JP2854640B2 - 環状アミド誘導体および除草剤 - Google Patents

環状アミド誘導体および除草剤

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JP2854640B2 JP1319620A JP31962089A JP2854640B2 JP 2854640 B2 JP2854640 B2 JP 2854640B2 JP 1319620 A JP1319620 A JP 1319620A JP 31962089 A JP31962089 A JP 31962089A JP 2854640 B2 JP2854640 B2 JP 2854640B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新規な環状アミド誘導体に関するものであ
る。より詳しくは、本発明は後記の一般式〔I〕で表さ
れる新規な環状アミド誘導体、ならびにこれを含有する
除草剤に関するものである。
(従来の技術) これまで、環状アミド誘導体で除草活性を有するもの
がいくつか知られている。例えば、特開昭54−70283号
公報には次式 (但し、式中X1は水素原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子を示す。)で表される化
合物が除草剤としての活性を示すことが記載されてい
る。
また、米国特許第3,272,842号明細書には次式 (但し、式中Z1及びZ2は低級アルキル基又は、置換さ
れてもよいフェニル基を示し、Z3は水素原子、低級アル
キル基、シクロアルキル基、アルコキシアルキル基又は
テトラハイドロフルフリル基を示し、Z4は水素原子、低
級アルキル基、フェニル基又はナフチル基を示し、Z5
置換されてもよいフェニル、フェノキシ基、フェニルチ
オ基、ナフチル基、ナフチルオキシ基、ナフチルチオ基
又はチエニル基を示す。)で表される化合物が土壌処理
および茎葉処理における選択性除草剤として記載されて
いる。
また、ベルギー特許第857,684号明細書には次式 (但し、式中V1はハイドロキシ基、ハロゲン原子又は
アシルオキシ基を示し、V2はアリール基、アラルキル基
又は、ヘテロ環を示す。)で表される化合物が、選択性
除草剤として記載されている。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記に示されている従来の環状アミド
誘導体は、除草剤としてある程度の活性及び選択性を有
するが、それらは必ずしも満足できるものではない。
近年、作物に対して害を与えずに雑草のみを枯殺する
選択性作用を有する除草剤が強く要望されている。ま
た、ハマスゲやミズガヤツリ、ホタルイなど畑地あるい
は水田における難防除雑草を確実に防除できる有効な除
草剤が望まれている。さらに、低薬量で高い効果を示す
とともに環境中に長期間残留せず、地下水や河川の汚染
もない安全に使用できる薬剤の開発が望まれている。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは上記の目的を達成するため鋭意検討した
結果、下記一般式〔I〕で表される新規の置換α,α−
ジアルキルベンジル基を有する環状アミド誘導体が従来
の環状アミド誘導体に比べて高い除草活性と選択性を有
することを見い出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は次の一般式、 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
(好ましくはC1−C4のアルキル基)、ハロアルキル基
(好ましくはC1−C4のハロアルキル基)、アルコキシ基
(好ましくはC1−C4のアルコキシ基)、ハロアルコキシ
基(好ましくはC1−C4のハロアルコキシ基)、アルキル
チオ基(好ましくはC1−C4のアルキルチオ基)またはニ
トロ基を示し、Yは水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基(好ましくはC1−C8のアルキル基)、シクロアルキル
基(C3−C6のシクロアルキル基)、アルケニル基(好ま
しくはC2−C8のアルケニル基)、アルキニル基(好まし
くはC2−C8のアルキニル基)、ハロアルキル基(好まし
くはC1−C8のハロアルキル基)、フェニル基、アルコキ
シ基((好ましくはC1−C8のアルコキシ基)、シクロア
ルコキシ基(C3−C6のシクロアルコキシ基)、シクロア
ルキルアルコキシ基(C3−C6のシクロアルキルアルコキ
シ基)、アルケニルオキシ基(好ましくはC3−C8のアル
ケニルオキシ基)、アルキニルオキシ基(好ましくはC3
−C8のアルキニルオキシ基)、ベンジルオキシ基、フェ
ノキシ基、ハロアルコキシ基(好ましくはC1−C8のハロ
アルコキシ基)、アルコキシアルコキシ基(好ましくは
C1−C4のアルコキシC1−C4アルコキシ基)、シアノアル
コキシ基(好ましくはC1−C4のシアノアルコキシ基)、
アルキルチオ基(好ましくはC1−C8のアルキルチオ
基)、ハロアルキルチオ基(好ましくはC1−C8のハロア
ルキルチオ基)、アルケニルチオ基(好ましくはC3−C8
のアルケニルチオ基)、アルキニルチオ基(好ましくは
C3−C8のアルキニルチオ基)、ベンジルチオ基、フェニ
ルチオ基、 {Wは酸素原子または硫黄原子を示し、R3は水素原子ま
たはアルキル基(好ましくはC1−C4のアルキル基)を示
し、R4はアルキル基(好ましくはC1−C8のアルキル基を
示す}、 {R5およびR6は水素原子またはアルキル基(好ましくは
C1−C4のアルキル基)を示す}、アルキルスルホニル
基、 {R5およびR6は水素原子またはアルキル基(好ましくは
C1−C4のアルキル基)を示す}、アルキルカルボニル基
(好ましくはC1−C4のアルキルカルボニル基)、アルコ
キシカルボニル基(好ましくはC1−C4のアルコキシカル
ボニル基)、ヒドロキシカルボニル基、ニトロ基、シア
ノ基またはヒドロキシ基を示し、Rは水素原子またはア
ルキル基(好ましくはC1−C4のアルキル基)を示し、R1
及びR2は同一または相異なるアルキル基(好ましくはC1
−C4のアルキル基)を示し、mは0または1を示し、n
は1〜5の整数を示し、kは1〜2の整数を示す。R1
R2は相隣る炭素原子とともに環を形成することもでき
る。〕で表される環状アミド誘導体およびこれを有効成
分として含有することを特徴とする除草剤を提供するも
のである。
次に、一般式〔I〕で表される本発明化合物の代表例
を第1表に例示する。なお、化合物番号は以後の記載に
おいて参照される。
一般式〔I〕で表される本発明化合物は以下に示す方
法により製造することができる。
(1)一般式〔I〕においてRがアルキル基である本発
明化合物の製造法 (式中、Aはハロゲン原子を示し、X、Y、R1、R2
m、k及びnは前記と同じ意味を示す。) m=0の場合には、一般式〔II〕で表されるベンジル
アミン誘導体を一般式〔III〕で表される化合物と無溶
剤又は適切な溶剤中、窒素気流下で反応させ中間体
〔V〕を収率よく得ることができる。反応は塩基の存在
下に好適に行われる。温度は室温以上、好ましくは50℃
〜130℃で行われる。反応終了後、中間体〔V〕は常法
に従って反応混合物から取り出すことができる。例え
ば、反応混合物をそのまま水洗後、溶剤を留去するか、
あるいは反応混合物を水にあけ、水不混和溶剤で抽出
し、溶剤を留去することによって得ることができる。さ
らに必要ならば蒸留あるいはカラムクロマトグラフィー
等によって精製することができる。反応で使用される溶
剤としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな炭化水素類、エチルアルコール、メチルアルコール
のようなアルコール類、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル類、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンのよう
なケトン類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シドのような非プロトン性極性溶剤類などをあげること
ができる。また使用される塩基としてはトリエチルアミ
ン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルモ
ルホリン、キノリンのような有機アミン類、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのような無機塩基類、ナトリウムメチラート、ナトリ
ウムエチラートのような金属アルコラート類および水素
化ナトリウムなどをあげることができる。
また、m=1の場合には中間体〔V〕は一般式〔II〕
で表されるベンジルアミン類を一般式〔IV〕で表される
化合物と反応させて製造できる。本方法の反応は無溶剤
又は適切な溶剤中、窒素気流下で行われる。また必要な
らば適切な触媒を加える。そして室温あるいは必要に応
じ加熱または、冷却しながら反応させる。好ましくは0
℃〜100℃でおこなわれる。反応終了後、中間体〔V〕
は常法に従って取り出すことができる。例えば、減圧
下、低沸点物を留去するか、あるいは反応混合物を水洗
後、溶剤を留去することなどによって得られる。必要な
らば蒸留あるいはカラムクロマトグラフィー等によって
精製することができる。有機溶剤としては、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、エチル
アルコール、メチルアルコールのようなアルコール類、
ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタンのようなエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類等を使用す
ることができる。触媒としてはトリエチルアミン、ピリ
ジンのような有機アミン類、ナトリウムエチラートのよ
うな金属アルコラート類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ムのような無機塩基類並びに塩化銅などを使用すること
ができる。
次に、得られた化合物〔V〕を適切な有機溶剤に溶解
して、一般式〔VI〕で表される置換フェニル酢酸の反応
性誘導体と反応させることによって中間体〔VII〕を収
率よく得ることができる。反応は室温あるいは必要に応
じて加熱または冷却しながら反応させる。好ましくは−
10℃〜50℃でおこなわれる。また反応は塩基の存在下で
好適に行われる。塩基はそのまま、または水溶液として
加えることができる。反応終了後、中間体〔VII〕は常
法に従って反応混合物から得ることができる。例えば、
反応混合物に水を加え、水洗し、溶剤を留去するか、あ
るいは水にあけ、水不混和溶剤で抽出し、溶剤を留去す
ることによって得ることができる。必要ならば再結晶、
蒸留あるいはカラムクロマトグラフィー等によって精製
することができる。有機溶剤としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチル
エチルケトンのようなケトン類、アセトニトリル、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
のような非プロトン性極性溶剤類などをあげることがで
きる。また置換フェニル酢酸の反応性誘導体としては酸
無水物、酸塩化物、酸臭化物、活性エステル類などがあ
り、これらは置換フェニル酢酸から既知の方法を使用し
て容易に合成することができる。塩基としてはトリエチ
ルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メ
チルモルホリン、キノリンのような有機アミン類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムのような無機塩基類などを使用することができ
る。
得られた一般式〔VII〕で表わされる中間体を適切な
有機溶剤中で閉環させることにより一般式〔I〕におい
てRがアルキル基である本発明化合物が純度よく、しか
も高収率で得られる。反応温度は室温から溶剤の沸点の
範囲で行われる。またこの反応は適切な反応助剤の存在
下で好適に行われる。反応終了後は、目的物を反応混合
物から常法により取り出すことができる。例えば、反応
混合物を水洗し、溶剤を留去するか、あるいは溶剤を留
去後、水を加え、水不混和有機溶剤で抽出し、溶剤を留
去することによって得ることができる。さらに必要なら
ば再結晶あるいはカラムクロマトグラフィー等によって
精製することができる。反応で使用される有機溶剤とし
ては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような炭
化水素類、エチルアルコール、メチルアルコールのよう
なアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類、塩化メチレン、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類、アセトニトリ
ル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシドのような非プロトン性極
性溶剤類などをあげることができる。反応助剤としては
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウムのような無機塩基類、ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート、ターシャリーブトキシカリ
ウムのような金属アルコラート類などを使用することが
できる。
本発明化合物を製造するに際して、中間体となる一般
式〔II〕で表されるベンジルアミン誘導体のうちα,α
−ジメチルベンジルアミン類の一部は新規化合物であ
り、次の方法により製造することができる。
(式中のQはハロゲン、アルコキシ基、ベンジルオキ
シ基、またはフェノキシ基を示し、Y、A及びnは前記
と同じ意味を示す。) 方法1 置換α,α−ジメチルベンジルアルコール〔b〕は
〔a〕で表される置換安息香酸ハライドあるいは置換安
息香酸エステルとグリニャー試薬であるメチルマグネシ
ウムハライドと反応させることによって得ることがで
き、さらにハロゲン化剤でハロゲン化して、置換α,α
−ジメチルベンジルハライド〔c〕を得ることができ
る。次に、得られた置換α,α−ジメチルベンジルハラ
イド〔c〕をシアン酸塩と反応させ、生成した置換α,
α−ジメチルベンジルイソシアネート〔d〕を塩酸で加
水分解することによって一般式〔II〕で表される置換
α,α−ジメチルベンジルアミンを得ることができる。
ここで化合物〔a〕は〔l〕から既知の方法により容易
に得ることができる。また、置換α,α−ジメチルベン
ジルアルコール〔b〕はアセトフェノン誘導体〔m〕と
メチルマグネシウムハライドとの反応からも製造するこ
とができるし、ハロゲノベンゼン誘導体〔n〕から得ら
れるフェニルマグネシウムハライド〔o〕にアセトンを
反応させても置換α,α−ジメチルベンジルアルコール
〔b〕を製造することができる。置換α,α−ジメチル
ベンジルハライド〔c〕も上記の方法以外に、置換イソ
プロピルベンゼン〔p〕のハロゲン化あるいはメチルス
チレン誘導体〔q〕とハロゲン化水素との反応によって
も製造することができる。
方法2 方法1により得ることができる置換α,α−ジメチル
ベンジルアルコール〔b〕とシアン化ナトリウムからリ
ッター(Ritter)反応によりN−置換α,α−ジメチル
ベンジルホルムアミド〔e〕を得ることができる。次
に、この化合物を塩酸で加水分解することによって収率
良く一般式〔II〕で表される置換α,α−ジメチルベン
ジルアミンを得ることができる。
方法3 方法1により得ることができる置換α,α−ジメチル
ベンジルアルコール〔b〕にトリメチルシリルアジドを
反応させ、得られた置換α,α−ジメチルベンジルアジ
ド〔f〕を、例えば水素化ホウ素ナトリウムやMg−CH3O
Hのような還元剤でもって還元するか、あるいはPd−BaS
O4やPb−Cのような触媒の存在下水素で還元して一般式
〔II〕で表される置換α,α−ジメチルベンジルアミン
を得ることができる。
方法4 置換安息香酸ハライド〔a〕を適切な還元剤で還元し
て置換ベンジルアルコール〔g〕にし、次にハロゲン化
剤でハロゲン化して置換ベンジルハライド〔h〕を得る
ことができる。またこの置換ベンジルハライド〔h〕は
化合物〔r〕をハロゲン化しても製造することができ
る。次に、シアノ化して置換ベンジルシアニド〔i〕を
得、ジメチル化によって置換α,α−ジメチルベンジル
シアニド〔j〕を得ることができる。この化合物〔j〕
を加水分解すれば置換フェニル酢酸アミド〔k〕を得る
ことができ、次にホフマン(Hofmann)反応によって一
般式〔II〕で表される置換α,α−ジメチルベンジルア
ミンを得ることができる。このようにして得られたα,
α−ジメチルベンジルアミン類を第2表に例示する。
(2)一般式〔I〕においてRが水素原子である本発明
化合物の製造法 (式中、R7はアルキル基またはフェニル基を示し、
R1、R2、X、Y、m、k及びnは前記と同じ意味を示
す。) 中間体〔VIII〕を無溶剤、あるいは適切な溶剤中、ア
シル化剤を作用させ中間体〔IX〕を得ることができる。
反応は塩基の存在下に好適に行われる。また、必要であ
れば加熱あるいは冷却して反応させることができる。好
ましくは0℃〜50℃で行われる。反応終了後は、常法に
従って中間体〔IX〕を反応混合物から取り出すことがで
きる。例えば、反応混合物に氷水を加え、適切な水不混
和溶剤で抽出し、水洗し、溶剤を留去して中間体〔IX〕
を収率よく得ることができる。アシル化剤としては酢酸
クロリド、プロピオン酸クロリド、安息香酸クロリドの
ような酸ハロゲン化物または無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水安息香酸のような酸無水物が使用できる。溶剤
としてはベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水
素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類、塩化メチ
レン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ア
セトン、アセトニトリル、ピリジンなどが使用できる。
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基類あるいはトリ
エチルアミン、ピリジン、DBU等の有機アミン類が使用
できる。
次に、中間体〔IX〕を適切な溶剤中、適切な触媒の存
在下、常圧あるいは必要に応じて加圧下で、常温または
必要に応じて加熱しながら水素添加させることによって
中間体〔XI〕を得ることができる。反応終了後は触媒を
濾別し、溶剤を留去すれば中間体〔XI〕を取り出すこと
ができる。また、必要であれば再結晶あるいはカラムク
ロマトグラフィー等により精製できる。触媒としてはPd
−BaSO4、酸化白金、Pd−C等が使用できる。溶剤とし
てはエチルアルコール、メチルアルコール、アセトンな
どを使用することができる。
また、m=1の場合には中間体〔XI〕は中間体〔VII
I〕から中間体〔X〕を経て次の方法によっても製造す
ることができる。
すなわち、中間体〔VIII〕を有機溶剤に溶解して、適
切な還元剤を加え反応させ、中間体〔X〕を得ることが
できる。温度は室温から溶剤の沸点の範囲で行われる。
反応終了後は常法により中間体〔X〕を取り出すことが
できる。例えば、反応混合物を水に注ぐか、あるいは溶
剤を留去後に水を加える。結晶が析出すれば濾過により
取り出すことができる。析出しなければ水不混和溶剤で
抽出し、溶剤を留去すれば、中間体〔X〕が収率よく得
られる。必要ならば再結晶、蒸留あるいはカラムクロマ
トグラフィー等によって精製することができる。有機溶
剤としてはベンゼン、トルエン、キシレンなどのような
炭化水素類、エチルアルコール、メチルアルコールなど
のようなアルコール類、エーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのようなエーテル
類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミドなどのような非プロトン性極性溶剤類等を使用す
ることができる。また還元剤としてはナトリウム、アン
モニウムリチウム、ナトリウムアマルガム、亜鉛、アル
ミニウム、水素化トリブチル錫、水素化リチウムアルミ
ニウム、水素化アルミニウムトリターシャリーブトキシ
リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホ
ウ素リチウムなどを使用することができる。
次に、得られた中間体〔X〕を適切な有機溶剤に溶解
し適切なアシル化剤及び塩基を加えて反応させ、中間体
〔XI〕を製造できる。温度は室温あるいは必要に応じて
加熱または冷却しながら行うことができるが、好ましく
は0℃〜溶剤の沸点の範囲で行われる。反応終了後は常
法により中間体〔XI〕を取り出すことができる。例え
ば、反応混合物を水に注ぎ、水不混和性溶剤で抽出し、
水洗後濃縮することによって得ることができる。必要な
らば再結晶、蒸留あるいはカラムクロマトグラフィー等
によって精製することができる。アシル化剤としては酢
酸クロリド、プロピオン酸クロリド、安息香酸クロリド
などのような酸ハロゲン化物、無水酢酸、無水プロピオ
ン酸、無水安息香酸などのような酸無水物等が使用でき
る。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウムなどのような無機塩基類、ナトリウムエ
チラート、ナトリウムメチラート、ターシャリーブトキ
シカリウムなどのような金属アルコラート類、ピリジ
ン、トリエチルアミンなどのような有機アミン類等を使
用することができる。有機溶剤としてはベンゼン、トル
エン、キシレンなどのような炭化水素類、クロロホル
ム、塩化メチレン、クロルベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタンなどのようなエーテル
類、アセトン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ピリジンなどの
ような非プロトン性極性溶剤類等を使用することができ
る。
上記2つの方法で得られる中間体〔XI〕を適切な溶剤
中で塩基の存在下反応させ、一般式〔I〕においてRが
水素原子である本発明化合物を得ることができる。反応
は室温以上、好ましくは室温から溶剤の沸点の温度で行
われる。反応終了後、反応混合物から常法に従って目的
物を取り出すことができる。例えば、反応混合物を水洗
後に溶剤を留去するか、あるいは水にあけ、適切な溶剤
で抽出し、水洗し、濃縮することによって得ることがで
きる。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基類、ト
リエチルアミン、ピリジン、DBU等の有機アミン類など
が使用できる。溶剤としてベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような炭化水素類、エチルアルコール、メチルアル
コールのようなアルコール類、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、ピリジン、アセトニトリルのような非プロトン性極
性溶剤類などを使用することができる。
次に、Rが水素原子である本発明化合物の製造の際に
出発物質として使用する中間体〔VIII〕の製造法につい
て説明する。
(式中、R1、R2、R7、X、Y、A、m、k及びnは前
記と同じ意味を示す。) m=0の場合には、一般式〔II〕で表されるベンジル
アミン類を無溶媒、又は適切な溶媒中、一般式〔XII〕
で表されるハロゲン化酢酸エステル類誘導体と反応させ
ることによって中間体〔XIV〕を収率よく得ることがで
きる。反応は有機溶剤中、塩基の存在下に好適に行われ
る。温度は室温あるいは必要に応じて加熱または冷却し
ながら行われるが、好ましくは0℃から溶剤の沸点の範
囲で行われる。反応終了後、中間体〔XIV〕は常法に従
って反応混合物から取り出すことができる。例えば、反
応混合物を水洗後溶剤を留去するか、あるいは反応混合
物を水にあけ、水不混和性溶剤で抽出し、溶剤を留去す
ることによって得ることができる。さらに必要ならば蒸
留あるいはカラムクロマトグラフィー等によって精製す
ることができる。反応で使用される溶剤としては、例え
ばベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、
エチルアルコール、メチルアルコールのようなアルコー
ル類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類、塩化メチ
レン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ア
セトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、アセト
ニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシドのような非プロト
ン性極性溶剤類などをあげることができる。また使用さ
れる塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、N,N−
ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、キノリンの
ような有機アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような無機塩基
類、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラートのよ
うな金属アルコラート類および水素化ナトリウムなどを
あげることができる。
また、m=1の場合には中間体〔XIV〕は一般式〔I
I〕で表されるベンジルアミン類と一般式〔XIII〕で表
されるアクリル酸エステル類と反応させることによって
製造できる。本方法の反応は無溶剤又は適切な溶剤中、
窒素気流下で行われる。また必要ならば適切な触媒を加
える。反応温度は室温以上、好ましくは50℃〜150℃で
行われる。反応終了後、中間体〔XIV〕は常法に従って
取り出すことができる。例えば、減圧下、低沸点物を留
去するか、あるいは反応混合物を水洗後、溶剤を留去す
ることなどによって得られる。必要ならば蒸留あるいは
カラムクロマトグラフィー等によって精製することがで
きる。溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レンのような炭化水素類、エチルアルコール、メチルア
ルコールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのよ
うなエーテル類、塩化メチレン、クロロホルムのような
ハロゲン化炭化水素類等を使用することができる。触媒
としてはトリエチルアミン、ピリジンのような有機アミ
ン類、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラートの
ような金属アルコラート類、炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウムのような無機塩基類などを使用することができる。
次に、得られた化合物〔XIV〕を適切な有機溶剤に溶
解して、一般式〔VI〕で表される置換フェニル酢酸の反
応性誘導体と反応させることによって中間体〔XV〕を収
率よく得ることができる。反応は室温あるいは必要に応
じて加熱または冷却しながら反応させる。好ましくは0
℃から溶剤の沸点の範囲で行われる。また反応は塩基の
存在下に好適に行われる。塩基はそのまま、または水溶
液として加えることができる。反応終了後、中間体〔X
V〕は常法に従って反応混合物から得ることができる。
例えば、反応混合物に水を加え、水洗し、溶剤を留去す
るか、あるいは水にあけ、水不混合溶剤で抽出し、溶剤
を留去することによって得ることができる。必要ならば
再結晶、蒸留あるいはカラムクロマトグラフィー等によ
って精製することができる。有機溶剤としては、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジ
エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類、塩化メチレン、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類、アセトニトリ
ル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミドのような非プロトン性極性溶剤類などをあげるこ
とができる。また、置換フェニル酢酸の反応性誘導体と
しては酸無水物、酸塩化物、酸臭化物、活性エステル類
などがあり、これらは置換フェニル酢酸から既知の方法
を使用して容易に合成することができる。塩基としては
トリエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N−メチルモルホリン、キノリンのような有機アミ
ン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムのような無機塩基類などを使用する
ことができる。
得られた中間体〔XV〕を無溶剤、又は適切な溶剤中、
反応助剤の存在下、環化させて中間体〔VIII〕を得るこ
とができる。反応は室温以上、好ましくは室温から溶剤
の沸点の範囲で行われる。反応終了後は、常法に従って
中間体〔VIII〕を反応混合物から取り出すことができ
る。例えば、溶剤を留去し、残渣を氷水にあけ塩酸で酸
性にすれば中間体〔VIII〕が析出する。これを濾集し、
水洗するか、あるいは適切な水不混和有機溶剤で抽出後
水洗し、濃縮することによって取り出すことができる。
必要ならば再結晶あるいはカラムクロマトグラフィー等
によって精製することができる。溶剤としてはベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、エチルア
ルコール、メチルアルコールのようなアルコール類、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのよ
うなエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドのような非プロ
トン性極性溶剤類などが使用できる。また、反応助剤と
しては水素化ナトリウムのような金属水素化物、ナトリ
ウムエチラート、ナトリウムメチラート、ターシャリー
ブトキシカリウムのような金属アルコラート類、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムのような無機強塩基類を使
用することができる。
なお、中間体〔VIII〕は互変異性を有し、下記の通り
エノール体とケト体のとり得る。
(3)一般式〔I〕においてYがヒドロキシ基である化
合物の製造法 (式中、R、R1、R2、X、Y、m、kおよびnは前記
と同じ意味を示す。) 一般式〔XVI〕で表される化合物を有機溶剤中、塩基
の存在下、脱アルキル化剤と反応させ化合物〔XVII〕を
製造することができる。反応は0℃から溶剤の沸点の範
囲で行われる。反応終了後、反応液を氷水に注ぎ、酸性
にしてから水不混和有機溶剤で抽出し、濃縮すれば取り
出すことができる。必要ならば再結晶あるいはカラムク
ロマトグラフィー等によって精製することができる。脱
アルキル化剤としてはエチルメルカプタンが使用され、
塩基としては水素化ナトリウムが使用できる。反応溶剤
としてはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
のような非プロトン性極性溶剤類をあげることができ
る。
(4)一般式〔I〕においてYがアルコキシ基、シク
ロアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキ
シ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、ハロアルコキ
シ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシカルボニル
アルコキシ基あるいはシアノアルコキシ基である化合物
の製造法 (式中、R8はアルキル、シクロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル、ベンジル、フェニル、ハロアルキル、
アルコキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキルを
示し、R、R1、R2、X、Y、A、m、kおよびnは前記
と同じ意味を示す。) 製造法(3)で得られた化合物〔XVII〕に塩基の存在
下、適切な溶剤中で一般式〔XIX〕で表される各種のア
ルキル化剤を反応させることによって一般式〔XVIII〕
で表される化合物を製造することができる。反応は室温
から溶剤の沸点の範囲で行われる。反応終了後、大量の
水に注ぎ水不混和溶剤で抽出し、濃縮すれば一般式〔XV
III〕で表される化合物を得ることができる。必要に応
じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにて精製
できる。塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのような無機塩
基類、トリエチルアミン、ピリジンのような有機アミン
類が使用できる。反応溶剤としてはメチルアルコール、
エチルアルコールなどのようなアルコール類、アセトニ
トリル、ジメチルホルムアミドジメチルアセトアミドな
どのような非プロトン性極性溶剤類等が使用できる。
(5)一般式〔I〕においてYがアルキルスルホニル基
およびフェニルスルホニル基である化合物の製造法 (式中、R9はアルキルを示し、R、R1、R2、X、Y、
A、m、kおよびnは前記と同じ意味を示す。) 一般式〔XX〕で表される化合物を適当な溶剤中で酸化
して一般式〔XXI〕で表される化合物を製造することが
できる。反応は0℃〜50℃の範囲で好適に行われる。反
応終了後は氷水に注ぎ、濾過あるいは抽出によって取り
出すことができる。酸化剤として、オキソンが使用され
る。反応溶剤としてメチルアルコール/水の混合溶剤が
使用できる。
次に、参考例及び実施例を挙げて本発明化合物及びそ
の中間体の製造方法について具体的に説明する。
参考例1 3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミンの製
造 水酸化ナトリウム18.0g(0.45モル)の水100ml水溶液
を氷水にて冷却し、0℃で臭素14.4g(0.09モル)を徐
々に滴下した。滴下後、溶液を室温に戻し0.5時間攪拌
を続け、次に3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルフェニ
ルアセトアミド20.9g(0.09モル)を0℃で一度に加え
た。冷却し、そのまま1時間攪拌を続けた後、80℃に加
熱し1時間反応させた。室温に戻した後、エーテルにて
抽出し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留
去して無色液体の目的化合物11.2g(収率61.1%)を得
た。
屈折率▲n20 D▼1.5491。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.44(s,6H)1.30−1.74(br,2
H)7.10−7.50(m,3H) 参考例2 3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミンの製
造 7mlの酢酸に20℃以下でシアン化ナトリウム2.83g(5
7.8ミルモル)を少しずつ加えた。得られた懸濁液に濃
硫酸7mlと酢酸7mlの混合溶液を20℃以下で滴下し、さら
に室温で1時間攪拌した。次に、3,5−ジクロロ−α,
α−ジメチルベンジルアルコール10.3g(50ミリモル)
を20℃以下で滴下した。反応混合物を室温で2日間攪拌
した後、氷水に注ぎ、炭酸カリウムでアルカリ性にし
て、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を水洗、乾
燥したのち濃縮した。得られた固体をn−ヘキサンで洗
い、濾過して白色針状結晶のN−(3,5−ジクロロ−
α,α−ジメチルベンジル)ホルムアミド8.2g(収率7
0.7%)を得た。融点115〜117℃。
次に、得られたN−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメ
チルベンジル)ホルムアミド1.16g(5ミリモル)と2
規定塩酸8mlの混合物を30分間還流した。冷却後、水酸
化ナトリウム水溶液でアルカリ性とし、エーテルで抽出
した。エーテル溶液を水洗、乾燥した後に濃縮して目的
化合物1.0g(収率98.0%)を得た。
参考例3 3,4,5−トリクロロ−α,α−ジメチルベンジルアミン
の製造 3,4,5−トリクロロ−α,α−ジメチルベンジルクロ
ライド100g(0.388モル)をトルエン500mlに溶解し、こ
れにシアン酸銀76g(0.507モル)を加えて水浴上80℃で
1時間攪拌した。反応終了後、不溶物を濾過し、トルエ
ンを留去して3,4,5−トリクロロ−α,α−ジメチルベ
ンジルイソシアネートを得た。この生成物を1.5lの8規
定塩酸にメカニカルスターラーで攪拌しながら60〜65℃
で徐々に滴下した。60〜65℃で2時間攪拌した後、室温
で一夜攪拌を続けた。析出したアミンの塩酸塩を濾取し
トルエンで洗浄した。さらに濾液をトルエンで洗浄した
後、その水層と濾取したこの塩酸塩をまぜて苛性ソーダ
溶液でアルカリ性とし、エーテルで抽出した。エーテル
層を水洗し乾燥した後、留去して白色結晶の目的化合物
37.8g(収率41%)を得た。融点56〜59℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.43(s,6H)1.40−1.66(br,2
H)7.50(s,2H) 参考例4 3,5−ジクロロ−4−メトキシ−α,α−ジメチルベン
ジルアミンの製造 3,5−ジクロロ−4−メトキシ−α,α−ジメチルベ
ンジルアルコール23.6g(0.1モル)、トリメチルシリル
アジド13.9g(0.12モル)のベンゼン溶液を氷水で冷却
し、三フッ化ほう素エチルエーテル17.1g(0.12モル)
を攪拌しながら20℃以下で滴下した。滴下終了後そのま
ま1時間攪拌を続け、さらに室温で4時間攪拌した。反
応溶液を氷水にあけ有機層を飽和重曹水および水で洗っ
た。このベンゼン溶液にn−ヘキサデシル トリ−n−
ブチルホスホニウム ブロマイド5.1g(0.01モル)を加
え、80℃で水素化ホウ素ナトリウム32.4g(0.9モル)の
水溶液を3回に分けて滴下した。反応溶液を水にあけ、
有機層を水洗した後、濃塩酸を加え分液した。水層を水
酸化ナトリウムでアルカリ性にした後、エーテルにて抽
出した。エーテル溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧にて溶媒を留去し目的化合物14.9g(収率64
%)を得た。
屈折率▲n20 D▼1.5460。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.45(s,6H)1.50(s,2H)3.86
(s,3H)7.40(s,2H) 参考例5 1−(3−クロロ−α,α−ジメチルベンジルアミ
ノ)−2−プロパノンの製造 クロロアセトン27.8g(0.3モル)、3−クロロ−α,
α−ジメチルベンジルアミン16.0g(0.1モル)およびト
リエチルアミン11.2g(0.11モル)をN,N−ジメチルアセ
トアミド200mlに溶解し、攪拌しながら80℃で3時間加
熱した。反応溶液を冷却した後、大量の水にあけ、トル
エンにて抽出した。水洗した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、トルエンを減圧下にて留去した後、蒸留して
目的化合物6.9g(収率30.6%)を得た。
融点100〜105℃/0.05mmHg。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.43(s,6H)2.06(s,3H)2.33
(s,1H)3.30(s,2H)7.32(m.4H) 参考例6 N−(3−クロロ−α,α−ジメチルベンジル)−N−
(2−オキソプロピル)フェニルアセトアミドの製造 参考例5の方法で製造した1−(3−クロロ−α,α
−ジメチルベンジルアミノ)−2−プロパノン22.6g
(0.1モル)をアセトン200mlに溶解し、炭酸カリウム1
4.0g(0.11モル)を加え氷水にて冷却した後、攪拌しな
がらフェニル酢酸クロリド15.5g(0.1モル)を徐々に滴
下した。滴下終了後、室温に戻し3時間攪拌を続けた。
次いで、減圧下で溶媒を留去した後、水を加え、酢酸エ
チルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下にて溶媒を留去し残渣をn−ヘキサンにて結晶化して
目的化合物21.5g(収率62.5%)を得た。
融点98〜100℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.65(s,6H)2.18(s,3H)3.32
(s,2H)4.31(s,2H)7.32(m,9H) 実施例1 1−(3−クロロ−α,α−ジメチルベンジル)−4−
メチル−3−フェニル−3−ピロリン−2−オン(化合
物88)の製造 参考例6の方法に準じて製造したN−(3−クロロ−
α,α−ジメチルベンジル)−N−(2−オキソプロピ
ル)フェニルアセトアミド34.4g(0.1モル)をエチルア
ルコール200mlに溶解し、水酸化カリウム0.5g(0.009モ
ル)の粉末を加え、10分間加熱還流した。その後、減圧
下で溶媒を留去した後、水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留
去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−
ヘキサン−酢酸エチル)で精製した目的化合物21.2g
(収率65.2%)を得た。融点102〜103℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.76(s,6H)2.10(s,3H)3.90
(s,2H)7.26(m.9H) 参考例7 1−(3,5−ジクロロ−4−メトキシ−α,α−ジメチ
ルベンジルアミノ)−2−プロパノンの製造 クロロアセトン10.0g(0.1モル)、3,5−ジクロロ−
4−メトキシ−α,α−ジメチルベンジルアミン14.1g
(0.06モル)およびトリエチルアミン7.2g(0.07モル)
をN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解し、窒素雰囲
気下、攪拌しながら80℃で約3時間加熱した。反応溶液
を冷却した後、大量の水にあけ酢酸エチルにて抽出し
た。水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減
圧下で留去して目的化合物9.5g(収率89%)を得た。
屈折率▲n20 D▼1.5315。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.42(s,6H)2.11(s,3H)2.27
(s1H)3.30(s,2H)3.89(s,3H)7.33(s,2H) 参考例8 N−(3,5−ジクロロ−4−メトキシ−α,α−ジメチ
ルベンジル)−N−(2−オキソプロピル)フェニルア
セトアミドの製造 参考例7の方法で製造した1−(3,5−ジクロロ−4
−メトキシ−α,α−ジメチルベンジルアミノ)−2−
プロパノン8.8g(0.03モル)をアセトン40mlに溶解し、
炭酸カリウム4.6g(0.033モル)を加え、氷冷下、攪拌
しながらフェニル酢酸クロリド5.2g(0.033モル)を徐
々に滴下した。滴下終了後、室温に戻し3時間攪拌を続
けた。次いで減圧下で溶媒を留去し、水を加え酢酸エチ
ルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下
で溶媒を留去し、残渣をn−ヘキサンで結晶化して無色
結晶の目的化合物10.2g(収率83%)を得た。
融点126〜127℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.60(s,6H)2.20(s,3H)3.45
(s,2H)4.24(s,2H)3.93(s,3H)7.27(s,2H)7.62
(m,5H) 実施例2 1−(3,5−ジクロロ−4−メトキシ−α,α−ジメチ
ルベンジル)−4−メチル−3−フェニル−3−ピロリ
ン−2−オン(化合物143)の製造 参考例8の方法で製造したN−(3,5−ジクロロ−4
−メトキシ−α,α−ジメチルベンジル)−N−(2−
オキソプロピル)フェニルアセトアミド8.2g(0.02モ
ル)のエチルアルコール溶液に水酸化カリウム粉末0.5g
(0.008モル)を加え20分間加熱還流した。反応溶液を
冷却した後、エチルアルコールを減圧下に留去し、水を
加え酢酸エチルにて抽出した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下にて溶媒を留去し、さらにシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し無色結晶の目的化合
物5.2g(収率66%)を得た。融点136〜139℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.68(s,6H)2.17(s,3H)3.87
(s,3H)4.00(s,2H)7.29(s,2H)7.52(m,5H) 実施例3 1−(3,5−ジクロロ−α,α−ジメチルベンジル)−
3−(2−フルオロフェニル)−4−メチル−3−ピロ
リン−2−オン(化合物134)の製造 参考例8の方法に準じで製造したN−(3,5−ジクロ
ロ−α,α−ジメチルベンジル)−N−(2−オキソプ
ロピル)−2−フルオロフェニルアセトアミド(融点16
7〜170℃)6.8g(17ミルモル)をエチルアルコール30ml
に溶解し、水酸化カリウム粉末0.7g(11ミリモル)を加
え10分間加熱還流した。反応溶液を冷却した後、エチル
アルコールを減圧下に留去し、水を加え酢酸エチルにて
抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶
媒を留去し、得られた粗結晶をエチルアルコールで再結
して無色結晶の目的化合物3.1g(収率49%)を得た。
融点177〜180℃1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.83(s,6H)2.10(d,3H)4.13
(s,2H)7.30(m,7H) 実施例4 4−メチル−3−フェニル−1−(3,4,5−トリクロロ
−α,α−ジメチルベンジル)−3−ピロリン−2−オ
ン(化合物113)の製造 参考例8の方法に準じて製造したN−(2−オキソプ
ロピル)−N−(3,4,5−トリクロロ−α,α−ジメチ
ルベンジル)フェニルアセトアミド(融点149−153℃)
40g(96.9ミリモル)をエチルアルコール500mlに加熱し
て溶解し、水酸化カリウム粉末3.2g(48.5ミリモル)を
加え10分間加熱還流した。反応液を冷却後析出した結晶
を濾集し、水洗した後に風乾した。濾液は減圧下にて溶
媒を留去した後、水を加え酢酸エチルで抽出した。この
抽出液を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下にて溶媒を留去して結晶を得た。この結晶と先に
濾集した結晶とを合わせて酢酸エチルから再結晶して無
色結晶の目的化合物33.7g(収率88.1%)を得た。
融点181〜183℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.73(s,6H)2.16(s,3H)4.03
(s,2H)7.10−7.76(m,7H) 実施例5 1−(3,5−ジクロロ−4−フルオロ−α,α−ジメチ
ルベンジル)−4−メチル−3−フェニル−3−ピロリ
ン−2−オン(化合物114)の製造 参考例8の方法に準じて製造したN−(3,5−ジクロ
ロ−4−フルオロ−α,α−ジメチルベンジル)−N−
(2−オキソプロピル)フェニルアセトアミド4.0g(0.
01モル)をエチルアルコール50mlに溶解し、水酸化カリ
ウム粉末0.5g(0.009モル)を加え10分間加熱還流し
た。その後、減圧下で溶媒を留去し、水を加え酢酸エチ
ルにて抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下にて溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(n−ヘキサン−酢酸エチル)で精製して無色
結晶の目的化合物2.5g(67.5%)を得た。
融点164〜167℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.73(s,6H)2.12(s,3H)3.98
(s,2H)7.26(m,7H) 参考例9 4−(α,α−ジメチルベンジルアミン)−2−ブタノ
ンの製造 メチルビニルケトン14.0g(0.2モル)にα,α−ジメ
チルベンジルアミン27.0g(0.2モル)を加え、窒素雰囲
気下、室温にて2日間攪拌した。反応終了後、減圧下に
て低沸点物を留去し、目的化合物38.2g(収率93.9%)
を得た。沸点95〜105/0.08mmHg。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.43(s,6H)1.77(br,1H)2.0
4(s,3H)2.53(s,4H)7.33(m,5H) 参考例10 N−(α,α−ジメチルベンジル)−N−(3−オキソ
ブチル)フェニルアセトアミドの製造 参考例9の方法で製造した4−(α,α−ジメチルベ
ンジルアミノ)−2−ブタノン6.0g(0.029モル)をア
セトン50mlに溶解し、これに炭酸カリウム4.8g(0.035
モル)を加え、室温にて攪拌しながら、フェニル酢酸ク
ロリド5.4g(0.035モル)を滴下した。滴下終了後、反
応溶液を一昼夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を水に
あけ、酢酸エチルにて抽出し、水洗した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下にて留去した後、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン−
酢酸エチル)にて精製し、目的化合物7.0g(収率74.5
%)を得た。屈折率▲n20 D▼1.5571。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.70(s,6H)2.08(s,3H)2.70
(m,2H)3.47(s,2H)3.87(m,2H)7.17(m,10H) 実施例6 1−(α,α−ジメチルベンジル)−4−メチル−3−
フェニル−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン−2−オン
(化合物7)の製造 参考例10の方法で製造したN−(α,α−ジメチルベ
ンジル)−N−(3−オキソブチル)フェニルアセトア
ミド7.1g(0.022モル)をエチルアルコール50mlに溶解
し、水酸化カリウム0.33g(0.005モル)の粉末を加え、
1.5時間加熱還流した。その後、室温に戻し、エチルア
ルコールを減圧下に留去し、残渣に水を加え、酢酸エチ
ルにて抽出した。水洗した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧下にて留去した。得られた残渣をエ
チルアルコールで再結晶し、目的化合物4.5g(収率67.2
%)を得た。
融点108〜109℃1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.73(br,9H)2.30(t,2H)3.3
3(t,2H)7.20(m,10H) 実施例7 1−(3−クロロ−α,α−ジメチルベンジル)−4−
メチル−3−フェニル−1,2−5,6−テトラヒドロピリジ
ン−2−オン(化合物9)の製造 参考例10の方法に準じて製造したN−(3−クロロ−
α,α−ジメチルベンジル)−N−(3−オキソブチ
ル)フェニルアセトアミド15g(0.042モル)をエチルア
ルコール100mlに溶解し、水酸化カリウム1.3g(0.02モ
ル)の粉末を加えて、3時間加熱還流した。反応終了
後、エチルアルコールを減圧下にて留去した後、残渣に
氷水を加え、酢酸エチルにて抽出した。水洗した後、無
水硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を減圧下にて留去
した。得られた残渣をシリカゲルを充填したカラムクロ
マトグラフィー(n−ヘキサン−酢酸エチル)で精製し
て目的化合物6.8g(収率48.1%)を得た。
融点117〜118℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.70(s,6H)1.73(s,3H)2.42
(t,2H)3.47(t,2H)7.13(m,9H) 実施例8 1−(3,5−ジクロロ−4−フルオロ−α,α−ジメチ
ルベンジル)−4−メチル−3−フェニル−1,2,5,6−
テトラヒドロピリジン−2−オン(化合物84)の製造 参考例10の方法に準じて製造したN−(3,5−ジクロ
ロ−4−フルオロ−α,α−ジメチルベンジルアミノ)
−N−(3−オキソブチル)フェニルアセトアミド2.5g
(0.006モル)をエチルアルコール50mlに溶解し、水酸
化カリウム粉末0.5g(0.009モル)を加え10分間加熱還
流した。その後、減圧下で溶媒を留去し、水を加え酢酸
エチルにて抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧下にて溶媒を留去した後、シリカゲルクロマトグラ
フィー(n−ヘキサン−酢酸エチル)で精製し、目的化
合物1.4g(収率60.8%)を得た。
融点154〜159℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.65(s,6H)1.77(s,3H)2.52
(t,2H)3.56(t,2H)7.22(m,7H) 参考例11 2−(α,α−ジメチルベンジルアミノ)酢酸メチルの
製造 α,α−ジメチルベンジルアミン13.5g(0.1モル)を
アセトニトリル200mlに溶解し炭酸カリウム15g(0.11モ
ル)を加えた。これにブロモ酢酸メチル15.3g(0.1モ
ル)を氷冷下、徐々に滴下した。滴下終了後、室温に戻
し一昼夜攪拌し、塩を濾別し、アセトニトリルを減圧下
留去した。水を加え、酢酸エチルにて抽出し、よく水洗
した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減
圧下に留去した後、蒸留して目的化合物12.1g(収率60
%)を得た。
融点90〜100℃/0.06mmHg。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.50(s,6H)1.90(br,1H)3.1
6(s,2H)3.67(s.3H)7.33(m,5H) 参考例12 2−(N−フェニルアセチル−α,α−ジメチルベンジ
ルアミノ)酢酸メチルの製造 参考例11の方法で製造した2−(α,α−ジメチルベ
ンジルアミノ)酢酸メチル12g(58ミリモル)をアセト
ン100mlに溶解しこれに炭酸カリウム8.5g(61ミリモ
ル)を加えた。次に、アセトン20mlに溶解したフェニル
酢酸クロリド9.0g(58ミルモル)を氷冷下、徐々に滴下
した。滴下終了後、室温に戻しそのまま一昼夜攪拌し
た。反応溶液を氷水中にあけ析出した結晶を濾過にて取
り出した。水洗後、乾燥し、目的化合物15g(収率79
%)を得た。
融点99〜101℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.67(s,6H)3.33(br,2H)3.6
7(s,3H)4.20(br,2H)7.33(m,10H) 参考例13 1−(α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニル−2,
4−ピロリジンジオンの製造 参考例12の方法で製造した2−(N−フェニルアセチ
ル−α,α−ジメチルベンジルアミノ)酢酸メチル10g
(30ミリモル)をエチルアルコール100mlに溶解し、こ
れに28%ナトリウムメチラートのメチルアルコール溶液
17.4g(90ミリモル)を加え0.5時間加熱還流した。反応
溶媒を減圧下にて留去し、残渣を氷水中にあけ10%塩酸
にて酸性とし、析出した結晶を濾取した。これをエチル
アルコールで再結晶して目的化合物4.0g(収率46%)を
得た。
融点206〜208℃。1 H−NMR(CDCl3+DMSO−de,δ) 1.80(s,6H)3.87(s,2H)7.30(m,8H)7.90(m,2H)
10.5(br,1H) 参考例14 4−アセトキシ−1−(α,α−ジメチルベンジル)−
3−フェニル−3−ピロリン−2−オンの製造 参考例13の方法で製造した1−(α,α−ジメチルベ
ンジル)3−フェニル−2,4−ピロリジンジオン5g(17
ミリモル)を無水酢酸10mlとピリジン20mlの溶液に溶解
し、室温にて一昼夜攪拌した。反応溶液に氷水を加え、
酢酸エチルにて抽出し、よく水洗した後、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、イソプロ
ピルエーテルで再結晶して目的化合物4.2g(収率81%)
を得た。
融点149〜150℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.87(s,6H)2.23(s,3H)4.33
(s,2H)7.33(m,8H)7.77(m,2H) 参考例15 4−アセトキシ−1−(α,α−ジメチルベンジル)−
3−フェニル−2−ピロリジノンの製造 参考例14の方法で製造した4−アセトキシ−1−
(α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニル−3−ピ
ロリン−2−オン6.4g(20ミリモル)をメチルアルコー
ル100mlに溶解し、Pd−BaSO40.4gを加えて常圧、常温に
て水素添加した。反応終了後、触媒を濾別し、メチルア
ルコールを留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、目的化合物1.0g(収率15%)を
得た。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.73(s,3H)1.80(s,3H)1.87
(s,3H)3.33(d/d,1H)3.70(d/d,1H)3.90(d,1H)5.
43(m,1H)7.30(m,10H) 実施例9 1−(α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニル−3
−ピロリン−2−オン(化合物126)の製造 参考例15の方法で製造した4−アセトキシ−1−
(α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニル−2−ピ
ロリジノン0.7g(2ミリモル)をトルエン30mlに溶解
し、DBU0.36g(2.4ミルモル)を加え、5分間加熱還流
した。反応溶液を冷却し、トルエンを加えよく水洗した
後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下、溶媒を留
去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、目的化合物0.4g(収率73%)を
得た。
融点85〜86℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.83(s,6H)4.00(d,2H)7.33
(m.9H)7.83(m,2H) 参考例16 3−(α,α−ジメチルベンジルアミノ)プロピオン酸
エチルの製造 α,α−ジメチルベンジルアミン135.2g(1モル)に
アクリル酸エチルエステル100g(1モル)を加え、100
℃にて18時間攪拌した。反応生成物を蒸留して目的化合
物180.7g(収率77.8%)を得た。
沸点110〜125℃/0.06mmHg。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.23(t,3H)1.43(s,6H)1.63
(br,1H)2.50(m,4H)4.13(q,2H)7.33(m,5H) 参考例17 3−(N−フェニルアセチル−α,α−ジメチルベンジ
ルアミノ)プロピオン酸エチルの製造 参考例16の方法で製造した3−(α,α−ジメチルベ
ンジルアミノ)プロピオン酸エチル47.0g(0.2モル)を
アセトン200mlに溶解し、炭酸カリウム30g(0.22モル)
を加え、室温にてフェニル酢酸クロリド31.0g(0.2モ
ル)を滴下した。滴下終了後、反応溶液を一昼夜攪拌
し、反応溶媒を減圧下に留去した。残渣に水を加え、酢
酸エチルにて抽出し、水洗した後、無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥した。溶媒を減圧下に留去して目的化合物6
3.0g(収率89.1%)を得た。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.27(t,3H)1.67(s,6H)2.60
(m,2H)3.47(s.2H)3.80(m,2H)4.10(q,2H)7.17
(m,10) 参考例18 1−(α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニル−2,
4−ピペリジンジオンの製造 エチルアルコール500mlに金属ナトリウム12.8gを加え
てナトリウムエチラートを調製し、これに参考例17の方
法で製造した3−(N−フェニルアセチル−α,α−ジ
メチルベンジルアミノ)プロピオン酸エチル65.7g(0.1
86モル)を加え、1時間加熱還流した。反応液を室温ま
で冷却した後、エチルアルコールを減圧下に留去し、残
渣を氷水中にあけ、10%塩酸水溶液にて、酸性とし析出
した結晶を濾取した。得られた粗生成物をエチルアルコ
ールにて再結晶化し、目的化合物29.5g(収率51.6%)
を得た。
融点129〜132℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.83(s,6H)2.50(t,2H)3.37
(t,2H)4.50(s,1H)7.27(m,10H) 参考例19 1−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ヒドロキシ−
3−フェニル−2−ピペリドンの製造 参考例18の方法で製造した1−(α,α−ジメチルベ
ンジル)−3−フェニル−2,4−ピペリジンジオン4.0g
(0.013モル)をエチルアルコール50mlに溶解し、水素
化ホウ素ナトリウム0.27g(0.007モル)を室温にて加え
た。30分室温にて攪拌した後、エチルアルコールを減圧
下に留去し、残渣に水を加え、析出した結晶を濾取し
た。得られた粗生成物をエチルアルコールで再結晶して
目的化合物3.6g(収率90.0%)を得た。融点161〜163
℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.73(s,6H)2.07(m,2H)3.60
(m,2H)4.00(m,2H)7.20(m,10H) 参考例20 4−アセトキシ−1−(α,α−ジメチルベンジル)−
3−フェニル−2−ピペリドンの製造 参考例19の方法で製造した1−(α,α−ジメチルベ
ンジル)−4−ヒドロキシ−3−フェニル−2−ピペリ
ドン3.6g(0.0117モル)及び無水酢酸10mlをピリジン20
mlに溶解し、室温にて一昼夜攪拌した。反応終了後、反
応溶液を氷水中にあけ酢酸エチルにて抽出し、水洗した
後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下
にて留去し、目的化合物4.1g(定量的)を得た。屈折率
n201.5571。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.80(s,6H)1.93(s,3H)2.17
(m,2H)3.53(m,2H)3.80(d,1H)5.26(q,1H)7.23
(m,10H) 実施例10 1−(α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニル−1,
2,5,6−テトラヒドロピリジン−2−オン(化合物1)
の製造 参考例20の方法で製造した4−アセトキシ−1−
(α,α−ジメチルベンジル)−3−フェニル−2−ピ
ペリドン4.2g(0.012モル)をトルエン100mlに溶解し、
これにDBU2.7g(0.018モル)を加え10分間加熱還流し
た。反応溶液を室温にまで冷却し、水洗した後、減圧下
にて溶媒を留去した。残渣固体をエチルアルコールにて
再結晶し、目的化合物3.0g(収率75.0%)を得た。
融点119〜120℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.80(s,6H)2.40(m,2H)3.43
(t,2H)6.60(t,1H)7.27(m,10H) 実施例11 1−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシ−α,α−ジメ
チルベンジル)−4−メチル−3−フェニル−3−ピロ
リン−2−オン(化合物453)の製造 油性(約60%)水素化ナトリウム2.2g(0.05モル)の
DMF懸濁液を氷水にて冷却し、攪拌しながら10℃以下で
エチルメルカプタン5.1g(0.05モル)を滴下した。室温
に戻し、約30分間放置後、室温にて実施例2にて製造し
た1−(3,5−ジクロロ−4−メトキシ−α,α−ジメ
チルベンジル)−4−メチル−3−フェニル−3−ピロ
リン−2−オン(化合物143)15.7g(0.04モル)のDMF
溶液を加えた。溶液を約80℃に加熱し3時間反応させ
た。反応終了後、大量の氷水にあけ10%塩酸水溶液にて
酸性にした後、酢酸エチルにて抽出した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥の後、減圧にて溶媒を留去した。得られ
た固体をイソプロピルエーテルにて洗浄して無色結晶の
目的化合物11.0g(収率73.3%)を得た。
融点224〜227℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.77(s,6H)2.15(s,3H)3.97
(s,2H)7.17(s,2H)7.36(m,6H) 実施例12 1−(3,5−ジクロロ−4−エトキシ−α,α−ジメチ
ルベンジル)−4−メチル−3−フェニル−3−ピロリ
ン−2−オン(化合物438)の製造 実施例11にて製造した1−(3,5−ジクロロ−4−ヒ
ドロキシ−α,α−ジメチルベンジル)−4−メチル−
3−フェニル−3−ピロリン−2−オン1.2g(0.003モ
ル)のアセトニトリル溶液にヨウ化エチル0.6g(0.004
モル)、無水炭酸カルシウム0.6g(0.004モル)を加
え、攪拌しながら約30分間還流させた。反応終了後、大
量の水にあけ酢酸エチルにて抽出した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥の後、減圧にて溶媒を留去し、得られた固
体をイソプロピルエーテルにて洗浄して無色結晶の目的
化合物1.1g(収率91.6%)を得た。
融点133〜135℃。1 H−NMR(CDCl3,δ) 1.44(t,3H)1.77(s,6H)2.16
(s,3H)4.02(s,2H)4.15(q,2H)7.25(s,2H)7.41
(m,5H) 実施例13 1−(3−メチルスルホニル−α,α−ジメチルベンジ
ル)−4−メチル−3−フェニル−3−ピロリン−2−
オン(化合物383)の製造 実施例2の方法に準じて製造した1−(3−メチルチ
オ−α,α−ジメチルベンジル)−4−メチル−3−フ
ェニル−3−ピロリン−2−オン(化合物364)2.2g
(0.0065モル)のメチルアルコール/水(1/1)溶液を
5℃に冷却して、オキソン12g(0.020モル)の水30ml溶
液を5℃以下で滴下した。5℃で2時間攪拌した後、室
温でさらに2時間攪拌した。氷水200mlとイソプロピル
エーテル100mlを加え、10分間攪拌した後、濾過にて生
成物を取り出した。エーテルで洗い白色結晶の目的化合
物1.5g(収率62.3%)を得た。
融点162〜164℃。1 H−NMR(CDCl3+DMSO−d6,δ) 1.80(s,6H)2.17(s,3H)3.08(s,3H)4.13(s,2H)
7.30−8.33(m,9H) 本発明の除草剤は一般式〔I〕で示される環状アミド
誘導体を有効成分としてなる。
本発明化合物を除草剤として、水田、畑地、樹園地、
非農耕地等に使用する場合、その目的に応じて有効成分
を適当な剤形で用いることができる。通常な有効成分を
不活性な液体又は固体の担体で希釈し、必要に応じて界
面活性剤、その他をこれに加え、粉剤、水和剤、乳剤、
粒剤等の製剤形態で使用できる。更に本発明の化合物は
必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調
節剤、肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例を挙げて製剤方法を具体的に説明
する。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
製剤例1 水和剤 化合物(1)10部、エマルゲン810(花王株式会社の
登録商標)0.5部、デモールN(花王株式会社の登録商
標)0.5部、クニライト201(クニミネ工業株式会社の登
録商標)20部、ジークライトCA(ジークライト株式会社
の登録商標)69部を均一に混合粉砕して水和剤とした。
製剤例2 水和剤 化合物(2)10部、エマルゲン810 0.5部、デモール
N0.5部、クニライト201 20部、カープレックス80(塩
野義製薬株式会社の登録商標)5部、ジークライトCA64
部を均一に混合粉砕して水和剤とした。
製剤例3 乳剤 化合物(3)30部、キシレン30部、イソホロン30部及
び界面活性剤ソルポール800A(東邦化学工業株式会社の
登録商標)10部を加え、これらをよく攪拌することによ
って乳剤とした。
製剤例4 粒剤 化合物(4)10部、タルク20部、ベントナイト60部、
ホワイトカーボン5部、界面活性剤ソルポール800Aの5
部に水10部を加え、よく練ってペースト状としたものを
直径0.7mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に0.5〜
1mmの長さに切断して粒剤とした。
(発明の効果) 一般式〔I〕で表される本発明の化合物は、水田に発
生するヒエ、タマガヤツリ、コナギ、キカシグサ、アゼ
ナ等の一年生雑草及びホタルイ、マツバイ、ヘラオモダ
カ、ミズガヤツリ等の多年生雑草の発芽時から生育期の
広い範囲にわたって、極めて低い薬量で優れた除草効果
を発揮すると同時に、移植栽培あるいは直播栽培の水稲
に対しては高い安全性を有するものである。又、畑地に
おいても問題となる種々の雑草、例えばタデ、アオビ
ユ、シロザ、ハコベ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、
キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ
等の多年生および1年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メ
ヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソン
グラス、ノスズメノテッポウ等のイネ科雑草に対して、
土壌処理あるいは茎葉処理で高い除草効果を示すと同時
に大豆、棉、砂糖ダイコン、陸稲、小麦等に対しては高
い安全性を示すという特徴を有するのである。
更に本発明の化合物は残効性に優れるため、圃場にお
いても長期にわたって安定した効果を示すものである。
又、樹園地、牧草地、芝生地、及び非農耕地等に用いる
こともできる。
次に試験例を挙げて本発明化合物の奏する効果を説明
する。
試験例1(水田土壌処理による除草効果試験) 100cm2のプラスチックポットに水田土壌を充填し、代
掻後、タイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ及びホタルイ
の各種子を播種し、水深3cmに湛水した。翌日、製剤例
1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面に滴下処
理した。施用量は、有効成分で10アール当り400gとし
た。その後、温室内で育成し、処理21日目に第3表の基
準に従い、除草効果を調査した。その結果を第4表に示
す。
試験例2(畑地土壌処理による除草効果試験) 120cm2プラスチックポットに畑地土壌を充填し、ヒ
エ、メヒシバ、コゴメガヤツリの各種子を播種して覆土
した。製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、
10アール当り有効成分が400gになる様に、10アール当り
100lを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その
後、温室内で育成し、処理21日目に第3表の基準に従っ
て、除草効果を調査した。その結果を第5表に示す。
試験例3(畑地茎葉処理による除草効果試験) 120cm2プラスチックポットに畑地土壌を充填し、ヒ
エ、メヒシバ、コゴメガヤツリの各種子を播種し、ヒエ
が3葉期になるまで温室内で育成した。ヒエの3葉期に
製剤例1に準じて調製した水和剤を水に希釈し、10アー
ル当り有効成分が400gになる様に、10アール当り100lを
小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理し
た。その後、温室内で育成し、処理21日目の第3表の基
準に従って、除草効果を調査した。その結果を第6表に
示す。
試験例4(水田土壌処理による薬効、薬害試験) 1/5000aワグネルポットに水田土壌を充填し、入水、
代掻後、萌芽したミズガヤツリの塊茎をポット当り3個
体づつ土壌表面に埋没させ、ヒエ及びホタルイの種子を
播種し、更に2.5葉期の水稲を移植深度2cmで、2本2株
移植して水深3cmに湛水した。翌日、製剤例1に準じて
調製した水和剤の所定有効成分量を水で希釈し、水面に
滴下処理した。その後、温室内で育成し、処理30日目に
第3表の基準に従い、除草効果及び薬害を調査した。そ
の結果を第7表に示す。
試験例5(畑地土壌処理における作物選択性試験) 600cm2プラスチックポット各々に畑地土壌を充填し、
大豆、棉、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、ジョンソン
グラスを播種した。ポット底部より吸水させた後、製剤
例1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量を10アー
ル当り100lの水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に散布
処理した。処理後再び温室内で育成し、処理21日目に第
3表の基準に従って、除草効果及び薬害を調査した。そ
の結果を第8表に示す。
試験例6(畑地土壌処理における作物選択性試験) 120cm2プラスチックポット各々に畑地土壌を充填し、
稲、小麦、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、ノスズメノ
テッポウを播種した。ポット底部より吸水させた後、製
剤例1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量を10ア
ール当り100lの水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に散
布処理した。処理後再び温室内で育成し、処理21日目に
第3表の基準に従って、除草効果及び薬害を調査した。
その結果を第9表に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 祐司 静岡県小笠郡菊川町青葉台3丁目9番15 号 (72)発明者 平田 道弥 静岡県小笠郡菊川町青葉台1丁目14番15 号 (72)発明者 中村 安夫 東京都足立区小台1丁目22番2号 (72)発明者 狩野 浩之 静岡県磐田郡福田町小島132番地 (72)発明者 竹内 彰 静岡県掛川市天王町88番地の2 (56)参考文献 特開 昭53−23965(JP,A) 特開 昭54−70283(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 207/00 - 207/50 C07D 211/00 - 211/98 A01N 43/36 A01N 43/40 CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 {式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
    ロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アル
    キルチオ基またはニトロ基を示し、Yは水素原子、ハロ
    ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
    基、アルキニル基、ハロアルキル基、フェニル基、アル
    コキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルキルアルコ
    キシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ベ
    ンジルオキシ基、フェノキシ基、ハロアルコキシ基、ア
    ルコキシアルコキシ基、シアノアルコキシ基、アルキル
    チオ基、ハロアルキルチオ基、アルケニルチオ基、アル
    キニルチオ基、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、 (Wは酸素原子または硫黄原子を示し、R3は水素原子ま
    たはアルキル基を示し、R4はアルキル基を示す)、 (R5およびR6は水素原子またはアルキル基を示す)、ア
    ルキルスルホニル基、 (R5およびR6は水素原子またはアルキル基を示す)、ア
    ルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロ
    キシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基またはヒドロキ
    シ基を示し、Rは水素原子またはアルキル基を示し、R1
    及びR2は同一または相異なるアルキル基を示し、mは0
    または1を示し、nは1〜5の整数を示し、kは1〜2
    の整数を示す。R1とR2は相隣る炭素原子とともに環を形
    成することもできる。}で表される環状アミド誘導体。
  2. 【請求項2】一般式 {式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
    ロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アル
    キルチオ基またはニトロ基を示し、Yは水素原子、ハロ
    ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
    基、アルキニル基、ハロアルキル基、フェニル基、アル
    コキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルキルアルコ
    キシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ベ
    ンジルオキシ基、フェノキシ基、ハロアルコキシ基、ア
    ルコキシアルコキシ基、シアノアルコキシ基、アルキル
    チオ基、ハロアルキルチオ基、アルケニルチオ基、アル
    キニルチオ基、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、 (Wは酸素原子または硫黄原子を示し、R3は水素原子ま
    たはアルキル基を示し、R4はアルキル基を示す)、 (R5およびR6は水素原子またはアルキル基を示す)、ア
    ルキルスルホニル基、 (R5およびR6は水素原子またはアルキル基を示す)、ア
    ルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロ
    キシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基またはヒドロキ
    シ基を示し、Rは水素原子またはアルキル基を示し、R1
    及びR2は同一または相異なるアルキル基を示し、mは0
    または1を示し、nは1〜5の整数を示し、kは1〜2
    の整数を示す。R1とR2は相隣る炭素原子とともに環を形
    成することもできる。}で表される環状アミド誘導体を
    有効成分として含有する除草剤。
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