JP2779720B2 - ピコリン酸誘導体及び除草剤 - Google Patents
ピコリン酸誘導体及び除草剤Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ピコリン酸誘導体又は
その塩及びこれを有効成分として含有する水田、畑又は
非農耕地等に適用できる除草剤に関するものである。
その塩及びこれを有効成分として含有する水田、畑又は
非農耕地等に適用できる除草剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年数多くの除草剤が開発され、実用化
されるに至り、農作業の省力化、生産性の向上に寄与し
てきた。しかし、これら除草剤も実際の使用場面では、
除草効果及び作物に対する安全性の点で種々の問題点を
有している。特にシバムギ、ジョンソングラス等の多年
生雑草は非常に防除困難な雑草として、世界の農耕地に
広く分布しており、これら雑草を防除する為に種々の除
草剤が使用されてきたが、除草効果の確実性及び作物へ
の安全性等の点で必ずしも満足できるものではなく、更
に改良された除草剤の出現が望まれている。従来、類似
骨格を有する除草剤として３−（４，６−ジメトキシピ
リミジン−２−イル）オキシピコリン酸誘導体が知られ
ている（特開平２−１２１９７３号公報明細書）。しか
し、これらの化合物はピリジン環に置換基を配したもの
は示されていない。また、除草効果の点でも必ずしも満
足できるものではない。
されるに至り、農作業の省力化、生産性の向上に寄与し
てきた。しかし、これら除草剤も実際の使用場面では、
除草効果及び作物に対する安全性の点で種々の問題点を
有している。特にシバムギ、ジョンソングラス等の多年
生雑草は非常に防除困難な雑草として、世界の農耕地に
広く分布しており、これら雑草を防除する為に種々の除
草剤が使用されてきたが、除草効果の確実性及び作物へ
の安全性等の点で必ずしも満足できるものではなく、更
に改良された除草剤の出現が望まれている。従来、類似
骨格を有する除草剤として３−（４，６−ジメトキシピ
リミジン−２−イル）オキシピコリン酸誘導体が知られ
ている（特開平２−１２１９７３号公報明細書）。しか
し、これらの化合物はピリジン環に置換基を配したもの
は示されていない。また、除草効果の点でも必ずしも満
足できるものではない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、これら
の問題点を解決するために、ピコリン酸誘導体について
鋭意研究した結果、ピリミジニルオキシ基等の置換した
ピコリン酸誘導体が１年生及び多年生の禾本科及び広葉
雑草に対してすぐれた効果を示し、特に１年生の禾本科
雑草に対しては極く低薬量ですぐれた効果を示すもので
あることを見出し、本発明を完成した。
の問題点を解決するために、ピコリン酸誘導体について
鋭意研究した結果、ピリミジニルオキシ基等の置換した
ピコリン酸誘導体が１年生及び多年生の禾本科及び広葉
雑草に対してすぐれた効果を示し、特に１年生の禾本科
雑草に対しては極く低薬量ですぐれた効果を示すもので
あることを見出し、本発明を完成した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明化合物は一般式
〔Ｉ〕
〔Ｉ〕
【０００５】
【化２】
【０００６】〔式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、ベンジル基、ハロゲン置換ア
ルキル基、シアノアルキル基、アルコキシアルキル基、
アルコキシカルボニルオキシアルキル基、アルコキシカ
ルボニルアルキル基、アルキルカルボニルオキシアルキ
ル基、シクロアルキルカルボニルオキシアルキル基、シ
クロアルキルアルキル基、アルカリ金属原子、アルカリ
土類金属原子または有機アミンのカチオンを示し、Ｒ１
及びＲ２は同一または相異なり、アルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換アルコキシ基または
アルキルスルホニル基を示し、Ｘは式−ＮＲ３Ｒ４（式
中、Ｒ３及びＲ４は同一または相異なり、水素原子、ア
ルキル基、フェニル基またはアシル基を示す。）で表さ
れる基、水素原子、シアノ基、フェニル基（該基は、ハ
ロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基で置換され
てもよい）、フェノキシ基、ハロゲン置換アルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、
トリメチルシリルエチニル基、ニトロ基または４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イルオキシ基を示し、Ｙは
酸素原子または式−ＮＲ５−（式中、Ｒ５は水素原子ま
たはホルミル基を示す。）で表される基を示し、ｎは０
または１を示す。但し、Ｘが水素原子を示す時はＹは式
−ＮＲ５−（式中、Ｒ５は前記と同じ意味を示す。）を
示す。〕で表されるピコリン酸誘導体又はその塩及びこ
れを有効成分として含有する除草剤である。
ケニル基、アルキニル基、ベンジル基、ハロゲン置換ア
ルキル基、シアノアルキル基、アルコキシアルキル基、
アルコキシカルボニルオキシアルキル基、アルコキシカ
ルボニルアルキル基、アルキルカルボニルオキシアルキ
ル基、シクロアルキルカルボニルオキシアルキル基、シ
クロアルキルアルキル基、アルカリ金属原子、アルカリ
土類金属原子または有機アミンのカチオンを示し、Ｒ１
及びＲ２は同一または相異なり、アルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換アルコキシ基または
アルキルスルホニル基を示し、Ｘは式−ＮＲ３Ｒ４（式
中、Ｒ３及びＲ４は同一または相異なり、水素原子、ア
ルキル基、フェニル基またはアシル基を示す。）で表さ
れる基、水素原子、シアノ基、フェニル基（該基は、ハ
ロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基で置換され
てもよい）、フェノキシ基、ハロゲン置換アルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、
トリメチルシリルエチニル基、ニトロ基または４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イルオキシ基を示し、Ｙは
酸素原子または式−ＮＲ５−（式中、Ｒ５は水素原子ま
たはホルミル基を示す。）で表される基を示し、ｎは０
または１を示す。但し、Ｘが水素原子を示す時はＹは式
−ＮＲ５−（式中、Ｒ５は前記と同じ意味を示す。）を
示す。〕で表されるピコリン酸誘導体又はその塩及びこ
れを有効成分として含有する除草剤である。
【０００７】本発明において、ピコリン酸誘導体の塩類
としては薬学的に許容される塩、例えば塩酸塩、硫酸
塩、炭酸塩、硝酸塩、臭化水素酸塩、リン酸塩、スルホ
ン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、リンゴ酸塩、
グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩等の無機酸塩又は有
機酸塩が挙げられる。また、本発明の一般式〔Ｉ〕の化
合物及びその塩は結晶水を持ってもよく、これらの水和
物は何れも本発明の範囲に含まれるものである。
としては薬学的に許容される塩、例えば塩酸塩、硫酸
塩、炭酸塩、硝酸塩、臭化水素酸塩、リン酸塩、スルホ
ン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、リンゴ酸塩、
グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩等の無機酸塩又は有
機酸塩が挙げられる。また、本発明の一般式〔Ｉ〕の化
合物及びその塩は結晶水を持ってもよく、これらの水和
物は何れも本発明の範囲に含まれるものである。
【０００８】次に本発明化合物を表１〜７に例示する。
尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
【０００９】
【表１】
【００１０】
【表２】
【００１１】
【表３】
【００１２】
【表４】
【００１３】
【表５】
【００１４】本発明化合物を製造する方法としては例え
ば次に示すＡ法及びＢ法があげられるが、これらの方法
に限定されるものではない。 製造法〈Ａ〉
ば次に示すＡ法及びＢ法があげられるが、これらの方法
に限定されるものではない。 製造法〈Ａ〉
【００１５】
【化３】
【００１６】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ及びＹは前記と同
一の意味を示し、Ｒ６は水素原子、アルカリ金属原子、
アルカリ土類金属原子、有機アミンのカチオン以外のＲ
を示し、Ｒ７はハロゲン原子、アルキルスルホニル基ま
たはベンジルスルホニル基を示す。）
一の意味を示し、Ｒ６は水素原子、アルカリ金属原子、
アルカリ土類金属原子、有機アミンのカチオン以外のＲ
を示し、Ｒ７はハロゲン原子、アルキルスルホニル基ま
たはベンジルスルホニル基を示す。）
【００１７】即ち、式〔Ｉ−１〕で示される本発明化合
物は、式〔ＩＩ〕で示される化合物と式〔ＩＩ〕で示さ
れるピリミジン誘導体とを塩基の存在下、好ましくは不
活性溶媒中で室温ないし溶媒の沸点の温度範囲内で数分
間ないし数時間反応させることにより製造することがで
きる。
物は、式〔ＩＩ〕で示される化合物と式〔ＩＩ〕で示さ
れるピリミジン誘導体とを塩基の存在下、好ましくは不
活性溶媒中で室温ないし溶媒の沸点の温度範囲内で数分
間ないし数時間反応させることにより製造することがで
きる。
【００１８】溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の非プロトン
性極性溶媒、アセトニトリル等が使用できる。塩基とし
ては金属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属
類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシ
ウム等の水素化アルカリ金属類又は水素化アルカリ土類
金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム、アンモニア等の無機塩基類、ピリジン、トリエチ
ルアミン等の有機塩基が使用できる。また、他の塩類に
導くためには、相当の酸、例えば塩酸、硫酸、炭酸、硝
酸、臭化水素酸、リン酸、スルホン酸、酢酸、シュウ
酸、酒石酸、リンゴ酸、グルタミン酸、アスパラギン酸
等が使用できる。 製造法〈Ｂ〉
化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の非プロトン
性極性溶媒、アセトニトリル等が使用できる。塩基とし
ては金属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属
類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシ
ウム等の水素化アルカリ金属類又は水素化アルカリ土類
金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム、アンモニア等の無機塩基類、ピリジン、トリエチ
ルアミン等の有機塩基が使用できる。また、他の塩類に
導くためには、相当の酸、例えば塩酸、硫酸、炭酸、硝
酸、臭化水素酸、リン酸、スルホン酸、酢酸、シュウ
酸、酒石酸、リンゴ酸、グルタミン酸、アスパラギン酸
等が使用できる。 製造法〈Ｂ〉
【００１９】
【化４】
【００２０】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｘ及びＹは前
記と同一の意味を示し、Ｍはアルカリ金属またはアルカ
リ土類金属を示す。）
記と同一の意味を示し、Ｍはアルカリ金属またはアルカ
リ土類金属を示す。）
【００２１】即ち、本発明化合物のうち式〔Ｉ−２〕で
示された化合物は、式〔Ｉ−１〕で示される化合物を塩
基の存在下、極性溶媒または水、あるいは極性溶媒と水
との混合溶媒中で室温ないし溶媒の沸点の温度範囲内で
数時間ないし数十時間反応させることにより得ることが
できる。これを酸析すると式〔Ｉ−３〕で示される化合
物が得られる。
示された化合物は、式〔Ｉ−１〕で示される化合物を塩
基の存在下、極性溶媒または水、あるいは極性溶媒と水
との混合溶媒中で室温ないし溶媒の沸点の温度範囲内で
数時間ないし数十時間反応させることにより得ることが
できる。これを酸析すると式〔Ｉ−３〕で示される化合
物が得られる。
【００２２】溶媒としては、メタノール、エタノール等
のアルコール系溶媒、１，４−ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系極性溶媒、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド等のアミド系極性溶媒等が使用でき
るが、これらに限定されるものではない。また、塩基と
しては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム等の炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化カルシウム等の水酸化金属類が使用できる。
のアルコール系溶媒、１，４−ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系極性溶媒、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド等のアミド系極性溶媒等が使用でき
るが、これらに限定されるものではない。また、塩基と
しては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム等の炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化カルシウム等の水酸化金属類が使用できる。
【００２３】
【実施例】次に本発明化合物の製造法並びに製剤法、用
途について実施例をあげて具体的に説明する。 実施例１ ３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピコリン酸メ
チル（化合物番号１９）の合成６−（Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノ）−３−ヒドロキシピコリン酸メチル１．４ｇ
（７ｍｍｏｌ）、４，６−ジメトキシ−２−メチルスル
ホニルピリミジン１．６ｇ（７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウ
ム０．６ｇ（４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに加え、
９０℃で２時間反応させた。反応終了後、水中にあけジ
エチルエーテルで抽出、水洗、乾燥、濃縮して得られた
油状物をイソプロピルエーテルで結晶化させた。結晶を
酢酸エチル／ｎ−ヘキサンで再結晶し、融点１２５〜１
２７℃の目的物１．６ｇ（収率６６％）を得た。
途について実施例をあげて具体的に説明する。 実施例１ ３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピコリン酸メ
チル（化合物番号１９）の合成６−（Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノ）−３−ヒドロキシピコリン酸メチル１．４ｇ
（７ｍｍｏｌ）、４，６−ジメトキシ−２−メチルスル
ホニルピリミジン１．６ｇ（７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウ
ム０．６ｇ（４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに加え、
９０℃で２時間反応させた。反応終了後、水中にあけジ
エチルエーテルで抽出、水洗、乾燥、濃縮して得られた
油状物をイソプロピルエーテルで結晶化させた。結晶を
酢酸エチル／ｎ−ヘキサンで再結晶し、融点１２５〜１
２７℃の目的物１．６ｇ（収率６６％）を得た。
【００２４】実施例２ ３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−フェニルピコリン酸メチル（化合物番号
８）の合成６−フェニル−３−ヒドロキシピコリン酸メ
チル１．０ｇ（４．４ｍｍｏｌ）、４，６−ジメトキシ
−２−メチルスルホニルピリミジン０．８ｇ（４ｍｍｏ
ｌ）、炭酸カリウム０．６ｇ（４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ２
０ｍｌに加え、８０℃で０．５時間反応させた。反応終
了後、水中にあけ酢酸エチルにて抽出し、有機層を水、
飽和食塩水で洗浄、乾燥し、適当量のフロリジルにて処
理した。酢酸エチルを減圧下に留去して得た残渣にヘキ
サンを２０ｍｌ加えて３日間放置して結晶化させ、ヘキ
サン／イソプロピルエーテルにて洗浄し、融点９２−９
４℃の目的物０．８５ｇ（収率５８％）を得た。
キシ］−６−フェニルピコリン酸メチル（化合物番号
８）の合成６−フェニル−３−ヒドロキシピコリン酸メ
チル１．０ｇ（４．４ｍｍｏｌ）、４，６−ジメトキシ
−２−メチルスルホニルピリミジン０．８ｇ（４ｍｍｏ
ｌ）、炭酸カリウム０．６ｇ（４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ２
０ｍｌに加え、８０℃で０．５時間反応させた。反応終
了後、水中にあけ酢酸エチルにて抽出し、有機層を水、
飽和食塩水で洗浄、乾燥し、適当量のフロリジルにて処
理した。酢酸エチルを減圧下に留去して得た残渣にヘキ
サンを２０ｍｌ加えて３日間放置して結晶化させ、ヘキ
サン／イソプロピルエーテルにて洗浄し、融点９２−９
４℃の目的物０．８５ｇ（収率５８％）を得た。
【００２５】実施例３ ３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピコリン酸
（化合物番号２０）の合成３−［（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）オキシ］−６−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノ）ピコリン酸メチル２．５ｇ（７．７ｍｍｏ
ｌ）を１００ｍｌメタノール溶液とし、これに１０％水
酸化カリウム水溶液６ｍｌを混合して、室温下一晩撹拌
した。反応終了後、水中にあけ、酢酸エチルにて抽出し
た。水層を酸性とし、クロロホルムで抽出し、水洗、乾
燥後、濃縮して得た結晶をイソプロピルエーテルで洗浄
し、融点１９５−１９７．５℃の目的物１．６ｇ（収率
６４％）を得た。
キシ］−６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピコリン酸
（化合物番号２０）の合成３−［（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）オキシ］−６−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノ）ピコリン酸メチル２．５ｇ（７．７ｍｍｏ
ｌ）を１００ｍｌメタノール溶液とし、これに１０％水
酸化カリウム水溶液６ｍｌを混合して、室温下一晩撹拌
した。反応終了後、水中にあけ、酢酸エチルにて抽出し
た。水層を酸性とし、クロロホルムで抽出し、水洗、乾
燥後、濃縮して得た結晶をイソプロピルエーテルで洗浄
し、融点１９５−１９７．５℃の目的物１．６ｇ（収率
６４％）を得た。
【００２６】実施例４ ３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
−１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル（化合物番
号４０）の合成３−［（４，６−ジメトシキピリミジン
−２−イル）オキシ］−６−ジメチルアミノピリジン−
２−カルボン酸カリウム２．０ｇ（５．６ｍｍｏｌ）、
１−（エトキシカルボニルオキシ）エチルクロライド
０．８７ｇ（５．７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ５ｍｌに懸濁
し、室温にて６時間撹拌した。この反応混合物を水に入
れ酢酸エチルで二度抽出し、有機層を水洗、乾燥後溶媒
を留去した。得られた粘稠液体をカラム精製し、屈折率
（ナトリウム−Ｄ線）１．５２１５の目的物０．５ｇ
（収率３３％）を得た。
キシ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
−１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル（化合物番
号４０）の合成３−［（４，６−ジメトシキピリミジン
−２−イル）オキシ］−６−ジメチルアミノピリジン−
２−カルボン酸カリウム２．０ｇ（５．６ｍｍｏｌ）、
１−（エトキシカルボニルオキシ）エチルクロライド
０．８７ｇ（５．７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ５ｍｌに懸濁
し、室温にて６時間撹拌した。この反応混合物を水に入
れ酢酸エチルで二度抽出し、有機層を水洗、乾燥後溶媒
を留去した。得られた粘稠液体をカラム精製し、屈折率
（ナトリウム−Ｄ線）１．５２１５の目的物０．５ｇ
（収率３３％）を得た。
【００２７】実施例５ ３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
カリウム（化合物番号４８）の合成３−［（４，６−ジ
メトキシピリミジン−２−イル）オキシ］−６−ジメチ
ルアミノピリジン−２−カルボン酸メチル９．２ｇ（２
７．５ｍｍｏｌ）をメタノール３０ｍｌに溶解し、これ
に水酸化カリウム１．５５ｇ（２７．５ｍｍｏｌ）加
え、さらに水を２０ｍｌ加えて室温にて撹拌した。反応
液を減圧下に濃縮し、アセトンを加え析出した結晶を濾
別後ヘキサンで洗浄し、融点２４０−２４５℃の目的物
９．８ｇ（収率９８％）を得た。
キシ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
カリウム（化合物番号４８）の合成３−［（４，６−ジ
メトキシピリミジン−２−イル）オキシ］−６−ジメチ
ルアミノピリジン−２−カルボン酸メチル９．２ｇ（２
７．５ｍｍｏｌ）をメタノール３０ｍｌに溶解し、これ
に水酸化カリウム１．５５ｇ（２７．５ｍｍｏｌ）加
え、さらに水を２０ｍｌ加えて室温にて撹拌した。反応
液を減圧下に濃縮し、アセトンを加え析出した結晶を濾
別後ヘキサンで洗浄し、融点２４０−２４５℃の目的物
９．８ｇ（収率９８％）を得た。
【００２８】実施例６ ３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
カルシウム（化合物番号４９）の合成３−［（４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ］−６−ジメ
チルアミノピリジン−２−カルボン酸１．０ｇ（３．１
ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍｌにとかし、こ
れに沈降炭酸カルシウム０．１５ｇ（１．５ｍｍｏｌ）
を加え、さらに水１０ｍｌを加えて室温にて撹拌した。
反応液を減圧下に濃縮し、アセトンを加え析出した結晶
を濾別後ヘキサンで洗浄し、融点１６９−１８２℃の目
的物１．０ｇ（収率９１％）を得た。
キシ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
カルシウム（化合物番号４９）の合成３−［（４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ］−６−ジメ
チルアミノピリジン−２−カルボン酸１．０ｇ（３．１
ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍｌにとかし、こ
れに沈降炭酸カルシウム０．１５ｇ（１．５ｍｍｏｌ）
を加え、さらに水１０ｍｌを加えて室温にて撹拌した。
反応液を減圧下に濃縮し、アセトンを加え析出した結晶
を濾別後ヘキサンで洗浄し、融点１６９−１８２℃の目
的物１．０ｇ（収率９１％）を得た。
【００２９】実施例７ ３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
メトキシメチルエステル（化合物番号４１）の合成３−
［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
０．４ｇ（１．２５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１５ｍ
ｌにとかし、冷却下にジイソプロピルエチルアミン０．
１７ｇ（１．３１ｍｍｏｌ）を加えて１５分反応させ
た。０℃にてさらにメトキシメチルクロリド０．１２ｇ
（１．４９ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温に戻しなが
ら４時間反応させた。反応終了後、さらにジクロロメタ
ン３０ｍｌを加え水洗後１０％クエン酸水溶液、飽和食
塩水で洗浄した。乾燥後、これを濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、融点９１−９６℃
の目的物０．４ｇ（収率８４％）を得た。
キシ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
メトキシメチルエステル（化合物番号４１）の合成３−
［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ］−６−ジメチルアミノピリジン−２−カルボン酸
０．４ｇ（１．２５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１５ｍ
ｌにとかし、冷却下にジイソプロピルエチルアミン０．
１７ｇ（１．３１ｍｍｏｌ）を加えて１５分反応させ
た。０℃にてさらにメトキシメチルクロリド０．１２ｇ
（１．４９ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温に戻しなが
ら４時間反応させた。反応終了後、さらにジクロロメタ
ン３０ｍｌを加え水洗後１０％クエン酸水溶液、飽和食
塩水で洗浄した。乾燥後、これを濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、融点９１−９６℃
の目的物０．４ｇ（収率８４％）を得た。
【００３０】尚、本発明化合物の原料化合物〔ＩＩ〕は
次のＣ法、Ｄ法又はＥ法に従い製造することができる。
次のＣ法、Ｄ法又はＥ法に従い製造することができる。
【００３１】
【化５】
【００３２】（式中、Ｒ６、Ｘ及びＹは前記と同じ意味
を示し、Ｌはハロゲン原子を示す。）即ち、式〔ＩＶ〕
で示される化合物から式〔Ｖ〕で示される化合物に誘導
し、水素による接触添加法で一般式〔ＩＩ〕で示される
化合物を得ることができる。尚、式〔ＩＶ〕で示される
化合物から式〔ＶＩ〕で示される化合物並びに式〔ＶＩ
Ｉ〕で示される化合物への製造法は既に知られており、
例えば薬学雑誌６７巻５１頁（１９４７年）に記載され
た方法に従って製造することができる。
を示し、Ｌはハロゲン原子を示す。）即ち、式〔ＩＶ〕
で示される化合物から式〔Ｖ〕で示される化合物に誘導
し、水素による接触添加法で一般式〔ＩＩ〕で示される
化合物を得ることができる。尚、式〔ＩＶ〕で示される
化合物から式〔ＶＩ〕で示される化合物並びに式〔ＶＩ
Ｉ〕で示される化合物への製造法は既に知られており、
例えば薬学雑誌６７巻５１頁（１９４７年）に記載され
た方法に従って製造することができる。
【００３３】次にＣ法、Ｄ法及びＥ法について詳細に述
べる。 製造法〈Ｃ〉
べる。 製造法〈Ｃ〉
【００３４】
【化６】
【００３５】（式中、Ｒ６及びＹは前記と同じ意味を示
し、Ｒ８はシアノ基、ジメチルアミノ基またはジエチル
アミノ基を示し、Ｒ９はジメチルアミノ基、ジエチルア
ミノ基、アルキル基またはフェニル基を示す。）
し、Ｒ８はシアノ基、ジメチルアミノ基またはジエチル
アミノ基を示し、Ｒ９はジメチルアミノ基、ジエチルア
ミノ基、アルキル基またはフェニル基を示す。）
【００３６】即ち、化合物〔ＩＶ〕と、一般式〔ＶＩＩ
Ｉ〕で示されるトリメチルシリル誘導体と一般式〔Ｉ
Ｘ〕で示される酸塩化物を不活性溶媒中、室温ないし溶
媒の沸点の温度範囲内で数時間反応させることにより、
一般式〔Ｖ−１〕で示される化合物を得ることができ
る。
Ｉ〕で示されるトリメチルシリル誘導体と一般式〔Ｉ
Ｘ〕で示される酸塩化物を不活性溶媒中、室温ないし溶
媒の沸点の温度範囲内で数時間反応させることにより、
一般式〔Ｖ−１〕で示される化合物を得ることができ
る。
【００３７】溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル系溶媒、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル等が使
用できるが、クロロホルムが望ましい。 製造法〈Ｄ〉
化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル系溶媒、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル等が使
用できるが、クロロホルムが望ましい。 製造法〈Ｄ〉
【００３８】
【化７】
【００３９】（式中、Ｒ６及びＹは前記と同じ意味を示
し、Ｒ１０はアルキル基、置換アルキル基または４，６
−ジメトキシピリミジニル基を示し、Ｌは脱離基を示
し、例えばハロゲン原子を示す。但し、Ｒ１０が４，６
−ジメトキシピリミジニル基の場合には、Ｌはハロゲン
原子またはアルキルスルホニル基を示す。）
し、Ｒ１０はアルキル基、置換アルキル基または４，６
−ジメトキシピリミジニル基を示し、Ｌは脱離基を示
し、例えばハロゲン原子を示す。但し、Ｒ１０が４，６
−ジメトキシピリミジニル基の場合には、Ｌはハロゲン
原子またはアルキルスルホニル基を示す。）
【００４０】即ち、式〔ＶＩ〕で示される化合物と、式
〔Ｘ〕で示される化合物を塩基の存在下、不活性溶媒中
で室温ないし溶媒の沸点の温度範囲内で数分から数時間
反応させることにより一般式〔Ｖ−２〕で示される化合
物を得ることができる。
〔Ｘ〕で示される化合物を塩基の存在下、不活性溶媒中
で室温ないし溶媒の沸点の温度範囲内で数分から数時間
反応させることにより一般式〔Ｖ−２〕で示される化合
物を得ることができる。
【００４１】溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル系溶媒、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル等が使
用できる。また、塩基としては金属ナトリウム、金属カ
リウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属類
又は水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩類、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の水酸化金
属類が使用できる。 製造法〈Ｅ〉
化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル系溶媒、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル等が使
用できる。また、塩基としては金属ナトリウム、金属カ
リウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属類
又は水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩類、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の水酸化金
属類が使用できる。 製造法〈Ｅ〉
【００４２】
【化８】
【００４３】（式中、Ｒ６及びＹは前記と同じ意味を示
し、Ｒ１１は置換してもよいフェニル基を示し、Ｌはハ
ロゲン原子を示す。）
し、Ｒ１１は置換してもよいフェニル基を示し、Ｌはハ
ロゲン原子を示す。）
【００４４】即ち、式〔ＶＩＩ〕で示される化合物と式
〔ＸＩ〕で示される化合物を塩基及び触媒の存在下、不
活性溶媒中室温ないし溶媒の沸点の温度範囲内で数時間
反応させることにより、一般式〔Ｖ−３〕で示される化
合物を得ることができる。
〔ＸＩ〕で示される化合物を塩基及び触媒の存在下、不
活性溶媒中室温ないし溶媒の沸点の温度範囲内で数時間
反応させることにより、一般式〔Ｖ−３〕で示される化
合物を得ることができる。
【００４５】溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール
系溶媒、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸メチル、
酢酸エチル等のエステル系溶媒、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトニ
トリル等が使用できる。触媒としては、テトラキス（ト
リフェニルホスフィン）パラジウム（０）、（トリフェ
ニルホスフィン，酢酸パラジウム）、［トリス（０−ト
リル）ホスフィン，酢酸パラジウム］等が使用できる。
塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸
塩、炭酸水素ナトリウム等の重炭酸塩またはトリエチル
アミン、ピリジン等の有機塩基が使用できる。
化水素系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール
系溶媒、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸メチル、
酢酸エチル等のエステル系溶媒、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトニ
トリル等が使用できる。触媒としては、テトラキス（ト
リフェニルホスフィン）パラジウム（０）、（トリフェ
ニルホスフィン，酢酸パラジウム）、［トリス（０−ト
リル）ホスフィン，酢酸パラジウム］等が使用できる。
塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸
塩、炭酸水素ナトリウム等の重炭酸塩またはトリエチル
アミン、ピリジン等の有機塩基が使用できる。
【００４６】次に参考例をあげて原料化合物の製造法を
説明する。 参考例１ ３−ベンジルオキシ−６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）
ピコリン酸メチルの合成３−ベンジルオキシピコリン酸
メチルＮ−オキシド１５ｇ（５８ｍｍｏｌ）、トリメチ
ルシリルニトリル６．７ｇ（６７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバミン酸クロリド８．３ｇ（６１ｍｍｏ
ｌ）を塩化メチレン１００ｍｌに加え、室温下撹拌放置
した。有機層を水洗、乾燥、濃縮して得た残渣をカラム
クロマトグラフィーで精製し、融点７１．５−７３℃の
目的物２．４ｇ（収率１４％）を得た。同様にして、融
点１０３．５−１０５℃の３−ベンジルオキシ−６−シ
アノピコリン酸メチル３．１ｇ（収率２０％）を得た。
説明する。 参考例１ ３−ベンジルオキシ−６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）
ピコリン酸メチルの合成３−ベンジルオキシピコリン酸
メチルＮ−オキシド１５ｇ（５８ｍｍｏｌ）、トリメチ
ルシリルニトリル６．７ｇ（６７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバミン酸クロリド８．３ｇ（６１ｍｍｏ
ｌ）を塩化メチレン１００ｍｌに加え、室温下撹拌放置
した。有機層を水洗、乾燥、濃縮して得た残渣をカラム
クロマトグラフィーで精製し、融点７１．５−７３℃の
目的物２．４ｇ（収率１４％）を得た。同様にして、融
点１０３．５−１０５℃の３−ベンジルオキシ−６−シ
アノピコリン酸メチル３．１ｇ（収率２０％）を得た。
【００４７】参考例２ ３−ベンジルオキシ−６−エトキシピコリン酸メチルの
合成３−ベンジルオキシ−６−ヒドロキシピコリン酸メ
チル５．０ｇ（１９ｍｍｏｌ）、臭化エチル２．１ｇ
（１９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム２．９ｇ（２１ｍｍｏ
ｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに加え、８０℃で５時間反応さ
せた。反応終了後、水中にあけ、酢酸エチルで抽出、水
洗、乾燥した。それを濃縮して得られた残渣をカラムク
ロマトグラフィーで精製し、融点４５−４６℃の目的物
４．１ｇ（収率７４％）を得た。
合成３−ベンジルオキシ−６−ヒドロキシピコリン酸メ
チル５．０ｇ（１９ｍｍｏｌ）、臭化エチル２．１ｇ
（１９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム２．９ｇ（２１ｍｍｏ
ｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに加え、８０℃で５時間反応さ
せた。反応終了後、水中にあけ、酢酸エチルで抽出、水
洗、乾燥した。それを濃縮して得られた残渣をカラムク
ロマトグラフィーで精製し、融点４５−４６℃の目的物
４．１ｇ（収率７４％）を得た。
【００４８】参考例３ ３−ベンジルオキシ−６−フェニルピコリン酸メチルの
合成温度計、冷却管および窒素導入管を付した１００ｍ
ｌ容量の三口フラスコにテトラキス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム（０）（０．６ｇ，０．５ｍｍｏ
ｌ）と１，２−ジメトキシエタン（５ｍｌ）を入れ、窒
素気流下に３−ベンジルオキシ−６−クロロピコリン酸
メチル（２．７ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）を１，２−ジメ
トキシエタン（２０ｍｌ）に溶解して一度に加えた。室
温下に３時間撹拌した後、フェニルホウ酸（１．８ｇ，
１５．０ｍｍｏｌ）を１，２−ジメトキシエタン（１５
ｍｌ）に溶解して加え、さらに１時間撹拌を続けた。２
Ｍ−炭酸ナトリウム水溶液（４０ｍｌ）を加え５０分間
加熱還流した。冷却後水を適当量加え酢酸エチルにて抽
出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、乾燥した。そ
れを濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
で精製し、目的物１．９ｇ（収率５９．４％）を得た。
合成温度計、冷却管および窒素導入管を付した１００ｍ
ｌ容量の三口フラスコにテトラキス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム（０）（０．６ｇ，０．５ｍｍｏ
ｌ）と１，２−ジメトキシエタン（５ｍｌ）を入れ、窒
素気流下に３−ベンジルオキシ−６−クロロピコリン酸
メチル（２．７ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）を１，２−ジメ
トキシエタン（２０ｍｌ）に溶解して一度に加えた。室
温下に３時間撹拌した後、フェニルホウ酸（１．８ｇ，
１５．０ｍｍｏｌ）を１，２−ジメトキシエタン（１５
ｍｌ）に溶解して加え、さらに１時間撹拌を続けた。２
Ｍ−炭酸ナトリウム水溶液（４０ｍｌ）を加え５０分間
加熱還流した。冷却後水を適当量加え酢酸エチルにて抽
出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、乾燥した。そ
れを濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
で精製し、目的物１．９ｇ（収率５９．４％）を得た。
【００４９】参考例４ ６−フェニル−３−ヒドロキシピコリン酸メチルの合成
３−ベンジルオキシ−６−フェニルピコリン酸メチル
１．９ｇを１０％パラジウム炭素／メタノールにて還元
し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、融点１００
−１０１℃の目的物１．０ｇ（収率７６．９％）を得
た。
３−ベンジルオキシ−６−フェニルピコリン酸メチル
１．９ｇを１０％パラジウム炭素／メタノールにて還元
し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、融点１００
−１０１℃の目的物１．０ｇ（収率７６．９％）を得
た。
【００５０】参考例５ ６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−３−ヒドロキシピコ
リン酸メチルの合成３−ベンジルオキシ−６−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）ピコリン酸メチル２．３ｇ（８ｍｍ
ｏｌ）、１０％パラジウム炭素０．３ｇを酢酸エチル１
００ｍｌに加え、常圧で水素添加した。反応終了後、濾
過、濃縮し、融点１１８．５−１２０℃の結晶１．４ｇ
（収率９２％）を得た。参考例１〜３と同様にして製造
した原料化合物の具体例を表６にあげる。
リン酸メチルの合成３−ベンジルオキシ−６−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）ピコリン酸メチル２．３ｇ（８ｍｍ
ｏｌ）、１０％パラジウム炭素０．３ｇを酢酸エチル１
００ｍｌに加え、常圧で水素添加した。反応終了後、濾
過、濃縮し、融点１１８．５−１２０℃の結晶１．４ｇ
（収率９２％）を得た。参考例１〜３と同様にして製造
した原料化合物の具体例を表６にあげる。
【００５１】
【表６】
【００５２】本発明の除草剤は、一般式〔Ｉ〕で示され
るピコリン酸誘導体を有効成分としてなる。本発明化合
物を除草剤として水田、畑地、樹園地、非農耕地等に使
用する場合、その目的に応じて有効成分を適当な剤型で
用いることができる。通常の場合は有効成分を不活性な
液体または固体の担体で希釈し、必要に応じて界面活性
剤、分散剤、補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳
剤、粒剤等の各種形態に製剤して使用することができ
る。
るピコリン酸誘導体を有効成分としてなる。本発明化合
物を除草剤として水田、畑地、樹園地、非農耕地等に使
用する場合、その目的に応じて有効成分を適当な剤型で
用いることができる。通常の場合は有効成分を不活性な
液体または固体の担体で希釈し、必要に応じて界面活性
剤、分散剤、補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳
剤、粒剤等の各種形態に製剤して使用することができ
る。
【００５３】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻
土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、消石灰、珪
砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコー
ル、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の
液体担体等があげられる。界面活性剤及び分散剤として
は、例えばアルコール硫酸エステル塩、アルキルアリー
ルスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエ
チレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモ
ノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例え
ばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコー
ル、アラビアゴム等があげられる。
例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻
土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、消石灰、珪
砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコー
ル、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の
液体担体等があげられる。界面活性剤及び分散剤として
は、例えばアルコール硫酸エステル塩、アルキルアリー
ルスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエ
チレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモ
ノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例え
ばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコー
ル、アラビアゴム等があげられる。
【００５４】使用に際しては、適当な濃度に希釈して散
布するか、または直接施用する。本発明の除草剤は茎葉
散布、土壌施用または水面施用等により使用することが
できる。有効成分の配合割合については必要に応じて適
宜選ばれるか、粉剤または粒剤とする場合は０．０１〜
１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の
範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とす
る場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜２０％
（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
布するか、または直接施用する。本発明の除草剤は茎葉
散布、土壌施用または水面施用等により使用することが
できる。有効成分の配合割合については必要に応じて適
宜選ばれるか、粉剤または粒剤とする場合は０．０１〜
１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の
範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とす
る場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜２０％
（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
【００５５】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０．１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から
適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合の
ように液状で使用する場合は、１〜５０，０００ｐｐ
ｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適
宜選ぶのがよい。
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０．１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から
適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合の
ように液状で使用する場合は、１〜５０，０００ｐｐ
ｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適
宜選ぶのがよい。
【００５６】また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を
具体的に説明する。以下の説明において「部」は重量部
を意味する。
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を
具体的に説明する。以下の説明において「部」は重量部
を意味する。
【００５７】製剤例１ 水和剤 化合物（１９）の１０部にエマルゲン８１０（花王株式
会社の登録商標）の０．５部、デモールＮ（花王株式会
社の登録商標）の０．５部、クニライト２０１（クニミ
ネ工業株式会社の登録商標）の２０部、ジークライトＣ
Ａ（ジークライト株式会社の登録商標）の６９部を混合
粉砕し、水和剤を得る。
会社の登録商標）の０．５部、デモールＮ（花王株式会
社の登録商標）の０．５部、クニライト２０１（クニミ
ネ工業株式会社の登録商標）の２０部、ジークライトＣ
Ａ（ジークライト株式会社の登録商標）の６９部を混合
粉砕し、水和剤を得る。
【００５８】製剤例２ 水和剤 化合物（１）の１０部にエマルゲン８１０の０．５部、
デモールＮの０．５部、クニライト２０１の２０部、カ
ープレクス８０の５部、ジークライトＣＡの６４部を混
合粉砕し、水和剤を得る。
デモールＮの０．５部、クニライト２０１の２０部、カ
ープレクス８０の５部、ジークライトＣＡの６４部を混
合粉砕し、水和剤を得る。
【００５９】製剤例３ 乳剤 化合物（２０）の３０部にキシレンとイソホロンの等量
混合物６０部、界面活性剤ソルポール８００Ａ（東邦化
学工業株式会社の登録商標）の１０部を加え、これらを
よくかきまぜることによって乳剤を得る。
混合物６０部、界面活性剤ソルポール８００Ａ（東邦化
学工業株式会社の登録商標）の１０部を加え、これらを
よくかきまぜることによって乳剤を得る。
【００６０】製剤例４ 粒剤 化合物（３）の１０部、タルクとベントナイトを１：３
の割合の混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの
５部、界面活性剤ソルポール８００Ａの５部に水１０部
を加え、よく練ってペースト状としたものを直径０．７
ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１
ｍｍの長さに切断し、粒剤を得る。
の割合の混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの
５部、界面活性剤ソルポール８００Ａの５部に水１０部
を加え、よく練ってペースト状としたものを直径０．７
ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１
ｍｍの長さに切断し、粒剤を得る。
【００６１】
【発明の効果】一般式〔Ｉ〕で表される本発明の化合物
は、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ
等の一年生雑草及びウリカワ、ミズガヤツリ、クログワ
イ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草の発芽時か
ら生育期の広い範囲にわたって、極めて低い薬量で優れ
た除草効果を発揮する。また、畑地においても問題とな
る種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロ
ザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アサガオ、
オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマス
ゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年
生および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、
エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、
ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草を有
効に防除することができる。適用作物としては一般的な
蔬菜、果樹の他にヒマワリ、サトウキビ、パイナップル
等もあげることができる。さらに、非農耕地における問
題雑草であるイタリアンライグラス、ススキ、チガヤ、
ツユクサ、スベリヒユ、クズ、セイタカアワダチソウ、
アメリカセンダングサ等に対しても優れた除草効果を有
している。また、スギ、ヒノキ等の林地においても使用
することができる。
は、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ
等の一年生雑草及びウリカワ、ミズガヤツリ、クログワ
イ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草の発芽時か
ら生育期の広い範囲にわたって、極めて低い薬量で優れ
た除草効果を発揮する。また、畑地においても問題とな
る種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロ
ザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アサガオ、
オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマス
ゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年
生および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、
エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、
ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草を有
効に防除することができる。適用作物としては一般的な
蔬菜、果樹の他にヒマワリ、サトウキビ、パイナップル
等もあげることができる。さらに、非農耕地における問
題雑草であるイタリアンライグラス、ススキ、チガヤ、
ツユクサ、スベリヒユ、クズ、セイタカアワダチソウ、
アメリカセンダングサ等に対しても優れた除草効果を有
している。また、スギ、ヒノキ等の林地においても使用
することができる。
【００６２】次に試験例をあげて本発明化合物の奏する
効果を説明する。 試験例１（水田土壌処理による除草効果試験） １００ｃｍ２のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｏ）、コナギ（Ｍｏ）及び
ホタルイ（Ｓｃ）の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水
した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希
釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を１０アール
当り１００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後
２１日目に表７の基準に従い、除草効果を調査した。そ
の結果を表８に示す。
効果を説明する。 試験例１（水田土壌処理による除草効果試験） １００ｃｍ２のプラスチックポットに水田土壌を充填
し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｏ）、コナギ（Ｍｏ）及び
ホタルイ（Ｓｃ）の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水
した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希
釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を１０アール
当り１００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後
２１日目に表７の基準に従い、除草効果を調査した。そ
の結果を表８に示す。
【００６３】
【表７】
【００６４】
【表８】
【００６５】試験例２（畑地土壌処理による除草効果試
験） １００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ
（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）及びコゴメガヤツリ（Ｃｉ）
の各種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製し
た水和剤を水で希釈し、１０アール当り有効成分が１０
０ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器
で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成
し、処理後２０日目に表７の基準に従って、除草効果を
調査した。その結果を表９に示す。
験） １００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ
（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）及びコゴメガヤツリ（Ｃｉ）
の各種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製し
た水和剤を水で希釈し、１０アール当り有効成分が１０
０ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器
で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成
し、処理後２０日目に表７の基準に従って、除草効果を
調査した。その結果を表９に示す。
【００６６】
【表９】
【００６７】試験例３（畑地茎葉処理による除草効果試
験） １００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ
（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）及びコゴメガヤツリ（Ｃｉ）
の各種子を播種し覆土した。温室内で２週間育成後、製
剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１０アー
ル当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アール当り
１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散
布処理した。その後、温室内で育成し、処理後１４日目
に表７の基準に従って、除草効果を調査した。その結果
を表１０に示す。
験） １００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ
（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）及びコゴメガヤツリ（Ｃｉ）
の各種子を播種し覆土した。温室内で２週間育成後、製
剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１０アー
ル当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アール当り
１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散
布処理した。その後、温室内で育成し、処理後１４日目
に表７の基準に従って、除草効果を調査した。その結果
を表１０に示す。
【００６８】
【表１０】
【００６９】試験例４（畑地茎葉処理による低薬量での
除草効果試験） ６００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、ジョンソングラス（Ｓｏ）、オオイ
ヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、
ノアサガオ（Ｉｐ）及びオナモミ（Ｘａ）を播種し覆土
した。温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製し
た水和剤の所定有効成分量（ｇ／１０ａ）を、１０アー
ル当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に
茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理後１
４日目に表７の基準に従って、除草効果を調査した。そ
の結果を表１１に示す。
除草効果試験） ６００ｃｍ２プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ｅｃ）、ジョンソングラス（Ｓｏ）、オオイ
ヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、
ノアサガオ（Ｉｐ）及びオナモミ（Ｘａ）を播種し覆土
した。温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製し
た水和剤の所定有効成分量（ｇ／１０ａ）を、１０アー
ル当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に
茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理後１
４日目に表７の基準に従って、除草効果を調査した。そ
の結果を表１１に示す。
【００７０】
【表１１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 涼 静岡県小笠郡菊川町加茂3353番地 審査官 冨永 保 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 401/12 239 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、ベンジル基、ハロゲン置換アルキル基、シ
アノアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカ
ルボニルオキシアルキル基、アルコキシカルボニルアル
キル基、アルキルカルボニルオキシアルキル基、シクロ
アルキルカルボニルオキシアルキル基、シクロアルキル
アルキル基、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子
または有機アミンのカチオンを示し、Ｒ１及びＲ２は同
一または相異なり、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、ハロゲン置換アルコキシ基またはアルキルスル
ホニル基を示し、Ｘは式−ＮＲ３Ｒ４（式中、Ｒ３及び
Ｒ４は同一または相異なり、水素原子、アルキル基、フ
ェニル基またはアシル基を示す。）で表される基、水素
原子、シアノ基、フェニル基（該基は、ハロゲン原子、
アルキル基またはアルコキシ基で置換されてもよい）、
フェノキシ基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ
基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、トリメチル
シリルエチニル基、ニトロ基または４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イルオキシ基を示し、Ｙは酸素原子ま
たは式−ＮＲ５−（式中、Ｒ５は水素原子またはホルミ
ル基を示す。）で表される基を示し、ｎは０または１を
示す。但し、Ｘが水素原子を示す時はＹは式−ＮＲ５−
（式中、Ｒ５は前記と同じ意味を示す。）を示す。〕で
表されるピコリン酸誘導体又はその塩。 - 【請求項２】 請求項１に記載のピコリン酸誘導体又は
その塩を有効成分として含有する除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3302644A JP2779720B2 (ja) | 1990-10-25 | 1991-10-23 | ピコリン酸誘導体及び除草剤 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-288180 | 1990-10-25 | ||
| JP28818090 | 1990-10-25 | ||
| JP3302644A JP2779720B2 (ja) | 1990-10-25 | 1991-10-23 | ピコリン酸誘導体及び除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06316574A JPH06316574A (ja) | 1994-11-15 |
| JP2779720B2 true JP2779720B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=26557059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3302644A Expired - Fee Related JP2779720B2 (ja) | 1990-10-25 | 1991-10-23 | ピコリン酸誘導体及び除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2779720B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0641118A (ja) * | 1991-05-31 | 1994-02-15 | Kumiai Chem Ind Co Ltd | ピコリン酸誘導体及び除草剤 |
-
1991
- 1991-10-23 JP JP3302644A patent/JP2779720B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06316574A (ja) | 1994-11-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |