JPH03200772A - アルカン酸アミド誘導体及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、除草剤として有用で、新規なアルカン酸アミ
ド誘導体及びこれを含有する水田、＃及び非農耕地等に
適用できる除草剤に関する。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）近年数
多くの除草剤が開発され、実用化されるに至り、Ｑ作業
の省力化、生産性の向上に寄与してきた。しかし、これ
ら除草剤も実際の使用場面では、除草効果及び安全性の
点で種々の問題点を有している。特に、ハマスゲ、ジョ
ンソングラス等の多年生雑草は非常に防除困難な雑草と
して、世界の農耕地に広く分布しており、これら雑草を
防除する為に種々の除草剤が使用されてきたが、除草効
果の確実性及び作物への安全性等の点で必ずしも満足で
きるものではなく、更に改良された除草剤の出現が望ま
れている。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは上記の目的を達成するため数多くのアルカ
ン酸アミド誘導体を合成し、それらの有用性について鋭
意検討した。その結果、下記−形式（１）で表される新
規のアルカン酸アミド誘導体及びその塩が高い除草活性
と選択性を有することを見いだし本発明をなすに至った
。

（式中　Ｒ＋は水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アラルキル基、フェニル基、置換フェニル基または
アシル基を示し、ＲＲは水素原子またはアルキル基を示
し、Ｒ３及びＲ４は同一または相異なり、水ｉ原子、低
級アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシ基、ハロゲン
原子、低級アルキル基、アミノ基または置換アミノ基を
示し　Ｒ６はシアノ基、式Ｒ’Ｏ（式中、Ｒ６は水素原
子。

アルキル基またはアルケニル基を示す、）で表される基
または式Ｒ’５ＯＩ（式中、Ｒ７はアルキル基、置換ア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、フェニル
基、Ｉ！換フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、ピリ
ジル基、ピラゾリル基、チエニル基、イソオキサシリル
基またはベンズチアゾリル基を示す、）で表される基を
示し、Ｘは酸素原子、硫黄原子、またはイミノ基のいず
れかを示し、Ｚはメチン基または窒素原子を示す、）で
表されるアルカン酸アミド誘導体及びそれらの塩ならび
にこれを有効成分として含有することを特徴とする除草
剤を提供するものである。

次に、−形式（１）で示される本発明化合物の具体例を
あげる。化合物番号は以後の記載において参照される。

第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 第１表つづき 本発明化合物は反応式（１）、（２）、（３）、（４）
および（５）で示す方法にて製造することができる。し
かし、これらの方法に限定されるものではない。

反応式（１） ％式％（１） （式中、Ｙはハロゲン原子を意味し　Ｈ＋、Ｒｔ、Ｒ３
、Ｒ’、Ｒ”、ＸおよびＺは前記で定義したものと同じ
意味を示す、） 一般式〔頁〕で示される化合物は、反応式（１）中の一
般式（Ａ）で示される化合物と一般式（Ｂ）で示される
化合物とを当量以上、好ましくは２等量以上の塩基の存
在下、適当な溶媒中で室温から溶媒の沸点の範囲で０．
５〜２４時間反応させることにより製造することができ
る。塩基としては金属ナトリウム、金属カリウム等のア
ルカリ土属類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水
素化カルシウム等の水素化アルカリ金属及び水素化アル
カリ土類金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のア
ルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム。

水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、トリエチル
アミン、ピリジン等の有機アミン類が使用できる。２当
量以上の塩基を使用した時は１反応後に酸性にして一般
式（１）で示す化合物を得ることができる。また、溶媒
としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系
溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素系溶媒、メタノール、エタノール、インプロパツー
ル等のアルコール系溶媒、エチルエーテル、テトラハイ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒。

アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の非プロトン性極性溶媒。

その他アセトニトリル、水等が使用できる。

反応式（２） ％式％） （式中、Ｌはハロゲン原子、アルキルスルホニル基、ベ
ンジルスルホニル基または置換ベンジルスルホニル基を
意味し、Ｒ１１は水素原子、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、フェニル基、置換フェニル基を示
す　Ｒ１，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５゜Ｘおよび２は前記で定義
したものと同じ意味を示す、） 一般式〔■′〕で示される化合物は、反応式（２）中の
一般式（Ｃ）で示される化合物と一般式（Ｄ）で示され
る化合物とを当量以上、好ましくは２等量以上の塩基の
存在下、適当な溶媒中で室温から溶媒の沸点の範囲で０
．５〜２４時間反応させることにより製造することがで
きる。塩基としては金属ナトリウム、金属カリウム等の
アルカリ金属類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、
水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属及び水素化ア
ルカリ土類金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の
アルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等の水酸化アルカリ金属類、トリエチルアミン、ピ
リジン等の有機アミン類が使用できる。２当量以上の塩
基を使用した時は１反応後に酸性にして一般式〔Ｉ′〕
で示す化合物を得ることができる。また、溶媒としては
ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒。

塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパツール等の
アルコール系溶媒、エチルエーテル。

テトラハイドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒
、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢
酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド等の非プロトン性極性溶媒、その他アセトニ１リル
、水等が使用できる。

反応式（３） ％式％） （式中、Ｒ”、Ｒ３，Ｒ’、Ｒ’、Ｒａ、ＸおよびＺは
前記で定義したものと同じ意味を示す、）−形式〔Ｉ°
〕で示される本発明化合物は１反応式（３）中の一般式
（Ｅ）で示される化合物と一般式（Ｆ）で示される化合
物とを適当な溶媒中で、等量以上の縮合剤と等量以上の
塩基を加えて。

０℃から溶媒の沸点の範囲の温度で０．５〜２４時間反
応させることによって製造することができる。縮合剤と
してはシュウ酸ジクロライド、クロロ炭酸エステル、カ
ルボニルジイミダゾール、シアノリン酸エステル、カル
ボジイミド類等が使用できる。溶媒としてはベンゼン、
トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、塩化メチレン
、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテ
ル。

エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、アセトニ
トリル等の非プロトン性極性溶媒類が使用でき、塩基と
しては金属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属
類、水素化ナトリウム。

水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ
金属及び水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、トリ
エチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が使用できる
。

反応式（４） ％式％） （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、ＸおよびＺは
前記で定義したものと同じ意味を示す。）反応式（４）
中の一般式〔１′〕で示される化合物は、−形式（Ｅ）
で示される化合物と一般式（Ｇ）で示される化合物とを
適当な溶媒中で、室温から溶媒の沸点の温度範囲内で５
分〜１０時間反応させることによるかまたは、触媒量か
ら当モル以上の塩基の共存下で反応させることによって
製造することができる。ここに溶媒としてはベンゼン、
トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒。

塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、エチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、その
他アセトニトリル等が使用できる。塩基としては金属ナ
トリウム、金属カリウム等のアルカリ金属類、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素
化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩類
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカ
リ金属類、その他トリエチルアミン、ピリジン等の有機
アミン類が使用できる。

塩基を使用したときは、反応後に酸性にして一般式〔１
′〕で示される化合物を得ることができる。

反応式（５） ％式％ （式中、Ｍ”はアルカリ金属、アルカリ土類金属あるい
は有機アミン等のカチオンを示す（Ｐはカチオンの電荷
によりｌ〜２を示す）、また　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４
、Ｒ’、ＸおよびＺは前記で定義したものと同じ意味を
示す、） 反応式（５）中の一般式〔■〕で示される化合物は一般
式（１）で示される化合物と塩基とを溶媒中で室温から
溶媒の沸点の温度範囲内で５分〜１０時間反応させるこ
とによって製造することができる。ここに溶媒としては
ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、塩
化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶
媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、エ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、その他アセト
ニトリル、水等が使用できる。塩基としては金属ナトリ
ウム、金属カリウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化ア
ルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩類、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金
属類、その他１級、２級および３級の有機アミン類が使
用できる。

次に製造法の具体例を挙げて説明する。

実施例１ Ｎ−メチルスルホニル２−　（４，６−シメトキシー２
−ピリミジニル）チオ−３−メチル酪酸アミドの製造法 ４．６−シメトキシー２−メルカプトピリミジン９．５
ｇ、無水炭酸カリウム１０．３ｇ、Ｎ−メチルスルホニ
ル２−ブロモ−３−メチル酪酸アミド１３．５ｇ、Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍＡを丸底フラスコに
取り、１２０℃で３時間撹拌した。その後、この反応混
合物を氷水中に注ぎ、希塩酸でｐＨを約３に調整した後
、５０ｍ１１の酢酸エチルで２回抽出した。この抽出液
を水洗後、無水硫酸ナトリウムで一夜乾燥させた。

無機塩を濾別した後、減圧下で溶媒を留去して粗結晶１
６．９　ｇを得た。これをトルエン中で再結晶して目的
化合物１４．４ｇを得た。

融点１４１〜１４２℃。

実施例２ Ｎ−フェニルスルホニル　２−　（４，６−シメトキシ
ー２−ピリミジニル）チオ−３−オキソ酪酸アミドの製
造法 ４．６−シメトキシー２−メルカプトピリミジン１．１
ｇ、６０％水素化ナトリウム０．３ｇ、Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍ１１を丸底フラスコに
取り、撹拌して均一にした後、Ｎ−フェニルスルホニル
２−クロロ−３−オキソ酪酸アミド１．８ｇを加えた。

室温下で３時間撹拌後、この反応混合物を氷水中に注ぎ
、以下実施例１と同様にして粗結晶２．５ｇを得た。こ
れをトルエン中で再結晶して目的化合物１．６ｇを得た
。

融点１６３〜１６５℃。

実施例３ Ｎ−メチルスルホニル　２−（４，６−シメトキシー２
−ｓ−トリアジニル）チオ−３−メチル酪酸アミドの製
造法 Ｎ−メチルスルホニル メチル酪酸アミド１．８ｇ．３％水酸化ナトリウム水２
５ｇを丸底フラスコに取り、水冷下で４６−シメトキシ
ー２−クロロ−ｓ−トリアジン１。

６ｇを含んだアセトン溶液１０ｍＭを滴下した。

そのままの温度で１時間撹拌後，この反応混合物を氷水
中に注ぎ，希塩酸でＰＨを約３に調整し、５０ｍｆｆｉ
の酢酸エチルで２回抽出した．この抽出液を水洗後、無
水硫酸ナトリウムで一夜乾燥させた．無機塩を濾別した
後，減圧下で溶媒を留去して粗結晶２．８ｇを得た．こ
れをトルエン−ヘキサン混液中で再結晶して目的化合物
２．５ｇを得た．融点１３９〜１４２℃。

実施例４ Ｎ−エチルスルホニル２−（４．６−シメトキシー２−
ピリミジニル）チオ−３．３−ジメチル酪酸アミドの製
造法 ２−　（４．６−シメトキシー２−ピリミジニル）チオ
−３．３−ジメチル酪酸０．７ｇ．１−エチル−３（３
°−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・ヒドロ
クロリド０．７ｇ、エタンスルホンアミド０．３　ｇお
よびジクロロメタン２０ｍｌｌを丸底フラスコ中に取り
，室温下で１２時間反応させた．これに水５０ｍＭを加
え、５％塩酸でｐＨ３〜４に調整した後に分液し、更に
２回ジクロロメタンで抽出した．この抽出液を水洗後、
無水硫酸ナトリウムで一夜乾燥させた．無機塩を濾別後
、減圧下で溶媒を留去し粘稠液体０．８ｇを得た．これ
をカラムクロマトグラフにてｗＩ製して白色結晶の目的
化合物０．５ｇを得た。

融点１４６〜１４７℃。

実施例５ Ｎ−メチルスルホニル　２−　（４．６−シメトキシー
２−ピリミジニル）オキシ−３３−ジメチル酪酸アミド
の製造法 ２−　（４．６−シメトキシー２−ピリミジニル）オキ
シ−３．３−ジメチル酪酸３．１ｇ．　　トリエチルア
ミン１．３ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０
ｍＡを丸底フラスコ中に取り，水冷下でシアノリン酸ジ
エチル２．２ｇを滴下した後、室温下で２時間反応させ
た。

メタンスルホンアミド１．２ｇ、６０％水素化ナトリウ
ム１．２ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍ
Ｑを丸底フラスコに取り，これに予め調整しておいた２
−　（４．６−シメトキシー２−ピリミジニル）オキシ
−３，３−ジメチル酪酸の反応混合物を水冷下で滴下し
た．滴下終了後に室温下で１２時間反応させ，その後１
００℃に昇温して３時間反応させた。反応混合物を氷水
に注いだ後、５％塩酸でｐＨ３〜４に調整し、酢酸エチ
ルにて２回抽出した。この抽出液を水洗後、無水硫酸ナ
トリウムで一夜乾燥させた。無機塩を濾別後、減圧下で
溶媒を留去し粘稠液体２．８ｇを得た。これをカラムク
ロマトグラフにて精製し。

淡黄色結晶の目的化合物２．２ｇを得た。

融点１４７〜１５０℃。

実施例６ Ｎ−メチルスルホニル２−シクロペンチル−２−（４，
６−シメトキシー２−ピリミジニル）チオ酢酸アミドの
製造法 ２−シクロペンチル−２−（４，６−シメトキシー２−
ピリミジニル）チオ酢酸２．２ｇ、１〜リエチルアミン
２．４ｇ、シアノリン酸ジエチル１゜５ｇ、メタンスル
ホンアミド０．８ｇおよびジクロロメタン３０ｍ１１を
丸底フラスコに取り、室温下で１２時間反応させた。こ
れに水５０　ｍ　ｍを加え、５％塩酸でｐ　Ｈ３〜４に
調整した後に分液し、更に２回ジクロロメタンで抽出し
た。この抽出液を水洗後、無水硫酸ナトリウムで一夜乾
燥させた。

無機塩を濾別後、減圧下で溶媒を留去し粗結晶２゜１ｇ
を得た。これをトルエン−ヘキサン混液中で再結晶して
、淡褐色結晶の目的化合物１．７ｇを得た。融点１４１
〜１４２℃。

実施例７ Ｎ−（２−メトキシカルボニルフェニル）スルホニル　
２−（４−クロロ−６−メドキシー２−ピリミジニル）
オキシ酢酸アミドの製造法 ２−（４−クロロ−６−メドキシー２−ピリミジニル）
オキシ酢酸１．５ｇ、　　トリエチルアミン０．７ｇ、
ジクロロメタン２０ｍｊｌを丸底フラスコに取り、室温
下で２−メトキシカルボニルベンゼンスルホニルイソシ
アナート１．７ｇを滴下し。

そのままの温度で２時間反応させた。これに水５０ｍ１
２を加え、５％塩酸でｐＨ３〜４に調整した後に分液し
、更に２回ジクロロメタンで抽出したにの抽出液を水洗
後、？＃、水硫酸ナトリウムで一夜乾燥させた。１＃、
機塩を濾別後、減圧下で溶媒を留去し粗結晶２．２ｇを
得た。これをトルエン−へキサン混液中で再結晶して淡
黄色結晶の目的化合物１．８ｇを得た。融点１５３〜１
６０℃。

実施例８ Ｎ−（２−イソプロポキシカルボニルフェニル）スルホ
ニル　２−　（４，６−シメトキシー２−ピリミジニル
）オキシ酢酸アミドの製造法 ２−　（４，６−シメトキシー２−ピリミジニル）オキ
シ酢酸０．９ｇ、トリエチルアミン０．３ｇ、ジクロロ
メタン２０ｍＩ２を丸底フラスコに取り、室温下で２−
イソプロポキシカルボニルベンゼンスルホニルイソシア
ナート０．７ｇを滴下し、そのままの温度で２時間反応
させた。以下、実施例６と同様にして粗結晶１．４ｇを
得た。これを四塩化炭素−ヘキサン混液中で再結晶して
白色結晶の目的化合物１．２ｇを得た。

融点１２０〜１２５℃。

実施例９ イソプロピルアミン・Ｎ−メチルスルホニル２−　（４
，６−シメトキシー２−ピリミジニル）チオ−３−メチ
ル酪酸イミド塩の製造法 Ｎ−メチルスルホニル　２−（４，６−シメトキシー２
−ピリミジニル）チオ−３−メチル酪酸アミド１．９ｇ
、イソプロピルアミン０．４ｇおよびテトラハイドロフ
ラン２０ｍｊｌを丸底フラスコに取り、完全に均一溶液
とした後に減圧下で溶媒を留去して、淡黄色の樹脂状物
質の目的化合物２゜２ｇを得た。屈折率ｎ　”ｔ、’　
１−５２９８　一実施例１Ｏ Ｎ−メチルスルホニル　２−　（４，６−シメトキシー
２−ピリミジニル）チオ−３，３−ジメチル酪酸イミド
ナトリウムの製造法Ｎ−メチルスルホニル　２−（４，
６−シメトキシー２−ピリミジニル）チオ−３，３−ジ
メチル酪酸アミド１．５ｇを１０ｍＭのメタノールに溶
解させ、この中に２８％ナトリウムメトキシド０゜８ｇ
を加えて均一溶液とした。これから減圧下で溶媒を留去
して結晶の目的化合物１．５ｇを得た。

融点１３８〜１４０℃。

尚１本発明化合物（１）の合成に用いられた反応中間体
（Ａ）、〔Ｃ〕および（Ｅ）は反応式％式％（） に従って合成した。

合成中間体（Ａ）の製造法 反応式（６） ％式％（） （式中、Ｒ”、Ｒ’、Ｒ’、ｔ；　Ｊ：　ヒＹ　ハ前記
テ定ｔ＆したものと同じ意味を示す、） 一般式〔Ａ′〕で示される化合物は一般式（Ｈ）で示さ
れる化合物を適当な溶媒中で０℃から溶媒の沸点の範囲
の温度で０．５〜６時間、等量以上の縮合剤と反応させ
た後、−形式（Ｆ）で示される化合物と等量以上の塩基
を加え、０℃から溶媒の沸点の範囲の温度で０．５〜２
４時間反応させることによって製造することができる。

縮合剤としては塩化チオニル、シュウ酸ジクロライド、
りロロ炭酸エステル、カルボニルジイミダゾール、シア
ノリン酸エステル、カルボジイミド類等が使用できる。

溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素系溶媒、エーテル、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジメ
チルホルムアミド、アセトニトリル等の非プロトン性極
性溶媒類が使用でき、塩基としては金属ナトリウム。

金属カリウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、
水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ
金属及び水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルア
ミン、ピリジン等の有機アミン類が使用できる。

参考例Ｉ　Ｎ−メチルスルホニル　２−ブロモ−３−メ
チル醋酸アミドの製造法。

２−ブロモ−３−メチル酪酸１９．９　ｇ、塩化チオニ
ル５０ｍＡを丸底フラスコに取り、還流下で３時間反応
させた後、減圧下で過剰の塩化チオニルを留去して２−
ブロモ−３−メチル酪酸クロリド２１．９ｇを得た。

丸底フラスコ中に水素化ナトリウム８゜５ｇを取り、１
００ｍＱのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え撹拌分
散し、その中ヘメタンスルホンアミド１０ｇを徐々に加
えた。水素の発生がやんだ後、水冷下で２−ブロモ−３
−メチル酪酸クロリド２１．９ｇを滴下した。その後、
室温下で３時間撹拌後、この反応混合物を氷水中に注ぎ
希塩酸で酸性にした後、５０ｍＢの酢酸エチルで２回抽
出した。この抽出液を水洗後、無水硫酸ナトリウムで一
夜乾燥させた。無機塩を濾別した後、減圧下で溶媒を留
去して粗結晶１８ｇを得た。これをトルエン中で再結晶
して目的化合物１３．５ｇを得た。融点１３８〜１４１
℃。

同様にして第２表に示す化合物が合成された。

（以下余白〉 第２表 Ｃ０ＮＨ３０□Ｒ６ −ＣＨ 薯 （以下余白） 反応式（７） ［Ｊ）　　　　　　　　　　　　　　（Ａ”）（式中　
Ｒ９はアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、置
換フェニル基を示し、Ｒ６およびＹは前記で定義したも
のと同じ意味を示す。）−形式（Ａ”）で示される化合
物は一般式（Ｊ）で示される化合物を適当な溶媒中で０
℃から溶媒の沸点の範囲の温度で０５〜６時間１等量以
上のハロゲン化剤と反応させることによって製造するこ
とができる。ハロゲン化剤としては塩素、臭素、ハロゲ
ン化スルフリル、Ｎ−ハロゲノスフシイミド等が使用で
きる。溶媒としては塩化メチレン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素系溶媒。

エーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジオ
キサン等のエーテル類、ジメチルホルムアミド等の非プ
ロトン性極性溶１Ｘｌｎが使用でき、またハロゲン化水
素が副生ずる場合には炭酸カルシウムの様な塩基を共存
させてもよい。

（Ｆ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｊ）
さらに、−形式〔Ｊ〕で示される化合物は、ヘミシェ　
ベリヒテ　（Ｃｈｅｍｉｃｈｅ　Ｂｅｒｉｃｈｔｅ）８
３巻、５５１頁に記載の方法に準じジケテンと一般式Ｃ
Ｆ）で示される化合物とから合成するか、又は、−形式
（Ｋ）で示される化合物と一般式（Ｆ）で示される化合
物とに等量以上の塩基を加え、０℃から溶媒の沸点の温
度範囲で０．５〜２４時間反応させることにより製造す
ることとができる。溶媒としてはベンゼン、トルエン、
キシレン等の炭化水素系溶媒、塩化メチレン、クロロホ
ルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル
等の非プロトン性極性溶媒類が使用でき、塩基としては
金属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属類、水
素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等
の水素化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属類、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩
類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が使
用できる。

参考例２　　Ｎ−フェニルスルホニル　２−クロロ−３
−オキソ酪酸アミドの製造法。

丸底フラスコ中に、Ｎ−フェニルスルホニル２−クロロ
−３−オキソ酪酸アミド５．５ｇ、炭酸カルシウム５ｇ
、塩化スルフリル３．７ｇ、クロロホルム３０ｍＲを取
り、還流下で３時間反応させた後、希塩酸水を加え分液
した。クロロホルム相を水洗後、無水硫酸ナトリウムで
一夜乾燥させた。！！Ａ機塩を濾別した後、減圧下で溶
媒を留去して粘稠液体６．０ｇを得た。これをカラムク
ロマトグラフィーにて精製して赤褐色樹脂状の目的化合
物５．２　ｇを得た。

参者例３　Ｎ−メチルスルホニル３−オキソ−３−フェ
ニルプロピオン酸アよトの製 造法。

丸底フラスコ中に、水素化ナトリウム０．８ｇを取り、
３０　ｍ　ｍのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え撹
拌分散し、その中ヘメタンスルホンアミド１．９ｇを徐
々に加えた。水素の発生がやんだ後、２．２−ジメチル
−６−フェニル−１，３−ジオキシン−４−オン３．８
ｇを加え、１００℃で３時間反応させた。その後、この
反応混合物を氷水中に注ぎ希塩酸で酸性にした後、５０
ｍ１１の酢酸エチルで２回抽出した。この抽出液を水洗
後、無水硫酸ナトリウムで一夜乾燥させた。無機塩を濾
別した後、減圧下で溶媒を留去して粗結晶４５ｇを得た
。これをトルエン−酢酸エチル混液中で再結晶して目的
化合物３．５ｇを得た。

融点１６９〜１７０℃。

合成中間体（Ｃ）の製造法 反応式（８） （式中、Ｒ２、Ｒ’、　Ｒ’、　Ｘ　オＪ−ヒＹ　ｉｔ
　前記テ定義したものと同じ意味を示す、） −形式（Ｃ）で示される化合物は上述の一般式〔Ａ′〕
で示される化合物とＸＨ，、即ち水、硫化水素またはア
ンモニアとを２等量以上の塩基の存在下で反応させるこ
とによって製造することができる。塩基としては金属ナ
トリウム、金属カリウム等のアルカリ金属類、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素
化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金
属類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が
使用できる。また、溶媒としてはベンゼン、トルエン、
キシレン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール
、インプロパツール等のアルコール系溶媒、エチルエー
テル、テトラハイドロフラン、ジオキサン等のエーテル
系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、その他アセトニ
トリル、水等が使用できる。

参考例４　Ｎ−メチルスルホニル２−メルカプト−３−
メチル酪酸アミドの製造法。

丸底フラスコ中に、Ｎ−メチルスルホニル２−ブロモ−
３−メチル酪酸アミド９，３ｇを取り、３％水酸化ナト
リウム水５０ｇを加えて、３０〜４０℃で撹拌し溶解さ
せる。これに７０％水硫化ナトリウム３．６ｇを加え、
還流下で２時間反応させた。この反応混合物を氷水中に
注ぎ希塩酸で酸性にした後、５０ｍ１２の酢酸エチルで
３回抽出した。この抽出液を水洗後、無水硫酸ナトリウ
ムで一夜乾燥させた。無機塩を濾別した後、減圧下で溶
媒を留去して粗結晶８ｇを得た。これを四塩化炭素中で
再結晶して目的化合物６．７ｇを得た。

融点１０５〜１１２℃。

合成中間体（Ｅ）の製造法 反応式（９） ％式％（） 反応式（１０） （式中、Ｒは水素原子、アルキル基またはアラルキル基
を示り、、　Ｒ”、Ｒ３，Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、Ｘ、Ｙ、
ＺおよびＬは前記で定義したものと同じ意味を示す、） 一般式〔Ｅ〕で示される化合物は１反応式（９）中の一
般式（Ｐ）で示される化合物と一般式（Ｉ３）で示され
る化合物とを、あるいは反応式（１０）中の一般式［Ｑ
］で示される化合物と一般式（Ｄ）で示される化合物と
を当量以上の塩基の存在下。

適当な溶媒中で室温から溶媒の沸点の範囲で０５〜２４
時間反応させ、Ｒが水素以外の時はこれに引き続き得ら
れたエステル誘導体を加水分解あるいは加水素分解する
ことで、また、Ｒが水素のときは２当量以上の塩基を使
用し１反応後酸性にして一般式（Ｅｌで示す化合物を得
ることができる。塩基としては金属ナトリウム、金属カ
リウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属及
び水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、トリエチル
アミン、ピリジン等の有機アミン類が使用できる。また
、溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化
水素系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン
化炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、インプロ
パツール等のアルコール系溶媒、エチルエーテル、テト
ラハイドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メ
チル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド
等の非プロトン性極性溶媒、その他アセトニトリル、水
等が使用できる。

参考例５　２−（４，６−シメトキシー２−ピリミジニ
ル）オキシ−３，３−ジメチル 酪酸の製造法 ２−ヒドロキシ−３，３−ジメチル酪酸メチル１０．３
　ｇ、無水炭酸カリウム１５ｇ、４．６−シメトキシー
２−ピリミジニルメチルスルホン１６ｇならびにＮ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド１００ｒｒ＋ｆｉを丸底フラス
コに取り、１００℃で４時間撹拌後、この反応混合物を
氷水中に注ぎ、５０ｍＱの酢酸エチルで２回抽出した。

この抽出液を水洗後、減圧下で溶媒を留去して粗結晶１
８ｇを得た。

これをメタノール５０ｍｎに溶解し、１０％水酸化ナト
リウム５０ｍＱを加え、還流下で１時間反応させた。こ
の反応混合物を氷水中に注ぎ希塩酸で酸性にした後、５
０ｍＱの酢酸エチルで３回抽出した。この抽出液を水洗
後、無水硫酸ナトリウムで一夜乾燥させた。無機塩を濾
別した後、減圧下で溶媒を留去して粗結晶１６ｇを得た
。これを四塩化炭素中で再結晶して目的化合物１４．７
ｇを得た。融点１８２〜１８４℃。

本発明の除草剤は一般式（１）で示されるアルカン酸ア
ミド誘導体及びその塩を有効成分としてなる。

本発明化合物を除草剤として水田、＃地、樹園地、非農
耕地等に使用する場合、その目的に応じて有効成分を適
当な剤型で用いることができる。

通常の場合は有効成分を不活性な液体または固体の担体
で希釈し、必要に応じて界面活性剤２分散剤、補助剤等
を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、粒剤等の各種形態に
製剤して使用することができる。製剤化に際して用いら
れる担体としては、例えばジ−クライト、タルク、ベン
トナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボ
ン、バーミキュライト、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の
固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロ
ヘキサノン、メチルナフタレン等の液体担体等があげら
れる。界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルコー
ル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リ
グニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエ
ーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル
、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等が
あげられる。補助剤としては例えばカルボキシメチルセ
ルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等が
あげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布
するか又は直接施用する０本発明化合物は有効成分で１
０アール当り０．１ｇ−１Ｋｇ施用する。

また本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他
の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混用してもよい。

次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明す
る。以下の説明において１部」は重量部を意味する。

製剤例１　水和剤 化合物（９）の１０部にエマルゲン８１０（花王株式会
社の登録商標）の０．５部、デモールＮ（花王株式会社
の登録商標）の０．５部、クニライト２０１（クニミネ
工業株式会社の登録商標）の２０部、ジ−クライトＣ＾
（ジ−クライト株式会社の登録商標）の６９部を混合粉
砕し、水和剤を得る。

製剤例２　水和剤 化合物（２５）の１０部にエマルゲン８１０の０゜５部
、デモールＮの０．５部、クニライト２０１の２０部、
カープレックス８０の５部、ジ−クライトＣ＾の６４部
を混合粉砕して水和剤を得る。

製剤例３　乳剤 化合物（３０）の３０部にキシレンとイソホロンの等量
混合物６０部、界面活性剤ツルポール８００Ａ（東邦化
学工業株式会社の登録商標）の１０部を加え、これらを
よくかきまぜることによって乳剤を得る。

製剤例４　粒剤 化合物（１１７）の１０部、タルクとベントナイトを１
＝３の割合の混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボ
ンの５部、界面活性剤ツルポール８００Ａのの５部に水
１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径
０　、７　ａｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に
０．５〜１鵬−の長さに切断して粒剤を得る。

（発明の効果） 一般式（１）で表される本発明の化合物及びその塩は、
水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の
一年生雑草及びホタルイ、ヘラオモダカ、ウリカワ、ミ
ズガヤツリ、クログワイ等の多年生雑草の発芽時から生
育期の広い範囲にわたって、極めて低い薬量で優れた除
草効果を発揮する。また、畑地においても問題となる種
々の雑草１例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハ
コベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アサガオ。

オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ
、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤッリ等の多年生
および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エ
ノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノ
スズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草を有効
に防除することができる。一方１本発明の除草剤は作物
に対する安全性も高く、中でも、稲、小麦、大麦、トウ
モロコシ、ツルガム、大豆及び棉等に対して高い安全性
を示す。

次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明す
る。

試験例１（水田土壌処理による除草効果試験〉１００　
ｃ＋＊”のプラスチックポットに水田土壌を充填し１代
掻後、タイヌビエ（Ｅｃ）、タマガヤツリ（Ｃｄ）　、
ｍｌコナギ　Ｍｏ）及びホタルイ（Ｓｃ）の各種子を播
種し、水深３Ｃ重に湛水した。翌日、製剤例１に準じて
調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下処理した。施用
量は、有効成分を１０アール当り１００ｇとした。その
後、温室内で育成し、処理２１日０に第３表の基準に従
って除草効果を調査した。その結果を第４表に示した。

第３表 第４表 第４表つづき 第４表つづき 表に示す。

第５表 第４表つづき 試験例２（畑地土壌処理による除草効果試験）１２０　
ｃ＋＋＋”プラスチックポットに畑地土壌を充填し１食
用ビニ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（ＰＯ）、アオビユ（Ａ
ｌｌ＋）、シロザ（Ｃｈ）、コゴメガヤツリ（Ｃｉ）の
各種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した
水和剤を水で希釈し、１０アール当り有効成分が１００
ｇになる様に、１０アール当り１００Ｑを小型噴霧器で
土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、
処理２１日０に第３表の基準に従って除草効果を調査し
た。その結果を第５第５表つづき 第５表つづき 第５表つづき 試験例３（頬地茎葉処理による除草効果試験）１２０　
ｃｍ”プラスチックポットに畑地土壌を充填し、食用ビ
ニ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（＾■〉
、シロザ（Ｃｈ）、コゴメガヤツリの各種子を播種し、
温室内で２週間育成後、製剤例１に準して調製した水和
剤を水に希釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇに
なる様に、１０アール当り１００Ｑを小型噴霧器で植物
体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内
で育成し、処理１４日目に第３表の基準に従って除草効
果を調査した。その結果を第６表に示す。

試験例４（水田土壌処理による薬効、薬害試験）１　／
　５０００　ａワグネルポットに水田土壌を充填し、入
水、代掻後、萌芽したウリカワ（Ｓ、ａ）及びミズガヤ
ツリ（Ｃｓ）の塊茎をポット当り２個体づつ各々深度２
ｃ厘及び表層に埋没させ、ヒエ（Ｅｃ）、コナギ（Ｍｏ
）、ホタルイ（Ｓｃ）及びヘラオモダカ（ＡＩ）の種子
を播種し、更に２．５葉期の水稲（Ｏｒ〉を移植深度２
ｃ−で、２本移植して水深３ｃｍに湛水した。

翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分
量を水で希釈し、水面に滴下処理した。その後、温室内
で育威し、処理３０日０に第３表の基準に従って、除草
効果及び薬害を調査した。その結果を第７表に示す。

第７表つづき 試験例５（領地土壌処理における作物選択性試験〉６０
０　ｃｍ”プラスチックポット各々に畑地土壌を充填し
、小麦（Ｔｒ）、棉（Ｇｏ）、ヒエ（Ｅｃ）、アオビユ
（Ａ■〉、イチビ（Ａｂ）、ノアサガオ（Ｉｐ＞及びハ
マスゲ（ＣＲ）を播種した。ポット底部より吸水させた
後、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量
を１０アール当り１００１１の水で希釈し、小型噴霧器
で土壌表面に散布処理した。処理後再び温室内で育成し
、処理２１日目隠第３表の基準に従って、除草効果及び
薬害を調査した。その結果を第８表に示す。

第８表 試験例６（畑地茎葉処理による作物選択性試験）６００
　ｃｍ”プラスチックポットに領地土壌を充填し、棉（
Ｇｏ）、ヒエ（Ｅｃ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビ
ユ（Ａ■）、イチビ（Ａｂ）、ノアサガオ＜Ｉｐ）及び
ハマスゲ（ＣＲ）の各種子を播種し、温室内で２週間育
成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、
１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０ア
ール当り１００１１を小型噴霧器で植物体の上方から全
体に茎葉散布処理した。その後。

温室内で育成し、処理１４日目隠第３表の基準に従って
除草効果を調査した。その結果を第９表に示す。

（以下余白） （以下余白）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾１は水素原子、アルキル基、シクロアルキ
   ル基、アラルキル基、フェニル基、置換フェニル基また
   はアシル基を示し、Ｒ＾２は水素原子またはアルキル基
   を示し、Ｒ＾３及びＲ＾４は同一または相異なり、水素
   原子、低級アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシ基、
   ハロゲン原子、低級アルキル基、アミノ基または置換ア
   ミノ基を示し、Ｒ＾５はシアノ基、式Ｒ＾６Ｏ（式中、
   Ｒ＾５は水素原子、アルキル基またはアルケニル基を示
   す。）で表される基または式Ｒ＾７ＳＯ＿２（式中、Ｒ
   ＾７はアルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基
   、アルケニル基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジ
   ル基、ナフチル基、ピリジル基、ピラゾリル基、チエニ
   ル基、イソオキサゾリル基またはベンズチアゾリル基を
   示す。）で表される基を示し、Ｘは酸素原子、硫黄原子
   、またはイミノ基のいずれかを示し、Ｚはメチン基また
   は窒素原子を示す。｝で表されるアルカン酸アミド誘導
   体及びそれらの塩。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾１は水素原子、アルキル基、シクロアルキ
   ル基、アラルキル基、フェニル基、置換フェニル基また
   はアシル基を示し、Ｒ＾２は水素原子またはアルキル基
   を示し、Ｒ＾３及びＲ＾４は同一または相異なり、水素
   原子、低級アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシ基、
   ハロゲン原子、低級アルキル基、アミノ基または置換ア
   ミノ基を示し、Ｒ＾５はシアノ基、式Ｒ＾５Ｏ（式中、
   Ｒ＾５は水素原子、アルキル基またはアルケニル基を示
   す。）で表される基または式Ｒ＾７ＳＯ＿２（式中、Ｒ
   ＾７はアルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基
   、アルケニル基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジ
   ル基、ナフチル基、ピリジル基、ピラゾリル基、チエニ
   ル基、イソオキサゾリル基またはベンズチアゾリル基を
   示す。）で表される基を示し、Ｘは酸素原子、硫黄原子
   、またはイミノ基のいずれかを示し、Ｚはメチン基また
   は窒素原子を示す。｝で表されるアルカン酸アミド誘導
   体及びそれらの塩を有効成分として含有する除草剤。