JP2007182456A - 環状アミド誘導体及び除草剤 - Google Patents

環状アミド誘導体及び除草剤 Download PDF

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Atsushi Shibayama
淳 柴山
Mikio Yamaguchi
幹夫 山口
Katsutada Yanagisawa
克忠 柳沢
Yasunori Ogawa
安則 小川
Hideo Sadohara
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Abstract

【課題】 本発明は、作物と雑草に同時に施用しても、作物に対して害を与えずに雑草のみを枯殺する選択作用を有する除草を提供する。
【解決手段】 一般式[I]
【化1】
Figure 2007182456

{式中、−A−B−は基−N−CH(CH)−、基−N−O−又は基−C=C(CH)−などを表し、Xは、ハロゲン原子又はアルキル基などを表し、mは1又は2の整数を表し、nは1〜3の整数を表し、Rは式−CORなどを表し、Rはアルキル基、アルコキシ基又はベンジルオキシ基などを表す。}で示される環状アミド誘導体及びこれを有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
【選択図】なし

Description

本発明は、環状アミド誘導体及びこれを有効成分として含有する除草剤に関するものである。
これまで、環状アミド誘導体で除草活性を有するものがいくつか知られている。例えば特開平3−204855号公報明細書記載の環状アミド誘導体、特開平3−176475号公報明細書記載の環状尿素誘導体、特開平5−221972号公報明細書記載の2−(2−オキソ−3−ピロリン−1−イル)イソ酪酸誘導体、特開平5−221973号公報明細書記載の2−オキソ−3−ピロリン誘導体及び特開平4−89485号公報明細書記載の1,3−オキサジン−4−オン誘導体などが除草剤として有効であることが記載されている。
特開平3−204855号公報 特開平3−176475号公報 特開平5−221972号公報 特開平5−221973号公報 特開平4−89485号公報
近年、特に有効作物と雑草に同時に施用しても、作物に対して害を与えずに雑草のみを枯殺する選択作用を有する除草剤が強く要望されている。
又、環境中に薬剤が過剰に残留することを防止するために低薬量で使用できる薬剤の開発が望まれている。
本発明者らは上記の目的を達成するために数多くの環状アミド誘導体を合成し、それらの有用性について種々検討した。その結果、我々が合成した環状アミド誘導体が上記の目的に適う優れた除草活性と選択性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、一般式[I]
Figure 2007182456
{式中、−A−B−は基−N−CH(CH)−、基−N−N(CH)−、基−N−O−、基−C=C(CH)−、基−N−CH−又は−C=C(CH)−O−を表し、Xは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメチルアミノ基を表し、mは1又は2の整数を表し、nは1〜3の整数を表し、Rは式
Figure 2007182456
[式中、Yは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基、フェニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメチルアミノ基を表し、kは1〜5の整数を表し、Rは式
Figure 2007182456
[式中、Y及びkは前記と同一の意味を表し、Zは硫黄原子、酸素原子又は式−NR(式中、Rは水素原子、アルキル基又はハロアルキル基を表す。)を表し、Dは窒素原子又は式−CR(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメチルアミノ基を表す。)を表す。]を表し、Rはアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基(該基はハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていても良い)、シクロアルキルアルキル基、ハロシクロアルキルアルキル基、シクロアルケニル基、アルコキシアルキル基又は式−R(式中、Rは前記と同一の意味を表す。)を表す。]を表す。但し、−A−B−が基−C=C(CH)−又は基−N−CH−を表す場合、Rは式
Figure 2007182456
[式中、Y、k及びRは前記と同一の意味を表す。但し、RがYk(Y及びkは前記と同一の意味を表す。)の置換基を持つフェニル基の場合、nは整数3を表す。Rはハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基(該基はハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていても良い)、シクロアルキルアルキル基、ハロシクロアルキルアルキル基、シクロアルケニル基、アルコキシアルキル基又は式−R(式中、Rは前記と同一の意味を表す。)を表す。]を表し、−A−B−が基−C=C(CH)−O−を表す場合、m及びnは共に整数1を表し、Rは式−CONHR(式中、Rは前記と同一の意味を表す。)を表し、又、−A−B−が基−N−CH(CH)−を表し、Xが水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロアルキル基を表し、mが整数1を表し、nが整数2を表し、RがYk置換基を有するフェニル基、−CONHR又は−COR〔Yは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基又はハロアルコキシ基を表し、kは1〜5の整数を表し、Rはアルコキシ基を表す。]を表す場合には、Rは前記と異なり、Yk置換基を有するフェニル基、Yk置換基を有するチアゾール基、又はYk置換基を有するベンゾチアゾール基(Y及びkは前記RにおけるYkと同一の意味を表す。)を表し、更に、前記いずれの場合においても、式〔I]で表される化合物において、Xが水素原子又は2−フルオロ基、kが1であり、−A−B−が基−C=(CH)−を表し、nが1であり、Rが−CO(シクロプロピル)で表される化合物を除く。}で示される環状アミド誘導体、及びこれを有効成分として含有する除草剤である。
一般式[I]で表される本発明の化合物は、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草を低薬量で防除することができる。同時にイネに対して高い安全性を有するものである。また畑地において問題となる種々の雑草、例えばヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生及び一年生カヤツリグサ科雑草、オオイネタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ等の広葉雑草に対し、土壌処理及び茎葉処理で優れた除草活性を示し、雑草の発生前から生育期の広い期間にわたって雑草の発生を抑制することができる。そして作物に対する安全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ及びビート等に対して高い安全性を示す。
尚、本明細書において、アルキル基とは、炭素数が1〜6の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、3,3−ジメチルブチル基等を挙げることができる。
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシル基及びアルキルスルホニル基とは、それぞれアルキル部分が上記の意味を示すアルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニル基及びアルキルスルホニル基である。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
ハロアルキル基とは、ハロゲン原子によって置換されたアルキル基を示し、例えばジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等を挙げることができる。
シクロアルキル基とは、炭素数が3〜7のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味を示すハロアルキルオキシ基であり、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
アルケニル基とは、炭素数が2〜6の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等を挙げることができる。
ハロアルケニル基とは、ハロゲン原子によって置換されたアルケニル基を示す。
アルキニル基とは、炭素数が2〜6の直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、3,3−ジメチル−1−ブチニル基、4−メチル−1−ペンチニル基、3−メチル−1−ペンチニル基等を挙げることができる。
次に、一般式[I]で表される本発明化合物を表1〜表12に記載する。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
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次に一般式[I]で示される本発明化合物は、例えば以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。
<製造法1>
Figure 2007182456
(式中、X、m及びR2は前記と同じ意味を表す。)
まず、式[II−1]で表される2−アミノイソ酪酸をベンジルアルコールとp−トルエンスルホン酸存在下にて反応させて、式[II−2]で表される2−アミノイソ酪酸ベンジルエステルを製造することができる。
溶媒として、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などの含塩素炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケトン類、メタノール、エタノールなどのアルコール類又はアセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)などの非プロトン性極性溶媒などを使用することができる(以下、製造法1−1溶媒と称す)。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度の範囲で行い、1〜24時間で終了する。
次に、得られた式[II−2]で表される2−アミノイソ酪酸ベンジルエステルとモノクロロアセトンとを塩基の存在下反応させて、式[II−3]で表される化合物を製造することができる<実施例(a)に記載>。
塩基として、例えばトリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの有機アミン類又は水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基を使用することができる(以下、製造法1塩基と称す。)。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は窒素雰囲気下、室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた式[II−3]で表される化合物と置換フェニル酢酸クロリドとを塩基の存在下反応させ、一般式[II−4]で表される化合物を製造することができる<実施例(b)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は−15℃から60℃の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[II−4]で表される化合物を塩基の存在下、分子内縮合環化させ、一般式[II−5]で表される化合物を製造することができる。
塩基として、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどの金属アルコキシド類、又はトリエチルアミン、DBU、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの有機アミン類などを使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜10時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式[II−5]で表される化合物をアルカリ加水分解することによって、一般式[II−6]で表される化合物を得ることができる<実施例(c)に記載>。
塩基として、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使用できる。溶媒として、例えばジオキサン、メタノール、エタノールなどの加水分解を受けない水溶性の溶媒又は水を使用することができる。反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜10時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製することができる。
次に、一般式[II−6]で表される化合物に、塩基の存在下又は非存在下、ペプチド化剤を反応させた後、一般式[II−7]で表される化合物又はその塩と反応させ、一般式[II]で表される本発明化合物を製造することができる<実施例(d)に記載>。
ペプチド化剤として、例えば2−クロロ−1−メチルピリジニウムヨージド、ジフェニルホスホリルアジド、トリフェニルホスフィン、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、カルボニルジイミダゾール又は1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどが挙げられる。塩基として、例えばトリエチルアミン、DBU、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの有機アミン類などを使用することができる。溶媒として、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などの含塩素炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケトン類又はアセトニトリル、DMF、DMACなどの非プロトン性極性溶媒などを使用することができる(以下、製造法1−2溶媒と称す。)。上記の反応は−10℃から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
<製造法2>
Figure 2007182456
(式中、X、m及びR2は前記と同じ意味を表し、Qは水素原子又はメチル基を表す。)
まず、式[III−1]で表される2−アミノイソ酪酸エチルエステル塩酸塩を塩基の存在下、メチルビニルケトン又はアクロレインと反応させて、一般式[III−2]で表される化合物を製造することができる<実施例(e)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は窒素雰囲気下、室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[III−2]で表される化合物と一般式[III−3]で表される化合物とを反応させて、一般式[III−4]で表される化合物を製造することができる。
溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[III−4]で表される化合物を塩基の存在下にて反応させた後、脱水反応を行ない、一般式[III−5]で表される化合物を製造することができる<実施例(f)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[III−5]で表される化合物を触媒の存在下接触還元を行ない、一般式[III−6]で表される化合物を製造することができる<実施例(g)に記載>。
触媒として、例えばパラジウム炭素、ラネーニッケルなどが挙げられる。溶媒として、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケトン類、メタノール、エタノールなどのアルコール類又はアセトニトリル、DMF、DMACなどの非プロトン性極性溶媒などを使用することができる(以下、製造法2−1溶媒と称する)。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜10時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式[III−6]で表される化合物をアルカリ加水分解することによって、一般式[III−7]で表される化合物を得ることができる<実施例(h)に記載>。
塩基として、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使用できる。溶媒として、例えばジオキサン、メタノール、エタノールなどの加水分解を受けない水溶性の溶媒又は水を使用することができる。反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜10時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製することができる。
次に、一般式[III−7]で表される化合物に、塩基の存在下又は非存在下、ペプチド化剤と反応させた後、一般式[III−8]で表される化合物と反応させ、一般式[III]で表される本発明化合物を製造することができる<実施例(i)に記載>。
ペプチド化剤として、実施例1で使用したものを同様に使用することができる。塩基として、例えばトリエチルアミン、DBU、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの有機アミン類などを使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−2溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
<製造法3>
Figure 2007182456
(式中、X、Y、m及びkは前記と同じ意味を表す。)
一般式[IV−1]で表されるアミン化合物をメチルビニルケトンと反応させて、一般式[IV−2]で表される化合物を製造することができる。
本反応は無溶媒でも行なうことができる<実施例(j)に記載>が、溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は窒素雰囲気下、室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[IV−2]で表される化合物と一般式[IV−3]で表される化合物とを反応させて、一般式[IV−4]で表される化合物を製造することができる<実施例(k)に記載>。
溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[IV−4]で表される化合物を塩基の存在下にて反応させた後、脱水反応を行ない、一般式[IV−5]で表される化合物を製造することができる<実施例(k)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度から60℃の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[IV−5]で表される化合物を触媒の存在下接触還元を行ない、一般式[IV]で表される本発明化合物を製造することができる<実施例(l)に記載>。
触媒として、例えばパラジウム炭素、ラネーニッケルなどが挙げられる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜10時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
<製造法4>
Figure 2007182456
(式中、X、Y、m及びkは前記と同じ意味を表す。)
一般式[V−1]で表される化合物をクロロ炭酸メチルと反応させて、一般式[V−2]で表される化合物を製造することができる<実施例(m)に記載>。
溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は窒素雰囲気下、室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[V−2]で表される化合物とヨウ化メチルとを塩基の存在下にて反応させて、一般式[V−3]で表される化合物を製造することができる<実施例(n)に記載>。
塩基として、例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基又はトリエチルアミン、DBU、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの有機アミン類を使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[V−3]で表される化合物を酸の存在下、加水分解反応を行ない、一般式[V−4]で表される化合物を製造することができる<実施例(o)に記載>。
酸として、例えば硫酸、塩酸などを使用することができる。溶媒として、例えば水、メタノール、エタノールなどのアルコール類などを使用することができる。上記の反応は室温の温度から沸点の範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[V−4]で表される化合物とクロロアセチルクロリドとを塩基の存在下反応させて、一般式[V−5]で表される化合物を製造することができる<実施例(p)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜10時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、得られた一般式[V−5]で表される化合物と一般式[V−6]で表される化合物とを塩基の存在下にて反応させて、一般式[V−7]で表される化合物を製造することができる<実施例(q)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[V−7]で表される化合物をアルカリ加水分解することによって、一般式[V−8]で表される化合物を得ることができる<実施例(r)に記載>。
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使用できる。溶媒としては、例えばジオキサン、メタノール、エタノールなどの加水分解を受けない水溶性の溶媒又は水を使用することができる。反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜10時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製することができる。
次に、得られた一般式[V−8]で表される化合物とリチウムアルミニウムヒドリドを反応させて、一般式[V−9]で表される化合物を製造することができる<実施例(s)に記載>。
溶媒として、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類などを使用することができる。上記の反応は、窒素雰囲気下、室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[V−9]で表される化合物とホスゲンとを塩基の存在下反応させて、一般式[V]で表される本発明化合物を製造することができる<実施例(t)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用できる。溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜10時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
<製造法5>
Figure 2007182456
(式中、X、Y、m、n及びkは前記と同じ意味を表し、L1及びL2はハロゲン原子を表す。)
一般式[VI−1]で表されるヒドロキシアミン誘導体を一般式[VI−2]で表されるイソシアネート化合物と反応させて、一般式[VI−3]で表される化合物を製造することができる<実施例(u)に記載>。
溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[VI−3]で表される化合物を塩基の存在下、一般式[VI−4]で表されるジハロゲン化物と反応させ、一般式[VI]で表される本発明化合物を製造することができる<実施例(v)及び実施例(w)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、水又は前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
<製造法6>
Figure 2007182456
(式中、X、m及びR3は前記と同じ意味を表す。)
一般式[VII−1]で表されるアルデヒド化合物を一般式[VII−2]で表されるグリニャール化合物又は[VII−3]で表されるリチウム化合物と反応させて、一般式[VII−4]で表される化合物を製造することができる<実施例(x)に記載>。
溶媒として、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類を使用することができる。上記の反応は、窒素雰囲気下、−30℃から溶媒の沸点の温度の範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[VII−4]で表される化合物を塩基の存在下ジメチルスルホキシド(DMSO)とオキザリルクロリドと反応させ、一般式[VII]で表される本発明化合物を製造することができる<実施例(x)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などの含塩素炭化水素類を使用することができる。上記の反応は−70℃から沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
<製造法7>
Figure 2007182456
(式中、X、m、Y、k、L1及びL2は前記と同じ意味を表す。)
一般式[VIII−1]で表される化合物と一般式[VIII−2]で表される化合物とを反応させて、一般式[VIII−3]で表される化合物を製造することができる<実施例(y)に記載>。
溶媒として、前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
次に、得られた一般式[VIII−3]で表される化合物を塩基の存在下、一般式[VIII−4]で表されるジハロゲン化物と反応させ、一般式[VIII]で表される本発明化合物を製造することができる<実施例(y)に記載>。
塩基として、前記(製造法1塩基)のものを同様に使用することができる。溶媒として、水又は前記(製造法1−1溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は氷冷下の温度から溶媒の沸点の温度範囲で行い、1〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。
<製造法8>
Figure 2007182456
(式中、X、Y、m及びkは前記と同じ意味を表す。)
一般式[IX−1]で表される化合物に、塩基の存在下又は非存在下、ペプチド化剤を反応させた後、一般式[IX−2]で表される化合物又はその塩と反応させ、一般式[IX]で表される本発明化合物を製造することができる。<実施例(z)に記載>ペプチド化剤として、実施例1で使用したものを同様に使用することができる。塩基として、例えばトリエチルアミン、DBU、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの有機アミン類などを使用することができる。溶媒として、前記(製造法1−2溶媒)のものを同様に使用することができる。上記の反応は室温から溶媒の沸点の温度範囲で行い、0.5〜24時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により得ることができる。又、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化合物の中間体又は前駆体の合成例も合わせて記載する。
<製造法1の実施例>
(a)2−(2−オキソプロピルアミノ)イソ酪酸ベンジル(化合物[II−3])の製造
2−アミノイソ酪酸ベンジル84.4g(0.437mol)をDMF400mlに溶解し、トリエチルアミン88.4g(0.874mol)及びクロロアセトン60.6g(0.655mol)を加え、90℃で2時間撹拌した。放冷後、反応混合物を水中にあけ、エーテルで2回抽出した。常法により処理して、目的物89.1g(収率82%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.3 (6H,s)
2.0 (3H,s)
2.4 (1H,bs)
3.4 (2H,s)
5.1 (2H,s)
7.3 (5H,s)
(b)2−[N−(2−オキソプロピル)−N−フェニルアセチルアミノ]イソ酪酸ベンジル(化合物[II−4])の製造
2−(2−オキソプロピルアミノ)イソ酪酸ベンジル89.1g(0.357mol)をアセトン500mlに溶解し、これに炭酸カリウム59.3g(0.429mol)を加えた。この溶液にフェニル酢酸クロリド60.8g(0.393mol)を−10℃で滴下した。滴下終了後、−10℃で1時間撹拌した後、室温で一晩放置した。溶媒を留去し、残渣にエーテルを加えよく水洗いし、常法により処理して、目的物114.5g(収率87%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.4 (6H,s)
2.1 (3H,s)
3.5 (2H,s)
4.1 (2H,s)
5.1 (2H,s)
7.2 (5H,bs)
7.3 (5H,s)
(c)2−(4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−3−ピロリン−1−イル)イソ酪酸(化合物[II−6])の製造
2−[N−(2−オキソプロピル)−N−フェニルアセチルアミノ]イソ酪酸ベンジル114.5g(0.312mol)をエタノール500mlに溶解し、これに95%ナトリウムメトキシド粉末17.7g(0.312mol)を加え、室温で一晩放置した。反応液に、水酸化ナトリウム18.7g(0.468mol)と水150mlを加え、1時間加熱還流した。エタノールを留去後、残渣を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。水層をとり、塩酸にてpH2〜3とした。析出結晶をろ別し、よく水洗いした後、イソプロピルエーテルで洗浄し、目的物47.1g(収率58%)を得た。
(d)N−(5−クロロ−4−トリフルオロメチルチアゾール−2−イル)−2−(4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−3−ピロリン−1−イル)−イソ酪酸アミド(本発明化合物番号1)の製造
2−(4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−3−ピロリン−1−イル)イソ酪酸1.0g(3.9mmol)をアセトニトリル30mlに溶解し、2−クロロ−1−メチルピリジニウムヨージド1.08g(4.2mmol)及びトリエチルアミン1.17g(11.6mmol)を加え、室温で0.5時間撹拌した。この反応液に、2−アミノ−5−クロロ−4−トリフルオロメチルチアゾール0.79g(3.9mmol)とトリエチルアミン0.39g(3.9mmol)のアセトニトリル溶液を室温で滴下した後、加熱還流下、17時間撹拌した。反応終了後、この反応液を放冷し、アセトニトリルを留去した後、残渣を水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。常法により処理し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1→2:1)で精製し、融点217〜219℃の目的物0.60g(収率34%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.7 (6H,s)
2.2 (3H,s)
4.0 (2H,s)
7.3 (5H,s)
9.9〜10.1 (1H,b)
<製造法2の実施例>
(e)2−(3−オキソブチルアミノ)イソ酪酸エチル(化合物[III−2])の製造
2−アミノイソ酪酸エチル塩酸塩5.00g(29.8mmol)にアセトニトリル30mlを加えて撹拌し、これにトリエチルアミン3.02g(29.8mmol)を加え、30分間撹拌した。次に窒素雰囲気下、メチルビニルケトン2.19g(31.3mmol)を加え、室温で24時間撹拌した。エーテルを加えて不溶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮し、目的物6.00g(収率100%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.0〜1.4 (10H,m)
2.2 (3H,s)
2.7 (4H,m)
4.1 (2H,q)
(f)2−(4−メチル−3−フェニル−2−オキソ−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル)イソ酪酸エチル(化合物[III−5])の製造
2−(3−オキソブチルアミノ)イソ酪酸エチル6.00g(29.8mmol)をジクロロメタン20mlに溶解し、これにフェニルイソシアネート3.55g(29.8mmol)を滴下して30分間撹拌した。溶媒を留去し、残渣をエタノール30mlに溶解し、25%水酸化ナトリウム水溶液を滴下してpH8とし一晩撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて中和した後、溶媒を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチルで抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾操した後、溶媒を減圧濃縮した。残渣をベンゼン20mlに溶解し、さらにディ−ンスタ−ク(脱水反応用ガラス器具)を付して、12時間加熱還流した。室温まで冷却した後、反応混合液をろ過し、ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製し、目的物2.93g(収率33%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.1 (3H,d)
1.2 (3H,t)
1.5 (6H,s)
4.0 (2H,m)
4.1 (2H,q)
4.7 (1H,m)
7.2 (5H,m)
(g)2−(4−メチル−3−フェニル−2−オキソペルヒドロピリミジン−1−イル)イソ酪酸エチル(化合物[III−6])の製造
2−(4−メチル−3−フェニル−2−オキソ−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル)イソ酪酸エチル2.75g(9.09mmol)をエタノール20mlに溶解し、窒素雰囲気下、10%パラジウム炭素0.20gを加えた後、水素ガスにて接触還元反応を行なった。反応混合液をろ過し、ろ液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1)で精製し、屈折率(20℃)1.5249の目的物1.44g(収率52%)を得た。
(h)2−(4−メチル−3−フェニル−2−オキソペルヒドロピリミジン−1−イル)イソ酪酸(化合物[III−7])の製造
2−(4−メチル−3−フェニル−2−オキソペルヒドロピリミジン−1−イル)イソ酪酸エチル1.27g(4.17mmol)をエタノール15mlに溶解し、25%水酸化ナトリウム3.35g(20.9mmol)を加えて1時間加熱還流した。冷却後、溶媒を減圧濃縮し、残渣を水20mlに溶解し、濃塩酸でpH1とした。析出した結晶をろ別して、融点200〜202℃の目的物0.87g(収率75%)を得た。
(i)N−(5−クロロ−4−トリフルオロメチルチアゾール−2−イル)−2−(4−メチル−2−オキソ−3−フェニルペルヒドロピリミジン−1−イル)イソ酪酸アミド(本発明化合物番号72)の製造
2−(4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−ペルヒドロピリミジン−1−イル)イソ酪酸0.50g(1.8mmol)をアセトニトリル20mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.82g(8.2mmol)を滴下した後、さらに2−クロロ−1−メチルピリジニウムヨージド0.51g(2.0mmol)を加えて1時間撹拌した。その後トリエチルアミン0.18g(1.8mmol)及び2−アミノ−5−クロロ−4−トリフルオロメチルチアゾール0.34g(1.8mmol)を加え、室温で一晩放置した。溶媒を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、1N−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾操した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製し、融点87〜90℃の目的物0.51g(収率61%)を得た。
<製造法3の実施例>
(j)N−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−N−(3−オキソブチル)アミン(化合物[IV−2])の製造
3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミン10g(49mmol)にメチルビニルケトン3.4g(49mmol)を加え、窒素雰囲気下、24時間放置して、目的物13.4g(収率100%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.4 (6H,s)
1.7 (1H,b)
2.1 (3H,s)
2.5 (4H,s)
7.1〜7.4 (3H,m)
(k)1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−4−メチル−3−フェニル−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−2−オン(前駆体番号4;表15参照)の製造
実施例(j)で得られたN−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−N−(3−オキソブチル)アミン6.58g(24mmol)をジクロロメタン100mlに溶解し、室温でフェニルイソシアネート2.86g(24mmol)を滴下した後、1時間撹拌した。溶媒を減圧下にて留去し、残渣をエタノール50mlに溶解し、25%水酸化ナトリウム水溶液を滴下してpH8に調整し、一晩撹拌した。塩化アンモニウム水溶液を加え中和した後、溶媒を減圧下にて留去し、残渣を酢酸エチルで抽出し、常法により処理した後、溶媒を減圧下にて留去した。更に、この残渣をベンゼン50mlに溶解し、ディーンスタークを付して10時間加熱還流し、脱水反応を行なった。反応終了後、放冷し、反応液を減圧下にて濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製し、融点147〜148℃の目的物2.88g(収率32.4%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.5 (3H,d)
1.6 (6H,s)
3.9〜4.1 (2H,m)
4.7〜4.9 (1H,m)
7.1〜7.3 (8H,m)
(k)と同様の操作を行い、得られた前駆体の具体例を表15に示す。
Figure 2007182456
(l)1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−4−メチル−2−オキソ−3−フェニルペルヒドロピリミジン(本発明化合物番号81)の製造
1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン0.62g(1.7mmol)をメタノール40mlに溶解し、窒素雰囲気下、10%パラジウム炭素0.1gを加えた後、水素ガスにて接触還元反応を行なった。反応後、パラジウム炭素をろ別し、メタノールを減圧下にて留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製し、融点111〜113℃の目的物0.22g(収率34%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.2 (3H,d)
1.6 (6H,s)
1.8〜2.3 (2H,m)
3.4〜3.7 (2H,m)
3.8〜4.1 (1H,m)
7.0〜7.2 (8H,m)
<製造法4の実施例>
(m)1−アセチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン(化合物[V−2])の製造
1−アセチル−2−フェニルヒドラジン113.2g(754mmol)をトルエン500mlに溶解し、加熱還流下、クロロ炭酸メチル71.3g(754mmol)を徐々に滴下した。滴下終了後、更に2時間還流させた。反応終了後、溶媒を留去し、析出した結晶をイソプロピルアルコール、n−ヘキサンで洗浄し、目的物148.2g(収率94.4%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
2.0 (3H,s)
3.7 (3H,s)
7.1〜7.4 (5H,m)
10.0〜10.2 (1H,b)
(n)1−アセチル−1−メチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン(化合物[V−3])の製造
実施例(m)で得た1−アセチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン70g(336mmol)をDMF500mlに溶解し、60%水素化ナトリウム14.8g(370mmol)のDMF懸濁液に滴下した後、室温で1時間撹拌した。この反応液にヨウ化メチル47.7g(336mmol)を滴下し室温で2時間撹拌した。反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽出し、2N−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、及び飽和食塩水で洗浄し、常法により処理し、目的物54.0g(収率72.4%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
2.0 (3H,s)
3.1 (3H,s)
3.8 (3H,s)
7.2〜7.3 (5H,m)
(o)1−メチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン(化合物[V−4])の製造
実施例(n)で得た1−アセチル−1−メチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン54g(243mmol)を10%硫酸300mlに懸濁させ、4時間加熱還流させた。反応終了後、氷水にあけ10%水酸化ナトリウム水溶液で中性に調整し、酢酸エチルで抽出した。常法により処理し、目的物22.7g(収率52.0%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
2.6 (3H,s)
3.8 (3H,s)
4.6〜5.1 (1H,b)
7.1〜7.5 (5H,m)
(p)1−クロロアセチル−1−メチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン(化合物[V−5])の製造
実施例(o)で得た1−メチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン25.5g(141mmol)をジクロロメタン200mlに溶解し、トリエチルアミン14.3g(141mmol)を加え、氷冷下、クロロアセチルクロリド16.0g(141mmol)を徐々に滴下した後、室温で3時間撹拌した。反応終了後、氷水にあけジクロロメタンで抽出し、常法により処理した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製し、目的物31.2g(収率86.2%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
3.2 (3H,s)
3.8 (3H,s)
4.1 (2H,s)
7.1〜7.3 (5H,m)
(q)1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミノアセチル)−1−メチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン(化合物[V−7])の製造
実施例(p)で得た1−クロロアセチル−1−メチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン6.9g(27mmol)をDMF100mlに溶解し、トリエチルアミン2.74g(27mmol)及び3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミン5.51g(27mmol)を加え70℃で11時間撹拌した。反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。常法により処理し、目的物9.5g(収率83%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.4 (6H,s)
2.7〜2.9 (1H,b)
3.1 (3H,s)
3.3 (2H,s)
3.8 (3H,s)
6.8〜7.3 (8H,m)
(r)1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミノアセチル)−1−メチル−2−フェニルヒドラジン(化合物[V−8])の製造
実施例(q)で得た1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミノアセチル)−1−メチル−2−メトキシカルボニル−2−フェニルヒドラジン9.5g(22mmol)をメタノール/水(50ml/50ml)に溶解し、氷冷下、水酸化ナトリウム0.88g(22mmol)を加えた後、室温で24時間撹拌した。反応終了後、メタノールを留去した後、2N塩酸で酸性にし、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でアルカリ性にした後、酢酸エチルで抽出した。常法により処理し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1→1:2)で精製し、融点127〜128℃の目的物1.77g(収率22.0%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.4 (6H,s)
2.5〜2.8 (1H,b)
3.1 (3H,s)
3.3 (2H,s)
5.4〜5.7 (1H,b)
6.4〜7.4 (8H,m)
(s)1−[2−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミノ)エチル]−1−メチル−2−フェニルヒドラジン(化合物[V−9])の製造
リチウムアルミニウムヒドリド0.31g(8.2mmol)を加えたテトラヒドロフラン懸濁液に、実施例(r)で得た1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミノアセチル)−1−メチル−2−フェニルヒドラジン1.5g(4.1mmol)のテトラヒドロフラン50ml溶液を室温で滴下した後、加熱還流下、4時間撹拌した。反応終了後、この反応溶液を放冷し、水を徐々に加え、ろ過した後、酢酸エチルで抽出した。常法により処理し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製し、目的物0.89g(収率62%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.9 (6H,s)
2.5 (3H,s)
2.3〜2.8 (4H,m)
2.9〜3.8 (1H,b)
5.0〜5.7 (1H,b)
6.7〜7.4 (8H,m)
(t)4−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−1−メチル−3−オキソ−2−フェニルペルヒドロ−1,2,4−トリアジン(本発明化合物番号102)の製造
活性炭のジクロロメタン懸濁液にジホスゲン0.79g(4.0mmol)を滴下し、室温で1時間撹拌した。この反応液をろ別し、ろ液を1−[2−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミノ)エチル]−1−メチル−2−フェニルヒドラジン0.7g(2.0mmol)及びトリエチルアミン1.21g(12.0mmol)のジクロロメタン溶液に滴下し、室温で1時間撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、ジクロロメタンで抽出し、常法により処理した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製し、融点102〜103℃の目的物0.29g(収率38%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.7 (6H,s)
2.8 (3H,s)
3.3 (2H,t)
3.6 (2H,t)
7.0〜7.4 (8H,m)
<製造法5の実施例>
(u)1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−3−ヒドロキシ−3−フェニルウレア(化合物[VI−3])の製造
N−フェニルヒドロキシアミン1.2g(11.0mmol)をベンゼン30mlに溶解し、3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート3.84g(17.0mmol)を滴下し、室温にて1時間撹拌した。析出した結晶をろ別しn−ヘキサンで洗浄して、目的物3.01g(収率52.4%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.6 (6H,s)
6.3 (1H,b)
6.9 (1H,s)
7.1〜7.3 (8H,m)
(v)4−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−3−オキソ−2−フェニルー1,2,4−オキサジアゾリジン(本発明化合物番号115)の製造
1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−3−ヒドロキシ−3−フェニルウレア0.96g(2.8mmol)をDMF20mlに溶解し、これを60%水素化ナトリウム0.25g(6.1mmol)のDMF懸濁液に滴下した後、室温にて1時間撹拌した。この反応液にクロロブロモメタン0.42g(3.2mmol)のDMF溶液を滴下し、50℃で2時間撹拌した。反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽出し、常法により処理した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1→8:1)で精製し、融点102〜103℃の目的物70mg(収率7.1%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.7 (6H,s)
5.1 (2H,s)
7.0〜7.5 (8H,m)
(w)4−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−3−オキソ−2−フェニルペルヒドロ−1,2,4−オキサジアジン(本発明化合物番号116)の製造
1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−3−ヒドロキシ−3−フェニルウレア1.0g(2.9mmol)をDMF20mlに溶解し、これを60%水素化ナトリウム0.25g(6.3mmol)のDMF懸濁液に滴下した後、室温にて1時間撹拌した。この反応液に1−クロロ−2−ブロモエタン0.62g(4.4mmol)のDMF溶液を滴下し、80℃で6時間撹拌した。反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽出し、常法により処理した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1→4:1)で精製し、融点125〜127℃の目的物0.15g(収率14%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.7 (6H,s)
3.6 (2H,t)
4.3 (2H,t)
7.0〜7.5 (8H,m)
<製造法6の実施例>
(x)1−[1−メチル−1−(2−テノイル)エチル]−4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−3−ピロリン(本発明化合物番号130)の製造2−(4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−3−ピロリン−1−イル)イソブチルアルデヒド2.0g(8.2mmol)をテトラヒドロフラン50mlに溶解し、窒素雰囲気下、室温で2−ブロモチオフェン2.7g(17mmol)とマグネシウム0.5g(21mmol)より調整した溶液を滴下した。一晩放置した後、反応液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。常法により処理して、2.5gの油状物を得た。次に、オキザリルクロリド1.1g(8.7mmol)のジクロロメタン30ml溶液に、−60℃でジメチルスルホキシド0.7g(9.0mmol)のジクロロメタン1ml溶液を滴下し、−60℃で5分撹拌した。続いて、上記油状物のジクロロメタン20ml溶液を−60℃で滴下した。滴下後、30分撹拌し、さらにトリエチルアミン4.0g(40mmol)を滴下した。滴下後、徐々に室温に戻した後、溶媒を留去し、酢酸エチルで抽出した。常法により処理して、融点188〜191℃の目的物0.5g(収率19%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.6 (6H,s)
2.3 (3H,s)
4.1 (2H,s)
7.0 (1H,m)
7.2〜7.5 (6H,m)
7.8 (1H,dd)
<製造法7の実施例>
(y)1−(3−クロロ−α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニル−1,3−ペルヒドロジアゼピン−2−オン(本発明化合物番号209)の製造
反応フラスコに3−クロロ−α,α−ジメチルベンジルアミン1.69g及びイソプロピルエーテル10mlを入れ、室温にてフェニルイソシアネート1.19gを加え、室温にて2時間撹拌した。反応終了後、析出した結晶をろ取し、1−(3−クロロ−α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニルウレア2.70g(収率94%)を得た。
次に、得られた1−(3−クロロ−α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニルウレア2.0g、DMF15ml、60%水素化ナトリウムを反応フラスコに入れ、室温で30分間撹拌した後、1,4−ジクロロブタン0.88gを加え、室温にて1時間撹拌した。さらに90℃にて2時間撹拌した。反応終了後、反応液を減圧濃縮し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製し、目的物 0.90g(収率38%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.70 (6H,s)
1.67 (4H,m)
3.16 (2H,m)
3.78 (2H,m)
7.00〜7.50(9H,m)
<製造法8の実施例>
(z)N−(チアゾール−2−イル)−2−〔6−メチル−4−オキソ−5−(2−フルオロ−フェニル)−2,3−ジヒドロ−4H−1,3−オキサジン−3−イル〕イソ酪酸アミド(本発明化合物番号218)の製造
2−(6−メチル−4−オキソ−5−フェニル−2,3−ジヒドロ−4H−1,3−オキサジン−3−イル)イソ酪酸1.00g(3.41mmol)にアセトニトリル40mlを加え、これにトリエチルアミン1.38g(13.6mmol)を滴下し、さらに2−クロロ−1−メチルピリジニウムヨージド0.96g(3.75mmol)を加えて1時間撹拌した。その後トリエチルアミン0.34g(3.41mmol)及び2−アミノチアゾール0.34g(3.41mmol)を加え、室温で一晩放置した。溶媒を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、1N−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾操させた。溶媒を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製し、融点163〜164℃の目的物0.84g(収率66%)を得た。
NMRデ−タ(60MHz,CDCl溶媒,δ値:ppm)
1.6 (6H,s)
1.9 (3H,s)
5.3 (2H,s)
6.8〜7.4 (6H,m)
9.9 (1H,bs)
本発明の除草剤は、一般式[I]で示される環状アミド誘導体を有効成分としてなる。本発明化合物を除草剤として使用するには本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤等に製剤して使用することもできる。
製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩ホルマリン縮合物、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用する。
本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用または水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤または粒剤とする場合は0.05〜20%(重量)、好ましくは0.1〜10%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は0.5〜50%(重量)、好ましくは1〜30%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、有効成分として10アール当り0.1g〜1kg、好ましくは1g〜500gの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合のように液状で使用する場合は、0.1〜50,000ppm、好ましくは10〜10,000ppmの範囲から適宜選ぶのがよい。
また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
〈製剤例1〉 水和剤
化合物(129)の10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の20部、クレーの69部を混合粉砕し、水和剤を得る。
〈製剤例2〉 水和剤
化合物(81)の10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の20部、ホワイトカーボンの5部、クレーの64部を混合粉砕し、水和剤を得る。
〈製剤例3〉 水和剤
化合物(84)の10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の20部、ホワイトカーボンの5部、炭酸カルシウムの64部を混合粉砕し、水和剤を得る。
〈製剤例4〉 乳剤
化合物(85)の30部にキシレンとイソホロンの等量混合物60部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の10部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得る。
〈製剤例5〉 粒剤
化合物(207)の10部、タルクとベントナイトを1:3の割合の混合した増量剤の80部、ホワイトカーボンの5部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の5部に水10部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径0.7mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に0.5〜1mmの長さに切断し、粒剤を得る。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
〈試験例1〉 水田湛水処理による除草効果試験
100cmのプラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ(Ec)、コナギ(Mo)及びホタルイ(Sc)の各種子を播種し、水深3cmに湛水した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面に滴下処理した。施用量は、有効成分を10アール当り100gとした。その後、温室内で育成し、処理後21日目に表16の基準に従って除草効果を調査した。結果を表17〜表21に示す。
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
〈試験例2〉 畑地土壌処理による除草効果試験
120cmプラスチックポットに砂を充填し、ヒエ(Ec)、メヒシバ(Di)、アオビユ(Am)、コゴメガヤツリ(Ci)の各種子を播種して覆土した。製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、10アール当り有効成分が100gになる様に、10アール当り100lを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理21日目に表16の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表22〜表26に示す。
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
〈試験例3〉 畑地茎葉処理による除草効果試験
120cmプラスチックポットに砂を充填し、ヒエ(Ec)、メヒシバ(Di)、アオビユ(Am)、コゴメガヤツリ(Ci)の各種子を播種し、温室内で2週間育成後、製剤例1に準じて調製した水和剤を水に希釈し、10アール当り有効成分が100gになる様に、10アール当り100lを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理14日目に表16の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表27〜表28に示す。
Figure 2007182456
Figure 2007182456
〈試験例4〉 水田湛水処理による作物選択性試験
100cmのプラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ(Ec)、コナギ(Mo)及びホタルイ(Sc)の各種子を0.5cmの深さに播種し、さらに2葉期の水稲(Or)を移植深度2cmで2本移植し、水深3cmに湛水した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量(ai,g/10a)を水で希釈し、水面に滴下処理した。その後、温室内で育成し、処理後28日目に表16の基準に従って除草効果を調査した。結果を表29〜表34に示す。
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
Figure 2007182456
〈試験例5〉 畑地土壌処理による作物選択性試験
600cmプラスチックポットに砂を充填し、イネ(Or)、コムギ(Tr)、食用ビエ(Ec)、メヒシバ(Di)、エノコログサ(Se)、ジョンソングラス(So)の各種子を播種して覆土した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量(ai,g/10a)を水で希釈し、10アール当り散布水量100lで小型噴霧器を用いて土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理後21日目に表16の基準に従って除草効果を調査した。試験結果を表35に示す。
Figure 2007182456
〈試験例6〉 畑地土壌処理による作物選択性試験
600cmプラスチックポットに砂を充填し、ダイズ(Gl)、ワタ(Go)、ビート(Be)、食用ビエ(Ec)、メヒシバ(Di)、エノコログサ(Se)、ジョンソングラス(So)の各種子を播種して覆土した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量(ai,g/10a)を水で希釈し、10アール当り散布水量100lで小型噴霧器を用いて土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理後21日目に表16の基準に従って除草効果を調査した。試験結果を表36〜37に示す。
Figure 2007182456
Figure 2007182456
〈試験例7〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
600cmプラスチックポットに砂を充填し、ダイズ(Gl)、ワタ(Go)、ビート(Be)、食用ビエ(Ec)、メヒシバ(Di)、エノコログサ(Se)、ジョンソングラス(So)の各種子を播種して覆土し、温室内で2週間育成した。その後、製剤例1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量(ai,g/10a)を水で希釈し、10アール当り散布水量100lで小型噴霧器を用いて土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理後14日目に表16の基準に従って除草効果を調査した。試験結果を表38に示す。
Figure 2007182456

Claims (2)

  1. 一般式[I]
    Figure 2007182456

    {式中、−A−B−は基−N−CH(CH)−、基−N−N(CH)−、基−N−O−、基−C=C(CH)−、基−N−CH−又は−C=C(CH)−O−を表し、Xは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、ホルミル基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメチルアミノ基を表し、mは1又は2の整数を表し、nは1〜3の整数を表し、Rは式
    Figure 2007182456

    [式中、Yは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基、フェニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメチルアミノ基を表し、kは1〜5の整数を表し、Rは式
    Figure 2007182456

    [式中、Y及びkは前記と同一の意味を表し、Zは硫黄原子、酸素原子又は式−NR(式中、Rは水素原子、アルキル基又はハロアルキル基を表す。)を表し、Dは窒素原子又は式−CR(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はジメチルアミノ基を表す。)を表す。]を表し、Rはアルキル基、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ヒドロキシ基、ハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基(該基はハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていても良い)、シクロアルキルアルキル基、ハロシクロアルキルアルキル基、シクロアルケニル基、アルコキシアルキル基又は式−R(式中、Rは前記と同一の意味を表す。)を表す。]を表す。但し、−A−B−が基−C=C(CH)−又は基−N−CH−を表す場合、Rは式
    Figure 2007182456

    [式中、Y、k及びRは前記と同一の意味を表す。但し、RがYk(Y及びkは前記と同一の意味を表す。)の置換基を持つフェニル基の場合、nは整数3を表す。Rはハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基(該基はハロゲン原子もしくはアルキル基で置換されていても良い)、シクロアルキルアルキル基、ハロシクロアルキルアルキル基、シクロアルケニル基、アルコキシアルキル基又は式−R(式中、Rは前記と同一の意味を表す。)を表す。]を表し、−A−B−が基−C=C(CH)−O−を表す場合、m及びnは共に整数1を表し、Rは式−CONHR(式中、Rは前記と同一の意味を表す。)を表し、又、−A−B−が基−N−CH(CH)−を表し、Xが水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロアルキル基を表し、mが整数1を表し、nが整数2を表し、Rが式
    Figure 2007182456

    [式中、Yは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基又はハロアルコキシ基を表し、kは1〜5の整数を表し、Rはアルコキシ基を表す。]を表す場合には、Rは前記と異なり、式
    Figure 2007182456

    (式中、Y及びkは前記式((化5))と同一の意味を表す。)を表し、更に、前記いずれの場合においても、下記式
    Figure 2007182456

    (式中Xは水素原子又はフッ素原子を表す。)で表される化合物を除く。}で示される環状アミド誘導体。
  2. 請求項1に記載の環状アミド誘導体を有効成分として含有する除草剤。
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