee Related JP3509623B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11770399A JP3509623B2 (ja) 1999-04-26 1999-04-26 半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導体リレー

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11770399A JP3509623B2 (ja) 1999-04-26 1999-04-26 半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導体リレー

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000307403A true JP2000307403A (ja) 2000-11-02
JP3509623B2 JP3509623B2 (ja) 2004-03-22

Family

ID=14718229

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11770399A Expired - Fee Related JP3509623B2 (ja) 1999-04-26 1999-04-26 半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導体リレー

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3509623B2 (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030048519A (ko) * 2001-12-12 2003-06-25 한영수 필드환경의 온도계 노이즈 시험장치
JP2008070300A (ja) * 2006-09-15 2008-03-27 Mitsubishi Electric Corp 温度検出装置
WO2008038439A1 (fr) * 2006-09-28 2008-04-03 Sharp Kabushiki Kaisha Panneau d'affichage et dispositif d'affichage
WO2009029566A2 (en) * 2007-08-27 2009-03-05 Texas Instruments Incorporated Semiconductor device having wafer level chip scale packaging substrate decoupling
US7800195B2 (en) 2007-02-27 2010-09-21 Denso Corporation Semiconductor apparatus having temperature sensing diode
JP2010249687A (ja) * 2009-04-16 2010-11-04 Denso Corp 物理量検出装置
JP2013214914A (ja) * 2012-04-04 2013-10-17 Mitsubishi Electric Corp スイッチ素子の温度検出回路
WO2017086042A1 (ja) * 2015-11-19 2017-05-26 富士電機株式会社 過熱検出装置および半導体装置
JP2019009905A (ja) * 2017-06-23 2019-01-17 日立オートモティブシステムズ株式会社 検知器及び電力変換装置
WO2019026656A1 (ja) * 2017-08-04 2019-02-07 三洋電機株式会社 回路装置、及び温度検出システム
DE112013007361B4 (de) 2013-08-23 2019-07-04 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung
CN110285890A (zh) * 2019-06-29 2019-09-27 南京亚克电子有限公司 一种在复杂电磁环境下的温度传感系统
WO2020153162A1 (ja) * 2019-01-23 2020-07-30 株式会社デンソー 温度検出装置
CN113193744A (zh) * 2021-04-12 2021-07-30 珠海格力电器股份有限公司 分立pfc电路中功率器件的控制装置、方法和电器设备

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8783816B2 (en) 2010-07-07 2014-07-22 Canon Kabushiki Kaisha Printing apparatus

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030048519A (ko) * 2001-12-12 2003-06-25 한영수 필드환경의 온도계 노이즈 시험장치
JP2008070300A (ja) * 2006-09-15 2008-03-27 Mitsubishi Electric Corp 温度検出装置
KR100874198B1 (ko) 2006-09-15 2008-12-15 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 온도검출장치
US7535128B2 (en) 2006-09-15 2009-05-19 Mitsubishi Electric Corporation Temperature detector
CN101512623B (zh) * 2006-09-28 2011-12-21 夏普株式会社 显示面板和显示装置
WO2008038439A1 (fr) * 2006-09-28 2008-04-03 Sharp Kabushiki Kaisha Panneau d'affichage et dispositif d'affichage
US8102486B2 (en) 2006-09-28 2012-01-24 Sharp Kabushiki Kaisha Display panel and display device
US7800195B2 (en) 2007-02-27 2010-09-21 Denso Corporation Semiconductor apparatus having temperature sensing diode
WO2009029566A3 (en) * 2007-08-27 2009-05-28 Texas Instruments Inc Semiconductor device having wafer level chip scale packaging substrate decoupling
US7919860B2 (en) 2007-08-27 2011-04-05 Texas Instruments Incorporated Semiconductor device having wafer level chip scale packaging substrate decoupling
WO2009029566A2 (en) * 2007-08-27 2009-03-05 Texas Instruments Incorporated Semiconductor device having wafer level chip scale packaging substrate decoupling
JP2010249687A (ja) * 2009-04-16 2010-11-04 Denso Corp 物理量検出装置
JP2013214914A (ja) * 2012-04-04 2013-10-17 Mitsubishi Electric Corp スイッチ素子の温度検出回路
DE112013007361B4 (de) 2013-08-23 2019-07-04 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung
JPWO2017086042A1 (ja) * 2015-11-19 2018-04-05 富士電機株式会社 過熱検出装置および半導体装置
WO2017086042A1 (ja) * 2015-11-19 2017-05-26 富士電機株式会社 過熱検出装置および半導体装置
US10355472B2 (en) 2015-11-19 2019-07-16 Fuji Electric Co., Ltd. Over temperature protection circuit and semiconductor device
JP2019009905A (ja) * 2017-06-23 2019-01-17 日立オートモティブシステムズ株式会社 検知器及び電力変換装置
US11303223B2 (en) 2017-06-23 2022-04-12 Hitachi Astemo, Ltd. Detector and power conversion apparatus
CN110832759B (zh) * 2017-06-23 2021-12-14 日立安斯泰莫株式会社 检测器以及电力转换装置
CN110832759A (zh) * 2017-06-23 2020-02-21 日立汽车系统株式会社 检测器以及电力转换装置
JPWO2019026656A1 (ja) * 2017-08-04 2020-06-18 三洋電機株式会社 回路装置、及び温度検出システム
WO2019026656A1 (ja) * 2017-08-04 2019-02-07 三洋電機株式会社 回路装置、及び温度検出システム
JP7186703B2 (ja) 2017-08-04 2022-12-09 三洋電機株式会社 回路装置、及び温度検出システム
US11592340B2 (en) 2017-08-04 2023-02-28 Sanyo Electric Co., Ltd. Circuit device and temperature detection system
WO2020153162A1 (ja) * 2019-01-23 2020-07-30 株式会社デンソー 温度検出装置
JP2020118548A (ja) * 2019-01-23 2020-08-06 株式会社デンソー 温度検出装置
JP7056595B2 (ja) 2019-01-23 2022-04-19 株式会社デンソー 温度検出装置
CN110285890A (zh) * 2019-06-29 2019-09-27 南京亚克电子有限公司 一种在复杂电磁环境下的温度传感系统
CN113193744A (zh) * 2021-04-12 2021-07-30 珠海格力电器股份有限公司 分立pfc电路中功率器件的控制装置、方法和电器设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP3509623B2 (ja) 2004-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000307403A (ja) 半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導体リレー
KR100614423B1 (ko) 스위칭 소자의 과전류 검출 및 보호 장치
JP4295928B2 (ja) 半導体保護回路
EP0998030A1 (en) Overcurrent sensing circuit and self adjusting protection
JP2000299922A (ja) 電源供給制御装置および電源供給制御方法
JP2001036393A (ja) 電源供給制御装置および電源供給制御方法
US11996829B2 (en) Control device, control method, and computer program
JP2019165347A (ja) 駆動装置及びパワーモジュール
JP4479570B2 (ja) 保護機能付きスイッチング回路および保護回路
JP2000299931A (ja) 電源供給制御装置及び電源供給制御方法
JP2004248454A (ja) 過電流制限回路
JPH0653795A (ja) 半導体装置
JP2009165285A (ja) 半導体装置
WO2006093204A1 (ja) 半導体集積回路装置
JP3311498B2 (ja) 半導体装置
JP2000298522A (ja) 電源供給制御装置及び電源供給制御方法
EP1362424B1 (en) Three terminal noninverting transistor switch
JP2003124811A (ja) クランプ回路
JP2004248415A (ja) スイッチ回路
JP3532694B2 (ja) 電力用半導体要素の温度検出用回路装置
JPH04142468A (ja) インテリジェントicの過電流検出回路
JP3679524B2 (ja) トランジスタの過電流保護回路
JP2001160746A (ja) 半導体スイッチング装置
JP2006032393A (ja) 電力用半導体装置
JP6758221B2 (ja) スイッチング回路

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20031209

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20031222

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080109

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090109

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090109

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100109

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110109

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110109

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees