JP2000044546A - ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤Info
- Publication number
- JP2000044546A JP2000044546A JP10214635A JP21463598A JP2000044546A JP 2000044546 A JP2000044546 A JP 2000044546A JP 10214635 A JP10214635 A JP 10214635A JP 21463598 A JP21463598 A JP 21463598A JP 2000044546 A JP2000044546 A JP 2000044546A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- salt
- general formula
- difluoromethanesulfonylanilide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水田に発生する難防除雑草を含む広範囲の雑
草の除去に有効で、しかも哺乳動物に対して安全な除草
剤として有用な新規化合物を提供する。 【解決手段】 除草活性を有する一般式 【化１】 （Ｒ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシアルキル
基）で表わされるジフルオロメタンスルホニルアニリド
誘導体又はその塩とする。
草の除去に有効で、しかも哺乳動物に対して安全な除草
剤として有用な新規化合物を提供する。 【解決手段】 除草活性を有する一般式 【化１】 （Ｒ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシアルキル
基）で表わされるジフルオロメタンスルホニルアニリド
誘導体又はその塩とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なジフルオロメ
タンスルホニルアニリド誘導体又はその塩、その製造方
法及びそれを有効成分とした除草剤とその製造方法に用
いられる新規な原料化合物に関するものである。
タンスルホニルアニリド誘導体又はその塩、その製造方
法及びそれを有効成分とした除草剤とその製造方法に用
いられる新規な原料化合物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】これまで、２‐位置にピリミジニル含有
基をもつＮ‐フルオロメタンスルホニルアニリド誘導
体、例えば２‐ピリミジニルメチル置換又は２‐ピリミ
ジニルオキシ若しくはチオキシ置換アニリンのＮ‐トリ
フルオロメタンスルホニル誘導体が除草作用を有するこ
とは知られている（特表平７−５０１０５３号公報、Ｗ
Ｏ９３／０９０９９号公報）。また、２‐位置にピリミ
ジニルヒドロキシメチル基をもつアニリンのＮ‐トリフ
ルオロメタンスルホニル誘導体が植物生長調節作用を有
することも知られている（ＷＯ９６／４１７９９号公
報）。しかしながら、２‐位置にピリミジニル含有基を
もつアニリンのＮ‐ジフルオロメタンスルホニル誘導体
の中で、除草作用を有する化合物はまだ知られていな
い。
基をもつＮ‐フルオロメタンスルホニルアニリド誘導
体、例えば２‐ピリミジニルメチル置換又は２‐ピリミ
ジニルオキシ若しくはチオキシ置換アニリンのＮ‐トリ
フルオロメタンスルホニル誘導体が除草作用を有するこ
とは知られている（特表平７−５０１０５３号公報、Ｗ
Ｏ９３／０９０９９号公報）。また、２‐位置にピリミ
ジニルヒドロキシメチル基をもつアニリンのＮ‐トリフ
ルオロメタンスルホニル誘導体が植物生長調節作用を有
することも知られている（ＷＯ９６／４１７９９号公
報）。しかしながら、２‐位置にピリミジニル含有基を
もつアニリンのＮ‐ジフルオロメタンスルホニル誘導体
の中で、除草作用を有する化合物はまだ知られていな
い。
【０００３】ところで、近年、水稲栽培においては、水
田に発生してくる有害植物で、従来の除草剤では効果的
防除の難しい草種、いわゆる難防除雑草の防除が問題に
なってきている。これらの雑草は発生が不均一であり、
したがって長期間にわたって防除しなければならない。
また、イネと同じ科に属するイネ以外のイネ科雑草、例
えばタイヌビエなども、同様に長期間にわたっての発生
が認められ、しかも生育が旺盛であることより、その防
除も重要な問題である。現在、これらの雑草に対し高い
活性を有し、同時に防除可能な除草剤の開発には至って
いない。このため、難防除雑草も含め、イネ科雑草にも
高い除草活性を有し、水田に発生してくる広範な雑草を
長期にわたって防除でき、しかも哺乳動物に対し安全性
の高い薬剤の開発が望まれている。
田に発生してくる有害植物で、従来の除草剤では効果的
防除の難しい草種、いわゆる難防除雑草の防除が問題に
なってきている。これらの雑草は発生が不均一であり、
したがって長期間にわたって防除しなければならない。
また、イネと同じ科に属するイネ以外のイネ科雑草、例
えばタイヌビエなども、同様に長期間にわたっての発生
が認められ、しかも生育が旺盛であることより、その防
除も重要な問題である。現在、これらの雑草に対し高い
活性を有し、同時に防除可能な除草剤の開発には至って
いない。このため、難防除雑草も含め、イネ科雑草にも
高い除草活性を有し、水田に発生してくる広範な雑草を
長期にわたって防除でき、しかも哺乳動物に対し安全性
の高い薬剤の開発が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、水田に発生する難防除雑草を含む広範囲
の雑草の除去に有効で、しかも哺乳動物に対して安全な
除草剤として有用な新規化合物を提供することを目的と
してなされたものである。
事情のもとで、水田に発生する難防除雑草を含む広範囲
の雑草の除去に有効で、しかも哺乳動物に対して安全な
除草剤として有用な新規化合物を提供することを目的と
してなされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、除草活性
を有する新規化合物を開発するために鋭意研究を重ねた
結果、２‐位置にピリミジニルヒドロキシメチル基をも
つアニリンのＮ‐ジフルオロメタンスルホニル誘導体が
低薬量で広範囲の除草活性を有し、特にイネ科の雑草に
対し優れた効果を示す上に、哺乳動物に対する高い安全
性を有することを見出し、この知見に基づいて本発明を
なすに至った。
を有する新規化合物を開発するために鋭意研究を重ねた
結果、２‐位置にピリミジニルヒドロキシメチル基をも
つアニリンのＮ‐ジフルオロメタンスルホニル誘導体が
低薬量で広範囲の除草活性を有し、特にイネ科の雑草に
対し優れた効果を示す上に、哺乳動物に対する高い安全
性を有することを見出し、この知見に基づいて本発明を
なすに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、除草活性を有する一
般式
般式
【化９】 （式中のＲ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基である）で表わされるジフルオロメタンスルホ
ニルアニリド誘導体又はその塩を提供するものである。
ルキル基である）で表わされるジフルオロメタンスルホ
ニルアニリド誘導体又はその塩を提供するものである。
【０００７】これらの化合物は、いずれも文献未載の新
規化合物であり、例えば反応式
規化合物であり、例えば反応式
【化１０】 （式中のＸはハロゲン原子であり、Ｒ1は前記と同じ意
味をもつ）に従い、２‐置換アニリン誘導体（ＩＩ）に
ジフルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロメ
タンスルホン酸無水物を反応させるか、あるいは反応式
味をもつ）に従い、２‐置換アニリン誘導体（ＩＩ）に
ジフルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロメ
タンスルホン酸無水物を反応させるか、あるいは反応式
【化１１】 （式中のＲ1は前記と同じ意味をもつ）に従い、２‐
（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イルカルボニ
ル）‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体
（ＩＩＩ）を還元処理することによって得られる。これ
らの製造方法において用いられる一般式（ＩＩ）及び一
般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物も文献未載の新規化
合物である。
（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イルカルボニ
ル）‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体
（ＩＩＩ）を還元処理することによって得られる。これ
らの製造方法において用いられる一般式（ＩＩ）及び一
般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物も文献未載の新規化
合物である。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物中のＲ1は、水素原子、アルキル基又はアルコ
キシアルキル基があるが、このアルキル基としては、炭
素数が１〜６個の直鎖状又は枝分れ状アルキル基、例え
ばメチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル
基、ｎ‐ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ‐ブチル基、
ｔｅｒｔ‐ブチル基、ｎ‐ペンチル基、１‐メチルブチ
ル基、ｎ‐ヘキシル基などを、またアルコキシアルキル
基としては、全炭素数が２〜６個の直鎖状又は枝分れ状
アルコキシアルキル基、例えばメトキシメチル基、メト
キシエチル基、エトキシエチル基、３‐エトキシプロピ
ル基、１‐メチル‐３‐メトキシブチル基などが好まし
い。
る化合物中のＲ1は、水素原子、アルキル基又はアルコ
キシアルキル基があるが、このアルキル基としては、炭
素数が１〜６個の直鎖状又は枝分れ状アルキル基、例え
ばメチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル
基、ｎ‐ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ‐ブチル基、
ｔｅｒｔ‐ブチル基、ｎ‐ペンチル基、１‐メチルブチ
ル基、ｎ‐ヘキシル基などを、またアルコキシアルキル
基としては、全炭素数が２〜６個の直鎖状又は枝分れ状
アルコキシアルキル基、例えばメトキシメチル基、メト
キシエチル基、エトキシエチル基、３‐エトキシプロピ
ル基、１‐メチル‐３‐メトキシブチル基などが好まし
い。
【０００９】次に、一般式（Ｉ）で表わされる化合物の
塩としては、この化合物のスルホニルアミド基部分と塩
基との塩であり、このような塩としては、ナトリウム
塩、カリウム塩を挙げることができる。
塩としては、この化合物のスルホニルアミド基部分と塩
基との塩であり、このような塩としては、ナトリウム
塩、カリウム塩を挙げることができる。
【００１０】このような一般式（Ｉ）で表わされる化合
物は、例えば前記の化１０で示される反応式に従い、一
般式（ＩＩ）で表わされる２‐置換アニリン誘導体にジ
フルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロメタ
ンスルホン酸無水物を反応させるか、あるいは前記の化
１１に示される反応式に従い、一般式（ＩＩＩ）で示さ
れる２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イルカ
ルボニル）‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホニルアニリド
誘導体を還元処理することによって製造することができ
る。
物は、例えば前記の化１０で示される反応式に従い、一
般式（ＩＩ）で表わされる２‐置換アニリン誘導体にジ
フルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロメタ
ンスルホン酸無水物を反応させるか、あるいは前記の化
１１に示される反応式に従い、一般式（ＩＩＩ）で示さ
れる２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イルカ
ルボニル）‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホニルアニリド
誘導体を還元処理することによって製造することができ
る。
【００１１】前者の方法は通常、不活性溶媒、例えばペ
ンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族又は脂
環族炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素類、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４‐ジオキサンなどのエーテル類、酢酸メチ
ル、酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリル、プ
ロピオニトリルなどのニトリル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ‐ジメチルスルホキシド、スルホラ
ンなどの非プロトン性極性溶媒及びこれらの混合溶媒
中、塩基の存在下で行われる。この際用いられる塩基
は、アニリンと酸ハライドとの反応に慣用されているも
の、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウムなどのアルカ
リ土類金属水酸化物、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、ピリジンなどの有機
塩基であり、中でもピリジンが好ましい。反応温度とし
ては−７０〜２５０℃、好ましくは−２０〜４０℃の範
囲で選ばれる。反応時間は原料化合物の種類や反応温度
などに左右されるが、５分〜７日間程度である。
ンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族又は脂
環族炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素類、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４‐ジオキサンなどのエーテル類、酢酸メチ
