JPH03204855A - 環状アミド誘導体および除草剤 - Google Patents

環状アミド誘導体および除草剤

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JPH03204855A
JPH03204855A JP1319620A JP31962089A JPH03204855A JP H03204855 A JPH03204855 A JP H03204855A JP 1319620 A JP1319620 A JP 1319620A JP 31962089 A JP31962089 A JP 31962089A JP H03204855 A JPH03204855 A JP H03204855A
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Atsuhiko Ikeda
篤彦 池田
Kenji Matsunari
松成　健二
Yuji Yamada
祐司 山田
Michiya Hirata
平田　道弥
Yasuo Nakamura
中村　安夫
Hiroyuki Kano
浩之 狩野
Akira Takeuchi
彰 竹内
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    • C07D207/38—2-Pyrrolones

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規な環状アミド誘導体に関するものである
。より詳しくは１本発明は後記の一般式（１）で表され
る新規な環状アミド誘導体、ならびにこれを含有する除
草剤に関するものである。
（従来の技術） これまで、環状アミド誘導体で除草活性を有するものが
いくつか知られている０例えば、特開昭５４−７０２８
３号公報には次式 （但し９式中Ｘ１は水素原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子を示す。）で表される化
合物が除草剤としての活性を示すことが記載されている
。
また、米国特許筒３，２７２，８４２号明細書に（但し
１式中Ｚｌ及びＺｌは低級アルキル基又は、置換されて
もよいフェニル基を示し　ＺＳは水素原子、低級アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルコキシアルキル基又はテ
トラハイドロフルフリル基を示し、Ｚ４は水素原子、低
級アルキル基、フェニル基又はナフチル基を示し　ｚ６
は置換されてもよいフェニル基、フェノキシ基、フェニ
ルチオ基、ナフチル基、ナフチルオキシ基、ナフチルチ
オ基又はチエニル基を示す、）で表される化合物が土壌
処理および茎葉処理における選択性除草剤として記載さ
れている。
また、ベルギー特許第８５７，６８４号明細書（但し、
式中Ｖ］はハイドロキシ基、ハロゲン原子又はアシルオ
キシ基を示し、ｖ２はアリール基、アラルキル基又は、
ヘテロ環を示す、）で表される化合物が１選択性除草剤
として記載されている。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記に示されている従来の環状アミド誘
導体は、除草剤としである程度の活性及び選択性を有す
るが、それらは必ずしも満足できるものではない。
近年、作物に対して害を与えずに雑草のみを枯殺する選
択性作用を有する除草剤が強く要望されている。また、
ハマスゲやミズガヤツリ、ホタルイなど畑地あるいは水
田における難防除雑草を確実に防除できる有効な除草剤
が望まれている。さらに、低薬量で高い効果を示すとと
もに環境中に長期間残留せず、地下水や河川の汚染もな
い安全に使用できる薬剤の開発が望まれている。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは上記の目的を達成するため鋭意検討した結
果、下記一般式［１］で表される新規の置換α、α−ジ
アルキルベンジル基を有する環状アミド誘導体が従来の
環状アミド誘導体に比べて高い除草活性と選択性を有す
ることを見い出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は次の一般式、 〔式中、又は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（好
ましくはＣ１−Ｃ４のアルキル基）、ハロアルキル基（
好ましくはＣｌ−０４のハロアルキル基）、アルコキシ
基（好ましくはＣｌ−０４のアルコキシ基）、ハロアル
コキシ基（好ましくはＣｌ−０４のハロアルコキシ基）
、アルキルチオ基（好ましくはＣｌ−Ｃ４のアルキルチ
オ基）またはニトロ基を示し、Ｙは水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基（好ましくはＣＩ−ＣＢのアルキル基
）、シクロアルキル基（Ｃ３−Ｃ６のシクロアルキル基
）、アルケニル基（好ましくはＣ２−Ｃ８のアルケニル
基）、アルキニル基（好ましくはＣ２−Ｃ８のアルキニ
ル基）、ハロアルキル基（好ましくはＣｌ−Ｃ８のハロ
アルキル基）、フェニル基、アルコキシ基（好ましくは
Ｃ１−０８のアルコキシ基）、シクロアルコキシ基（Ｃ
３−Ｃ６のシクロアルコキシ基）、シクロアルキルアル
コキシ基（Ｃ３−Ｃ６のシクロアルキルアルコキシ基）
、アルケニルオキシ基（好ましくはＣ３−Ｃ８のアルケ
ニルオキシ基）、アルキニルオキシ基（好ましくはＣ３
−Ｃ８のアルキニルオキシ基）、ベンジルオキシ基、フ
ェノキシ基、ハロアルコキシ基（好ましくはＣ１−Ｃ８
のハロアルコキシ基）、アルコキシアルコキシ基（好ま
しくはＣｌ−Ｃ４アルコキシＣｌ−０４アルコキシ基）
、シアノアルコキシ基（好ましくはＣ１−Ｃ４のシアノ
アルコキシ基）、アルキルチオ基（好ましくはＣｌ−Ｃ
８のアルキルチオ基）、ハロアルキルチオ基（好ましく
はＣｌ−Ｃ８のハロアルキルチオ基）、アルケニルチオ
基（好ましくはＣ３−Ｃ８のアルケニルチオ基）、アル
キニルチオ基（好ましくはＣ３−Ｃ８のアルキニルチオ
基）、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、基 −Ｗ−ＣＨ−ＣＯＯＲ’　（Ｗｌ！酸素酸素子＊　タｉ
ｔ　硫黄３ 原子を示し、Ｒ３は水素原子またはアルキル基（好まし
くはＣｌ−０４のアルキル基）を示し、原子またはアル
キル基（好ましくはＣ１−Ｃ４のアルキル基（好ましく
はＣ１−Ｃ４のアルキル基）を示す）、アルキルカルボ
ニル基（好ましくはＣ１−０４のアルキルカルボニル基
）、アルコキシカルボニル基（好ましくはＣｌ−Ｃ４の
アルコキシカルボニル基）、ヒドロキシカルボニル基、
ニトロ基、シアノ基またはヒドロキシ基を示し、Ｒは水
素原子またはアルキル基（好ましくはＣ１−Ｃ４のアル
キル基）を示し、Ｒ１及びＲ２は同一または相異なるア
ルキル基（好ましくはＣｌ−Ｃ４のアルキル基）を示し
、ｍは０または１を示し、ｎは１〜５の整数を示し、ｋ
は１〜２の整数を示す、Ｒ１とＲ２は相隣る炭素原子と
ともに環を形成することもできる。〕で表される環状ア
ミド誘導体およびこれを有効成分として含有することを
特徴とする除草剤を提供するものである。
次に、一般式（１）で表される本発明化合物の代表例を
第１表に例示する。なお、化合物番号は以後の記載にお
いて参照される。
第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき −形成Ｃ１）で表される本発明化合物は以下に示す方法
により製造することができる。
（１）−形成（１）においてＲがアルキル基である本発
明化合物の製造法 〔■〕 （Ｖ） 〔■〕　　　　　　　　　　　　〔ｒ〕（式中、Ａはハ
ロゲン原子を示し、Ｘ、Ｙ、Ｒ’、Ｒ”、ｍ、ｋ及びｎ
は前記と同じ意味を示す、）ｍ＝ｏの場合には、−形成
（ＩＩ）で表されるベンジルアミン誘導体を一般式（Ｉ
ＩＩ）で表される化合物と無溶剤又は適切な溶剤中、窒
素気流下で反応させ中間体（Ｖ）を収率よく得ることが
できる。
反応は塩基の存在下に好適に行われる。温度は室温以上
、好ましくは５０℃〜１３０℃で行われる。
反応終了後、中間体（Ｖ）は常法に従って反応混合物か
ら取り出すことができる。例えば、反応混合物をそのま
ま水洗後、溶剤を留去するか、あるいは反応混合物を水
にあけ、水不混和溶剤で抽出し、溶剤を留去することに
よって得ることができる。さらに必要ならば蒸留あるい
はカラムクロマトグラフィー等によって精製することが
できる。
反応で使用される溶剤としては、例えばベンゼン。
トルエン、キシレンのような炭化水素類、エチルアルコ
ール、メチルアルコールのようなアルコール類、ジエチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチ
ルエチルケトンのようなケトン類、アセトニトリル、Ｎ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシドのような非プロトン性極
性溶剤類などをあげることができる。また使用される塩
基としてはトリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、キノリンのよう
な有機アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような無機塩基類、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラートのような金
属アルコラード類および水素化ナトリウムなどをあげる
ことができる。
またｌｍ＝１の場合には中間体（Ｖ）は−形成（ｎ）で
表されるベンジルアミン類を一般式（ＩＶ）で表される
化合物と反応させて製造できる。本方法の反応は無溶剤
又は適切な溶剤中、窒素気流下で行われる。また必要な
らば適切な触媒を加える。
そして室温あるいは必要に応じ加熱または、冷却しなが
ら反応させる。好ましくは０℃〜１００℃でおこなわれ
る０反応終了後、中間体（Ｖ）は常法に従って取り出す
ことができる１例えば、減圧下、低沸点物を留去するか
、あるいは反応混合物を水洗後、溶剤を留去することな
どによって得られる。必要ならば蒸留あるいはカラムク
ロマトグラフィー等によって精製することができる。有
機溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
のような炭化水素類、エチルアルコール、メチルアルコ
ールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのような
エーテル類、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素類等を使用することができる。触媒とし
てはトリエチルアミン、ピリジンのような有機アミン類
、ナトリウムエチラートのような金属アルコラード類、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウムのような無機塩基類並び
に塩化銅などを使用することができる。
次に、得られた化合物（Ｖ）を適切な有機溶剤に溶解し
て、−形成（Ｖｌ）で表される置換フェニル酢酸の反応
性誘導体と反応させることによって中間体〔■〕を収率
よく得ることができる０反応は室温あるいは必要に応じ
て加熱または冷却しながら反応させる。好ましくは一１
０℃〜５０℃でおこなわれる。また反応は塩基の存在下
で好適に行われる。塩基はそのまま、または水溶液とし
て加えることができる０反応終了後、中間体〔■〕は常
法に従って反応混合物から得ることができる。
例えば、反応混合物に水を加え、水洗し、溶剤を留去す
るか、あるいは水にあけ、水不混和溶剤で抽出し、溶剤
を留去することによって得ることができる。必要ならば
再結晶、蒸留あるいはカラムクロマトグラフィー等によ
って精製することができる。有機溶剤としては、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジ
エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類、塩化メチレン、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類、アセトニトリル
、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
セトアミドのような非プロトン性極性溶剤類などをあげ
ることができる。また置換フェニル酢酸の反応性誘導体
としては酸無水物、酸塩化物、酸臭化物、活性エステル
類などがあり、これらは置換フェニル酢酸から既知の方
法を使用して容易に合成することができる。塩基として
はトリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ−メチルモルホリン、キノリンのような有機ア
ミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムのような無機塩基類などを使用す
ることができる。
得られた一般式〔■〕で表わされる中間体を適切な有機
溶剤中で閉環させることにより一般式ＣＩ）においてＲ
がアルキル基である本発明化合物が純度よく、しかも高
収率で得られる１反応温度は室温から溶剤の沸点の範囲
で行われる。またこの反応は適切な反応助剤の存在下で
好適に行われる６反応終了後は、目的物を反応混合物か
ら常法により取り出すことができる８例えば、反応混合
物を水洗し、溶剤を留去するか、あるいは溶剤を留去後
、水を加え、水不混和有機溶剤で抽出し。
溶剤を留去することによって得ることができる。
さらに必要ならば再結晶あるいはカラムクロマトグラフ
ィー等によって精製することができる０反応で使用され
る有機溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レンのような炭化水素類、エチルアルコール、メチルア
ルコールのようなアルコール類、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類、塩
化メチレン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類。
アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドのよ
うな非プロトン性極性溶剤類などをあげることができる
０反応助剤としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムのような無機塩基類、
ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ターシ
ャリ−ブトキシカリウムのような金属アルコラード類な
どを使用することができる。
本発明化合物を製造するに際して、中間体となる一般式
（ＩＩ）で表されるベンジルアミン誘導体のうちα、α
−ジメチルベンジルアミン類の一部は新規化合物であり
１次の方法により製造することができる。
（式中のＱはハロゲン、アルコキシ基、ベンジルオキシ
基、またはフェノキシ基を示し、Ｙ、Ａ及びｎは前記と
同じ意味を示す、） 方法１ 置換α、α−ジメチルベンジルアルコール（ｂ）は（ａ
）で表される置換安息香酸ハライドあるいは置換安息香
酸エステルとグリニヤー試薬であるメチルマグネシウム
ハライドと反応させることによって得ることができ、さ
らにハロゲン化剤でハロゲン化して、置換α、α−ジメ
チルベンジルハライドＣＱ３を得ることができる０次に
、得られた置換α、α−ジメチルベンジルハライドＣＣ
）をシアン酸塩と反応させ、生成した置換α、α−ジメ
チルベンジルイソシアネート（ｄ）を塩酸で加水分解す
ることによって一般式（Ｉｆ）で表される置換α、α−
ジメチルベンジルアミンを得ることができる。ここで化
合物（ａ）は〔悲〕から既知の方法により容易に得るこ
とができる。また　Ｈ換α。
α−ジメチルベンジルアルコール（ｂ）はアセトフェノ
ン誘導体（ｍ）とメチルマグネシウムハライドどの反応
からも製造することができるし、ハロゲノベンゼン誘導
体（ｎ）から得られるフェニルマグネシウムハライド（
０３にアセトンを反応させても置換α、α−ジメチルベ
ンジルアルコール（ｂ）を製造することができる。置換
α、α−ジメチルベンジルハライド（ｃ）も上記の方法
以外に、置換イソプロピルベンゼン（ｐｌのハロゲン化
あるいはメチルスチレン誘導体（ｑ）とハロゲン化水素
との反応によっても製造することができる。
方法２ 方法１により得ることができる置換α、α−ジメチルベ
ンジルアルコール（ｂ）とシアン化ナトリウムからリッ
ター（Ｒｉｔｔｅｒ）反応によりＮ−置換α、α−ジメ
チルベンジルホルムアミド（ｅ）を得ることができる１
次に、この化合物を塩酸で加水分解することによって収
率良く一般式〔■〕で表される置換α、α−ジメチルベ
ンジルアミンを得ることができる。
方法３ 方法１により得ることができる置換α、α−ジメチルベ
ンジルアルコール（ｂ）にトリメチルシリルアジドを反
応させ、得られた置換α、α−ジメチルベンジルアジド
（ｆ）を１例えば水素化ホウ素ナトリウムやＭ　ｇ　−
ＣＨｓ　ＯＨのような還元剤でもって還元するか、ある
いはＰｄ　　ＢａＳＯ４やｐ’ｂ−ｃのような触媒の存
在下水素で還元して一般式〔■〕で表される置換α、α
−ジメチルベンジルアミンを得ることができる。
方法４ 置換安息香酸ハライド［ａ）を適切な還元剤で還元して
置換ベンジジルアルコール（ｇ）にし、次にハロゲン化
剤でハロゲン化して置換ベンジルハライド（ｈ）を得る
ことができる。またこの置換ベンジルハライド（ｈ）は
化合物（ｒ）をハロゲン化しても製造することができる
０次に、シアノ化して置換ベンジルシアニド（ｉ）を得
、ジメチル化によって置換α、α−ジメチルベンジルシ
アニド（ｊ）を得ることができる。この化合物〔ｊ〕を
加水分解すれば置換フェニル酢酸アミド（ｋ）を得るこ
とができ５次にホフマン（Ｈｏｆｍａｎｎ）反応によっ
て一般式（［１１で表される置換α１α−ジメチルベン
ジルアミンを得ることができる。このようにして得られ
たα、α−ジメチルベンジルアミン類を第２表に例示す
る。
第２表 第２表つづき （２）−形成（１）においてＲが水素原子である本発明
化合物の製造法 〔■〕 （Ｗ） ↓ ↓ （１） （式中、Ｒ７はアルキル基またはフェニル基を示し　Ｒ
１、Ｒ”、Ｘ、Ｙ、ｍ、ｋ及びｎは前記と同じ意味を示
す。） 中間体〔■〕を無溶剤、あるいは適切な溶剤中、アシル
化剤を作用させ中間体［ＩＸ）を得ることができる１反
応は塩基の存在下に好適に行われる。
また、必要であれば加熱あるいは冷却して反応させるこ
とができる。好ましくはＯ℃〜５０℃で行われる０反応
終了後は、常法に従って中間体Ｃｌｌ０を反応混合物か
ら取り出すことができる１例えば。
反応混合物に氷水を加え、適切な水不混和溶剤で抽出し
、水洗し、溶剤を留去して中間体（ＩＫＩを収率よく得
ることができる。アシル化剤としては酢酸クロリド、プ
ロピオン酸クロリド、安息香酸クロリドのような酸ハロ
ゲン化物または無水酢酸。
無水プロピオン酸、無水安息香酸のような酸無水物が使
用できる。溶剤としてはベンゼン、トルエン、キシレン
のような炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲン化
度化水素類、アセトン、アセトニトリル、ピリジンなど
が使用できる。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基
類あるいはトリエチルアミン、ピリジン、ＤＢＵ等の有
機アミン類が使用できる。
次に、中間体（ｆｆ）を適切な溶剤中、適切な触媒の存
在下、常圧あるいは必要に応じて加圧下で、常温または
必要に応じて加熱しながら水素添加させることによって
中間体ｃ厘〕を得ることができる１反応終了後は触媒を
濾別し、溶剤を留去すれば中間体〔夏〕を取り出すこと
ができる。また。
必要であれば再結晶あるいはカラムクロマトグラフィー
等により精製できる。触媒としてはＰｄ−Ｂ　ａ　Ｓ　
Ｏ４、酸化白金、Ｐｄ−Ｃ等が使用できる。
溶剤としてはエチルアルコール、メチルアルコール、ア
セトンなどを使用することができる。
またｌｍ＝１の場合には中間体〔夏〕は中間体〔■〕か
ら中間体（Ｘ）を経て次の方法によっても製造すること
ができる。
すなわち、中間体〔■〕を有機溶剤に溶解して、適切な
還元剤を加え反応させ、中間体〔Ｘ）を得ることができ
る。温度は室温から溶剤の沸点の範囲で行わ九る０反応
終了後は常法により中間体（Ｘ）を取り出すことができ
る１例えば１反応混金物を水に注ぐか、あるいは溶剤を
留去後に水を加える。結晶が析出すれば濾過により取り
出すことができる。析出しなければ水不混和溶剤で抽出
し、溶剤を留去すれば、中間体（Ｘ）が収率よく得られ
る。必要ならば再結晶、蒸留あるいはカラムクロマトグ
ラフィー等によって精製することができる。有機溶剤と
してはベンゼン、トルエン、キシレンなどのような炭化
水素類、エチルアルコール、メチルアルコールなどのよ
うなアルコール類、エーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタンなどのようなエーテル類、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセ
トアミドなどのような非プロトン性極性溶剤類等を使用
することができる。また還元剤としてはナトリウム、ア
ンモニウムリチウム、ナトリウムアマルガム、亜鉛、ア
ルミニウム、水素化トリブチル錫、水素化リチウムアル
ミニウム、水素化アルミニウムトリターシャリ−ブトキ
シリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化
ホウ素リチウムなどを使用することができる。
次に、得られた中間体（Ｘ）を適切な有機溶剤に溶解し
適切なアシル化剤及び塩基を加えて反応させ、中間体（
ＸＩ）を製造できる。温度は室温あるいは必要に応じて
加熱または冷却しながら行うことができるが、好ましく
は０℃〜溶剤の沸点の範囲で行われる６反応終了後は常
法により中間体（ＸＩ）を取り出すことができる６例え
ば１反応混合物を水に注ぎ、水不混和性溶剤で抽出し、
水洗後濃縮することによって得ることができる。必要な
らば再結晶、蒸留あるいはカラムクロマトグラフィー等
によって精製することができる。アシル化剤としては酢
酸クロリド、プロピオン酸クロリド、安息香酸クロリド
などのような酸ハロゲン化物、無水酢酸、無水プロピオ
ン酸、無水安息香酸などのような酸無水物等が使用でき
る。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウムなどのような無機塩基類、ナトリウムエ
チラート、ナトリウムメチラート、ターシャリ−ブトキ
シカリウムなどのような金属アルコラード類、ピリジン
、トリエチルアミンなどのような有機アミン類等を使用
することができる。有機溶剤としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどのような炭化水素類、クロロホルム、
塩化メチレン、クロルベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタンなどのようなエーテル類、ア
セトン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ＮＮ−ジメチルアセトアミド、ピリジンなどのよう
な非プロトン性極性溶剤類等を使用することができる。
上記２つの方法で得られる中間体（ＸＩ）を適切な溶剤
中で塩基の存在下反応させ、−形成（１）においてＲが
水素原子である本発明化合物を得ることができる０反応
は室温以上、好ましくは室温から溶剤の沸点の温度で行
われる０反応終了後。
反応混合物から常法に従って目的物を取り出すことがで
きる０例えば１反応混合物を水洗後に溶剤を留去するか
、あるいは水にあけ、適切な溶剤で抽出し、水洗し、濃
縮することによって得ることができる。塩基としては水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジ
ン、ＤＢＵ等の有機アミン類などが使用できる。溶剤と
してベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素類
、エチルアルコール、メチルアルコールのようなアルコ
ール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタンのようなエーテル類、ＮＮ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ピリジン、アセト
ニトリルのような非プロトン性極性溶剤類などを使用す
ることができる。
次に、Ｒが水素原子である本発明化合物の製造の際に出
発物質として使用する中間体〔■〕の製造法について説
明する。
Ｃｍ） （ＸＩＶＩ （Ｉｆ） ［ＸＩＶ］ （ＸｒＶ） （ＸＶ）　　　　　　　　　　　　　　　　（■〕（式
中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ７、Ｘ、Ｙ、Ａ、ｍ、ｋ及びｎは前
記と同じ意味を示す、） ｍ＝ｏの場合には、−形成（ＩＩ）で表されるベンジル
アミン類を無溶媒、又は適切な溶媒中。
形成〔店〕で表されるハロゲン化酢酸エステル類誘導体
と反応させることによって中間体（ＸＩＶ）を収率よく
得ることができる０反応は有機溶剤中、塩基の存在下に
好適に行われる。温度は室温あるいは必要に応じて加熱
または冷却しながら行われるが、好ましくは０℃から溶
剤の沸点の範囲で行われる０反応終了後、中間体（ＸＩ
Ｖ）は常法に従って反応混合物から取り出すことができ
る０例えば、反応混合物を水洗後溶剤を留去するか、あ
るいは反応混合物を水にあけ、水不混和性溶剤で抽出し
、溶剤を留去することによって得ることができる。
さらに必要ならば蒸留あるいはカラムクロマトグラフィ
ー等によって精製することができる。反応で使用される
溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンの
ような炭化水素類、エチルアルコール、メチルアルコー
ルのようなアルコール類、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル類、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンのよう
なケトン類、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシドのような非プロトン性極性溶剤類などをあげる
ことができる。また使用される塩基としてはトリエチル
アミン、ピリジン、Ｎ。
Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、キノリ
ンのような有機アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような無機塩
基類、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラートの
ような金属アルコラード類および水素化ナトリウムなど
をあげることができる。
また、ｍ＝１の場合には中間体（ＸＩＶ）は−形成（Ｉ
Ｉ）で表されるベンジルアミン類と一般式（ｘｍ）で表
されるアクリル酸エステル類と反応させることによって
製造できる０本方法の反応は無溶剤又は適切な溶剤中、
窒素気流下で行われる。
また必要ならば適切な触媒を加える０反応温度は室温以
上、好ましくは５０℃〜１５０℃で行われる１反応終了
後、中間体（ＸＩＶ）は常法に従って取り出すことがで
きる０例えば、減圧下、低沸点物を留去するか、あるい
は反応混合物を水洗後。
溶剤を留去することなどによって得られる。必要ならば
蒸留あるいはカラムクロマトグラフィー等によって精製
することができる。溶剤としては、例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような炭化水素類、エチルアルコー
ル、メチルアルコールのようなアルコール類、ジエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類等を使用することが
できる。触媒としてはトリエチルアミン、ピリジンのよ
うな有機アミン類、ナトリウムメチラート、ナトリウム
エチラートのような金属アルコラード類、炭酸カリウム
、炭酸ナトリウムのような無機塩基類などを使用するこ
とができる。
次に、得られた化合物［ＸＩＶ）を適切な有機溶剤に溶
解して、−形成（ＶＩ）で表される置換フェニル酢酸の
反応性誘導体と反応させることによって中間体［ＸＶ］
を収率よく得ることができる。
反応は室温あるいは必要に応じて加熱または冷却しなが
ら反応させる。好ましくは０℃から溶剤の沸点の範囲で
行われる。また反応は塩基の存在下に好適に行われる。
塩基はそのまま、または水溶液として加えることができ
る１反応終了後、中間体［ＸＶ）は常法に従って反応混
合物から得ることができる１例えば、反応混合物に水を
加え、水洗し、溶剤を留去するか、あるいは水にあけ、
水子混合溶剤で抽出し、溶剤を留去することによって得
ることができる。必要ならば再結晶、蒸留あるいはカラ
ムクロマトグラフィー等によって精製することができる
。有機溶剤としては、例えば−ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのような
エーテル類、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドのような非プ
ロトン性極性溶剤類などをあげることができる。また、
置換フェニル酢酸の反応性誘導体としては酸無水物、酸
塩化物、酸臭化物、活性エステル類などがあり、これら
は置換フェニル酢酸から既知の方法を使用して容易に合
成することができる。塩基としてはトリエチルアミン、
ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモル
ホリン、キノリンのような有機アミン類、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
のような無機塩基類などを使用することができる。
得られた中間体（ＸＶ）を無溶剤、又は適切な溶剤中、
反応助剤の存在下、環化させて中間体〔■〕を得ること
ができる１反応は室温以上、好ましくは室温から溶剤の
沸点の範囲で行われる。
反応終了後は、常法に従って中間体〔■〕を反応混合物
から取り出すことができる０例えば、溶剤を留去し、残
渣を氷水にあけ塩酸で酸性にすれば中間体〔曹〕が析出
する。これを濾集し、水洗するか、あるいは適切な水不
混和有機溶剤で抽出機水洗し、濃縮することによって取
り出すことができる。必要ならば再結晶あるいはカラム
クロマトグラフィー等によって精製することができる。
溶剤としてはベンゼン、トルエン、キシレンのような炭
化水素類、エチルアルコール、メチルアルコールのよう
なアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類、アセトニトリル、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセ
トアミドのような非プロトン性極性溶剤類などが使用で
きる。また。
反応助剤としては水素化ナトリウムのような金属水素化
物、ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラート、タ
ーシャリ−ブトキシカリウムのような金属アルコラード
類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような無機強
塩基類を使用することができる。
なお、中間体〔■〕は互変異性を有し、下記の通りエノ
ール体とケト体のとり得る。
〔■〕
（３）−形成（Ｉ）においてＹがヒドロキシ基である化
合物の製造法 〔Ｘ■〕 （式中、Ｒ，Ｒ’、Ｒ’−Ｘ、Ｙ、ｍ、におよびｎは前
記と同じ意味を示す。） 一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を有機溶剤中、塩基
の存在下、脱アルキル化剤と反応させ化合物〔Ｘ■〕を
製造することができる１反応は０℃から溶剤の沸点の範
囲で行われる。反応終了後１反応液を氷水に注ぎ、酸性
にしてから水不混和有機溶剤で抽出し、濃縮すれば取り
出すことができる。
必要ならば再結晶あるいはカラムクロマトグラフィー等
によって精製することができる。脱アルキル化剤として
はエチルメルカプタンが使用され、塩基としては水素化
ナトリウムが使用できる６反応溶剤としてはジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドのような非プロトン
性極性溶剤類をあげることができる。
（４）−形成（１）においてＹがアルコキシ基、シクロ
アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ
基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、ハロアルコキシ
基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシカルボニルア
ルコキシ基あるいはシアノアルコキシ基である化合物の
製造法 〔Ｘ■〕 （式中、Ｒ８はアルキル、シクロアルキル、アルケニル
、アルキニル、ベンジル、フェニル、ハロアルキル、ア
ルコキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキルを示
し、Ｒ，Ｒ’、Ｒ１，Ｘ、Ｙ。
Ａ、ｍ、におよびｎは前記と同じ意味を示す、）製造法
（３）で得られた化合物〔Ｘ■〕に塩基の存在下、適切
な溶剤中で一般式（ＸＤ（）で表される各種のアルキル
化剤を反応させることによって一般式〔Ｘ■〕で表され
る化合物を製造することができる１反応は室温から溶剤
の沸点の範囲で行われる１反応終了後、大量の水に注ぎ
水不混和溶剤で抽出し、濃縮すれば一般式〔Ｘ■〕で表
される化合物を得ることができる。必要に応じて再結晶
あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製できる。塩
基としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどのような無機塩基類、トリ
エチルアミン、ピリジンのような有機アミン類が使用で
きる０反応溶剤としてはメチルアルコール、エチルアル
コールなどのようなアルコール類、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミドジメチルアセトアミドなどのような
非プロトン性極性溶剤類等が使用できる。
（５）−形成（１）においてＹがアルキルスルホニル基
およびフェニルスルホニル基である化合物の製造法 （ＸＸＩ） （式中、Ｒ１１はアルキルを示し、Ｒ，Ｒ’、Ｒ２、Ｘ
、Ｙ、Ａ、ｍ、におよびｎは前記と同じ意味を示す、） 一般式（ＸＸ）で表される化合物を適当な溶剤中で酸化
して一般式（ＸＸ［）で表される化合物を製造すること
ができる１反応はｏ℃〜５０℃の範囲で好適に行われる
１反応終了後は氷水に注ぎ、濾過あるいは抽出によって
取り出すことができる。
酸化剤として、オキソンが使用される。反応溶剤として
メチルアルコール／水の混合溶剤が使用できる。
次に、参考例及び実施例を挙げて本発明化合物及びその
中間体の製造方法について具体的に説明する。
参考例１ ３．５−ジクロロ−α、α−ジメチルベンジルアミンの
製造 水酸化ナトリウム１８．０　ｇ　（０，４５モル）の水
１００ｍΩ水溶液を氷水にて冷却し、Ｏ’Ｃで臭素１４
．４　ｇ　（０，０９モル）を徐々に滴下した。
滴下後、溶液を室温に戻し０．５時間撹拌を続け、次に
３．５−ジクロロ−α、α−ジメチルフェニルアセトア
ミド２０．９　ｇ　（０，０９モル）を０℃で一度に加
えた。冷却し、そのまま１時間撹拌を続げた後、８０℃
に加熱し１時間反応させた。室温に戻した後、エーテル
にて抽出し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒
を留去して無色液体の目的化合物１１．２ｇ（収率６１
．１％）を得た。
屈折率ｎ”　１．５４９１゜ ア ’トＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ、δ）　　１．４４　（ｓ、　
６Ｆｌ）　１．３０−１．７４　（ｂｒ、　２Ｈ）７、
１０−７．５０　（ａ＋、　３Ｈ）参考例２ ３．５−ジクロロ−α、α−ジメチルベンジルアミン ７ｍＱの酢酸に２０℃以下でシアン化ナトリウム２．８
３　ｇ　（５７，８ミリモル）を少しずつ加えた。得ら
れた懸濁液に濃硫酸７ｍｊ＋と酢酸７ｍＡの混合溶液を
２０”Ｃ以下で滴下し、さらに室温で１時間撹拌した。
次に、３，５−ジクロロ−α、α−ジメチルベンジルア
ルコール１０．３ｇ　（５０ミリモル）を２０℃以下で
滴下した。反応混合物を室温で２日間撹拌した後、氷水
に注ぎ、炭酸カリウムでアルカリ性にして、酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル溶液を水洗、乾燥したのち濃縮
した。得られた固体をｎ−ヘキサンで洗い、濾過して白
色針状結晶のＮ−（３，５−ジクロロ−α、α−ジメチ
ルベンジル）ホルムアミド　８．２ｇ（収率７０．７％
）を得た。融点１１５〜１１７℃。
次に、得られたＮ−（３，５−ジクロロ−α、αジメチ
ルベンジル）ホルムアミド１．１６ｇ（５ミリモル）と
２規定塩酸８　ｍ　Ｑの混合物を３０分間還流した。冷
却後、水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性とし、エー
テルで抽出した。エーテル溶液を水洗、乾燥した後に濃
縮して目的化合物１．０ｇ（収率９８．０％）を得た。
参考例３ ３．４．５−）−リクロローα、α−ジメチルベンジル
アミンの製造 ３．４．５−トリクロロ−α、α−ジメチルベンジルク
ロライド１００ｇ　（０，３８８モル）をトルエン５０
０　ｍ　Ｑに溶解し、これにシアン酸銀７６ｇ　（０，
５０７モル）を加えて水浴上８０℃で１時間撹拌した５
反応終了後、不溶物を濾過し、トルエンを留去して３，
４．５−１−リクロローα。
α−ジメチルベンジルイソシアネートを得た。この生成
物を１．５Ｑの８規定塩酸にメカニカルスターラーで撹
拌しながら６０〜６５℃で徐々に滴下した。６０〜６５
℃で２時間撹拌した後、室温で一夜撹拌を続けた。析出
したアミンの塩酸塩を濾取しトルエンで洗浄した。さら
に濾液をトルエンで洗浄した後、その水層と濾取したこ
の塩酸塩をまぜて苛性ソーダ溶液でアルカリ性とし、エ
ーテルで抽出した。エーテル層を水洗し乾燥した後。
留去して白色結晶の目的化合物３７．８ｇ（収率４１％
）を得た。融点　５６〜５９℃。
’）Ｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｌ、δ）　　　１．４３　（
ｓ、　６Ｈ）　　１．４０−１．６６　（ｂｒ、　２Ｆ
ｌ）７、５０　（ｓ、　２Ｈ） 参考例４ ３．５−ジクロロ−４−メトキシ−α、α−ジメチルベ
ンジルアミンの製造 ３．５−ジクロロ−４−メトキシ−α、α−ジメチルベ
ンジルアルコール２３．６ｇ　（０，１モル）、トリメ
チルシリルアジド１３．９ｇ　（０，１２モル）のベン
ゼン溶液を氷水で冷却し、三フッ化はう素工チルエーテ
ル１７−１　ｇ　（０，１２モル）を撹拌しながら２０
℃以下で滴下した。７１１下終了後そのまま１時間撹拌
を続け、さらに室温で４時間撹拌した０反応溶液を氷水
にあけ有機層を飽和重曹水および水で洗った。このベン
ゼン溶液にｎ−ヘキサデシル　トリーｎ−ブチルホスホ
ニウムブロマイド５−１　ｇ　（０，０１モル）を加え
、８０℃で水素化ホウ素ナトリウム３２．４　ｇ　（０
，９モル）の水溶液を３回に分けて滴下した１反応溶液
を水にあけ、有機層を水洗した後、濃塩酸を加え分液し
た。水層を水酸化ナトリウムでアルカリ性にした後、エ
ーテルにて抽出した。エーテル溶液を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧にて溶媒を留去し目的化合物１４．
９ｇ（収率６４％）を得た。
屈折率ｎ”　１．５４６０゜ ’　Ｍｌ（ＭＲ（ＣＤＣｌ　ａ　、δ）　　１．４５　
（ｓ、　６）１）　　１．５０　（ｓ、　２Ｈ）３、８
６　（ｓ、　３Ｈ）　　７．４０　（ｓ、　２）１）参
考例５ ｌ−（３−グロローα、α−ジメチルベンジルアミノ）
−２−プロパノンの製造 クロロアセトン２７．８　ｇ　（０，３モル）、３−ク
ロロ−α、α−ジメチルベンジルアミン１６．Ｏｇ　（
０，１モル）およびトリエチルアミン１１．２ｇ（０，
１１モル）をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド２００ｍＡ
に溶解し、撹拌しながら８０℃で３時間加熱した。反応
溶液を冷却した後、大量の水にあけ、トルエンにて抽出
した。水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ト
ルエンを減圧下にて留去した後、蒸留して目的化合物６
．９ｇ（収率３０．６％）を得た。
沸点　１００−１０５℃／　０　、０５　ｍ　ｍ　Ｈｇ
　。
’　）Ｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　、　、δ）　　１．４３
　（ｓ、　６Ｈ）　　２．０６　＜ｓ、　３Ｆｌ）２、
３３　（ｓ　　ＩＥＩ）　　　３．３０　（ｓ、　２Ｈ
）７、３２　（ｍ、　４ｔ（） 参考例６ Ｎ−（３−クロロ−α、α−ジメチルベンジル）−Ｎ−
（２−オキソプロピル）フェニルアセトアミドの製造 参考例５の方法で製造した１−（３−クロロ−α、α−
ジメチルベンジルアミノ）−２−プロパノン２２．６　
ｇ　（０，１モル）をアセトン　２００ｍ１１に溶解し
、炭酸カリウム　１４．０　ｇ　（０，１１モル）を加
え氷水にて冷却した後、撹拌しながらフェニル酢酸クロ
リド１５．５　ｇ　（０，１モル）を徐々に滴下した０
滴下終了後、室温に戻し３時間撹拌を続けた０次いで、
減圧下で溶媒を留去した後、水を加え、酢酸エチルで抽
出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下にて溶
媒を留去し残渣をｎ−ヘキサンにて結晶化して目的化合
物２１．５ｇ（収率６２．５％）を得た。
融点９８−１００Ｔ：。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　　１．６５（ｓ、６
Ｈ）　　２．１８（ｓ、３Ｈ）３．３２（ｓ　２１（）
　　４．３１（ｓ、ＨＨ）７．３２（■、９１（＞ 実施例１ ｌ−（３−クロロ−α、α−ジメチルベンジル）−４−
メチル−３−フェニル−３−ピロリン−２−オン（化合
物８８）の製造 参考例６の方法に準じて製造したＮ−（３−クロロ−α
　α−ジメチルベンジル）−Ｎ−（２−オキソプロピル
）フェニルアセトアミド　３４．４ｇ　（０，１モル）
をエチルアルコール２００ｍ１ｌに溶解し、水酸化カリ
ウム０．５　ｇ　（０，００９モル）の粉末を加え、１
０分間加熱還流した。その後、減圧下で溶媒を留去した
後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン−酢酸エチ
ル）で精製して目的化合物２１．２ｇ（収率６５゜２％
）を得た。融点　１０２〜１０３℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！、δ）　　　１．７６　（ｓ
、　６ｆ（）　　２．１０　（ｓ、　３）［）３．９０
　（ｓ、２Ｈ）　　　７．２６　（ｍ、９１（）参考例
７ １−　（３，５−ジクロロ−４−メトキシ−αα−ジメ
チルベンジルアミノ）−２−プロパノンの製造 クロロアセトン１０．０　ｇ　（０，１モル）、３゜５
−ジクロロ−４−メトキシ−α、α−ジメチルベンジル
アミン１４．１　ｇ　（０，０６モル）およびトリエチ
ルアミン７．２　ｇ　（０，０７モル）をＮ。
Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍΩに溶解し、窒素雰
囲気下、撹拌しながら８０℃で約３時間加熱した０反応
溶液を冷却した後、大量の水にあけ酢酸エチルにて抽出
した。水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧下で留去して目的化合物９．５ｇ（収率８９％）を
得た。
屈折率ｎ”　１．５３１５゜ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　ｓ　、δ）　　１．４２（ｓ、
６Ｈ）　　２．１１（ｓ、３Ｈ）２、２７　（ｓｌＨ＞
　　　３．３０　（ｓ、　２８）３、８９　（ｓ、　３
）１）　　７．３３　（ｓ、　２Ｆ［）参考例８ Ｎ−（３，５−ジクロロ−４−メトキシ−αα−ジメチ
ルベンジル）−Ｎ−（２−オキソプロピル）フェニルア
セトアミドの製造参考例７の方法で製造した１−（３，
５−ジ、クロロー４−メトキシ−α、α−ジメチルベン
ジルアミノ）−２−プロパノン８．８　ｇ　（０，０３
モル）をアセトン４０ｍＱに溶解し、炭酸カリウム４゜
６ｇ（０，０３３モル）を加え、水冷下、撹拌しながら
フェニル酢酸クロリド５．２ｇ　（０，０３３モル）を
徐々に滴下した０滴下終了後、室温に戻し３時間撹拌を
続けた０次いで減圧下で溶媒を留去し、水を加え酢酸エ
チルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下で溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで結晶化して無
色結晶の目的化合物１０．２ｇ（収率８３％）を得た。
融点　１２６〜１２７℃。
’　）［−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　５．δ）　　１．６０　
（ｓ、　６Ｈ）　　２．．２０　（ｓ、　３ｆ（＞３．
４５　（ｓ、　２ｔ（）　　４．２４　（ｓ、　２Ｍ）
　　３．９３　（ｓ、　３■）７．２７　（ｓ、２■）
　　　７．６２（園、５Ｈ）実施例２ １−　（３，５−ジクロロ−４−メトキシ−α。
α−ジメチルベンジル）−４−メチル−３−フェニル−
３−ピロリン−２−オン（化合物１４３）の製造 参考例８の方法で製造したＮ−（３，５−ジクロロ−４
−メトキシ−α、α−ジメチルベンジル）−Ｎ−（２−
オキソプロピル）フェニルアセトアミド８．２　ｇ　（
０，０２モル）のエチルアルコール溶液に水酸化カリウ
ム粉末０．５　ｇ　（０，００８モル）を加え２０分間
加熱還流した。反応溶液を冷却した後、エチルアルコー
ルを減圧下に留去し。
水を加え酢酸エチルにて抽出した。無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下にて溶媒を留去し、さらにシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製し無色結晶の目的
化合物５．２ｇ　（収率６６％）を得た。融点　１３６
〜１３９℃。
’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　！　、δ）　　１．６８　
（ｓ、　６Ｈ）　　２．１７　（ｓ、　３８）３．８７
　（ｓ、　３Ｈ）　　４．０Ｏ（ｓ、　２１（）７、２
９　（ｓ、　２Ｅ＋）　　７．５２　（ｍ、　５Ｈ）実
施例３ １−　（３，５−ジクロロ−α、α−ジメチルベンジル
）−３−（２−フルオロフェニル）−４−メチル−３−
ピロリン−２−オン（化合物１３４）の製造 参考例８の方法に準じで製造したＮ−（３，５−ジクロ
ロ−α、α−ジメチルベンジル）−Ｎ−（２−オキソプ
ロピル）−２−フルオロフェニルアセトアミド（融点１
６７〜１７０℃）６．８ｇ（１７ミリモル）をエチルア
ルコール３０　ｍ　Ｈに溶解し、水酸化カリウム粉末０
．７ｇ（１１ミリモル）を加え１０分間加熱還流した１
反応溶液を冷却した後、エチルアルコールを減圧下に留
去し、水を加え酢酸エチルにて抽出した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し、得られた粗
結晶をエチルアルコールで再結して無色結晶の目的化合
物３．１ｇ（収率４９％）を得た。
融点　１７７〜１８０℃。
’Ｆｌ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　　１．８３（ｓ、
６Ｈ）　２．１０（ｄ、３１（＞４、１３　（ｓ、　２
Ｈ）　７．３０　（飄１７Ｈ）実施例４ ４−メチル−３−フェニル−１−（３，４，５−トリク
ロロ−α、α−ジメチルベンジル）−３−ピロリン−２
−オン（化合物１１３）の製造 参考例８の方法に準じて製造したＮ−（２−オキソプロ
ピル）−Ｎ−（３，４，５−１−リクロローα、α−ジ
メチルベンジル）フェニルアセトアミド（融点１４９−
１５３℃）４０ｇ　（９６，９ミリモル）をエチルアル
コール５００ｍＡに加熱して溶解し、水酸化カリウム粉
末３−２　ｇ　（４８，５ミリモル）を加え１０分間加
熱還流した０反応液を冷却後析出した結晶を濾集し、水
洗した後に風乾した。濾液は減圧下にて溶媒を留去した
後、水を加え酢酸エチルで抽出した。この抽出液を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下にて溶
媒を留去して結晶を得た。この結晶と先に濾集した結晶
とを合わせて酢酸エチルから再結晶して無色結晶の目的
化合物３３．７ｇ（収率８８゜１％）を得た。
融点　１ｓｉ−ｉ８３℃。
’　ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１ｓ　、δ）　　１．７３　（ｓ
、　６Ｈ）　２．１６　（ｓ、　３）１）４．０３　（
ｓ、２Ｈ）　　７．１０−７．７６　（鳳、７Ｈ）実施
例５ ｌ−（３，５−ジクロロ−４−フルオロ−α。
α−ジメチルベンジル）−４−メチル−３−フェニル−
３−ピロリン−２−オン（化合物１１４）の製造 参考例８の方法に準じて製造したＮ−（３，５−ジクロ
ロ−４−フルオロ−α、α−ジメチルベンジル）−Ｎ−
（２−オキソプロピル）フェニルアセトアミド４．０　
ｇ　（０，０１モル）をエチルアルコール５０ｍ１２に
溶解し、水酸化カリウム粉末０．５ｇ　（０，００９モ
ル）を加え１０分間加熱還流した。その後、減圧下で溶
媒を留去し、水を加え酢酸エチルにて抽出した。無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下にて溶媒を留去し
、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン
−酢酸エチル）で精製して無色結晶の目的化合物２．５
　ｇ　（６７，５％）を得た。
融点　１６４〜１６７℃。
’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　ｓ　、δ）　　　１．７３
（ｓ、６Ｈ）　２．１２（ｓ、３Ｈ）３．９８　（ｓ、
２Ｈ）　　７．２６　（ｍ、７Ｈ）参考例９ ４−（α、α−ジメチルベンジルアミン）−２−ブタノ
ンの製造 メチルビニルケトン１４．Ｏｇ（０，２モル）にα、α
−ジメチルベンジルアミン２７．０ｇ　（０゜２モル）
を加え、窒素雰囲気下、室温にて２日間撹拌した０反応
終了後、減圧下にて低沸点物を留去し、目的化合物３８
．２ｇ（収率９３．９％）を得た。沸点　９５−１０５
　／　０　、０８　ｍ　ｍ　Ｈｇ　。
ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　　１．４３　（ｓ、
　６Ｈ）　　１．７７　（ｂｒ、　ＬＨ）２、０４　（
ｓ、　３Ｈ）　　２．５３　＜ｓ、　４Ｈ）７、３３　
（層、　５ＦＴ） 参考例１Ｏ Ｎ−（α、α−ジメチルベンジル）−Ｎ−（３−オキソ
ブチル）フェニルアセトアミドの製造 参考例９の方法で製造した４−（α、α−ジメチルベン
ジルアミノ）−２−ブタノン６．０ｇ（０，０２９モル
）をアセトン５０ｍ１１に溶解し。
これに炭酸カリウム４．８ｇ　（０，０３５モル）を加
え、室温にて撹拌しながら、フェニル酢酸クロリド５．
４ｇ　（０，０３５モル）を滴下した０滴下終了後１反
応溶液を一昼夜撹拌した０反応終了後。
反応溶液を水にあけ、酢酸エチルにて抽出し、水洗した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に
て留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ｎ−ヘキサン−酢酸エチル）にて精製し、目的化合物７
．０ｇ（収率７４，５％）を得た。屈折率ｎ　”ｐ’　
１−５５７１−’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ、δ）　　１
．７０　（ｓ、　６■）　　２．０８　（ｓ、　３Ｈ）
２、７０　（ｍ、　２Ｈ）　　３．４７　（ｓ、　２Ｈ
）３、８７　（ｍ、２Ｈ）　　７．１７　（ｓ＋、　１
０８）実施例６ １−（α、α−ジメチルベンジル）−４−メチル−３−
フェニル−１，２，５，６−テトラヒドロビリジン−２
−オン（化合物７）の製造 参考例１０の方法で製造したＮ−（α、α−ジメチルベ
ンジル）−Ｎ−（３−オキソブチル）フェニルアセトア
ミド７．１　ｇ　（０，０２２モル）をエチルアルコー
ル５０ｍＡに溶解し、水酸化カリウム０．３３ｇ　（０
，００５モル）の粉末を加え、１゜５時間加熱還流した
。その後、室温に戻し、エチルアルコールを減圧下に留
去し、残渣に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下
にて留去した。得られた残渣をエチルアルコールで再結
晶し、目的化合物４．５ｇ（収率６７．２％）を得た。
融点　１０８〜１０９℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！、δ）　　１．７３　（ｂｒ
、　９Ｈ）　　２．３０　（ｔ、　２１（）３、３３　
（ｔ、　２８）　　７．２０　（ｍ、　ｌ０Ｈ）実施例
７ ｌ−（３−クロロ−α、α−ジメチルベンジル）−４−
メチル−３−フェニル−１，２，５，６−テトラヒドロ
ピリジン−２−オン（化合物９）の製造 参考例１０の方法に準じて製造したＮ−（３−クロロ−
α、α−ジメチルベンジル）　−Ｎ−（３−オキソブチ
ル）フェニルアセトアミド　１５ｇ（０，０４２モル）
をエチルアルコール１００ｍ１１に溶解し、水酸化カリ
ウム１．３ｇ　（０゜０２モル）の粉末を加えて、３時
間加熱還流した１反応終了後、エチルアルコールを減圧
下にて留去した後、残渣に氷水を加え、酢酸エチルにて
抽出した。水洗した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥
し、溶媒を減圧下にて留去した。得られた残渣をシリカ
ゲルを充填したカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン−酢酸エチル）で精製して目的化合物６．８ｇ（収率
４８．１％）を得た。
融点　１１７〜１１８℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩａ、δ）　　１．７０　（ｓ、
　６Ｆ［＞　　１．７５　（ｓ、　３Ｈ）２、４２　（
ｔ、　２Ｈ）　　３．４７　（ｔ、　２Ｈ）７．１３（
園、９Ｈ） 実施例８ ｌ−（３，５−ジクロロ−４−フルオロ−αα−ジメチ
ルベンジル）−４−メチル−３−フェニル−１，２，５
，６−テトラヒドロビリジン−２−オン（化合物８４）
の製造 参考例１Ｏの方法に準じて製造したＮ−（３５−ジクロ
ロ−４−フルオロ−α　α−ジメチルベンジルアミノ）
−Ｎ−（３−オキソブチル）フェニルアセトアミド２−
５　ｇ　（０，００６モル）をエチルアルコール５０ｍ
Ａに溶解し、水酸化カリウム粉末０．５ｇ　（０，００
９モル）を加え１０分間加熱還流した。その後、減圧下
で溶媒を留去し、水を加え酢酸エチルにて抽出した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下にて溶媒を留去し
た後、シリカゲルグロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン−
酢酸エチル）で精製し、目的化合物１．４ｇ（収率６０
，８％）を得た。
融点　１５４〜１５９℃。
’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　ｓ　、δ）　　１．６５（
ｓ、６［（）　１．７７（ｓ、３Ｈ）２、５２　（ｔ、
　２Ｆｌ）　３．５６　（ｔ、　２Ｈ）７．２２（腫、
７Ｈ） 参考例１１ ２−（α、α−ジメチルベンジルアミノ）酢酸メチルの
製造 α、α−ジメチルベンジルアミン１３．５　ｇ　（０゜
１モル）をアセトニトリル２００ｍＭに溶解し炭酸カリ
ウム１５ｇ（０，１１モル）を加えた。これにブロモ酢
酸メチル１５．３　ｇ　（０，１モル）を水冷下、徐々
に滴下した０滴下終了後、室温に戻し一昼夜撹拌し、塩
を濾別し、アセトニトリルを減圧上留去した。水を加え
、酢酸エチルにて抽出し、よく水洗した後、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下に留去した後、
蒸留して目的化合物１２．１ｇ（収率６０％）を得た。
沸点９０〜１００℃／　０　、０６　ｍ　ｍ　Ｈｇ　。
ｌ　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　１．δ）　　１．５０　（
ｓ、　６Ｈ）　　１．９０　（ｂｒ、　ＩＨ）３、１６
　（ｓ、　２Ｈ）　　３．６７　（ｓ、　３Ｈ）７．３
３　（ｍ、５１（） 参考例１２ ２−（Ｎ−フェニルアセチル−α、α−ジメチルベンジ
ルアミノ）酢酸メチルの製造参考例１１の方法で製造し
た２−（α、α−ジメチルベンジルアミノ）酢酸メチル
１２ｇ　（５８ミリモル）をアセトン１００ｍｊｌに溶
解しこれに炭酸カリウム８．５ｇ（６１ミリモル）を加
えた。
次に、アセトン２０ｍ１１に溶解したフェニル酢酸クロ
リド９．０ｇ（５８ミリモル）を水冷下、徐々に滴下し
た０滴下終了後、室温に戻しそのまま一昼夜撹拌した０
反応溶液を氷水中にあけ析出した結晶を濾過にて取り出
した。水洗後、乾燥し、目的化合物１５ｇ（収率７９％
）を得た。
融点　９９〜１０１℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ５．δ）　　１．６７　（ｓ、
　６Ｈ）　　３゜３３　（ｂｒ、　２■）３、６７　（
ｓ、　３Ｆｌ）　　４．２０　（ｂｒ、　２Ｈ）７ｊ３
（■、Ｉ（ｌＦ［） 参考例１３ １−（α、α−ジメチルベンジル）−３−フェニル−２
，４−ピロリジンジオンの製造参考例１２の方法で製造
した２−（Ｎ−フェニルアセチル−α、α−ジメチルベ
ンジルアミノ）酢酸メチルＬｏｇ　（３０ミリモル）を
エチルアルコール１００ｍｆｆ１に溶解し、これに２８
％ナトリウムメチラートのメチルアルコール溶液１７，
４ｇ（９０ミリモル）を加え０．５時間加熱還流した１
反応溶媒を減圧下にて留去し、残渣を氷水中にあけ１０
％塩酸にて酸性とし、析出した結晶を濾取した。これを
エチルアルコールで再結晶して目的化合物４．０ｇ（収
率４６％）を得た。
融点　２０６〜２０８℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、＋ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）１、
８０　（ｓ、　６［（）　　３．８７　（ｓ、　２Ｈ）
　　７．３０　（＋＊、　８Ｈ）７、９０　（＋ｉ、　
２Ｈ）　　１０．５　（ｂｒ、　ＬＨ＞参考例１４ ４−アセトキシ−１−（α、α−ジメチルベンジル）−
３−フェニル−３−ピロリン−２−オンの製造 参考例１３の方法で製造した１−（α、α−ジメチルベ
ンジル）３−フェニル−２，４−ピロリジンジオン５ｇ
　（１７ミリモル）を無水酢酸１０ｍＡとピリジン２０
ｍΩの溶液に溶解し、室温にて一昼夜撹拌した１反応溶
液に氷水を加え、酢酸エチルにて抽出し、よく水洗した
後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧上溶媒を
留去し。
イソプロピルエーテルで再結晶して目的化合物４．２ｇ
（収率８１％）を得た。
融点　１４９〜１５０℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｂ、δ）　　　１．８７（ｓ、６
Ｈ）　　　２．２３（ｓ、３［（＞４、３３　（ｓ、　
２Ｈ）　　　７．３３　（＋＊、　８Ｈ）７、７７　（
■、２Ｈ） 参考例１５ ４−アセトキシ−１−（α、α−ジメチルベンジル）−
３−フェニル−２−ピロリジノンの製造 参考例１４の方法で製造した４−７セトキシー１−（α
、α−ジメチルベンジル）−３−フェニル−３−ピロリ
ン−２−オン６．４ｇ　（２０ミリモル）をメチルアル
コール１００　ｍ　ｍに溶解し、Ｐ　ｄ　−Ｂ　ａ　Ｓ
○４０１．４ｇを加えて常圧、常温にて水素添加した１
反応終了後、触媒を濾別し、メチルアルコールを留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し、目的化合物１．０ｇ（収率１５％）を得た。
’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１ｓ　、δ）　　１．７３　（
ｓ、　３Ｆ＋）　　１．８０　（ｓ、　３Ｈ）１、８７
　（ｓ、　３Ｈ）　　３．３３　（ｄ／ｄ、　ＩＦＩ）
３．７０（ｄ／ｄ　　ＩＨ）３．９０（ｄ、ＩＨ）５、
４３　（＋＊、　ＬＨ＞　　　７．３０　（＋ａ、　ｌ
０Ｈ）実施例９ １−（α、α−ジメチルベンジル）−３−フェニル−３
−ピロリン−２−オン（化合物１２６）の製造 参考例１５の方法で製造した４−アセトキシ１−（α、
α−ジメチルベンジル）−３−フェニル−２−ピロリジ
ノン０．７ｇ（２ミリモル）をトルエン３０ｍＡに溶解
し、ＤＢＵ　　０．３６ｇ（２，４ミリモル）を加え、
５分間加熱還流した。
反応溶液を冷却し、トルエンを加えよく水洗した後、無
水硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下、溶媒を留去した
。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し、目的化合物０．４ｇ（収率７３％）を
得た。
融点８５〜８６℃。
’ｌ（−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　　１．８３（ｓ、
６Ｈ）　　４．００（ｄ、２Ｈ）７．３３（■、９１（
）　　　７．８３　（鵬、２Ｈ）参考例１６ ３−（α、α−ジメチルベンジルアミノ）プロピオン酸
エチルの製造 α　α−ジメチルベンジルアミン１３５．２　ｇ（１モ
ル）にアクリル酸エチルエステル１００ｇ（１モル）を
加え、１００℃にて１８時間撹拌した。反応生成物を蒸
留して目的化合物１８０．７ｇ（収率７７．８％）を得
た。
沸点　１１０−１２５℃１０．０６ｍｍＨｇ。
’トＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ、δ）　　１．２３　（ｔ、　
３Ｆ［）　　１．４３　（ｓ、　６Ｆｌ）１、６３　（
ｂｒ、　ＩＨ）　２．５０　（ｍ、　４Ｈ）４、１３　
（Ｑ、　２Ｈ）　　７．３３　（園、５Ｈ）参考例１７ ３−（Ｎ−フェニルアセチル−α、α−ジメチルベンジ
ルアミノ）プロピオン酸エチルの製造 参考例１６の方法で製造した３−（α、α−ジメチルベ
ンジルアミノ）プロピオン酸エチル４７゜０ｇ　（０，
２モル）をアセトン２００ｍ１に溶解し、炭酸カリウム
３０　ｇ　（０，２２モル）を加え。
室温にてフェニル酢酸クロリド３１．０　ｇ　（０，２
モル）を滴下した１滴下終了後、反応溶液を一昼夜撹拌
し、反応溶媒を減圧下に留去した。残渣に水を加え、酢
酸エチルにて抽出し、水洗した後、無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥した。溶媒を減圧下に留去して目的化合物６
３．０ｇ（収率８９，１％）を得た。
’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　　１．２７　Ｕ、
　３８）　　１．６７　（ｓ、　６Ｈ）２．６０　（腸
、２Ｆｌ）　　　３．４７　（ｓ、２）１）３、８０　
（ｍ、　２）［）　　４．１０　（ｑ、　２Ｈ）７．１
７（園、１０） 参考例１８ １−（α、α−ジメチルベンジル）−３−フェニル−２
，４−ピペリジンジオンの製造エチルアルコール５００
ｍＡに金属ナトリウム１２．８　ｇを加えてナトリウム
エチラートを調製し、これに参考例１７の方法で製造し
た３−（Ｎ−フェニルアセチル−α、α−ジメチルベン
ジルアミノ）プロピオン酸エチル６５．７　ｇ　（０，
１８６モル）を加え、１時間加熱還流した１反応液を室
温まで冷却した後、エチルアルコールを減圧下に留去し
、残渣を氷水中にあけ、１０％塩酸水溶液にて、酸性と
し析出した結晶を濾取した。得られた粗生成物をエチル
アルコールにて再結晶化し。
目的化合物２９．５ｇ（収率５１，６％）を得た。
融点　１２９〜１３２℃。
１（−）ＩＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　　１．８３（ｓ、
６Ｈ）　　２．５０（ｔ、２Ｈ）３．３７　（ｔ、　２
Ｈ）　　４．５０　（ｓ、　１１（）７、２７　（ｍ、
　ｌ０Ｈ） 参考例１９ １−（α、α−ジメチルベンジル）−４−ヒドロキシ−
３−フェニル−２−ピペリドンの製造 参考例１８の方法で製造した１−（α、α−ジメチルベ
ンジル）−３−フェニル−２，４−ピペリジンジオン４
．Ｏｇ　（０，０１３モル）をエチルアルコール５０ｍ
Ωに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム０．２７　ｇ　（
０，００７モル）を室温にて加えた。３０分室温にて撹
拌した後、エチルアルコールを減圧下に留去し、残渣に
水を加え、析出した結晶を濾取した。得られた粗生成物
をエチルアルコールで再結晶して目的化合物３．６ｇ（
収率９０．０％）を得た。融点　１６１〜１６３℃。
’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　、、　　δ　）　　　　　
　　１．７３　（ｓ、６Ｈ）　　　　２．０７　（ｍ、
２）１）３、６０　（（２［）　　４．００　（■、２
Ｈ）７、２０　（ｍ、　１０８） 参考例２０ ４−アセトキシ−１−（α、α−ジメチルベンジル）−
３−フェニル−２−ピペリドンの製造 参考例１９の方法で製造した１−（α、α−ジメチルベ
ンジル）−４−ヒドロキシ−３−フェニル−２−ピペリ
ドン３−６　ｇ　（０，０１１７モル）及び無水酢酸１
０ｍΩをピリジン２０ｍＱに溶解し、室温にて一昼夜撹
拌した０反応終了後、反応溶液を氷水中にあけ酢酸エチ
ルにて抽出し、水洗した後、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥した。溶媒を減圧下にて留去し、目的化合物４．１
ｇ（定量的）を得た。屈折率ｎ　”　１−５５７１　ｍ
’Ｈ−）ｉＭＲ（ＣＤＣ１，δ）　　　１．８０（ｓ、
６８）　　１．９３（ｓ、３Ｈ）２．１７（園、２Ｈ）
　　　　３．５３（ｍ　　２Ｈ）３．８０（ｄ、Ｉｆ（
）　　　５．２６（ｑ、ＩＨ）７．２３軸、　１０［（
＞ 実施例１０ １−（α、α−ジメチルベンジル）−３−フェニル−１
，２，５，６−テトラヒドロビリジン−２−オン（化合
物ｌ）の製造 参考例２０の方法で製造した４−アセトキシ−１−（α
、α−ジメチルベンジル）−３−フェニル−２−ピペリ
ドン４，２　ｇ　（ｏ、ｏ　１２モル）をトルエン１０
０ｍＡに溶解し、これにＤＢＵ２゜７ｇ（０，０１８モ
ル）を加え１０分間加熱還流した１反応溶液を室温にま
で冷却し、水洗した後。
減圧下にて溶媒を留去した。残渣固体をエチルアルコー
ルにて再結晶し、目的化合物３．０ｇ（収率７５．０％
）を得た。
融点　１１９〜１２０℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ、δ）　　１．８０　（ｓ、
　６Ｈ）　　２．４０　（ｍ、　２［）３、４３　（ｔ
、　２Ｈ）　　６．６０　（ｔ、　ＩＨ）７．２７　（
閣、ｌ０Ｈ） 実施例１１ １−　（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ−α、α−
ジメチルベンジル）−４−メチル−３−フェニル−３−
ピロリン−２−オン（化合物４５３）の製造 油性（約６０％）水素化ナトリウム２．２ｇ（０，０５
モル）のＤＭＦ懸濁液を氷水にて冷却し。
撹拌しながら１０℃以下でエチルメルカプタン５゜１ｇ
（０，０５モル）を滴下した。室温に戻し、約３０分間
放置後、室温にて実施例２にて製造した１−（３，５−
ジクロロ−４−メトキシ−α、α−ジメチルベンジル）
−４−メチル−３−フェニル−３−ビロリン−２−オン
（化合物１４３）１５．７ｇ　（ｏ、ｏ４ｖル）（７）
ＤＭＦ溶液を加えた。
溶液を約８０℃に加熱し３時間反応させた。反応終了後
、大量の氷水にあけ１０％塩酸水溶液にて酸性にした後
、酢酸エチルにて抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥の後、減圧にて溶媒を留去した。得られた固体をイソ
プロピルエーテルにて洗浄して無色結晶の目的化合物１
１．０ｇ（収率７３．３％）を得た。
融点２２４〜２２７℃。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｌ、δ）　　　１．７７　（５，
６）Ｉ）　　　２．１５　（！］、　３Ｈ）３、９７　
（ｓ、　２Ｈ）　　　７．１７　（ｓ、　２Ｈ）７．３
６（ｙａ　　６Ｈ） 実施例１２ １−　（３，５−ジクロロ−４−エトキシ−α。
α−ジメチルベンジル）−４−メチル−３−７エニルー
３−ピロリン−２−オン（化合物４３８）の製造 実施例１１にて製造した１−（３，５−ジクロロ−４−
ヒドロキシ−α、α−ジメチルベンジル）−４−メチル
−３−フェニル−３−ピロリン−２−オン１．２ｇ　（
０，００３モル）のアセトニトリル溶液にヨウ化エチル
０．６ｇ　（０，００４モル）、無水炭酸カルシウム０
．６ｇ　（０，００４モル）を加え、撹拌しながら約３
０分間還流させた。反応終了後、大量の水にあけ酢酸エ
チルにて抽出した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥の後、減圧にて溶媒を留去
し、得られた固体をイソプロピルエーテルにて洗浄して
無色結晶の目的化合物１１ｇ（収率９１６％）を得た。
融点１３３〜１３５℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ、δ）　　１．４４　（ｔ、
　３Ｈ）　　１．７７　（ｓ、　６Ｈ）２、１６　（ｓ
、　３Ｈ）　　４．０２　（ｓ、　２Ｈ）４．１５（ｑ
、２Ｈ）　　７．２５（ｓ、２Ｈ）７、４１　（ｍ、　
５１（＞ 実施例１３ １−（３−メチルスルホニル−α、α−ジメチルベンジ
ル）−４−メチル−３−フェニル−３−ピロリン−２−
オン（化合物３８３）の製造 実施例２の方法に準じて製造した１−（３−メチルチオ
−α、α−ジメチルベンジル）−４−メチル−３−フェ
ニル−３−ピロリン−２−オン（化合物３６４）２．２
ｇ　（０，００６５モル）のメチルアルコール／水（１
／１）溶液を５℃に冷却して、オキソン１２ｇ　（０，
０２０モル）の水３０ｍＭ溶液を５℃以下で滴下した。
５℃で２時間撹拌した後、室温でさらに２時間撹拌した
。氷水２００ｍＱとイソプロピルエーテル１００　ｍ　
Ｑを加え、１部分間撹拌した後、濾過にて生成物を取り
出した。エーテルで洗い白色結晶の目的化合物１．５ｇ
（収率６２．３％）を得た。
融点１６２〜１６４℃。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３＋ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）１．
８０　（ｓ、　６Ｈ）　　　　２．１７　（ｓ、３Ｈ）
３、０８　（ｓ、　３Ｈ）　　　　４．１３　（ｓ、　
２１（）７、３０−８．３３　（ｍ　９）１） （以下余白） 本発明の除草剤は一般式（［）で示される環状アミド誘
導体を有効成分としてなる。
本発明化合物を除草剤として、水田、畑地、樹園地、非
農耕地等に使用する場合、その目的に応じて有効成分を
適当な剤形で用いることができる。
通常は有効成分を不活性な液体又は固体の担体で希釈し
、必要に応じて界面活性剤、その他をこれに加え、粉剤
、水和剤、乳剤、粒剤等の製剤形態で使用できる。更に
本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除
草剤、植物生長調節剤。
肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例を挙げて製剤方法を具体的に説明す
る。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
製剤例１　水和剤 化合物（１）１０部、エマルゲン８１０（花王株式会社
の登録商標）０５部、デモールＮ（花王株式会社の登録
商標）０．５部、クニライト２０１（クニミネ工業株式
会社の登録商標）２０部、ジ−クライトＣＡ（ジ−クラ
イト株式会社の登録商標）６９部を均一に混合粉砕して
水和剤とした。
製剤例２　水和剤 化合物（２）１０部、エマルケン８１００．５部、デモ
ールＮ　０１５部、ダニライト２０１２０部、カープレ
ックス８０（塩野義製薬株式会社の登録商標）５部、　
ジ−クライトＣＡ　　６４部を均一に混合粉砕して水和
剤とした。
製剤例３　乳剤 化合物（３）３０部、キシレン３０部、イソホロン３０
部及び界面活性剤ツルポール８００Ａ　（東邦化学工業
株式会社の登録部ｌ１１）１０部を加え、これらをよく
撹拌することによって乳剤とした。
製剤例４　粒剤 化合物（４）１０部、タルク２０部、ベントナイト６０
部、ホワイトカーボン５部、界面活性剤ツルポール８０
０Ａの５部に水１０部を加え、よく練ってペースト状と
したものを直径０　、７　ｍｍのふるい穴から押し出し
て乾燥した後に０．５〜１鳳−の長さに切断して粒剤と
した。
（発明の効果） 一般式〔Ｉ〕で表される本発明の化合物は、水田に発生
するヒエ、タマガヤツリ、コナギ、キカシグサ、アゼナ
等の一年生雑草及びホタルイ、マツバイ、ヘラオモダカ
、ミズガヤツリ等の多年生雑草の発芽時から生育期の広
い範囲にわたって、極めて低い薬量で優れた除草効果を
発揮すると同時に、移植栽培あるいは直播栽培の水稲に
対しては高い安全性を有するものである。又、畑地にお
いても問題となる種々の雑草、例えばタデ、アオビユ、
シロザ、ハコベ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハ
マスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の
多年生および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシ
バ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラ
ス、ノスズメノテッポウ等のイネ科雑草に対して、土壌
処理あるいは茎葉処理で高い除草効果を示すと同時に大
豆、棉、砂糖ダイコン、陸稲、小麦等に対しては高い安
全性を示すという特徴を有するのである。
更に本発明の化合物は残効性に優れるため、圃場におい
ても長期にわたって安定した効果を示すものである。又
、樹園地、牧草地、芝生地、及び非農耕地等に用いるこ
ともできる。
次に試験例を挙げて本発明化合物の奏する効果を説明す
る。
試験例１（水田土壌処理による除草効果試験）１００　
ｃｗｔ”のプラスチックポットに水田土壌を充填し、代
掻後、タイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ及びホタルイ
の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤
例１に準じてｇ製した水和剤を水で希釈し、水面に滴下
処理した。施用量は、有効成分で１０アール当り４００
ｇとした。その後、温室内で育成し、処理２１日目に第
３表の基準に従い、除草効果を調査した。その結果を第
４表に示す。
１１！４表 第４表つづき 第４表つづき 第４表つづき 第４表つづき 第４表つづき 第４表つづき 試験例２（畑地土壌処理による＃草効果試験）１２０　
ｃｍ”プラスチックポットに畑地土壌を充填し、ヒエ、
メヒシバ、コゴメガヤツリの各種子を播種して覆土した
。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１０
アール当り有効成分が４００ｇになる様に、１０アール
当り１００Ｑを小型噴Ｉ１ｍで土壌表面に均一に散布し
た。その後、温室内で育成し５処理２１日目に第３表の
基準に従って、除草効果を調査した。その結果を第５表
に示す。
第５表つづき 第５表つづき 第５表つづき 試験例３（畑地茎葉処理による除草効果試験）１２０ｃ
■２プラスチツクポツトに畑地土壌を充填し、ヒエ、メ
ヒシバ、コゴメガヤツリの各種子を播種し、ヒエが３葉
期になるまで温室内で育成した。ヒエの３葉期に製剤例
１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１０アール当
り有効成分が４００ｇになる様に、１０アール当り１０
０Ｑを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処
理した。その後、温室内で育成し、処理２１日巨匠第３
表の基準に従って、除草効果を調査した。
その結果を第６表に示す。
第６表 試験例４（水田土壌処理による薬効、薬害試験）１１５
０００ａワグネルポツトに水田土壌を充填し、入水、代
掻後、萌芽したミズガヤツリの塊茎をポット当り３個体
づつ土壌表層に埋没させ、ヒエ及びホタルイの種子を播
種し、更に２．５葉期の水稲を移植深度２ｃｍで、２本
２株移植して水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例１に
準じて調製した水和剤の所定有効成分量を水で希釈し、
水面に滴下処理した。その後、温室内で育成し、処理３
０日巨匠第３表の基準に従い、除草効果及び薬害を調査
した。その結果を第７表に示す。
第７表 第７表つづき 第７表つづき 試験例５（畑地土壌処理における作物選択性試験）６０
０　ｃｔｓ”プラスチックポット各々に畑地土壌を充填
し、大豆、棉、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、ジョン
ソングラスを播種した。ポット底部より吸水させた後、
製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量を１
０アール当り１００Ｑの水で希釈し、小型噴霧器で土壌
表面に散布処理した。処理後再び温室内で育成し、処理
２１日目に第３表の基準に従って、除草効果及び薬害を
調査した。その結果を第８表に示す。
試験例６（畑地土壌処理における作物選択性試験）１２
０　ｃｍ”プラスチックポット各々に畑地土壌を充填し
、稲、小麦、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、ノスズメ
ノテッポウを播種した。ポット底部より吸水させた後、
製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量を１
０アール当り１００Ｑの水で希釈し、小型噴霧器で土壌
表面に散布処理した。処理後再び温室内で育成し、処理
２１日目に第３表の基準に従って、除草効果及び薬害を
調査した。その結果を第９表に示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
    ロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アル
    キルチオ基またはニトロ基を示し、Ｙは水素原子、ハロ
    ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
    基、アルキニル基、ハロアルキル基、フェニル基、アル
    コキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルキルアルコ
    キシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ベ
    ンジルオキシ基、フェノキシ基、ハロアルコキシ基、ア
    ルコキシアルコキシ基、シアノアルコキシ基、アルキル
    チオ基、ハロアルキルチオ基、アルケニルチオ基、アル
    キニルチオ基、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、基−
    Ｗ−ＣＨ−ＣＯＯＲ＾４（Ｗは酸素原子または硫黄原子
    を示し、Ｒ＾３は水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ
    ＾４はアルキル基を示す）、基▲数式、化学式、表等が
    あります▼（Ｒ＾５およびＲ＾６は水素原子またはアル
    キル基を示す）、アルキルスルホニル基、基▲数式、化
    学式、表等があります▼（Ｒ＾５およびＲ＾６は水素原
    子またはアルキル基を示す）、アルキルカルボニル基、
    アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、ニ
    トロ基、シアノ基またはヒドロキシ基を示し、Ｒは水素
    原子またはアルキル基を示し、Ｒ＾１及びＲ＾２は同一
    または相異なるアルキル基を示し、ｍは０または１を示
    し、ｎは１〜５の整数を示し、ｋは１〜２の整数を示す
    。Ｒ＾１とＲ＾２は相隣る炭素原子とともに環を形成す
    ることもできる。｝で表される環状アミド誘導体。
  2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
    ロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アル
    キルチオ基またはニトロ基を示し、Ｙは水素原子、ハロ
    ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
    基、アルキニル基、ハロアルキル基、フェニル基、アル
    コキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルキルアルコ
    キシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ベ
    ンジルオキシ基、フェノキシ基、ハロアルコキシ基、ア
    ルコキシアルコキシ基、シアノアルコキシ基、アルキル
    チオ基、ハロアルキルチオ基、アルケニルチオ基、アル
    キニルチオ基、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、基▲
    数式、化学式、表等があります▼（Ｗは 酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ＾３は水素原子また
    はアルキル基を示し、Ｒ＾４はアルキル基を示す）、基
    ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＾５およびＲ＾
    ６は水素原子またはアルキル基を示す）、アルキルスル
    ホニル基、基▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＾
    ５およびＲ＾６は水素原子またはアルキル基を示す）、
    アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、ヒド
    ロキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基またはヒドロ
    キシ基を示し、Ｒは水素原子またはアルキル基を示し、
    Ｒ＾１及びＲ＾２は同一または相異なるアルキル基を示
    し、ｍは０または１を示し、ｎは１〜５の整数を示し、
    ｋは１〜２の整数を示す。Ｒ＾１とＲ＾２は相隣る炭素
    原子とともに環を形成することもできる。｝で表される
    環状アミド誘導体を有効成分として含有する除草剤。
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