ル、酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリル、プ
ロピオニトリルなどのニトリル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ‐ジメチルスルホキシド、スルホラ
ンなどの非プロトン性極性溶媒及びこれらの混合溶媒
中、塩基の存在下で行われる。この際用いられる塩基
は、アニリンと酸ハライドとの反応に慣用されているも
の、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウムなどのアルカ
リ土類金属水酸化物、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、ピリジンなどの有機
塩基であり、中でもピリジンが好ましい。反応温度とし
ては−７０〜２５０℃、好ましくは−２０〜４０℃の範
囲で選ばれる。反応時間は原料化合物の種類や反応温度
などに左右されるが、５分〜７日間程度である。
【００１２】また、後者の方法は通常、不活性溶媒、例
えばメタノール、エタノールなどのアルコール類や、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４‐ジオキ
サンなどのエーテル類や、酢酸メチル、酢酸エチルなど
のエステル類や、アセトニトリル、プロピオニトリルな
どのニトリル類や、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ‐ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プ
ロトン性極性溶媒及びこれらの混合溶媒中で行われる。
また、還元処理は、還元剤として、例えば水素化ホウ素
ナトリウムなどのアルカリ金属水素錯化合物類の存在
下、反応温度は−７０℃から溶媒の沸点、好ましくは−
２０〜４０℃の範囲の温度で行われる。反応時間は原料
化合物の種類や反応温度などに左右されるが、５分〜７
日間程度である。
えばメタノール、エタノールなどのアルコール類や、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４‐ジオキ
サンなどのエーテル類や、酢酸メチル、酢酸エチルなど
のエステル類や、アセトニトリル、プロピオニトリルな
どのニトリル類や、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ‐ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プ
ロトン性極性溶媒及びこれらの混合溶媒中で行われる。
また、還元処理は、還元剤として、例えば水素化ホウ素
ナトリウムなどのアルカリ金属水素錯化合物類の存在
下、反応温度は−７０℃から溶媒の沸点、好ましくは−
２０〜４０℃の範囲の温度で行われる。反応時間は原料
化合物の種類や反応温度などに左右されるが、５分〜７
日間程度である。
【００１３】これらの製造方法において原料として用い
られる一般式（ＩＩ）及び一般式（ＩＩＩ）の化合物
も、文献未載の新規化合物である。
られる一般式（ＩＩ）及び一般式（ＩＩＩ）の化合物
も、文献未載の新規化合物である。
【００１４】これらの化合物は、例えば「ジャーナル・
オブ・ジ・アグリカルチュラル・フード・ケミストリー
（Ｊ．Ａｇｒ．Ｆｏｏｄ Ｃｈｅｍ．）」，第２２巻，
第６号，第１１１１ページ（１９７４年）、「ジャーナ
ル・オブ・ケミカル・リサーチズ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｓｅａｒｃｈｅｓ）」，１９７７年，第１８６ページ又
は「ヘテロサイクルズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅ
ｓ）」，第３８巻，第１号，第１２５ページに記載され
ているスルホニルアニリド類の製造方法に準じた方法に
より、以下に示す反応順序に従って、それぞれ対応する
２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イル）‐２
‐（２‐ニトロフェニル）アセトニトリル（ＩＶ）から
容易に製造することができる。
オブ・ジ・アグリカルチュラル・フード・ケミストリー
（Ｊ．Ａｇｒ．Ｆｏｏｄ Ｃｈｅｍ．）」，第２２巻，
第６号，第１１１１ページ（１９７４年）、「ジャーナ
ル・オブ・ケミカル・リサーチズ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｓｅａｒｃｈｅｓ）」，１９７７年，第１８６ページ又
は「ヘテロサイクルズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅ
ｓ）」，第３８巻，第１号，第１２５ページに記載され
ているスルホニルアニリド類の製造方法に準じた方法に
より、以下に示す反応順序に従って、それぞれ対応する
２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イル）‐２
‐（２‐ニトロフェニル）アセトニトリル（ＩＶ）から
容易に製造することができる。
【００１５】
【化１２】 （式中のＲ1及びＸは前記と同じ意味をもつ）
【００１６】すなわち、一般式（ＩＩ）の化合物は、例
えば２‐ニトロフェニルアセトニトリル誘導体に２‐ハ
ロゲノ又はアルキルスルホニル‐４，６‐ジメトキシピ
リミジンを塩基の存在下反応させるか、あるいは２‐ハ
ロゲノニトロベンゼン誘導体に２‐（４，６‐ジメトキ
シピリミジン‐２‐イル）アセトニトリルを塩基の存在
下反応させることにより得られる２‐（４，６‐ジメト
キシピリミジン‐２‐イル）‐２‐（２‐ニトロフェニ
ル）アセトニトリル（ＩＶ）を、酸化的脱シアノ化し
て、一般式（Ｖ）の化合物を生成させ、次いでこの化合
物のニトロ基をアミノ基に還元して一般式（ＶＩ）の化
合物を形成させ、さらにこの化合物のカルボニル基をヒ
ドロキシメチル基に還元することによって製造すること
ができる。
えば２‐ニトロフェニルアセトニトリル誘導体に２‐ハ
ロゲノ又はアルキルスルホニル‐４，６‐ジメトキシピ
リミジンを塩基の存在下反応させるか、あるいは２‐ハ
ロゲノニトロベンゼン誘導体に２‐（４，６‐ジメトキ
シピリミジン‐２‐イル）アセトニトリルを塩基の存在
下反応させることにより得られる２‐（４，６‐ジメト
キシピリミジン‐２‐イル）‐２‐（２‐ニトロフェニ
ル）アセトニトリル（ＩＶ）を、酸化的脱シアノ化し
て、一般式（Ｖ）の化合物を生成させ、次いでこの化合
物のニトロ基をアミノ基に還元して一般式（ＶＩ）の化
合物を形成させ、さらにこの化合物のカルボニル基をヒ
ドロキシメチル基に還元することによって製造すること
ができる。
【００１７】この一般式（ＩＶ）の化合物を一般式
（Ｖ）の化合物に変える酸化的脱シアノ化は、先ず酸化
剤により酸化したのち、塩基で処理することにより行わ
れる。この反応は通常、不活性溶媒、例えばペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族又は脂環族炭化
水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、
ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４
‐ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチ
ルケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチルなど
のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなど
のニトリル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
‐ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン
性極性溶媒、水及びこれらを組み合わせた混合溶媒中で
行われる。第一段階で用いる酸化剤としては、例えばｍ
‐クロロ過安息香酸などの有機過酸類がある。また、第
二段階で用いる塩基としては、この種の脱シアノ化反応
に慣用される塩基の中から任意に選ぶことができる。こ
のような塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシ
ウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、ピ
リジンなどの有機塩基がある。この際の反応温度は−７
０〜２５０℃、好ましくは−２０〜４０℃の範囲から選
ばれる。反応時間は、使用される酸化剤、塩基の種類及
び反応温度に左右されるが、通常５分〜７日間である。
（Ｖ）の化合物に変える酸化的脱シアノ化は、先ず酸化
剤により酸化したのち、塩基で処理することにより行わ
れる。この反応は通常、不活性溶媒、例えばペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族又は脂環族炭化
水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、
ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４
‐ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチ
ルケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチルなど
のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなど
のニトリル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
‐ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン
性極性溶媒、水及びこれらを組み合わせた混合溶媒中で
行われる。第一段階で用いる酸化剤としては、例えばｍ
‐クロロ過安息香酸などの有機過酸類がある。また、第
二段階で用いる塩基としては、この種の脱シアノ化反応
に慣用される塩基の中から任意に選ぶことができる。こ
のような塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシ
ウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、ピ
リジンなどの有機塩基がある。この際の反応温度は−７
０〜２５０℃、好ましくは−２０〜４０℃の範囲から選
ばれる。反応時間は、使用される酸化剤、塩基の種類及
び反応温度に左右されるが、通常５分〜７日間である。
【００１８】一般式（Ｖ）の化合物のニトロ基をアミノ
基に還元して一般式（ＶＩ）のアニリン誘導体とする反
応は、不活性溶媒中、触媒の存在下、還元剤により行う
ことができる。この際用いる不活性溶媒としては、例え
ばメタノール、エタノールなどのアルコール類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４‐ジオキサン
などのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエス
テル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニト
リル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ‐ジメ
チルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン性極性
溶媒及びこれらの混合溶媒などがある。また、還元剤と
しては、例えば、鉄、亜鉛、スズのような金属類が、触
媒としては、例えば、酢酸のような有機酸が用いられ
る。この反応は、通常２０℃ないし溶媒の沸点の範囲内
の温度で行われる。反応時間は、使用する還元剤、触媒
及び反応温度に左右されるが、通常５分から７日間であ
る。
基に還元して一般式（ＶＩ）のアニリン誘導体とする反
応は、不活性溶媒中、触媒の存在下、還元剤により行う
ことができる。この際用いる不活性溶媒としては、例え
ばメタノール、エタノールなどのアルコール類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４‐ジオキサン
などのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエス
テル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニト
リル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ‐ジメ
チルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン性極性
溶媒及びこれらの混合溶媒などがある。また、還元剤と
しては、例えば、鉄、亜鉛、スズのような金属類が、触
媒としては、例えば、酢酸のような有機酸が用いられ
る。この反応は、通常２０℃ないし溶媒の沸点の範囲内
の温度で行われる。反応時間は、使用する還元剤、触媒
及び反応温度に左右されるが、通常５分から７日間であ
る。
【００１９】次に、このようにして得られた一般式（Ｖ
Ｉ）の化合物のカルボニル基をヒドロキシメチル基へ変
換する還元反応は、前記した一般式（ＩＩＩ）の化合物
を還元処理して、本発明化合物（Ｉ）を製造する場合と
同様にして行うことができる。
Ｉ）の化合物のカルボニル基をヒドロキシメチル基へ変
換する還元反応は、前記した一般式（ＩＩＩ）の化合物
を還元処理して、本発明化合物（Ｉ）を製造する場合と
同様にして行うことができる。
【００２０】他方、一般式（ＩＩＩ）の化合物は、例え
ば２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イル）‐
２‐（２‐ニトロフェニル）アセトニトリル（ＩＶ）を
還元して、そのニトロ基をアミノ基に変換して一般式
（ＶＩＩ）の化合物とし、次いでこれに塩基の存在下、
ジフルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロメ
タンスルホン酸無水物を反応させて、一般式（ＶＩＩ
Ｉ）のインドール化合物を製造し、このインドール化合
物を酸化開環することにより得ることができる。
ば２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イル）‐
２‐（２‐ニトロフェニル）アセトニトリル（ＩＶ）を
還元して、そのニトロ基をアミノ基に変換して一般式
（ＶＩＩ）の化合物とし、次いでこれに塩基の存在下、
ジフルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロメ
タンスルホン酸無水物を反応させて、一般式（ＶＩＩ
Ｉ）のインドール化合物を製造し、このインドール化合
物を酸化開環することにより得ることができる。
【００２１】上記の一般式（ＩＶ）の化合物のニトロ基
をアミノ基に還元する反応は、不活性溶媒中、触媒の存
在下での水素添加により行われる。この際の不活性溶媒
としては、一般式（Ｖ）の化合物を製造する場合と同じ
ものを用いることができる。触媒としては、白金パラジ
ウム、パラジウム炭素のような接触還元に慣用される触
媒の中から任意に選んで用いることができる。一般式
（ＶＩＩ）の化合物とジフルオロメタンスルホニルハラ
イド又はジフルオロメタンスルホン酸無水物との反応
は、前記した一般式（ＩＩ）の化合物にジフルオロメタ
ンスルホニルハライド又はジフルオロメタンスルホン酸
無水物を反応させて、本発明化合物（Ｉ）を製造する場
合と同様にして行うことができる。
をアミノ基に還元する反応は、不活性溶媒中、触媒の存
在下での水素添加により行われる。この際の不活性溶媒
としては、一般式（Ｖ）の化合物を製造する場合と同じ
ものを用いることができる。触媒としては、白金パラジ
ウム、パラジウム炭素のような接触還元に慣用される触
媒の中から任意に選んで用いることができる。一般式
（ＶＩＩ）の化合物とジフルオロメタンスルホニルハラ
イド又はジフルオロメタンスルホン酸無水物との反応
は、前記した一般式（ＩＩ）の化合物にジフルオロメタ
ンスルホニルハライド又はジフルオロメタンスルホン酸
無水物を反応させて、本発明化合物（Ｉ）を製造する場
合と同様にして行うことができる。
【００２２】次に、一般式（ＶＩＩＩ）のインドール誘
導体を酸化開環する反応は、先ずこの化合物を酸化剤で
処理したのち、塩基で処理することにより行われる。こ
の反応は通常、不活性溶媒、例えばペンタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサンなどの脂肪族又は脂環族炭化水素
類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジク
ロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４‐
ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチルなどの
エステル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどの
ニトリル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ‐
ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン性
極性溶媒、水及びこれらを組み合わせた混合溶媒中で行
われる。酸化剤としては、例えばｍ‐クロロ過安息香酸
などの有機過酸類が用いられる。塩基としては、この種
の反応に慣用されるもの、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カル
シウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、
ピリジンなどの有機塩基が用いられる。反応温度は−７
０〜２５０℃、好ましくは−２０〜４０℃の範囲から選
ばれる。反応時間は使用される塩基、反応温度に左右さ
れるが、通常５分から７日間である。
導体を酸化開環する反応は、先ずこの化合物を酸化剤で
処理したのち、塩基で処理することにより行われる。こ
の反応は通常、不活性溶媒、例えばペンタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサンなどの脂肪族又は脂環族炭化水素
類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジク
ロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４‐
ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチルなどの
エステル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどの
ニトリル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ‐
ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン性
極性溶媒、水及びこれらを組み合わせた混合溶媒中で行
われる。酸化剤としては、例えばｍ‐クロロ過安息香酸
などの有機過酸類が用いられる。塩基としては、この種
の反応に慣用されるもの、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カル
シウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、
ピリジンなどの有機塩基が用いられる。反応温度は−７
０〜２５０℃、好ましくは−２０〜４０℃の範囲から選
ばれる。反応時間は使用される塩基、反応温度に左右さ
れるが、通常５分から７日間である。
【００２３】次に、前記一般式（Ｉ）で表わされる化合
物を有効成分とする除草剤は、粉剤、水和剤、乳剤、微
粒剤、顆粒など、一般の除草剤に慣用されている剤型に
製剤することができる。この際に用いられる賦形剤、添
加剤としては、通常の除草剤の製剤に慣用されているも
のの中から、使用目的に応じ任意に選ぶことができる。
すなわち、製剤化に際して用いられる担体としては、例
えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、けいそ
う土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カル
シウム、消石灰、けい砂、硫安、尿素などの固体担体
や、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサ
ン、メチルナフタレンなどの液体担体などが挙げられ
る。また、界面活性剤又は分散剤としては、例えばアル
キルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジス
ルホン酸金属塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルア
リールスルホン酸塩ホルマリン縮合物、リグニンスルホ
ン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノアルキレートなどが挙げられ
る。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロー
ス、ポリエチレングリコール、アラビアゴムなどが挙げ
られる。
物を有効成分とする除草剤は、粉剤、水和剤、乳剤、微
粒剤、顆粒など、一般の除草剤に慣用されている剤型に
製剤することができる。この際に用いられる賦形剤、添
加剤としては、通常の除草剤の製剤に慣用されているも
のの中から、使用目的に応じ任意に選ぶことができる。
すなわち、製剤化に際して用いられる担体としては、例
えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、けいそ
う土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カル
シウム、消石灰、けい砂、硫安、尿素などの固体担体
や、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサ
ン、メチルナフタレンなどの液体担体などが挙げられ
る。また、界面活性剤又は分散剤としては、例えばアル
キルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジス
ルホン酸金属塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルア
リールスルホン酸塩ホルマリン縮合物、リグニンスルホ
ン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノアルキレートなどが挙げられ
る。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロー
ス、ポリエチレングリコール、アラビアゴムなどが挙げ
られる。
【００２４】この除草剤の使用に際しては適当な濃度に
希釈して散布するか又は直接施用する。本発明の除草剤
は茎葉散布、土壌施用又は水面施用などの形で使用され
る。本発明の除草剤における有効成分の配合割合につい
ては使用目的に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤と
する場合は０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５
〜５重量％の範囲で選ぶのがよい。また、乳剤及び水和
剤とする場合は１〜５０重量％、好ましくは５〜３０重
量％の範囲で選ぶのがよい。
希釈して散布するか又は直接施用する。本発明の除草剤
は茎葉散布、土壌施用又は水面施用などの形で使用され
る。本発明の除草剤における有効成分の配合割合につい
ては使用目的に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤と
する場合は０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５
〜５重量％の範囲で選ぶのがよい。また、乳剤及び水和
剤とする場合は１〜５０重量％、好ましくは５〜３０重
量％の範囲で選ぶのがよい。
【００２５】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件、使用する剤
型等によって変わるが、粉剤又は粒剤のようにそのまま
使用する場合は、有効成分として１０アール当り０．１
ｇ〜５ｋｇ，好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲で選ぶのが
よい。また、乳剤又は水和剤のように液状で使用する場
合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜
１０，０００ｐｐｍの範囲で選ぶのがよい。また、本発
明の除草剤は、必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草
剤、植物生長調節剤、肥料などと併用してもよい。
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件、使用する剤
型等によって変わるが、粉剤又は粒剤のようにそのまま
使用する場合は、有効成分として１０アール当り０．１
ｇ〜５ｋｇ，好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲で選ぶのが
よい。また、乳剤又は水和剤のように液状で使用する場
合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜
１０，０００ｐｐｍの範囲で選ぶのがよい。また、本発
明の除草剤は、必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草
剤、植物生長調節剤、肥料などと併用してもよい。
【００２６】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
【００２７】参考例１；２‐（４，６‐ジメトキシピリ
ミジン‐２‐イルカルボニル）‐Ｎ‐ジフルオロメタン
スルホニルアニリドの製造 （１） ２‐（２‐ニトロフェニル）アセトニトリル５
０ｇ（０．３１モル）をジメチルホルムアミド５００ｍ
ｌに溶かし、６０％水素化ナトリウム２４．７ｇ（０．
６２モル）を加えて、室温で２時間撹拌した。次いで
４，６‐ジメトキシ‐２‐メタンスルホニルピリミジン
６８ｇ（０．３１モル）を加え、８０℃で１時間撹拌
し、反応させた。反応液を水中に注加し、希塩酸で中和
した後、酢酸エチルで抽出した。水洗、乾燥の後、溶媒
を減圧留去し、残査をエタノールより再結晶化すること
により、２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イ
ル）‐２‐（２‐ニトロフェニル）アセトニトリル７
３．３ｇ（収率７９％）を白色粉末（融点８８〜８９
℃）として得た。
ミジン‐２‐イルカルボニル）‐Ｎ‐ジフルオロメタン
スルホニルアニリドの製造 （１） ２‐（２‐ニトロフェニル）アセトニトリル５
０ｇ（０．３１モル）をジメチルホルムアミド５００ｍ
ｌに溶かし、６０％水素化ナトリウム２４．７ｇ（０．
６２モル）を加えて、室温で２時間撹拌した。次いで
４，６‐ジメトキシ‐２‐メタンスルホニルピリミジン
６８ｇ（０．３１モル）を加え、８０℃で１時間撹拌
し、反応させた。反応液を水中に注加し、希塩酸で中和
した後、酢酸エチルで抽出した。水洗、乾燥の後、溶媒
を減圧留去し、残査をエタノールより再結晶化すること
により、２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イ
ル）‐２‐（２‐ニトロフェニル）アセトニトリル７
３．３ｇ（収率７９％）を白色粉末（融点８８〜８９
℃）として得た。
【００２８】（２） （１）で得た２‐（４，６‐ジメ
トキシピリミジン‐２‐イル）‐２‐（２‐ニトロフェ
ニル）アセトニトリル３．０ｇ（１０ミリモル）と、１
０％パラジウム炭素０．３ｇをメタノール１００ｍｌに
懸濁させ室温にて１夜撹拌しつつ水素添加を行った。固
体をろ去したのち、メタノールを減圧留去し、残査をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒、酢酸エ
チル：ヘキサン＝１：１）にて精製することにより、２
‐（２‐アミノフェニル）‐２‐（４，６‐ジメトキシ
ピリミジン‐２‐イル）アセトニトリル１．８ｇ（収率
６７％）を淡黄色あめ状物質として得た。
トキシピリミジン‐２‐イル）‐２‐（２‐ニトロフェ
ニル）アセトニトリル３．０ｇ（１０ミリモル）と、１
０％パラジウム炭素０．３ｇをメタノール１００ｍｌに
懸濁させ室温にて１夜撹拌しつつ水素添加を行った。固
体をろ去したのち、メタノールを減圧留去し、残査をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒、酢酸エ
チル：ヘキサン＝１：１）にて精製することにより、２
‐（２‐アミノフェニル）‐２‐（４，６‐ジメトキシ
ピリミジン‐２‐イル）アセトニトリル１．８ｇ（収率
６７％）を淡黄色あめ状物質として得た。
【００２９】（３） （２）で得た２‐（２‐アミノフ
ェニル）‐２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐
イル）アセトニトリル４．０ｇ（１４．８ミリモル）
と、ピリジン２．５ｇ（３１．６ミリモル）とジフルオ
ロメタンスルホニルクロリド２．８ｇ（１８．６ミリモ
ル）をクロロホルム１００ｍｌに溶かし、室温において
１夜撹拌した。反応液を希塩酸及び飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）にかけて分離精
製することにより、２‐アミノ‐１‐ジフルオロメタン
スルホニル‐３‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２
‐イル）インドール２．０ｇ（収率３５％）を淡黄色粉
末（融点１５６〜１５８℃）として得た。
ェニル）‐２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐
イル）アセトニトリル４．０ｇ（１４．８ミリモル）
と、ピリジン２．５ｇ（３１．６ミリモル）とジフルオ
ロメタンスルホニルクロリド２．８ｇ（１８．６ミリモ
ル）をクロロホルム１００ｍｌに溶かし、室温において
１夜撹拌した。反応液を希塩酸及び飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）にかけて分離精
製することにより、２‐アミノ‐１‐ジフルオロメタン
スルホニル‐３‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２
‐イル）インドール２．０ｇ（収率３５％）を淡黄色粉
末（融点１５６〜１５８℃）として得た。
【００３０】（４） （３）で得た２‐アミノ‐１‐ジ
フルオロメタンスルホニル‐３‐（４，６‐ジメトキシ
ピリミジン‐２‐イル）インドール２．０ｇ（５．２ミ
リモル）と、５０％ｍ‐クロロ過安息香酸２．０ｇ
（５．８ミリモル）とをクロロホルム３０ｍｌに溶か
し、室温において１２時間撹拌した。次いで、１０％水
酸化ナトリウム水溶液１５ｍｌを加え室温において１時
間撹拌したのち、クロロホルム５０ｍｌを加え、有機層
を５％希塩酸、飽和食塩水で洗浄後、乾燥した。溶媒を
減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒、酢酸エチル：ｎ‐ヘキサン＝１：５）に
より精製することにより、２‐（４，６‐ジメトキシピ
リミジン‐２‐イルカルボニル）‐Ｎ‐ジフルオロメタ
ンスルホニルアニリド１．０ｇ（収率５２％）を白色粉
末（融点１３１〜１３３℃）として得た。
フルオロメタンスルホニル‐３‐（４，６‐ジメトキシ
ピリミジン‐２‐イル）インドール２．０ｇ（５．２ミ
リモル）と、５０％ｍ‐クロロ過安息香酸２．０ｇ
（５．８ミリモル）とをクロロホルム３０ｍｌに溶か
し、室温において１２時間撹拌した。次いで、１０％水
酸化ナトリウム水溶液１５ｍｌを加え室温において１時
間撹拌したのち、クロロホルム５０ｍｌを加え、有機層
を５％希塩酸、飽和食塩水で洗浄後、乾燥した。溶媒を
減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒、酢酸エチル：ｎ‐ヘキサン＝１：５）に
より精製することにより、２‐（４，６‐ジメトキシピ
リミジン‐２‐イルカルボニル）‐Ｎ‐ジフルオロメタ
ンスルホニルアニリド１．０ｇ（収率５２％）を白色粉
末（融点１３１〜１３３℃）として得た。
【００３１】参考例２；２‐［（４，６‐ジメトキシピ
リミジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐メトキ
シメチルアニリンの製造 （１） ６０％水素化ナトリウム１１．２ｇ（０．２８
モル）をジメチルホルムアミド１００ｍｌに懸濁させ氷
水浴で１０℃以下に冷却し、撹拌しながらこの中に２‐
（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イル）アセトニ
トリル２５ｇ（０．１４モル）をジメチルホルムアミド
１００ｍｌに溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、室
温において水素の発生がなくなるまで撹拌した。再び氷
水浴で１０℃以下に冷却し、撹拌しながら２‐クロロ‐
６‐メトキシメチルニトロベンゼン２８ｇ（０．１４モ
ル）をジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解した溶液
を滴下後、室温において１２時間撹拌を継続したのち、
反応液を氷水中に注加し、１０％塩酸で酸性にしたの
ち、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水、水で
洗浄したのち、乾燥、減圧濃縮し、析出した粗結晶をエ
タノールとイソプロピルエーテルの混合溶媒で洗浄する
ことにより、２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２
‐イル）‐２‐（３‐メトキシメチル‐２‐ニトロフェ
ニル）アセトニトリル３１ｇ（収率６４％）を赤褐色粉
末（融点１１２〜１１３℃）として得た。
リミジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐メトキ
シメチルアニリンの製造 （１） ６０％水素化ナトリウム１１．２ｇ（０．２８
モル）をジメチルホルムアミド１００ｍｌに懸濁させ氷
水浴で１０℃以下に冷却し、撹拌しながらこの中に２‐
（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イル）アセトニ
トリル２５ｇ（０．１４モル）をジメチルホルムアミド
１００ｍｌに溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、室
温において水素の発生がなくなるまで撹拌した。再び氷
水浴で１０℃以下に冷却し、撹拌しながら２‐クロロ‐
６‐メトキシメチルニトロベンゼン２８ｇ（０．１４モ
ル）をジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解した溶液
を滴下後、室温において１２時間撹拌を継続したのち、
反応液を氷水中に注加し、１０％塩酸で酸性にしたの
ち、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水、水で
洗浄したのち、乾燥、減圧濃縮し、析出した粗結晶をエ
タノールとイソプロピルエーテルの混合溶媒で洗浄する
ことにより、２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２
‐イル）‐２‐（３‐メトキシメチル‐２‐ニトロフェ
ニル）アセトニトリル３１ｇ（収率６４％）を赤褐色粉
末（融点１１２〜１１３℃）として得た。
【００３２】（２） （１）で得た２‐（４，６‐ジメ
トキシピリミジン‐２‐イル）‐２‐（３‐メトキシメ
チル‐２‐ニトロフェニル）アセトニトリル３．５ｇ
（１０ミリモル）と、５０％ｍ‐クロロ過安息香酸６．
０ｇ（１７ミリモル）とをクロロホルム３０ｍｌに溶解
し、室温において１２時間撹拌した。次いで１０％水酸
化ナトリウム水溶液１５ｍｌを加え室温において１時間
撹拌したのち、クロロホルム５０ｍｌを加え、有機層を
５％希塩酸、飽和食塩水で洗浄後、乾燥した。溶媒を減
圧留去し、結晶残査をエタノール−ジイソプロピルエー
テルにより洗浄することにより、（４，６‐ジメトキシ
ピリミジン‐２‐イル） ３‐メトキシメチル‐２‐ニ
トロフェニルケトン２．８ｇ（収率８４％）を白色粉末
（融点１１１〜１１３℃）として得た。
トキシピリミジン‐２‐イル）‐２‐（３‐メトキシメ
チル‐２‐ニトロフェニル）アセトニトリル３．５ｇ
（１０ミリモル）と、５０％ｍ‐クロロ過安息香酸６．
０ｇ（１７ミリモル）とをクロロホルム３０ｍｌに溶解
し、室温において１２時間撹拌した。次いで１０％水酸
化ナトリウム水溶液１５ｍｌを加え室温において１時間
撹拌したのち、クロロホルム５０ｍｌを加え、有機層を
５％希塩酸、飽和食塩水で洗浄後、乾燥した。溶媒を減
圧留去し、結晶残査をエタノール−ジイソプロピルエー
テルにより洗浄することにより、（４，６‐ジメトキシ
ピリミジン‐２‐イル） ３‐メトキシメチル‐２‐ニ
トロフェニルケトン２．８ｇ（収率８４％）を白色粉末
（融点１１１〜１１３℃）として得た。
【００３３】（３） （２）で得た（４，６‐ジメトキ
シピリミジン‐２‐イル） ３‐メトキシメチル‐２‐
ニトロフェニルケトン３．３ｇ（１０ミリモル）と、鉄
粉３ｇ（５４ミリモル）と、水２０ｍｌと、酢酸エチル
１５０ｍｌと酢酸１ｍｌの混合物を５０℃において５時
間反応させた。反応液中の不溶物をろ過助剤を用いてろ
別し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥した。溶媒を
減圧留去し結晶残査をジイソプロピルエーテルで洗浄す
ることにより、２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐
２‐イルカルボニル）‐６‐メトキシメチルアニリン
２．４ｇ（収率８０％）を黄色結晶（融点１００〜１０
１℃）として得た。
シピリミジン‐２‐イル） ３‐メトキシメチル‐２‐
ニトロフェニルケトン３．３ｇ（１０ミリモル）と、鉄
粉３ｇ（５４ミリモル）と、水２０ｍｌと、酢酸エチル
１５０ｍｌと酢酸１ｍｌの混合物を５０℃において５時
間反応させた。反応液中の不溶物をろ過助剤を用いてろ
別し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥した。溶媒を
減圧留去し結晶残査をジイソプロピルエーテルで洗浄す
ることにより、２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐
２‐イルカルボニル）‐６‐メトキシメチルアニリン
２．４ｇ（収率８０％）を黄色結晶（融点１００〜１０
１℃）として得た。
【００３４】（４） （３）で得た２‐（４，６‐ジメ
トキシピリミジン‐２‐イルカルボニル）‐６‐メトキ
シメチルアニリン３．１ｇ（１０ミリモル）をテトラヒ
ドロフランと水との混合溶媒（容量比１：１）５０ｍｌ
に溶解し、室温で撹拌しながらこの中へ水素化ホウ素ナ
トリウム０．６ｇ（１６ミリモル）を加え、さらに２時
間室温で撹拌を続けた。次いで氷水５０ｍｌを加え、酢
酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、結晶残査をジイソプロピルエー
テルで洗浄することにより、２‐［（４，６‐ジメトキ
シピリミジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐メ
トキシメチルアニリン２．８ｇ（収率９２％）を白色粉
末（融点４０〜４２℃）として得た。
トキシピリミジン‐２‐イルカルボニル）‐６‐メトキ
シメチルアニリン３．１ｇ（１０ミリモル）をテトラヒ
ドロフランと水との混合溶媒（容量比１：１）５０ｍｌ
に溶解し、室温で撹拌しながらこの中へ水素化ホウ素ナ
トリウム０．６ｇ（１６ミリモル）を加え、さらに２時
間室温で撹拌を続けた。次いで氷水５０ｍｌを加え、酢
酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、結晶残査をジイソプロピルエー
テルで洗浄することにより、２‐［（４，６‐ジメトキ
シピリミジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐メ
トキシメチルアニリン２．８ｇ（収率９２％）を白色粉
末（融点４０〜４２℃）として得た。
【００３５】参考例３；２‐［（４，６‐ジメトキシピ
リミジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐エチル
アニリンの製造 （１） 参考例２の（１）における２‐クロロ‐６‐メ
トキシメチルニトロベンゼンの代りに、２‐フルオロ‐
６‐エチルニトロベンゼンを用い、参考例２の（１）と
同様に処理することにより、２‐（４，６‐ジメトキシ
ピリミジン‐２‐イル）‐２‐（３‐エチル‐２‐ニト
ロフェニル）アセトニトリルを茶褐色粉末（融点１１３
〜１１４℃）として得た。収率は６６．６％であった。
リミジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐エチル
アニリンの製造 （１） 参考例２の（１）における２‐クロロ‐６‐メ
トキシメチルニトロベンゼンの代りに、２‐フルオロ‐
６‐エチルニトロベンゼンを用い、参考例２の（１）と
同様に処理することにより、２‐（４，６‐ジメトキシ
ピリミジン‐２‐イル）‐２‐（３‐エチル‐２‐ニト
ロフェニル）アセトニトリルを茶褐色粉末（融点１１３
〜１１４℃）として得た。収率は６６．６％であった。
【００３６】（２） （１）で得た２‐（４，６‐ジメ
トキシピリミジン‐２‐イル）‐２‐（３‐エチル‐２
‐ニトロフェニル）アセトニトリルを参考例２の（２）
と同様に処理することにより、（４，６‐ジメトキシピ
リミジン‐２‐イル） ３‐エチル‐２‐ニトロフェニ
ルケトンを白色粉末（融点１１６〜１１７℃）として得
た。収率は１００％であった。
トキシピリミジン‐２‐イル）‐２‐（３‐エチル‐２
‐ニトロフェニル）アセトニトリルを参考例２の（２）
と同様に処理することにより、（４，６‐ジメトキシピ
リミジン‐２‐イル） ３‐エチル‐２‐ニトロフェニ
ルケトンを白色粉末（融点１１６〜１１７℃）として得
た。収率は１００％であった。
【００３７】（３） （２）で得た（４，６‐ジメトキ
シピリミジン‐２‐イル） ３‐エチル‐２‐ニトロフ
ェニルケトンを参考例２の（３）と同様に処理すること
により、２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イ
ルカルボニル）‐６‐エチルアニリンを黄色粉末（融点
１２２〜１２３℃）として得た。収率は６４％であっ
た。
シピリミジン‐２‐イル） ３‐エチル‐２‐ニトロフ
ェニルケトンを参考例２の（３）と同様に処理すること
により、２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イ
ルカルボニル）‐６‐エチルアニリンを黄色粉末（融点
１２２〜１２３℃）として得た。収率は６４％であっ
た。
【００３８】（４） （３）で得た２‐（４，６‐ジメ
トキシピリミジン‐２‐イルカルボニル）‐６‐エチル
アニリンを参考例２の（４）と同様に処理することによ
り、２‐［（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イ
ル）ヒドロキシメチル］‐６‐エチルアニリンを白色粉
末（融点８５〜８６℃）として得た。収率は９３．７％
であった。
トキシピリミジン‐２‐イルカルボニル）‐６‐エチル
アニリンを参考例２の（４）と同様に処理することによ
り、２‐［（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イ
ル）ヒドロキシメチル］‐６‐エチルアニリンを白色粉
末（融点８５〜８６℃）として得た。収率は９３．７％
であった。
【００３９】実施例１ 参考例１で得た２‐（４，６‐ジメトキシピリミジン‐
２‐イルカルボニル）‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホニ
ルアニリド１．０ｇ（２．７ミリモル）をテトラヒドロ
フランと水との等容混合溶媒５０ｍｌに溶解し、室温で
撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム０．２ｇ（５．４
ミリモル）を加え、さらに２時間室温で撹拌を続けた。
次いで氷水５０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出し、有機
層を飽和食塩水で洗浄、乾燥した。溶媒を減圧留去し、
結晶残査をジイソプロピルエーテルで洗浄することによ
り、２‐［（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イ
ル）ヒドロキシメチル］‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホ
ニルアニリド０．８ｇ（収率８０％）を白色粉末（融点
１０３〜１０５℃）として得た。
２‐イルカルボニル）‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホニ
ルアニリド１．０ｇ（２．７ミリモル）をテトラヒドロ
フランと水との等容混合溶媒５０ｍｌに溶解し、室温で
撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム０．２ｇ（５．４
ミリモル）を加え、さらに２時間室温で撹拌を続けた。
次いで氷水５０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出し、有機
層を飽和食塩水で洗浄、乾燥した。溶媒を減圧留去し、
結晶残査をジイソプロピルエーテルで洗浄することによ
り、２‐［（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２‐イ
ル）ヒドロキシメチル］‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホ
ニルアニリド０．８ｇ（収率８０％）を白色粉末（融点
１０３〜１０５℃）として得た。
【００４０】実施例２ 参考例２で得た２‐［（４，６‐ジメトキシピリミジン
‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐メトキシメチル
アニリン４．０ｇ（１３．１ミリモル）と、ピリジン
２．０ｇ（２５．３ミリモル）とをジクロロメタン３０
ｍｌに溶解し、−１０℃において撹拌しながらこの中へ
ジフルオロメタンスルホニルクロリド３．６ｇ（２３．
９ミリモル）を滴下した。次いで室温において７日間撹
拌を続けた後、反応液を氷水中に注加し、ジクロロメタ
ンで抽出した。有機層を５％希塩酸、飽和食塩水で洗
浄、乾燥後、減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒、酢酸エチル：ヘキサン＝
１：３）で分離精製することにより、２‐［（４，６‐
ジメトキシピリミジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］
‐６‐メトキシメチル‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホニ
ルアニリド２．０ｇ（収率３６％）を無色粒状結晶（融
点７６〜７７℃）として得た。
‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐メトキシメチル
アニリン４．０ｇ（１３．１ミリモル）と、ピリジン
２．０ｇ（２５．３ミリモル）とをジクロロメタン３０
ｍｌに溶解し、−１０℃において撹拌しながらこの中へ
ジフルオロメタンスルホニルクロリド３．６ｇ（２３．
９ミリモル）を滴下した。次いで室温において７日間撹
拌を続けた後、反応液を氷水中に注加し、ジクロロメタ
ンで抽出した。有機層を５％希塩酸、飽和食塩水で洗
浄、乾燥後、減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒、酢酸エチル：ヘキサン＝
１：３）で分離精製することにより、２‐［（４，６‐
ジメトキシピリミジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］
‐６‐メトキシメチル‐Ｎ‐ジフルオロメタンスルホニ
ルアニリド２．０ｇ（収率３６％）を無色粒状結晶（融
点７６〜７７℃）として得た。
【００４１】実施例３ 参考例３で得た２‐［（４，６‐ジメトキシピリミジン
‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐エチルアニリン
４．０ｇ（１３．８ミリモル）と、ピリジン２．０ｇ
（２５．３ミリモル）とをジクロロメタン３０ｍｌに溶
解し、−１０℃において撹拌しながらこの中へジフルオ
ロメタンスルホニルクロリド３．６ｇ（２３．９ミリモ
ル）を滴下した。室温において３日間撹拌を続けた後、
反応液を氷水中に注加し、ジクロロメタンで抽出した。
有機層を５％希塩酸、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、減圧
留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）で分離精
製することにより、２‐［（４，６‐ジメトキシピリミ
ジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐エチル‐Ｎ
‐ジフルオロメタンスルホニルアニリド２．４ｇ（収率
４３％）を白色粉末（融点１２０〜１２１℃）として得
た。
‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐エチルアニリン
４．０ｇ（１３．８ミリモル）と、ピリジン２．０ｇ
（２５．３ミリモル）とをジクロロメタン３０ｍｌに溶
解し、−１０℃において撹拌しながらこの中へジフルオ
ロメタンスルホニルクロリド３．６ｇ（２３．９ミリモ
ル）を滴下した。室温において３日間撹拌を続けた後、
反応液を氷水中に注加し、ジクロロメタンで抽出した。
有機層を５％希塩酸、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、減圧
留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）で分離精
製することにより、２‐［（４，６‐ジメトキシピリミ
ジン‐２‐イル）ヒドロキシメチル］‐６‐エチル‐Ｎ
‐ジフルオロメタンスルホニルアニリド２．４ｇ（収率
４３％）を白色粉末（融点１２０〜１２１℃）として得
た。
【００４２】試験例１ １００ｃｍ2のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、入水、代掻きしたのち、タイヌビエ、コナギ及びホ
タルイの各種子を０．５ｃｍの深さに播種し、さらに２
葉期の水稲を移植深度２ｃｍで２本移植し、水深３ｃｍ
に湛水した。翌日実施例１〜３で得た化合物のそれぞれ
１０重量部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエー
テル０．５重量部、β‐ナフタレンスルホン酸ホルマリ
ン縮合物ナトリウム塩０．５重量部、けいそう土２０重
量部及びクレー６９重量部を混合して調製した水和剤を
水で希釈して、その有効成分量（ｇ／１０アール）が表
１に示す薬量になるように水面に滴下したのち、温室内
で育成し、２８日後に以下の基準に従って除草効果を評
価した。その結果を表１に示す。
し、入水、代掻きしたのち、タイヌビエ、コナギ及びホ
タルイの各種子を０．５ｃｍの深さに播種し、さらに２
葉期の水稲を移植深度２ｃｍで２本移植し、水深３ｃｍ
に湛水した。翌日実施例１〜３で得た化合物のそれぞれ
１０重量部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエー
テル０．５重量部、β‐ナフタレンスルホン酸ホルマリ
ン縮合物ナトリウム塩０．５重量部、けいそう土２０重
量部及びクレー６９重量部を混合して調製した水和剤を
水で希釈して、その有効成分量（ｇ／１０アール）が表
１に示す薬量になるように水面に滴下したのち、温室内
で育成し、２８日後に以下の基準に従って除草効果を評
価した。その結果を表１に示す。
【００４３】なお、比較のために式
【化１３】 で示される２‐［（４，６‐ジメトキシピリミジン‐２
‐イル）ヒドロキシメチル］‐Ｎ‐トリフルオロメタン
スルホニルアニリド（ＷＯ９６／４１７９９号の化合物
番号１０−１１１のもの）を用い、同様の試験を行い、
その結果を表１に併記した。
‐イル）ヒドロキシメチル］‐Ｎ‐トリフルオロメタン
スルホニルアニリド（ＷＯ９６／４１７９９号の化合物
番号１０−１１１のもの）を用い、同様の試験を行い、
その結果を表１に併記した。
【００４４】除草効果（生育抑制程度）の基準 ５：９０％以上 ４：７０％以上９０％未満 ３：５０％以上７０％未満 ２：３０％以上５０％未満 １：１０％以上３０％未満 ０：１０％未満
【００４５】
【表１】
【００４６】また、この試験において水稲に対する薬害
はほとんど認められなかった。
はほとんど認められなかった。
【００４７】試験例２ ２００ｃｍ2のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、入水、代掻きしたのち、コナギ、ホタルイの各種子
を０．５ｃｍの深さに播種し、ウリカワの塊茎を埋め込
み、水深３ｃｍに湛水した。翌日実施例１で得た化合物
及び試験例１で用いたのと同じ比較化合物を有効成分と
して試験例１と同様にして調製した水和剤を水で希釈し
て、その有効成分量が表２に示す薬量になるように水面
に滴下処理した。次いでその翌日から２日間に、１日当
り水深２ｃｍの落水操作を行い、その都度２ｃｍの給水
を行ったのち、温室内で育成し、処理後２８日目に試験
例１と同じ基準により除草効果を評価した。その結果を
表２に示す。
し、入水、代掻きしたのち、コナギ、ホタルイの各種子
を０．５ｃｍの深さに播種し、ウリカワの塊茎を埋め込
み、水深３ｃｍに湛水した。翌日実施例１で得た化合物
及び試験例１で用いたのと同じ比較化合物を有効成分と
して試験例１と同様にして調製した水和剤を水で希釈し
て、その有効成分量が表２に示す薬量になるように水面
に滴下処理した。次いでその翌日から２日間に、１日当
り水深２ｃｍの落水操作を行い、その都度２ｃｍの給水
を行ったのち、温室内で育成し、処理後２８日目に試験
例１と同じ基準により除草効果を評価した。その結果を
表２に示す。
【００４８】
【表２】
【００４９】試験例３ ２００ｃｍ2のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、入水、代掻きしたのち、タイヌビエの種子を０．５
ｃｍの深さに播種し、さらに２葉期の水稲を移植深度２
ｃｍで２本移植し、翌日のタイヌビエが発芽する前及び
タイヌビエが３葉期になった時点で、実施例１〜３で得
た化合物及び試験例１で用いたのと同じ比較化合物を有
効成分として試験例１と同様にして調製した水和剤を水
で希釈して、その有効成分量が表３に示す薬量になるよ
うに水面に滴下処理したのち、温室内で育成し、処理後
２８日目に試験例１と同様の基準により除草効果を評価
した。その結果を表３に示す。
し、入水、代掻きしたのち、タイヌビエの種子を０．５
ｃｍの深さに播種し、さらに２葉期の水稲を移植深度２
ｃｍで２本移植し、翌日のタイヌビエが発芽する前及び
タイヌビエが３葉期になった時点で、実施例１〜３で得
た化合物及び試験例１で用いたのと同じ比較化合物を有
効成分として試験例１と同様にして調製した水和剤を水
で希釈して、その有効成分量が表３に示す薬量になるよ
うに水面に滴下処理したのち、温室内で育成し、処理後
２８日目に試験例１と同様の基準により除草効果を評価
した。その結果を表３に示す。
【００５０】
【表３】
【００５１】なお、この試験において、水稲に対する薬
害はほとんど認められなかった。以上の試験結果から、
本発明の化合物は、公知の類似構造をもつ化合物に比べ
少ない使用量で、特にタイヌビエのようなイネ科雑草に
対し、優れた除草効果を示すことが分かる。
害はほとんど認められなかった。以上の試験結果から、
本発明の化合物は、公知の類似構造をもつ化合物に比べ
少ない使用量で、特にタイヌビエのようなイネ科雑草に
対し、優れた除草効果を示すことが分かる。
【００５２】試験例４ 催奇形性試験 「毒性に関する試験成績を作成するに当たっての指針」
（農林水産省）に記載された方法に準じ、実施例１〜３
で得た化合物及び試験例１で用いたのと同じ比較化合物
を秤量後、０．５％カルボキシメチルセルロース水溶液
に懸濁し、それぞれＳＤ系妊娠ラット１０頭に対して、
妊娠６日目から１５日目まで連続的に強制経口投与し
た。また、対照群には０．５％カルボキシメチルセルロ
ース水溶液のみを投与した。各化合物の投与量はＳＤ系
非妊娠ラット３頭を用いて、１０日間連続投与予備試験
を行い、投与可能な最大耐量とした。妊娠２０日目に母
体を帝王切開し、子宮内検査（生存胎児数、吸収胚数、
死亡胎児数、性比、胎児重量）及び胎児外表検査を行っ
た。また、胎児を７０％エタノールで固定し、軟部組織
を水酸化カリウムで融解後、骨格をアリザリンレッドＳ
で染色し、骨格検査を行った。その結果を表４に示す。
これらの検査において、全く異常が認められなかった場
合を合格、少しでも異常が認められた場合は不合格とし
た。
（農林水産省）に記載された方法に準じ、実施例１〜３
で得た化合物及び試験例１で用いたのと同じ比較化合物
を秤量後、０．５％カルボキシメチルセルロース水溶液
に懸濁し、それぞれＳＤ系妊娠ラット１０頭に対して、
妊娠６日目から１５日目まで連続的に強制経口投与し
た。また、対照群には０．５％カルボキシメチルセルロ
ース水溶液のみを投与した。各化合物の投与量はＳＤ系
非妊娠ラット３頭を用いて、１０日間連続投与予備試験
を行い、投与可能な最大耐量とした。妊娠２０日目に母
体を帝王切開し、子宮内検査（生存胎児数、吸収胚数、
死亡胎児数、性比、胎児重量）及び胎児外表検査を行っ
た。また、胎児を７０％エタノールで固定し、軟部組織
を水酸化カリウムで融解後、骨格をアリザリンレッドＳ
で染色し、骨格検査を行った。その結果を表４に示す。
これらの検査において、全く異常が認められなかった場
合を合格、少しでも異常が認められた場合は不合格とし
た。
【００５３】
【表４】
【００５４】これより、比較化合物、実施例１〜３で得
た化合物をそれぞれＳＤ系妊娠ラットに対して妊娠６日
目から１５日目まで連続経口投与した結果、いずれも対
照群と比較して母体重量の増加抑制が認められた。子宮
内検査では胎児重量の低下が比較化合物、実施例１及び
３で得た化合物の投与群においても認められた。外表奇
形は比較化合物で前肢の欠指症及び短指症がそれぞれ認
められ、実施例１〜３で得た化合物についてはいずれも
認められなかった。
た化合物をそれぞれＳＤ系妊娠ラットに対して妊娠６日
目から１５日目まで連続経口投与した結果、いずれも対
照群と比較して母体重量の増加抑制が認められた。子宮
内検査では胎児重量の低下が比較化合物、実施例１及び
３で得た化合物の投与群においても認められた。外表奇
形は比較化合物で前肢の欠指症及び短指症がそれぞれ認
められ、実施例１〜３で得た化合物についてはいずれも
認められなかった。
【００５５】製剤例１ 実施例１で得た化合物１０重量部にポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル０．５重量部、β‐ナフタレ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩０．５重量
部、けいそう土２０重量部及びクレー６９重量部を混合
粉砕して水和剤を調製した。
オクチルフェニルエーテル０．５重量部、β‐ナフタレ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩０．５重量
部、けいそう土２０重量部及びクレー６９重量部を混合
粉砕して水和剤を調製した。
【００５６】製剤例２ 実施例２で得た化合物１０重量部にポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル０．５重量部、β‐ナフタレ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩０．５重量
部、けいそう土２０重量部、ホワイトカーボン５重量部
及び炭酸カルシウム６４重量部を混合粉砕して水和剤を
調製した。
オクチルフェニルエーテル０．５重量部、β‐ナフタレ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩０．５重量
部、けいそう土２０重量部、ホワイトカーボン５重量部
及び炭酸カルシウム６４重量部を混合粉砕して水和剤を
調製した。
【００５７】製剤例３ 実施例３で得た化合物１０重量部にポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル０．５重量部、β‐ナフタレ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩０．５重量
部、けいそう土２０重量部、ホワイトカーボン５重量部
及びクレー６４重量部を混合粉砕して水和剤を調製し
た。
オクチルフェニルエーテル０．５重量部、β‐ナフタレ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩０．５重量
部、けいそう土２０重量部、ホワイトカーボン５重量部
及びクレー６４重量部を混合粉砕して水和剤を調製し
た。
【００５８】製剤例４ 実施例１で得た化合物３０重量部にキシレンとイソホロ
ンの等量混合物６０重量部及びポリオキシエチレンソル
ビタンアルキレートとポリオキシエチレンアルキルアリ
ールポリマーとアルキルアリールスルホネートの等量混
合物１０重量部を混合して乳剤を調製した。
ンの等量混合物６０重量部及びポリオキシエチレンソル
ビタンアルキレートとポリオキシエチレンアルキルアリ
ールポリマーとアルキルアリールスルホネートの等量混
合物１０重量部を混合して乳剤を調製した。
【００５９】製剤例５ 実施例３で得た化合物１０重量部、タルクとベントナイ
トを１：３の重量比で混合した増量剤８０重量部、ホワ
イトカーボン５重量部、及びポリオキシエチレンソルビ
タンアルキレートとポリオキシエチレンアルキルアリー
ルポリマーとアルキルアリールスルホネートの等量混合
物５重量部に水１０重量部を加え、よく練ってペースト
状としたものを直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出し
て乾燥したのち、０．５〜１ｍｍの長さに切断して粒剤
を調製した。
トを１：３の重量比で混合した増量剤８０重量部、ホワ
イトカーボン５重量部、及びポリオキシエチレンソルビ
タンアルキレートとポリオキシエチレンアルキルアリー
ルポリマーとアルキルアリールスルホネートの等量混合
物５重量部に水１０重量部を加え、よく練ってペースト
状としたものを直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出し
て乾燥したのち、０．５〜１ｍｍの長さに切断して粒剤
を調製した。
【００６０】
【発明の効果】本発明化合物は低薬量で適用草種及び適
用期幅の広い除草活性を有し、特にイネ科の雑草に対し
優れた防除効果を有するとともに、催奇形性がないなど
哺乳動物に対する安全性が高い除草剤として、あるいは
その製造原料として有用な新規物質である。
用期幅の広い除草活性を有し、特にイネ科の雑草に対し
優れた防除効果を有するとともに、催奇形性がないなど
哺乳動物に対する安全性が高い除草剤として、あるいは
その製造原料として有用な新規物質である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中谷 昌央 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 田丸 雅敏 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 檀上 毅志 静岡県小笠郡菊川町町加茂1809番地 (72)発明者 小野 至正 静岡県静岡市敷地２丁目13番地の10 (72)発明者 柳沢 克忠 静岡県小笠郡菊川町半済3061番地の88 Ｆターム(参考） 4H011 AB01 AB02
Claims (11)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中のＲ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基である）で表わされるジフルオロメタンスルホ
ニルアニリド誘導体又はその塩。 - 【請求項２】 Ｒ1が水素原子である請求項１記載のジ
フルオロメタンスルホニルアニリド誘導体又はその塩。 - 【請求項３】 Ｒ1がアルキル基である請求項１記載の
ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体又はその
塩。 - 【請求項４】 アルキル基がエチル基である請求項３記
載のジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体又はそ
の塩。 - 【請求項５】 Ｒ1がアルコキシアルキル基である請求
項１記載のジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体
又はその塩。 - 【請求項６】 アルコキシアルキル基がメトキシメチル
基である請求項５記載のジフルオロメタンスルホニルア
ニリド誘導体又はその塩。 - 【請求項７】 一般式 【化２】 （式中のＲ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基である）で表わされる２‐置換アニリン誘導体
にジフルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロ
メタンスルホン酸無水物を反応させ、次いで生成物を所
望に応じその塩に変えることを特徴とする、一般式 【化３】 （式中のＲ1は前記と同じ意味をもつ）で表わされるジ
フルオロメタンスルホニルアニリド誘導体又はその塩の
製造方法。 - 【請求項８】 一般式 【化４】 （式中のＲ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基である）で表わされるジフルオロメタンスルホ
ニルアニリド誘導体を還元処理し、次いで生成物を所望
に応じその塩に変えることを特徴とする、一般式 【化５】 （式中のＲ1は前記と同じ意味をもつ）で表わされるジ
フルオロメタンスルホニルアニリド誘導体又はその塩の
製造方法。 - 【請求項９】 一般式 【化６】 （式中のＲ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基である）で表わされるジフルオロメタンスルホ
ニルアニリド誘導体又はその塩を有効成分とする除草
剤。 - 【請求項１０】 一般式 【化７】 （式中のＲ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基である）で表わされる２‐置換アニリン誘導
体。 - 【請求項１１】 一般式 【化８】 （式中のＲ1は水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基である）で表わされるジフルオロメタンスルホ
ニルアニリド誘導体。
Priority Applications (16)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21463598A JP3632947B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 |
| US09/744,209 US6458748B1 (en) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Di- or tri-fluoromethanesulfonyl anilide derivatives, process for the preparation of them and herbicides containing them as the active ingredient |
| CNB998087408A CN1138763C (zh) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | 二或三氟甲磺酰苯胺衍生物、其制备方法和包含所述衍生物作为活性成分的除草剂 |
| EP99933128A EP1101760B1 (en) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Difluoromethanesulfonyl anilide derivatives, process for the preparation of them and herbicides containing them as the active ingredient |
| AT99933128T ATE252088T1 (de) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Difluoromethansulfonyl-anilid-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und sie als aktiven bestandteil enthaltende herbizide |
| RU2001105533/04A RU2225861C2 (ru) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Производные ди- или трифторметансульфониланилида, способ их получения, промежуточные продукты и гербициды |
| BRPI9912494-7A BR9912494B1 (pt) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | derivado de di ou trifluorometanossulfonil anilida, processo para a sua produção e herbicida contendo o referido derivado como ingrediente ativo. |
| KR1020017000479A KR100559690B1 (ko) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | 디 또는 트리플루오로메탄술포닐아닐리드유도체, 그제조방법 및 그것을 유효성분으로 하는 제초제 |
| ES99933128T ES2209466T3 (es) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Derivados de difluormetanosulfonilanilida, procedimiento para su preparacion y herbicidas que contienen tales derivados como ingrediente activo. |
| DE69912134T DE69912134T2 (de) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Difluoromethansulfonyl-anilid-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und sie als aktiven bestandteil enthaltende herbizide |
| PCT/JP1999/004043 WO2000006553A1 (fr) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Derives d'anilide de di- ou tri-fluoromethanesulfonyle, leur procede de preparation et herbicides les contenant sous forme de principes actifs |
| AU49289/99A AU750129C (en) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Di- or tri-fluoromethanesulfonyl anilide derivatives, process for the preparation of them and herbicides containing them as the active ingredient |
| IDW20010232A ID28214A (id) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Turunan di- atau trifluorometanasulfonil anilida, proses pembuatannya, dan herbisida yang mengandung turunan tersebut sebagai bahan aktif |
| EP03005151A EP1361218A1 (en) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Trifluoromethanesulfonyl anilide derivatives, process for the preparation of them and herbicides containing them as the active ingredient |
| UA2001021333A UA56338C2 (uk) | 1998-07-29 | 1999-07-28 | Похідні ди- або трифторметансульфоніланіліду, спосіб їх одержання і гербіциди, що містять вказані похідні як активні інгредієнти |
| TW088112867A TWI221471B (en) | 1998-07-29 | 1999-07-29 | Dimethanesulfonyl anilide derivatives, process for the preparation of them and herbicides containing them as the active ingredient |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21463598A JP3632947B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000044546A true JP2000044546A (ja) | 2000-02-15 |
| JP3632947B2 JP3632947B2 (ja) | 2005-03-30 |
Family
ID=16659018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21463598A Expired - Lifetime JP3632947B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3632947B2 (ja) |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002032882A1 (fr) * | 2000-10-17 | 2002-04-25 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Procede de production de compose aniline substituee |
| JP2002145705A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-05-22 | Nippon Nohyaku Co Ltd | 水田用除草剤組成物及び防除方法 |
| JPWO2003082008A1 (ja) * | 2002-03-29 | 2005-07-28 | クミアイ化学工業株式会社 | 粒状農薬組成物 |
| JP2005255647A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Ihara Chem Ind Co Ltd | アニリン化合物の製造方法 |
| WO2006045612A1 (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Bayer Cropscience Ag | Process for the preparation of phenyl 2-pyrimidinyl ketones and their novel intermediates |
| WO2007007629A1 (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-18 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd. | 除草剤組成物 |
| WO2007031208A2 (en) * | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Bayer Cropscience Ag | A use of sulfonanilides as herbicide |
| JP2007530613A (ja) * | 2004-04-01 | 2007-11-01 | バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト | 除草剤として有用なジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体 |
| JP2008507485A (ja) * | 2004-07-23 | 2008-03-13 | バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト | 農業用及び園芸用殺菌剤としてのスルホンアニリドの使用 |
| CN100426965C (zh) * | 2002-07-25 | 2008-10-22 | 组合化学工业株式会社 | 除草组合物和使用该组合物防治杂草的方法 |
| WO2009022598A1 (ja) | 2007-08-10 | 2009-02-19 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd. | 除草用組成物 |
| WO2010044215A1 (ja) | 2008-10-17 | 2010-04-22 | クミアイ化学工業株式会社 | 光学活性ジフルオロメタンスルホンアニリド誘導体及び除草剤 |
| WO2010104090A1 (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-16 | 住友化学株式会社 | 除草組成物および雑草の防除方法 |
| US8067337B2 (en) | 2004-08-11 | 2011-11-29 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd | Agricultural chemical composition |
| WO2012084857A3 (de) * | 2010-12-21 | 2012-08-16 | Bayer Cropscience Ag | Verfahren zur herstellung von 2-(triazinylcarbonyl)sulfonaniliden |
| WO2012084855A3 (de) * | 2010-12-21 | 2012-09-07 | Bayer Cropscience Ag | Verfahren zur herstellung von triazinylsubstituierten oxindolen |
| JP2014005252A (ja) * | 2012-06-26 | 2014-01-16 | Kumiai Chemical Industry Co Ltd | 光学活性アニリン |
| JP2014005253A (ja) * | 2012-06-26 | 2014-01-16 | Kumiai Chemical Industry Co Ltd | 光学活性ニトロ化合物及び殺虫剤 |
| JP5663482B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2015-02-04 | イハラケミカル工業株式会社 | ピリミジニルアセトニトリル誘導体の製造方法及びその合成中間体 |
| US9096551B2 (en) | 2010-12-21 | 2015-08-04 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Method for producing 2-(triazinylcarbonyl) sulfonanilides |
-
1998
- 1998-07-29 JP JP21463598A patent/JP3632947B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (49)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002145705A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-05-22 | Nippon Nohyaku Co Ltd | 水田用除草剤組成物及び防除方法 |
| US7271263B2 (en) | 2000-10-17 | 2007-09-18 | Ihara Chemical Industry, Co., Ltd. | Process for production of substituted aniline compound |
| CN100439326C (zh) * | 2000-10-17 | 2008-12-03 | 庵原化学工业株式会社 | 取代的苯胺化合物的制备方法 |
| US7531654B2 (en) | 2000-10-17 | 2009-05-12 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for producing substituted aniline compound |
| US7504503B2 (en) | 2000-10-17 | 2009-03-17 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for producing substituted aniline compound |
| AU2001295934B2 (en) * | 2000-10-17 | 2006-08-03 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for producing substituted aniline compound |
| US7820861B2 (en) | 2000-10-17 | 2010-10-26 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | 2-methoxymethylphenylhydrazine |
| WO2002032882A1 (fr) * | 2000-10-17 | 2002-04-25 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Procede de production de compose aniline substituee |
| KR100720220B1 (ko) * | 2000-10-17 | 2007-05-21 | 이하라케미칼 고교가부시키가이샤 | 치환 아닐린 화합물의 제조방법 |
| US7521555B2 (en) | 2000-10-17 | 2009-04-21 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for producing substituted aniline compound |
| JPWO2003082008A1 (ja) * | 2002-03-29 | 2005-07-28 | クミアイ化学工業株式会社 | 粒状農薬組成物 |
| KR100987591B1 (ko) * | 2002-03-29 | 2010-10-12 | 구미아이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 | 입상 농약조성물 |
| JP4603797B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2010-12-22 | クミアイ化学工業株式会社 | 粒状農薬組成物 |
| CN100426965C (zh) * | 2002-07-25 | 2008-10-22 | 组合化学工业株式会社 | 除草组合物和使用该组合物防治杂草的方法 |
| JP2005255647A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Ihara Chem Ind Co Ltd | アニリン化合物の製造方法 |
| JP4615881B2 (ja) * | 2004-03-15 | 2011-01-19 | イハラケミカル工業株式会社 | アニリン化合物の製造方法 |
| JP2007530613A (ja) * | 2004-04-01 | 2007-11-01 | バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト | 除草剤として有用なジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体 |
| US7829703B2 (en) | 2004-04-01 | 2010-11-09 | Bayer Cropscience Ag | Difluoromethanesulfonyl anilide derivatives useful as herbicides |
| JP4847952B2 (ja) * | 2004-04-01 | 2011-12-28 | バイエル・クロップサイエンス・アーゲー | 除草剤として有用なジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体 |
| KR101169483B1 (ko) * | 2004-04-01 | 2012-07-27 | 바이엘 크롭사이언스 아게 | 제초제로 유용한 다이플루오로메테인설포닐 아닐라이드유도체 |
| JP2008507485A (ja) * | 2004-07-23 | 2008-03-13 | バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト | 農業用及び園芸用殺菌剤としてのスルホンアニリドの使用 |
| US8008484B2 (en) | 2004-07-23 | 2011-08-30 | Bayer Cropscience Ag | Use of sulfonanilides as agricultural and horticultural fungicide |
| KR101233543B1 (ko) | 2004-08-11 | 2013-02-14 | 구미아이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 | 농약조성물 |
| US8067337B2 (en) | 2004-08-11 | 2011-11-29 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd | Agricultural chemical composition |
| JP4879907B2 (ja) * | 2004-10-29 | 2012-02-22 | バイエル・クロップサイエンス・アーゲー | フェニル２−ピリミジニルケトン類の製造方法及びその新規中間体 |
| WO2006045612A1 (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Bayer Cropscience Ag | Process for the preparation of phenyl 2-pyrimidinyl ketones and their novel intermediates |
| US8883687B2 (en) | 2005-07-08 | 2014-11-11 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd. | Herbicidal composition |
| KR101327678B1 (ko) | 2005-07-08 | 2013-11-08 | 구미아이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 | 제초제 조성물 |
| KR101296049B1 (ko) | 2005-07-08 | 2013-08-12 | 구미아이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 | 제초제 조성물 |
| JP5090165B2 (ja) * | 2005-07-08 | 2012-12-05 | クミアイ化学工業株式会社 | 除草剤組成物 |
| WO2007007629A1 (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-18 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd. | 除草剤組成物 |
| US8114815B2 (en) | 2005-07-08 | 2012-02-14 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd. | Herbicidal composition |
| JP2012162554A (ja) * | 2005-09-16 | 2012-08-30 | Bayer Cropscience Ag | 除草剤としてのスルホンアニリド類の使用 |
| CN101394743A (zh) * | 2005-09-16 | 2009-03-25 | 拜尔作物科学股份公司 | 磺基苯胺类作为除草剂的用途 |
| WO2007031208A2 (en) * | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Bayer Cropscience Ag | A use of sulfonanilides as herbicide |
| JP2009507866A (ja) * | 2005-09-16 | 2009-02-26 | バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト | 除草剤としてのスルホンアニリド類の使用 |
| TWI382816B (zh) * | 2005-09-16 | 2013-01-21 | Bayer Cropscience Ag | 磺醯苯胺類在充當除草劑上之用途 |
| WO2007031208A3 (en) * | 2005-09-16 | 2007-07-26 | Bayer Cropscience Ag | A use of sulfonanilides as herbicide |
| WO2009022598A1 (ja) | 2007-08-10 | 2009-02-19 | Kumiai Chemical Industry Co., Ltd. | 除草用組成物 |
| WO2010044215A1 (ja) | 2008-10-17 | 2010-04-22 | クミアイ化学工業株式会社 | 光学活性ジフルオロメタンスルホンアニリド誘導体及び除草剤 |
| WO2010104090A1 (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-16 | 住友化学株式会社 | 除草組成物および雑草の防除方法 |
| JP5663482B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2015-02-04 | イハラケミカル工業株式会社 | ピリミジニルアセトニトリル誘導体の製造方法及びその合成中間体 |
| WO2012084855A3 (de) * | 2010-12-21 | 2012-09-07 | Bayer Cropscience Ag | Verfahren zur herstellung von triazinylsubstituierten oxindolen |
| WO2012084857A3 (de) * | 2010-12-21 | 2012-08-16 | Bayer Cropscience Ag | Verfahren zur herstellung von 2-(triazinylcarbonyl)sulfonaniliden |
| US8962828B2 (en) | 2010-12-21 | 2015-02-24 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Method for producing triazinyl-substituted oxindoles |
| US9096551B2 (en) | 2010-12-21 | 2015-08-04 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Method for producing 2-(triazinylcarbonyl) sulfonanilides |
| US9522904B2 (en) | 2010-12-21 | 2016-12-20 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Method for producing triazinyl-substituted oxindoles |
| JP2014005252A (ja) * | 2012-06-26 | 2014-01-16 | Kumiai Chemical Industry Co Ltd | 光学活性アニリン |
| JP2014005253A (ja) * | 2012-06-26 | 2014-01-16 | Kumiai Chemical Industry Co Ltd | 光学活性ニトロ化合物及び殺虫剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3632947B2 (ja) | 2005-03-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1101760B1 (en) | Difluoromethanesulfonyl anilide derivatives, process for the preparation of them and herbicides containing them as the active ingredient | |
| JP2000044546A (ja) | ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 | |
| JP3697075B2 (ja) | トリフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 | |
| JP2854640B2 (ja) | 環状アミド誘導体および除草剤 | |
| JPH04235171A (ja) | スルホヒドロキサム酸誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 | |
| JPH0539272A (ja) | ピリミジンジオン誘導体および除草剤 | |
| JP2001302594A (ja) | 除草性ベンゾイルオキシカルボキシレートおよびカルボキサミド | |
| JP3047447B2 (ja) | ピラゾール誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 | |
| JPH08291146A (ja) | 除草性ｎ−（置換フェニル）スルホンアミド化合物 | |
| JP3954127B2 (ja) | 環状アミド誘導体及び除草剤 | |
| JPH02233602A (ja) | 除草剤 | |
| JPH0285262A (ja) | 除草剤及びその有効成分となる新規なアルカン酸誘導体 | |
| JP3055268B2 (ja) | ウラシル誘導体および除草剤 | |
| JP2696252B2 (ja) | シクロヘキサンカルボン酸誘導体並びにそれを含有する除草剤及び植物生長調節剤 | |
| JPH0739397B2 (ja) | ピリダジノン誘導体および害虫防除剤 | |
| JP3064371B2 (ja) | ベンゾオキサジルウラシル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 | |
| JP3177288B2 (ja) | ２−オキソ−３−ピロリン誘導体及び除草剤 | |
| JPH01275565A (ja) | 置換キノリン系化合物、それらの製造方法及びそれらを有効成分として含有する除草剤 | |
| JPS6229433B2 (ja) | ||
| JP3498331B2 (ja) | セミカルバゾン誘導体 | |
| JPH03200772A (ja) | アルカン酸アミド誘導体及び除草剤 | |
| JPS62106084A (ja) | 農園芸用殺菌剤 | |
| JP2007182456A (ja) | 環状アミド誘導体及び除草剤 | |
| JPH11263776A (ja) | ピリジルオキシ（チオ）アルカン酸アミド誘導体及び農園芸用殺菌剤 | |
| JPH05221972A (ja) | ２−（２−オキソ−３−ピロリン−１−イル）イソ酪酸誘導体及び除草剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20041025 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20041202 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041216 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041217 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3632947 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080107 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090107 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100107 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120107 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120107 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120107 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130107 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| R153 | Grant of patent term extension |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R153 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130107 Year of fee payment: 8 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| R153 | Grant of patent term extension |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R153 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130107 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130107 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |