JPH08291146A - 除草性ｎ−（置換フェニル）スルホンアミド化合物 - Google Patents
除草性ｎ−（置換フェニル）スルホンアミド化合物Info
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- JPH08291146A JPH08291146A JP2755896A JP2755896A JPH08291146A JP H08291146 A JPH08291146 A JP H08291146A JP 2755896 A JP2755896 A JP 2755896A JP 2755896 A JP2755896 A JP 2755896A JP H08291146 A JPH08291146 A JP H08291146A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】イネに薬害のない優れた除草活性を有する化合
物の提供。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 ［Ｒ1 ＝Ｈ、Ｃ２−Ｃ１０アルカノイル基等、Ｒ2 ＝メ
トキシカルボニル基、アセチル基等、Ｑ＝２−ピリミジ
ニル基、５−ハロゲン置換−２−ピリミジニル基、６−
ハロゲン置換−３−ピリダジニル基］のスルホンアミド
化合物。
物の提供。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 ［Ｒ1 ＝Ｈ、Ｃ２−Ｃ１０アルカノイル基等、Ｒ2 ＝メ
トキシカルボニル基、アセチル基等、Ｑ＝２−ピリミジ
ニル基、５−ハロゲン置換−２−ピリミジニル基、６−
ハロゲン置換−３−ピリダジニル基］のスルホンアミド
化合物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、強力な除草作用を
示す新規なＮ−（置換フェニル）スルホンアミド化合物
及び該化合物を有効成分とする除草剤に関する。
示す新規なＮ−（置換フェニル）スルホンアミド化合物
及び該化合物を有効成分とする除草剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】これまで、ある種のスルホンアニリド誘
導体が除草活性を有することは、例えば、特許公開平２
−１４９５６７号公報（但し、スルホンアミド基と、ベ
ンゼン環の置換分としてのピリミジニルオキシ又はトリ
アジニルオキシ基とはオルト位置換に限定した化合物の
みである。）、及び、米国特許４，３４５，０７６号公
報（但し、本願一般式（Ｉ）のＱに対応する置換基はピ
リダジニル基であり、Ｒ2 に対応する置換基は水素原
子、塩素原子又はメチル基である。）に記載されてい
る。又、特許公開昭６０−２２２４６１号公報にもある
種のスルホンアニリド誘導体が記載されている（但し、
本願一般式（Ｉ）のＱに対応する置換基はピリジンに限
定した化合物のみである。）が、防虫活性のあることは
示されているものの、それらの除草活性については何ら
記載されていない。
導体が除草活性を有することは、例えば、特許公開平２
−１４９５６７号公報（但し、スルホンアミド基と、ベ
ンゼン環の置換分としてのピリミジニルオキシ又はトリ
アジニルオキシ基とはオルト位置換に限定した化合物の
みである。）、及び、米国特許４，３４５，０７６号公
報（但し、本願一般式（Ｉ）のＱに対応する置換基はピ
リダジニル基であり、Ｒ2 に対応する置換基は水素原
子、塩素原子又はメチル基である。）に記載されてい
る。又、特許公開昭６０−２２２４６１号公報にもある
種のスルホンアニリド誘導体が記載されている（但し、
本願一般式（Ｉ）のＱに対応する置換基はピリジンに限
定した化合物のみである。）が、防虫活性のあることは
示されているものの、それらの除草活性については何ら
記載されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記特許公開平２−１
４９５６７号公報及び特許公開昭６０−２２２４６１号
公報に記載の化合物は、後記試験例で示すように、除草
活性が低薬量施用時において十分でない。
４９５６７号公報及び特許公開昭６０−２２２４６１号
公報に記載の化合物は、後記試験例で示すように、除草
活性が低薬量施用時において十分でない。
【０００４】前記米国特許４，３４５，０７６号公報記
載の化合物も、後記試験例で示すように、イネに対する
薬害が強く、除草剤として安全に使用できるものではな
い。
載の化合物も、後記試験例で示すように、イネに対する
薬害が強く、除草剤として安全に使用できるものではな
い。
【０００５】本発明者等は、スルホンアニリド構造を有
する誘導体の合成とその薬理活性について永年に亘り鋭
意研究を行なった結果、既知の化合物とは全く構造を異
にする新規なスルホンアニリド誘導体が、イネに薬害の
ない優れた除草活性を有することを見出し、本発明を完
成した。
する誘導体の合成とその薬理活性について永年に亘り鋭
意研究を行なった結果、既知の化合物とは全く構造を異
にする新規なスルホンアニリド誘導体が、イネに薬害の
ない優れた除草活性を有することを見出し、本発明を完
成した。
【０００６】
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）
【０００８】
【化４】
【０００９】［式中、Ｒ1 は、水素原子、Ｃ２−Ｃ１０
アルカノイル基又はベンゾイル基（当該ベンゾイル基
は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基から選ばれる
１又は２個の置換基により置換されていても良い）を示
し、Ｒ2 は、メトキシカルボニル基、アセチル基、式−
Ｃ（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式−Ｃ（＝
ＮＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、
２−ピリミジニル基、５−ハロゲン置換−２−ピリミジ
ニル基又は６−ハロゲン置換−３−ピリダジニル基を示
す。］で表わされるスルホンアミド化合物、好適には、
［式中、Ｒ1 は、水素原子、プロピオニル基、ブタノイ
ル基又はベンゾイル基（当該ベンゾイル基は、１個の塩
素原子又はメチル基により置換されていても良い）を示
し、Ｒ2 は、メトキシカルボニル基、式−Ｃ（＝ＮＯＣ
Ｈ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、２−ピリミジ
ニル基又は６−クロロ−３−ピリダジニル基を示す。］
で表わされるスルホンアミド化合物、更に好適には、
［式中、Ｒ1 は、水素原子又はプロピオニル基を示し、
Ｒ2 は、メトキシカルボニル基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ
3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、２−ピリミジニ
ル基、５−クロロ−２−ピリミジニル基又は６−クロロ
−３−ピリダジニル基を示す。］で表わされるスルホン
アミド化合物、並びに、それらスルホンアミド化合物を
有効成分として含有する、除草剤組成物である。
アルカノイル基又はベンゾイル基（当該ベンゾイル基
は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基から選ばれる
１又は２個の置換基により置換されていても良い）を示
し、Ｒ2 は、メトキシカルボニル基、アセチル基、式−
Ｃ（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式−Ｃ（＝
ＮＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、
２−ピリミジニル基、５−ハロゲン置換−２−ピリミジ
ニル基又は６−ハロゲン置換−３−ピリダジニル基を示
す。］で表わされるスルホンアミド化合物、好適には、
［式中、Ｒ1 は、水素原子、プロピオニル基、ブタノイ
ル基又はベンゾイル基（当該ベンゾイル基は、１個の塩
素原子又はメチル基により置換されていても良い）を示
し、Ｒ2 は、メトキシカルボニル基、式−Ｃ（＝ＮＯＣ
Ｈ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、２−ピリミジ
ニル基又は６−クロロ−３−ピリダジニル基を示す。］
で表わされるスルホンアミド化合物、更に好適には、
［式中、Ｒ1 は、水素原子又はプロピオニル基を示し、
Ｒ2 は、メトキシカルボニル基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ
3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、２−ピリミジニ
ル基、５−クロロ−２−ピリミジニル基又は６−クロロ
−３−ピリダジニル基を示す。］で表わされるスルホン
アミド化合物、並びに、それらスルホンアミド化合物を
有効成分として含有する、除草剤組成物である。
【００１０】本願において、「Ｃ２−Ｃ１０アルカノイ
ル基」とは、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オク
タノイル、デカノイル、シクロプロパンカルボニル、シ
クロブタンカルボニル、シクロペンタンカルボニルのよ
うな、総炭素数１乃至９個の直鎖、分枝鎖又は環状アル
キル基にカルボニル基が結合した基であり、好適には、
プロピオニル、ブチリル、シクロプロパンカルボニル、
シクロブタンカルボニルであり、更に好適にはプロピオ
ニルである。
ル基」とは、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オク
タノイル、デカノイル、シクロプロパンカルボニル、シ
クロブタンカルボニル、シクロペンタンカルボニルのよ
うな、総炭素数１乃至９個の直鎖、分枝鎖又は環状アル
キル基にカルボニル基が結合した基であり、好適には、
プロピオニル、ブチリル、シクロプロパンカルボニル、
シクロブタンカルボニルであり、更に好適にはプロピオ
ニルである。
【００１１】本願において、「ハロゲン原子」とは、弗
素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子であり、好適に
は、弗素原子又は塩素原子であり、更に好適には、塩素
原子である。
素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子であり、好適に
は、弗素原子又は塩素原子であり、更に好適には、塩素
原子である。
【００１２】本願において、「Ｃ１−Ｃ４アルキル基」
とは、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-
ブチル、s-ブチル、イソブチル、t-ブチルであり、好適
には、メチル又はエチルであり、更に好適には、メチル
である。
とは、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-
ブチル、s-ブチル、イソブチル、t-ブチルであり、好適
には、メチル又はエチルであり、更に好適には、メチル
である。
【００１３】本願において、「ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ
４アルキル基から選ばれる１又は２個の置換基により置
換されていても良いベンゾイル基」とは、例えば、ベン
ゾイル、2-クロロベンゾイル、3-クロロベンゾイル、4-
クロロベンゾイル、2,4-ジクロロベンゾイル、3,5-ジク
ロロベンゾイル、2,6-ジクロロベンゾイル、2-フルオロ
ベンゾイル、3-フルオロベンゾイル、4-フルオロベンゾ
イル、o-トルオイル、m-トルオイル、p-トルオイル、2,
4-ジメチルベンゾイル、3,5-ジメチルベンゾイル、2,3-
ジメチルベンゾイル、2,6-ジメチルベンゾイルのような
基であり、好適には、ベンゾイル、4-クロロベンゾイ
ル、2-フルオロベンゾイル、p-トルオイル、2,4-ジメチ
ルベンゾイルであり、更に好適には、ベンゾイル、p-ト
ルオイルである。
４アルキル基から選ばれる１又は２個の置換基により置
換されていても良いベンゾイル基」とは、例えば、ベン
ゾイル、2-クロロベンゾイル、3-クロロベンゾイル、4-
クロロベンゾイル、2,4-ジクロロベンゾイル、3,5-ジク
ロロベンゾイル、2,6-ジクロロベンゾイル、2-フルオロ
ベンゾイル、3-フルオロベンゾイル、4-フルオロベンゾ
イル、o-トルオイル、m-トルオイル、p-トルオイル、2,
4-ジメチルベンゾイル、3,5-ジメチルベンゾイル、2,3-
ジメチルベンゾイル、2,6-ジメチルベンゾイルのような
基であり、好適には、ベンゾイル、4-クロロベンゾイ
ル、2-フルオロベンゾイル、p-トルオイル、2,4-ジメチ
ルベンゾイルであり、更に好適には、ベンゾイル、p-ト
ルオイルである。
【００１４】本願において、「５−ハロゲン置換−２−
ピリミジニル基」とは、前記の「ハロゲン原子」が５位
に置換した２−ピリミジニル基であり、好適には、５−
クロロ−２−ピリミジニル基である。
ピリミジニル基」とは、前記の「ハロゲン原子」が５位
に置換した２−ピリミジニル基であり、好適には、５−
クロロ−２−ピリミジニル基である。
【００１５】本願において、「６−ハロゲン置換−３−
ピリダジニル基」とは、前記の「ハロゲン原子」が６位
に置換した３−ピリダジニル基であり、好適には、６−
クロロ−２−ピリダジニル基である。
ピリダジニル基」とは、前記の「ハロゲン原子」が６位
に置換した３−ピリダジニル基であり、好適には、６−
クロロ−２−ピリダジニル基である。
【００１６】本願一般式（Ｉ）の化合物において、Ｒ1
は、好適には、水素原子、プロピオニル基、ブチリル基
又はベンゾイル基（当該ベンゾイル基は、１個の塩素原
子又はメチル基により置換されていても良い）であり、
更に好適には、水素原子又はプロピオニル基であり、最
も好適には、水素原子である。
は、好適には、水素原子、プロピオニル基、ブチリル基
又はベンゾイル基（当該ベンゾイル基は、１個の塩素原
子又はメチル基により置換されていても良い）であり、
更に好適には、水素原子又はプロピオニル基であり、最
も好適には、水素原子である。
【００１７】Ｒ2 は、好適には、メトキシカルボニル
基、式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式
−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基であ
り、更に好適にはメトキシカルボニル基又は式−Ｃ（＝
ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基である。
基、式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式
−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基であ
り、更に好適にはメトキシカルボニル基又は式−Ｃ（＝
ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基である。
【００１８】Ｑは、好適には、２−ピリミジニル基、５
−クロロ−２−ピリミジニル基又は６−クロロ−３−ピ
リダジニル基である。
−クロロ−２−ピリミジニル基又は６−クロロ−３−ピ
リダジニル基である。
【００１９】以下、表１に、本発明の化合物を化合物番
号とともに例示するが、本発明はこれらの化合物に限定
されるものではない。
号とともに例示するが、本発明はこれらの化合物に限定
されるものではない。
【００２０】なお、表中、「Ph」はフェニル基を、「cP
r 」はシクロプロピル基を、「cBu」はシクロブチル基
を、「cPen」はシクロペンチル基を、「cHex」はシクロ
ヘキシル基を、「2-Pym 」は２−ピリミジニル基を、
「3-Pyzn」は３−ピリダジニル基を、それぞれ示す。
r 」はシクロプロピル基を、「cBu」はシクロブチル基
を、「cPen」はシクロペンチル基を、「cHex」はシクロ
ヘキシル基を、「2-Pym 」は２−ピリミジニル基を、
「3-Pyzn」は３−ピリダジニル基を、それぞれ示す。
【００２１】
【化５】
【００２２】
【表１】 ──────────────────────────────────── 化合物 物性・ 番号 Ｒ1 Ｒ2 Ｑ 融点（℃） ──────────────────────────────────── １ H COOCH3 2-Pym オイル ２ COCH3 COOCH3 2-Pym オイル ３ COCH2CH3 COOCH3 2-Pym オイル ４ CO(CH2)2CH3 COOCH3 2-Pym オイル ５ COCH(CH3)2 COOCH3 2-Pym ６ CO(CH2)3CH3 COOCH3 2-Pym ７ COCH2CH(CH3)2 COOCH3 2-Pym ８ COCH(CH3)CH2CH3 COOCH3 2-Pym ９ COC(CH3)3 COOCH3 2-Pym １０ CO(CH2)4CH3 COOCH3 2-Pym １１ CO(CH2)5CH3 COOCH3 2-Pym １２ CO(CH2)8CH3 COOCH3 2-Pym １３ CO-cPr COOCH3 2-Pym １４ CO-cBu COOCH3 2-Pym １５ CO-cPen COOCH3 2-Pym １６ CO-cHex COOCH3 2-Pym １７ CO-Ph COOCH3 2-Pym 73.5 １８ CO-(2-Cl-Ph) COOCH3 2-Pym １９ CO-(3-Cl-Ph) COOCH3 2-Pym オイル ２０ CO-(4-Cl-Ph) COOCH3 2-Pym 34.5-36 ２１ CO-(2-F-Ph) COOCH3 2-Pym ２２ CO-(2-CH3-Ph) COOCH3 2-Pym オイル ２３ CO-(3-CH3-Ph) COOCH3 2-Pym ２４ CO-(4-CH3-Ph) COOCH3 2-Pym ２５ CO-(2,4-Cl2-Ph) COOCH3 2-Pym ２６ CO-(2,4-(CH3)2-Ph) COOCH3 2-Pym ２７ H COOCH3 5-Cl-2-Pym オイル ２８ COCH2CH3 COOCH3 5-Cl-2-Pym オイル ２９ CO(CH2)2CH3 COOCH3 5-Cl-2-Pym ３０ CO-cBu COOCH3 5-Cl-2-Pym ３１ CO-Ph COOCH3 5-Cl-2-Pym ３２ CO-(2-CH3-Ph) COOCH3 5-Cl-2-Pym ３３ H COOCH3 5-F-2-Pym ３４ COCH2CH3 COOCH3 5-F-2-Pym ３５ CO(CH2)2CH3 COOCH3 5-F-2-Pym ３６ CO-cBu COOCH3 5-F-2-Pym ３７ CO-Ph COOCH3 5-F-2-Pym ３８ CO-(2-CH3-Ph) COOCH3 5-F-2-Pym ３９ H COOCH3 6-Cl-3-Pyzn 128-129.5 ４０ COCH2CH3 COOCH3 6-Cl-3-Pyzn オイル ４１ CO(CH2)2CH3 COOCH3 6-Cl-3-Pyzn オイル ４２ CO-cBu COOCH3 6-Cl-3-Pyzn ４３ CO-Ph COOCH3 6-Cl-3-Pyzn オイル ４４ CO-(2-CH3-Ph) COOCH3 6-Cl-3-Pyzn オイル ４５ H COOCH3 6-F-3-Pyzn ４６ COCH2CH3 COOCH3 6-F-3-Pyzn ４７ CO(CH2)2CH3 COOCH3 6-F-3-Pyzn ４８ CO-cBu COOCH3 6-F-3-Pyzn ４９ CO-Ph COOCH3 6-F-3-Pyzn ５０ CO-(2-CH3-Ph) COOCH3 6-F-3-Pyzn ５１ H COCH3 2-Pym オイル ５２ COCH2CH3 COCH3 2-Pym ５３ CO(CH2)2CH3 COCH3 2-Pym ５４ CO-cBu COCH3 2-Pym ５５ CO-Ph COCH3 2-Pym ５６ CO-(2-CH3-Ph) COCH3 2-Pym ５７ H C(=NOCH3)CH3 2-Pym オイル ５８ COCH3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ５９ COCH2CH3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym 128-130 ６０ CO(CH2)2CH3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym オイル ６１ COCH(CH3)2 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ６２ CO(CH2)3CH3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ６３ COCH2CH(CH3)2 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ６４ COCH(CH3)CH2CH3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ６５ COC(CH3)3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ６６ CO(CH2)4CH3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ６７ CO(CH2)5CH3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ６８ CO(CH2)8CH3 C(=NOCH3)CH3 2-Pym ６９ CO-cPr C(=NOCH3)CH3 2-Pym ７０ CO-cBu C(=NOCH3)CH3 2-Pym 97-99 ７１ CO-cPen C(=NOCH3)CH3 2-Pym 101-102 ７２ CO-cHex C(=NOCH3)CH3 2-Pym オイル ７３ CO-Ph C(=NOCH3)CH3 2-Pym オイル ７４ CO-(2-Cl-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ７５ CO-(3-Cl-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ７６ CO-(4-Cl-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ７７ CO-(2-F-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ７８ CO-(2-CH3-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ７９ CO-(3-CH3-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ８０ CO-(4-CH3-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ８１ CO-(2,4-Cl2-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ８２ CO-(2,4-(CH3)2-Ph) C(=NOCH3)CH3 2-Pym ８３ H C(=NOCH2CH3)CH3 2-Pym オイル ８４ COCH2CH3 C(=NOCH2CH3)CH3 2-Pym ８５ CO(CH2)2CH3 C(=NOCH2CH3)CH3 2-Pym ８６ CO-cBu C(=NOCH2CH3)CH3 2-Pym ８７ CO-Ph C(=NOCH2CH3)CH3 2-Pym ８８ CO-(2-CH3-Ph) C(=NOCH2CH3)CH3 2-Pym ８９ H COCH3 5-Cl-2-Pym オイル ９０ COCH2CH3 COCH3 5-Cl-2-Pym オイル ９１ CO(CH2)2CH3 COCH3 5-Cl-2-Pym ９２ CO-cBu COCH3 5-Cl-2-Pym ９３ CO-Ph COCH3 5-Cl-2-Pym ９４ CO-(2-CH3-Ph) COCH3 5-Cl-2-Pym ９５ H C(=NOCH3)CH3 5-Cl-2-Pym オイル ９６ COCH2CH3 C(=NOCH3)CH3 5-Cl-2-Pym 143-145 ９７ CO(CH2)2CH3 C(=NOCH3)CH3 5-Cl-2-Pym ９８ CO-cBu C(=NOCH3)CH3 5-Cl-2-Pym ９９ CO-Ph C(=NOCH3)CH3 5-Cl-2-Pym １００ CO-(2-CH3-Ph) C(=NOCH3)CH3 5-Cl-2-Pym １０１ H C(=NOCH2CH3)CH3 5-Cl-2-Pym オイル １０２ COCH2CH3 C(=NOCH2CH3)CH3 5-Cl-2-Pym １０３ CO(CH2)2CH3 C(=NOCH2CH3)CH3 5-Cl-2-Pym １０４ CO-cBu C(=NOCH2CH3)CH3 5-Cl-2-Pym １０５ CO-Ph C(=NOCH2CH3)CH3 5-Cl-2-Pym １０６ CO-(2-CH3-Ph) C(=NOCH2CH3)CH3 5-Cl-2-Pym １０７ H COCH3 6-Cl-3-Pyzn 112-115 １０８ COCH2CH3 COCH3 6-Cl-3-Pyzn オイル １０９ CO(CH2)2CH3 COCH3 6-Cl-3-Pyzn １１０ CO-cBu COCH3 6-Cl-3-Pyzn １１１ CO-Ph COCH3 6-Cl-3-Pyzn １１２ CO-(2-CH3-Ph) COCH3 6-Cl-3-Pyzn １１３ H C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn 119-121 １１４ COCH3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １１５ COCH2CH3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn 168-170 １１６ CO(CH2)2CH3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn 133.5 １１７ COCH(CH3)2 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １１８ CO(CH2)3CH3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １１９ COCH2CH(CH3)2 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １２０ COCH(CH3)CH2CH3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １２１ COC(CH3)3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １２２ CO(CH2)4CH3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １２３ CO(CH2)5CH3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １２４ CO(CH2)8CH3 C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １２５ CO-cPr C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １２６ CO-cBu C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １２７ CO-cPen C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn 128-132 １２８ CO-cHex C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn 125 １２９ CO-Ph C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn オイル １３０ CO-(2-Cl-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３１ CO-(3-Cl-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３２ CO-(4-Cl-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３３ CO-(2-F-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３４ CO-(2-CH3-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３５ CO-(3-CH3-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３６ CO-(4-CH3-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３７ CO-(2,4-Cl2-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３８ CO-(2,4-(CH3)2-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １３９ H C(=NOCH2CH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn 87-91 １４０ COCH2CH3 C(=NOCH2CH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn 155-156 １４１ CO(CH2)2CH3 C(=NOCH2CH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １４２ CO-cBu C(=NOCH2CH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １４３ CO-Ph C(=NOCH2CH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １４４ CO-(2-CH3-Ph) C(=NOCH2CH3)CH3 6-Cl-3-Pyzn １４５ H COCH3 6-F-3-Pyzn １４６ COCH2CH3 COCH3 6-F-3-Pyzn １４７ CO(CH2)2CH3 COCH3 6-F-3-Pyzn １４８ CO-cBu COCH3 6-F-3-Pyzn １４９ CO-Ph COCH3 6-F-3-Pyzn １５０ CO-(2-CH3-Ph) COCH3 6-F-3-Pyzn １５１ H C(=NOCH3)CH3 6-F-3-Pyzn １５２ COCH2CH3 C(=NOCH3)CH3 6-F-3-Pyzn １５３ CO(CH2)2CH3 C(=NOCH3)CH3 6-F-3-Pyzn １５４ CO-cBu C(=NOCH3)CH3 6-F-3-Pyzn １５５ CO-Ph C(=NOCH3)CH3 6-F-3-Pyzn １５６ CO-(2-CH3-Ph) C(=NOCH3)CH3 6-F-3-Pyzn １５７ H C(=NOCH2CH3)CH3 6-F-3-Pyzn １５８ COCH2CH3 C(=NOCH2CH3)CH3 6-F-3-Pyzn １５９ CO(CH2)2CH3 C(=NOCH2CH3)CH3 6-F-3-Pyzn １６０ CO-cBu C(=NOCH2CH3)CH3 6-F-3-Pyzn １６１ CO-Ph C(=NOCH2CH3)CH3 6-F-3-Pyzn １６２ CO-(2-CH3-Ph) C(=NOCH2CH3)CH3 6-F-3-Pyzn １６３ CO-(3,5-(CH3)2-Ph) COOCH3 2-Pym オイル １６４ CO-(2,6-(CH3)2-Ph) COOCH3 2-Pym 50 １６５ CO-cPen COOCH3 6-Cl-3-Pyzn 129-130 １６６ CO-cHex COOCH3 6-Cl-3-Pyzn オイル ──────────────────────────────────── 上記表１において、好適には、１，３，４，１７，２
０，２２，２７，２８，３９，４０，４１，４３，５
７，５９，６０，７０，７１，７３，８３，９５，９
６，１１３，１１５，１１６，１２７，１３９番の化合
物を挙げることができ、更に好適には、１，３，４，１
７，２７，２８，３９，４０，４１，５７，５９，６
０，７０，７１，７３，８３，９５，１１３，１１５，
１１６，１２７番の化合物を挙げることができ、より更
に好適には、１，３，２７，３９，４０，５７，５９，
６０，１１３，１１５番の化合物を挙げることができ、
最も好適には、３９，４０，５７，５９，１１５番の化
合物を挙げることができる。
０，２２，２７，２８，３９，４０，４１，４３，５
７，５９，６０，７０，７１，７３，８３，９５，９
６，１１３，１１５，１１６，１２７，１３９番の化合
物を挙げることができ、更に好適には、１，３，４，１
７，２７，２８，３９，４０，４１，５７，５９，６
０，７０，７１，７３，８３，９５，１１３，１１５，
１１６，１２７番の化合物を挙げることができ、より更
に好適には、１，３，２７，３９，４０，５７，５９，
６０，１１３，１１５番の化合物を挙げることができ、
最も好適には、３９，４０，５７，５９，１１５番の化
合物を挙げることができる。
【００２３】表１の化合物の、化合物番号、化合物名及
び核磁気共鳴スペクトルを以下に示す。なお、［NMR(20
0MHz,CDCl3) δ(ppm) ］は、それぞれ省略する。
び核磁気共鳴スペクトルを以下に示す。なお、［NMR(20
0MHz,CDCl3) δ(ppm) ］は、それぞれ省略する。
【００２４】化合物番号１Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド 11.20(br.s,1H),8.57(d,2H,J=4.8Hz),7.92(d,1H,J=2.9H
z),7.82(d,1H,J=9.1Hz),7.43(dd,1H,J=2.9,9.1Hz),7.10
(t,1H,J=4.8Hz),3.96(s,3H). 化合物番号２Ｎ−アセチル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメ
タンスルホンアミド 8.59(d,2H,J=4.8Hz),7.99(d,1H,J=2.8Hz),7.54(dd,1H,J
=2.8,8.5Hz),7.37(d,1H,J=8.5Hz),7.13(t,1H,J=4.8Hz),
3.91(s,3H),2.36(s,3H). 化合物番号３Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４
−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロ
メタンスルホンアミド 8.59(d,2H,J=4.8Hz),7.97(d,1H,J=2.9Hz),7.51(dd,1H,J
=2.9,8.6Hz),7.38(d,1H,J=8.6Hz),7.13(t,1H,J=4.8Hz),
3.90(s,3H),2.48(q,2H,J=7.2Hz),1.14(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号４Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメ
タンスルホンアミド 8.60(d,2H,J=4.8Hz),7.99(d,1H,J=2.8Hz),7.52(dd,1H,J
=2.8,8.7Hz),7.36(d,1H,J=8.7Hz),3.91(s,3H),2.44(t,2
H,J=7.2Hz),1.68(q,2H,J=7.2Hz),0.92(t,3H,J=7.3Hz). 化合物番号１７Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメ
タンスルホンアミド 8.56(d,2H,J=4.9Hz),7.85(d,1H,J=2.5Hz),7.59(d,2H,J=
8.8Hz),7.36(dd,1H,J=2.5,8.7Hz),7.21-7.30(m,4H),7.0
8(t,1H,J=4.9Hz),3.97(s,3H). 化合物番号１９Ｎ−（３−クロロベンゾイル）−Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド 8.49(2H,d,J=4.8Hz),7.91-8.02(m,1H),7.66-7.86(m,2
H),7.57(dt,1H,Jd=1.8Hz,Jt=8.8Hz),7.22-7.45(m,3H),
7.02-7.10(m,1H),3.88(s,3H). 化合物番号２０Ｎ−（４−クロロベンゾイル）−Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド 8.57(d,2H,J=4.8Hz),7.86(d,1H,J=2.5Hz),7.57(d,1H,J=
8.7Hz),7.36(dd,1H,J=2.5,8.7Hz),7.26(d,3H,J=8.7Hz),
7.12(t,1H,J=4.8Hz),3.96(s,3H). 化合物番号２２Ｎ−（ｏ−トルオイル）−Ｎ−［２−メトキシカルボニ
ル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフ
ルオロメタンスルホンアミド 8.56(d,2H,J=4.7Hz),7.87(d,1H,J=2.4Hz),7.16-7.38(m,
4H),7.11(t,1H,J=4.7Hz),7.01(t,2H,J=7.9Hz),4.00(s,3
H),2.47(s,3H). 化合物番号２７Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（５−クロロ−２
−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタン
スルホンアミド 8.51(s,2H),7.91(d,1H,J=2.8Hz),7.84(d,1H,J=9.0Hz),
7.41(dd,1H,J=2.8,9.0Hz),3.97(s,3H). 化合物番号２８Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４
−（５−クロロ−２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド 8.53(s,2H),7.97(d,1H,J=2.8Hz),7.49(dd,1H,J=2.8,9.0
Hz),7.38(d,1H,J=9.0Hz),3.92(s,3H). 化合物番号３９Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（６−クロロ−３
−ピリダジニルオキシ ）フェニル］トリフルオロメタン
スルホンアミド 7.97(d,1H,J=2.8Hz),7.84(d,1H,J=9.1Hz),7.55(d,1H,J=
9.1Hz),7.44(dd,1H,J=2.8,9.1Hz),7.23(d,1H,J=9.1Hz),
3.96(s,3H). 化合物番号４０Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４
−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド 7.98(d,1H,J=2.8Hz),7.58(d,1H,J=9.0Hz),7.55(dd,1H,J
=2.8,9.0Hz),7.38(d,1H,J=9.0Hz),7.27(d,1H,J=9.0Hz). 化合物番号４１Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド 7.99(d,1H,J=2.8Hz),7.59(d,1H,J=8.8Hz),7.56(dd,1H,J
=2.8,8.8Hz),7.38(d,1H,J=8.8Hz),7.28(d,1H,J=8.8Hz),
3.90(s,3H),2.41(t,2H,J=7.4Hz),1.68(hexatet,2H,J=7.
4Hz),0.92(t,3H,J=7.4Hz). 化合物番号４３Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド 7.88(d,1H,J=2.7Hz),7.51-7.66(m,3H),7.18-7.45(m,6
H),3.98(s,3H). 化合物番号４４Ｎ−（ｏ−トルオイル）−Ｎ−［２−メトキシカルボニ
ル−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェ
ニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 7.88(d,1H,J=2.8Hz),7.55(d,1H,J=9.1Hz),7.31-7.41(m,
2H),7.12-7.28(m,4H),7.02(t,1H,J=7.7Hz),3.99(s,3H),
2.46(s,3H). 化合物番号５１Ｎ−［２−アセチル−４−（２−ピリミジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.60(d,2H,J=4.8Hz),7.88-7.81(m,2H),7.48(dd,1H,J=2.
8,9.1Hz),7.13(t,1H,J=4.8Hz),2.69(s,3H). 化合物番号５７Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド 11.81(br.s,1H),8.58(d,2H,J=4.8Hz),7.75(d,1H,J=9.0H
z),7.39(d,1H,J=2.7Hz),7.24(dd,1H,J=2.7,9.0Hz),7.09
(t,1H,J=4.8Hz),4.05(s,3H),2.29(s,3H). 化合物番号５９Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノメ
チル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド 8.61(d,2H,J=4.8Hz),7.34-7.37(m,3H),7.14(t,1H,J=4.8
Hz),3.94(s,3H),2.23-2.60(m,2H),2.20(s,3H),1.12(t,3
H,J=7.2Hz). 化合物番号６０Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリ
フルオロメタンスルホンアミド 8.60(d,2H,J=4.8Hz),7.21-7.40(m,3H),7.13(t,1H,J=4.8
Hz),3.93(s,3H),2.15-2.51(m,2H),2.18(s,3H),1.65(hex
atet,2H,J=7.4Hz),0.91(t,3H,J=7.4Hz). 化合物番号７０Ｎ−シクロブタンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メトキ
シイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.60(d,2H,J=5.0Hz),7.35(m,1H),7.27(m,2H),7.13(t,1
H,J=5.0Hz),3.87(s,3H),3.18(q,1H,J=8.1Hz),2.56(q,1
H,J=8.1Hz),2.10-2.30(m,1H),2.16(s,3H),1.75-1.96(m,
4H). 化合物番号７１Ｎ−シクロペンタンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メト
キシイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.59(d,2H,J=4.8Hz),7.27-7.40(m,3H),7.13(t,1H,J=4.8
Hz),3.93(s,3H),2.69(quintet,1H,J=7.6Hz),2.17(s,3
H),1.40-1.85(m,8H). 化合物番号７２Ｎ−シクロヘキサンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メト
キシイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.59(d,2H,J=4.8Hz),7.22-7.41(m,3H),7.11(t,1H,J=4.8
Hz),3.93(s,3H),2.17(s,3H,J=7.6Hz),2.10-2.28(m,1H),
0.85-1.95(m,10H). 化合物番号７３Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリ
フルオロメタンスルホンアミド 8.56(d,2H,J=4.7Hz),7.67(d,2H,J=7.1Hz),7.16-7.35(m,
4H),7.05-7.38(m,2H),4.04(s,3H),2.13(s,3H). 化合物番号８３Ｎ−［２−（１−エトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド 12.02(br.s,1H),8.58(d,1H,J=4.8Hz),7.76(d,1H,J=9.0H
z),7.39(d,1H,J=2.7Hz),7.23(dd,1H,J=2.7,9.0Hz),7.09
(t,1H,J=4.8Hz),4.29(q,2H,J=7.1Hz),2.31(s,3H),1.38
(t,3H,J=7.1Hz). 化合物番号８９Ｎ−［２−アセチル−４−（５−クロロ−２−ピリミジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミド 12.06(br.s,1H),8.52(s,2H),7.86(d,1H,J=9.1Hz),7.79
(d,1H,J=2.8Hz),7.46(dd,1H,J=2.8,9.1Hz),2.69(s,3H). 化合物番号９０Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−アセチル−４−（５−ク
ロロ−２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオ
ロメタンスルホンアミド 8.55(s.2H),7.71(d,1H,J=2.6Hz),7.49(dd,1H,J=2.6,8.7
Hz),7.38(d,1H,J=2.6Hz),2.62-2.50(m,2H),2.59(s,3H),
1.18(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号９５Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（５−
クロロ−２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド 11.80(br.s,1H),8.50(s,2H),7.75(d,1H,J=9.0Hz),7.37
(d,1H,J=2.7Hz),7.22(dd,1H,J=2.7,9.0Hz),4.06(s,3H),
2.29(s,3H). 化合物番号９６Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエ
チル）−４−（５−クロロ−２−ピリミジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.53(s,2H),7.40-7.27(m,3H),3.94(s,3H),2.56-2.22(m,
2H),2.19(s,3H),1.12(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号１０１Ｎ−［２−（１−エトキシイミノエチル）−４−（５−
クロロ−２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド 12.03(br.s,1H),8.50(s,2H),7.76(d,1H,J=9.0Hz),7.37
(d,1H,J=2.7Hz),7.21(dd,1H,J=2.7,9.0Hz),4.30(q,2H,J
=7.1Hz),2.31(s,3H),1.38(t,3H,J=7.1Hz). 化合物番号１０７Ｎ−［２−アセチル−４−（６−クロロ−３−ピリダジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミド 7.87(d,1H,J=2.8Hz),7.86(d,1H,J=9.1Hz),7.57(d,1H,J=
9.1Hz),7.47(dd,1H,J=2.8,9.1Hz),7.27(d,1H,J=9.1Hz),
2.69(s,3H). 化合物番号１０８Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−アセチル−４−（６−ク
ロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］トリフルオ
ロメタンスルホンアミド 7.78(d,1H,J=2.4Hz),7.61(d,1H,J=9.1Hz),7.53(dd,1H,J
=2.4,8.5Hz),7.38(d,1H,J=8.5Hz),7.31(d,1H,J=9.1Hz),
2.59(s,3H),2.45-2.56(m,2H),1.15(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号１１３Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（６−
クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド 11.70(br.s,1H),7.74(d,1H,J=9.1Hz),7.54(d,1H,J=9.1H
z),7.42(d,1H,J=2.8Hz),7.23(d,2H,J=9.1Hz),4.05(s,3
H),2.28(s,3H). 化合物番号１１５Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエ
チル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド ７．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．３８
（ｍ，１Ｈ），７．３５（ｍ，２Ｈ），７．２７（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），３．９２（ｓ，３Ｈ），２．
１８−２．５８（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ），
１．１０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）． 化合物番号１１６Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド ７．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．３９
（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｍ，２Ｈ），７．２７（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），３．９２（ｓ，３Ｈ），２．
１８−２．５０（ｍ，２Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），
１．６５（ｈｅｘａｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），
０．９１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）． 化合物番号１２７Ｎ−シクロペンタンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メト
キシイミノエチル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミド 7.59(d,1H,J=9.1Hz),7.32-7.42(m,3H),7.27(d,1H,J=9.1
Hz),3.93(s,3H),2.71(quintet,1H,J=7.6Hz),2.17(s,3
H),1.41-1.89(m,8H). 化合物番号１２８Ｎ−シクロヘキサンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メト
キシイミノエチル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミド 7.59(d,1H,J=9.1Hz),7.34-7.44(m,2H),7.21-7.31(m,2
H),3.95(s,3H),2.18(s,3H),2.12(m,1H),0.85-1.95(m,10
H). 化合物番号１２９Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 7.68(d,2H,J=6.9Hz),7.53(d,1H,J=9.0Hz),7.38(s,2H),
7.29(d,2H,J=6.9Hz),7.18(d,1H,J=9.0Hz),7.13(s,2H),
4.04(s,3H),2.14(s,3H). 化合物番号１３９Ｎ−［２−（１−エトキシイミノエチル）−４−（６−
クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド 11.97(br.s,1H),7.73(d,1H,J=9.0Hz),7.53(d,1H,J=9.5H
z),7.39(s,1H),7.12-7.23(m,2H),4.28(q,2H,J=7.2Hz),
1.26(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号１４０Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−（１−エトキシイミノエチ
ル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 7.57(d,1H,J=9.1Hz),7.38(m,1H),7.32(m,2H),7.27(d,1
H,J=9.1Hz),4.16(q,2H,J=7.1Hz),2.10-2.61(m,2H),2.18
(s,3H),1.26(t,3H,J=7.1Hz),1.09(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号１６３Ｎ−（３，５−ジメチルベンゾイル）−Ｎ−［２−メト
キシカルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェ
ニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.57(d,2H,J=4.8Hz),7.85(d,1H,J=2.7Hz),7.25-7.34(m,
2H),7.17(s,2H),7.12(t,1H,J=4.8Hz),7.01(s,1H),3.97
(s,3H),2.20(s,6H). 化合物番号１６４Ｎ−（２，６−ジメチルベンゾイル）−Ｎ−［２−メト
キシカルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェ
ニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.56(d,2H,J=4.8Hz),7.95(d,1H,J=2.7Hz),7.31-7.43(m,
2H),7.06-7.19(m,2H),6.97(t,2H,J=7.9Hz),3.94(s,3H),
2.30(s,3H),2.03(s,3H). 化合物番号１６５Ｎ−シクロペンタンカルボニル−Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキ
シ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 7.99(d,1H,J=2.8Hz),7.59(d,1H,J=8.8Hz),7.56(dd,1H,J
=2.8,9.0Hz),7.40(d,1H,J=8.8Hz),7.29(d,1H,J=9.0Hz),
3.90(s,3H),2.75(quintet,1H,J=7.5Hz),1.40-1.89(m,8
H). 化合物番号１６６Ｎ−シクロヘキサンカルボニル−Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキ
シ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド ８．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．５９
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝２．４，８．７Ｈｚ），７．３８（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８．７Ｈｚ），３．９０（ｓ，３Ｈ），２．２８−
２．４８（ｍ，１Ｈ），０．９５−１．９５（ｍ，１０
Ｈ）．
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド 11.20(br.s,1H),8.57(d,2H,J=4.8Hz),7.92(d,1H,J=2.9H
z),7.82(d,1H,J=9.1Hz),7.43(dd,1H,J=2.9,9.1Hz),7.10
(t,1H,J=4.8Hz),3.96(s,3H). 化合物番号２Ｎ−アセチル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメ
タンスルホンアミド 8.59(d,2H,J=4.8Hz),7.99(d,1H,J=2.8Hz),7.54(dd,1H,J
=2.8,8.5Hz),7.37(d,1H,J=8.5Hz),7.13(t,1H,J=4.8Hz),
3.91(s,3H),2.36(s,3H). 化合物番号３Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４
−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロ
メタンスルホンアミド 8.59(d,2H,J=4.8Hz),7.97(d,1H,J=2.9Hz),7.51(dd,1H,J
=2.9,8.6Hz),7.38(d,1H,J=8.6Hz),7.13(t,1H,J=4.8Hz),
3.90(s,3H),2.48(q,2H,J=7.2Hz),1.14(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号４Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメ
タンスルホンアミド 8.60(d,2H,J=4.8Hz),7.99(d,1H,J=2.8Hz),7.52(dd,1H,J
=2.8,8.7Hz),7.36(d,1H,J=8.7Hz),3.91(s,3H),2.44(t,2
H,J=7.2Hz),1.68(q,2H,J=7.2Hz),0.92(t,3H,J=7.3Hz). 化合物番号１７Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメ
タンスルホンアミド 8.56(d,2H,J=4.9Hz),7.85(d,1H,J=2.5Hz),7.59(d,2H,J=
8.8Hz),7.36(dd,1H,J=2.5,8.7Hz),7.21-7.30(m,4H),7.0
8(t,1H,J=4.9Hz),3.97(s,3H). 化合物番号１９Ｎ−（３−クロロベンゾイル）−Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド 8.49(2H,d,J=4.8Hz),7.91-8.02(m,1H),7.66-7.86(m,2
H),7.57(dt,1H,Jd=1.8Hz,Jt=8.8Hz),7.22-7.45(m,3H),
7.02-7.10(m,1H),3.88(s,3H). 化合物番号２０Ｎ−（４−クロロベンゾイル）−Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド 8.57(d,2H,J=4.8Hz),7.86(d,1H,J=2.5Hz),7.57(d,1H,J=
8.7Hz),7.36(dd,1H,J=2.5,8.7Hz),7.26(d,3H,J=8.7Hz),
7.12(t,1H,J=4.8Hz),3.96(s,3H). 化合物番号２２Ｎ−（ｏ−トルオイル）−Ｎ−［２−メトキシカルボニ
ル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフ
ルオロメタンスルホンアミド 8.56(d,2H,J=4.7Hz),7.87(d,1H,J=2.4Hz),7.16-7.38(m,
4H),7.11(t,1H,J=4.7Hz),7.01(t,2H,J=7.9Hz),4.00(s,3
H),2.47(s,3H). 化合物番号２７Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（５−クロロ−２
−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタン
スルホンアミド 8.51(s,2H),7.91(d,1H,J=2.8Hz),7.84(d,1H,J=9.0Hz),
7.41(dd,1H,J=2.8,9.0Hz),3.97(s,3H). 化合物番号２８Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４
−（５−クロロ−２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド 8.53(s,2H),7.97(d,1H,J=2.8Hz),7.49(dd,1H,J=2.8,9.0
Hz),7.38(d,1H,J=9.0Hz),3.92(s,3H). 化合物番号３９Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（６−クロロ−３
−ピリダジニルオキシ ）フェニル］トリフルオロメタン
スルホンアミド 7.97(d,1H,J=2.8Hz),7.84(d,1H,J=9.1Hz),7.55(d,1H,J=
9.1Hz),7.44(dd,1H,J=2.8,9.1Hz),7.23(d,1H,J=9.1Hz),
3.96(s,3H). 化合物番号４０Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４
−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド 7.98(d,1H,J=2.8Hz),7.58(d,1H,J=9.0Hz),7.55(dd,1H,J
=2.8,9.0Hz),7.38(d,1H,J=9.0Hz),7.27(d,1H,J=9.0Hz). 化合物番号４１Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド 7.99(d,1H,J=2.8Hz),7.59(d,1H,J=8.8Hz),7.56(dd,1H,J
=2.8,8.8Hz),7.38(d,1H,J=8.8Hz),7.28(d,1H,J=8.8Hz),
3.90(s,3H),2.41(t,2H,J=7.4Hz),1.68(hexatet,2H,J=7.
4Hz),0.92(t,3H,J=7.4Hz). 化合物番号４３Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−
（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド 7.88(d,1H,J=2.7Hz),7.51-7.66(m,3H),7.18-7.45(m,6
H),3.98(s,3H). 化合物番号４４Ｎ−（ｏ−トルオイル）−Ｎ−［２−メトキシカルボニ
ル−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェ
ニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 7.88(d,1H,J=2.8Hz),7.55(d,1H,J=9.1Hz),7.31-7.41(m,
2H),7.12-7.28(m,4H),7.02(t,1H,J=7.7Hz),3.99(s,3H),
2.46(s,3H). 化合物番号５１Ｎ−［２−アセチル−４−（２−ピリミジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.60(d,2H,J=4.8Hz),7.88-7.81(m,2H),7.48(dd,1H,J=2.
8,9.1Hz),7.13(t,1H,J=4.8Hz),2.69(s,3H). 化合物番号５７Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド 11.81(br.s,1H),8.58(d,2H,J=4.8Hz),7.75(d,1H,J=9.0H
z),7.39(d,1H,J=2.7Hz),7.24(dd,1H,J=2.7,9.0Hz),7.09
(t,1H,J=4.8Hz),4.05(s,3H),2.29(s,3H). 化合物番号５９Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノメ
チル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド 8.61(d,2H,J=4.8Hz),7.34-7.37(m,3H),7.14(t,1H,J=4.8
Hz),3.94(s,3H),2.23-2.60(m,2H),2.20(s,3H),1.12(t,3
H,J=7.2Hz). 化合物番号６０Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリ
フルオロメタンスルホンアミド 8.60(d,2H,J=4.8Hz),7.21-7.40(m,3H),7.13(t,1H,J=4.8
Hz),3.93(s,3H),2.15-2.51(m,2H),2.18(s,3H),1.65(hex
atet,2H,J=7.4Hz),0.91(t,3H,J=7.4Hz). 化合物番号７０Ｎ−シクロブタンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メトキ
シイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.60(d,2H,J=5.0Hz),7.35(m,1H),7.27(m,2H),7.13(t,1
H,J=5.0Hz),3.87(s,3H),3.18(q,1H,J=8.1Hz),2.56(q,1
H,J=8.1Hz),2.10-2.30(m,1H),2.16(s,3H),1.75-1.96(m,
4H). 化合物番号７１Ｎ−シクロペンタンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メト
キシイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.59(d,2H,J=4.8Hz),7.27-7.40(m,3H),7.13(t,1H,J=4.8
Hz),3.93(s,3H),2.69(quintet,1H,J=7.6Hz),2.17(s,3
H),1.40-1.85(m,8H). 化合物番号７２Ｎ−シクロヘキサンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メト
キシイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.59(d,2H,J=4.8Hz),7.22-7.41(m,3H),7.11(t,1H,J=4.8
Hz),3.93(s,3H),2.17(s,3H,J=7.6Hz),2.10-2.28(m,1H),
0.85-1.95(m,10H). 化合物番号７３Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリ
フルオロメタンスルホンアミド 8.56(d,2H,J=4.7Hz),7.67(d,2H,J=7.1Hz),7.16-7.35(m,
4H),7.05-7.38(m,2H),4.04(s,3H),2.13(s,3H). 化合物番号８３Ｎ−［２−（１−エトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド 12.02(br.s,1H),8.58(d,1H,J=4.8Hz),7.76(d,1H,J=9.0H
z),7.39(d,1H,J=2.7Hz),7.23(dd,1H,J=2.7,9.0Hz),7.09
(t,1H,J=4.8Hz),4.29(q,2H,J=7.1Hz),2.31(s,3H),1.38
(t,3H,J=7.1Hz). 化合物番号８９Ｎ−［２−アセチル−４−（５−クロロ−２−ピリミジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミド 12.06(br.s,1H),8.52(s,2H),7.86(d,1H,J=9.1Hz),7.79
(d,1H,J=2.8Hz),7.46(dd,1H,J=2.8,9.1Hz),2.69(s,3H). 化合物番号９０Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−アセチル−４−（５−ク
ロロ−２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオ
ロメタンスルホンアミド 8.55(s.2H),7.71(d,1H,J=2.6Hz),7.49(dd,1H,J=2.6,8.7
Hz),7.38(d,1H,J=2.6Hz),2.62-2.50(m,2H),2.59(s,3H),
1.18(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号９５Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（５−
クロロ−２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド 11.80(br.s,1H),8.50(s,2H),7.75(d,1H,J=9.0Hz),7.37
(d,1H,J=2.7Hz),7.22(dd,1H,J=2.7,9.0Hz),4.06(s,3H),
2.29(s,3H). 化合物番号９６Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエ
チル）−４−（５−クロロ−２−ピリミジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.53(s,2H),7.40-7.27(m,3H),3.94(s,3H),2.56-2.22(m,
2H),2.19(s,3H),1.12(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号１０１Ｎ−［２−（１−エトキシイミノエチル）−４−（５−
クロロ−２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド 12.03(br.s,1H),8.50(s,2H),7.76(d,1H,J=9.0Hz),7.37
(d,1H,J=2.7Hz),7.21(dd,1H,J=2.7,9.0Hz),4.30(q,2H,J
=7.1Hz),2.31(s,3H),1.38(t,3H,J=7.1Hz). 化合物番号１０７Ｎ−［２−アセチル−４−（６−クロロ−３−ピリダジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミド 7.87(d,1H,J=2.8Hz),7.86(d,1H,J=9.1Hz),7.57(d,1H,J=
9.1Hz),7.47(dd,1H,J=2.8,9.1Hz),7.27(d,1H,J=9.1Hz),
2.69(s,3H). 化合物番号１０８Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−アセチル−４−（６−ク
ロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］トリフルオ
ロメタンスルホンアミド 7.78(d,1H,J=2.4Hz),7.61(d,1H,J=9.1Hz),7.53(dd,1H,J
=2.4,8.5Hz),7.38(d,1H,J=8.5Hz),7.31(d,1H,J=9.1Hz),
2.59(s,3H),2.45-2.56(m,2H),1.15(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号１１３Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（６−
クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド 11.70(br.s,1H),7.74(d,1H,J=9.1Hz),7.54(d,1H,J=9.1H
z),7.42(d,1H,J=2.8Hz),7.23(d,2H,J=9.1Hz),4.05(s,3
H),2.28(s,3H). 化合物番号１１５Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエ
チル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）
フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド ７．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．３８
（ｍ，１Ｈ），７．３５（ｍ，２Ｈ），７．２７（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），３．９２（ｓ，３Ｈ），２．
１８−２．５８（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ），
１．１０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）． 化合物番号１１６Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド ７．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．３９
（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｍ，２Ｈ），７．２７（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），３．９２（ｓ，３Ｈ），２．
１８−２．５０（ｍ，２Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），
１．６５（ｈｅｘａｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），
０．９１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）． 化合物番号１２７Ｎ−シクロペンタンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メト
キシイミノエチル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミド 7.59(d,1H,J=9.1Hz),7.32-7.42(m,3H),7.27(d,1H,J=9.1
Hz),3.93(s,3H),2.71(quintet,1H,J=7.6Hz),2.17(s,3
H),1.41-1.89(m,8H). 化合物番号１２８Ｎ−シクロヘキサンカルボニル−Ｎ−［２−（１−メト
キシイミノエチル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジ
ニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンア
ミド 7.59(d,1H,J=9.1Hz),7.34-7.44(m,2H),7.21-7.31(m,2
H),3.95(s,3H),2.18(s,3H),2.12(m,1H),0.85-1.95(m,10
H). 化合物番号１２９Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチ
ル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 7.68(d,2H,J=6.9Hz),7.53(d,1H,J=9.0Hz),7.38(s,2H),
7.29(d,2H,J=6.9Hz),7.18(d,1H,J=9.0Hz),7.13(s,2H),
4.04(s,3H),2.14(s,3H). 化合物番号１３９Ｎ−［２−（１−エトキシイミノエチル）−４−（６−
クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フェニル］トリフル
オロメタンスルホンアミド 11.97(br.s,1H),7.73(d,1H,J=9.0Hz),7.53(d,1H,J=9.5H
z),7.39(s,1H),7.12-7.23(m,2H),4.28(q,2H,J=7.2Hz),
1.26(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号１４０Ｎ−ブチリル−Ｎ−［２−（１−エトキシイミノエチ
ル）−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 7.57(d,1H,J=9.1Hz),7.38(m,1H),7.32(m,2H),7.27(d,1
H,J=9.1Hz),4.16(q,2H,J=7.1Hz),2.10-2.61(m,2H),2.18
(s,3H),1.26(t,3H,J=7.1Hz),1.09(t,3H,J=7.2Hz). 化合物番号１６３Ｎ−（３，５−ジメチルベンゾイル）−Ｎ−［２−メト
キシカルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェ
ニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.57(d,2H,J=4.8Hz),7.85(d,1H,J=2.7Hz),7.25-7.34(m,
2H),7.17(s,2H),7.12(t,1H,J=4.8Hz),7.01(s,1H),3.97
(s,3H),2.20(s,6H). 化合物番号１６４Ｎ−（２，６−ジメチルベンゾイル）−Ｎ−［２−メト
キシカルボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェ
ニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 8.56(d,2H,J=4.8Hz),7.95(d,1H,J=2.7Hz),7.31-7.43(m,
2H),7.06-7.19(m,2H),6.97(t,2H,J=7.9Hz),3.94(s,3H),
2.30(s,3H),2.03(s,3H). 化合物番号１６５Ｎ−シクロペンタンカルボニル−Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキ
シ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド 7.99(d,1H,J=2.8Hz),7.59(d,1H,J=8.8Hz),7.56(dd,1H,J
=2.8,9.0Hz),7.40(d,1H,J=8.8Hz),7.29(d,1H,J=9.0Hz),
3.90(s,3H),2.75(quintet,1H,J=7.5Hz),1.40-1.89(m,8
H). 化合物番号１６６Ｎ−シクロヘキサンカルボニル−Ｎ−［２−メトキシカ
ルボニル−４−（６−クロロ−３−ピリダジニルオキ
シ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド ８．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．５９
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝２．４，８．７Ｈｚ），７．３８（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８．７Ｈｚ），３．９０（ｓ，３Ｈ），２．２８−
２．４８（ｍ，１Ｈ），０．９５−１．９５（ｍ，１０
Ｈ）．
【００２５】
【発明の実施の形態】本発明の一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物は、以下に示す工程により製造される。
る化合物は、以下に示す工程により製造される。
【００２６】
【化６】
【００２７】式中、Ｑ及びＲ２ は、前記と同意義を示
し、Ｙはハロゲン原子又はメタンスルホニル基のような
脱離基を示し、Ｒ1bは、Ｃ２−Ｃ１０アルカノイル基又
はベンゾイル基（当該ベンゾイル基は、ハロゲン原子、
Ｃ１−Ｃ４アルキル基から選ばれる１又は２個の置換基
により置換されていても良い）を示し、Ｒ2aは、メトキ
シカルボニル基又はアセチル基を示し、Ｒ2bは、式−Ｃ
（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3で表される基又は式−Ｃ（＝Ｎ
ＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基を示す。
し、Ｙはハロゲン原子又はメタンスルホニル基のような
脱離基を示し、Ｒ1bは、Ｃ２−Ｃ１０アルカノイル基又
はベンゾイル基（当該ベンゾイル基は、ハロゲン原子、
Ｃ１−Ｃ４アルキル基から選ばれる１又は２個の置換基
により置換されていても良い）を示し、Ｒ2aは、メトキ
シカルボニル基又はアセチル基を示し、Ｒ2bは、式−Ｃ
（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3で表される基又は式−Ｃ（＝Ｎ
ＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基を示す。
【００２８】以下、これらの一般的製造方法について更
に詳しく説明する。
に詳しく説明する。
【００２９】（工程Ａ）本工程は、脱離基Ｙを有する化
合物（ＩＩ）と、化合物（ＩＩＩ）とを、溶媒の存在下
又は非存在下、塩基を用いる置換反応により、一般式
（ＩＶａ）で示されるエーテルを製造する工程である。
合物（ＩＩ）と、化合物（ＩＩＩ）とを、溶媒の存在下
又は非存在下、塩基を用いる置換反応により、一般式
（ＩＶａ）で示されるエーテルを製造する工程である。
【００３０】本工程で用いられる塩基は、例えば、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ジエチルイソプロピ
ルアミン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２，
２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシ
クロ［５，４，０］ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機
三級アミン類：水素化ナトリウム、水素化カルシウム、
ナトリウム、リチウム、ｎ−ブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリ
ル）アミド、ナトリウムメトキシド、ｔ−ブトキシカリ
ウムなどのアルカリ金属塩基類：水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無
機塩基類等であり、好適には、水素化ナトリウム、リチ
ウムビス（トリメチルシリル）アミド、炭酸カリウムで
ある。
エチルアミン、トリブチルアミン、ジエチルイソプロピ
ルアミン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２，
２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシ
クロ［５，４，０］ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機
三級アミン類：水素化ナトリウム、水素化カルシウム、
ナトリウム、リチウム、ｎ−ブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリ
ル）アミド、ナトリウムメトキシド、ｔ−ブトキシカリ
ウムなどのアルカリ金属塩基類：水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無
機塩基類等であり、好適には、水素化ナトリウム、リチ
ウムビス（トリメチルシリル）アミド、炭酸カリウムで
ある。
【００３１】塩基の使用量は、化合物（ＩＩ）に対して
通常２〜２０倍当量、好適には２〜１０倍当量である。
通常２〜２０倍当量、好適には２〜１０倍当量である。
【００３２】反応は、好適には溶媒の存在下で行なわ
れ、使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をあ
る程度溶解するものであれば特に限定はなく、好適に
は、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエンのよ
うな炭化水素類：クロロホルム、塩化メチレン、ｏ−ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類：エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエーテル類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類及びアセトニトリ
ルのようなニトリル類並びにこれらの溶媒の混合物等で
あり、更に好適には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドで
ある。
れ、使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をあ
る程度溶解するものであれば特に限定はなく、好適に
は、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエンのよ
うな炭化水素類：クロロホルム、塩化メチレン、ｏ−ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類：エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエーテル類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類及びアセトニトリ
ルのようなニトリル類並びにこれらの溶媒の混合物等で
あり、更に好適には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドで
ある。
【００３３】反応温度は、通常−７０〜１５０℃であ
り、好適には３０〜９０℃である。反応時間は、主に反
応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常１５分〜一昼夜であり、好適
には、１５分〜４時間である。
り、好適には３０〜９０℃である。反応時間は、主に反
応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常１５分〜一昼夜であり、好適
には、１５分〜４時間である。
【００３４】（工程Ｂ）本工程は、Ｒ2aがメトキシカル
ボニル基又はアセチル基である化合物（ＩＶａ）を、Ｏ
−メチルヒドロキシルアミン若しくはＯ−エチルヒドロ
キシルアミン又はそれらの塩（例えば、塩酸、硝酸、硫
酸のような鉱酸との塩）と反応させることによって、Ｒ
2bが式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式
−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基である
化合物（ＩＶｂ）を製造する工程である。
ボニル基又はアセチル基である化合物（ＩＶａ）を、Ｏ
−メチルヒドロキシルアミン若しくはＯ−エチルヒドロ
キシルアミン又はそれらの塩（例えば、塩酸、硝酸、硫
酸のような鉱酸との塩）と反応させることによって、Ｒ
2bが式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式
−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基である
化合物（ＩＶｂ）を製造する工程である。
【００３５】反応は、通常は不活性溶媒中で行なわれ、
そのような溶媒としては、例えば、ヘキサン、石油エー
テル、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素
類：クロロホルム、塩化メチレン、ｏ−ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類：エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類：メタノール、エタ
ノールのようなアルコール類：酢酸のような脂肪酸類：
水並びにこれらの溶媒の混合物等をあげることができ
る。
そのような溶媒としては、例えば、ヘキサン、石油エー
テル、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素
類：クロロホルム、塩化メチレン、ｏ−ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類：エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類：メタノール、エタ
ノールのようなアルコール類：酢酸のような脂肪酸類：
水並びにこれらの溶媒の混合物等をあげることができ
る。
【００３６】反応温度は、好適には１０〜６０℃であ
る。反応時間は、通常１時間〜一昼夜程度である。
る。反応時間は、通常１時間〜一昼夜程度である。
【００３７】（工程Ｃ）本工程は、前記工程Ａ及び工程
Ｂにより製造される化合物（ＩＶ）を原料として、溶媒
及び反応助剤の存在下、トリフルオロメタンスルホン酸
の反応性誘導体と反応することにより、本発明の化合物
（Ｉａ）と化合物（Ｖａ）を製造する工程である。
Ｂにより製造される化合物（ＩＶ）を原料として、溶媒
及び反応助剤の存在下、トリフルオロメタンスルホン酸
の反応性誘導体と反応することにより、本発明の化合物
（Ｉａ）と化合物（Ｖａ）を製造する工程である。
【００３８】本工程に使用される反応助剤は、通常塩基
性がよく、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジエチルイソプロピルアミン、ピリジン、１，４−
ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、１，８−ジア
ザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンのような有
機三級アミン類：水素化ナトリウム、水素化カルシウ
ム、ナトリウム、リチウム、ｎ−ブチルリチウム、リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチル
シリル）アミド、ｔ−ブトキシカリウムなどのアルカリ
金属塩基類：水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基等であり、好
適には、トリエチルアミンやピリジンなどの有機三級ア
ミン類である。
性がよく、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジエチルイソプロピルアミン、ピリジン、１，４−
ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、１，８−ジア
ザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンのような有
機三級アミン類：水素化ナトリウム、水素化カルシウ
ム、ナトリウム、リチウム、ｎ−ブチルリチウム、リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチル
シリル）アミド、ｔ−ブトキシカリウムなどのアルカリ
金属塩基類：水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基等であり、好
適には、トリエチルアミンやピリジンなどの有機三級ア
ミン類である。
【００３９】トリフルオロメタンスルホン酸の反応性誘
導体として適当なものは、例えば、酸ハロゲン化物や酸
無水物であり、好適には、酸クロライド、酸フルオライ
ド、酸無水物である。
導体として適当なものは、例えば、酸ハロゲン化物や酸
無水物であり、好適には、酸クロライド、酸フルオライ
ド、酸無水物である。
【００４０】反応助剤の使用量は、化合物（ＩＶ）に対
して通常１〜２０倍当量、好適には１．５〜５倍当量で
あり、トリフルオロメタンスルホン酸の反応性誘導体の
使用量は、化合物（ＩＶ）に対して通常１〜２０倍当
量、好適には１．５〜３倍当量である。
して通常１〜２０倍当量、好適には１．５〜５倍当量で
あり、トリフルオロメタンスルホン酸の反応性誘導体の
使用量は、化合物（ＩＶ）に対して通常１〜２０倍当
量、好適には１．５〜３倍当量である。
【００４１】反応は、好適には溶媒の存在下で行なわ
れ、使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、好
適には、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン
のような炭化水素類：クロロホルム、塩化メチレンのよ
うなハロゲン化炭化水素類：エチルエーテル、テトラヒ
ドロフランのようなエーテル類：Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドのようなアミド類：ジメチルスルホキシドのよ
うなスルホキシド類：アセトニトリルのようなニトリル
類並びにこれらの溶媒の混合物であり、更に好適には、
塩化メチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。
れ、使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、好
適には、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン
のような炭化水素類：クロロホルム、塩化メチレンのよ
うなハロゲン化炭化水素類：エチルエーテル、テトラヒ
ドロフランのようなエーテル類：Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドのようなアミド類：ジメチルスルホキシドのよ
うなスルホキシド類：アセトニトリルのようなニトリル
類並びにこれらの溶媒の混合物であり、更に好適には、
塩化メチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。
【００４２】反応温度は、通常、−７０〜１５０℃であ
り、好適には０〜３０℃である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類
によって異なるが、通常１５分〜一昼夜であり、好適に
は３０分〜４時間である。
り、好適には０〜３０℃である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類
によって異なるが、通常１５分〜一昼夜であり、好適に
は３０分〜４時間である。
【００４３】本工程においては、通常、化合物（Ｉａ）
と化合物（Ｖａ）が同時に生成される。その比率は、反
応条件、特に原料である化合物（ＩＶ）の反応性及びト
リフルオロメタンスルホン酸の反応性誘導体の量と種類
により大幅に変わりうる。
と化合物（Ｖａ）が同時に生成される。その比率は、反
応条件、特に原料である化合物（ＩＶ）の反応性及びト
リフルオロメタンスルホン酸の反応性誘導体の量と種類
により大幅に変わりうる。
【００４４】化合物（Ｉａ）の取得を目的とする場合に
は、それ故、本工程の反応物（通常は、前述のとおり、
化合物（Ｉａ）と（Ｖａ）の混合物）を、単離し若しく
は単離することなしに、後述する加水分解反応である工
程Ｄに付して、その全量を化合物（Ｉａ）とすることが
できる。化合物（Ｖａ）の取得を目的とする場合には、
本工程の反応物を、カラムクロマトグラフィー等の通常
の精製方法で、分離・精製すればよい。
は、それ故、本工程の反応物（通常は、前述のとおり、
化合物（Ｉａ）と（Ｖａ）の混合物）を、単離し若しく
は単離することなしに、後述する加水分解反応である工
程Ｄに付して、その全量を化合物（Ｉａ）とすることが
できる。化合物（Ｖａ）の取得を目的とする場合には、
本工程の反応物を、カラムクロマトグラフィー等の通常
の精製方法で、分離・精製すればよい。
【００４５】（工程Ｄ）本工程は、前記工程Ｃの反応混
合物を単離し、若しくは単離することなく、本工程の加
水分解反応に付し、化合物（Ｉａ）を製造する工程であ
る。
合物を単離し、若しくは単離することなく、本工程の加
水分解反応に付し、化合物（Ｉａ）を製造する工程であ
る。
【００４６】加水分解反応は、塩基の存在下に溶媒中で
行なわれる。使用される塩基としては、好適には、酢酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムをあげることができる。
行なわれる。使用される塩基としては、好適には、酢酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムをあげることができる。
【００４７】溶媒は反応に関与しないものであれば、特
に限定はなく、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノールのようなアルコール類：ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、２−
メトキシエチルエーテルのようなエーテル類：水並びに
これらの溶媒の混合物が使用される。
に限定はなく、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノールのようなアルコール類：ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、２−
メトキシエチルエーテルのようなエーテル類：水並びに
これらの溶媒の混合物が使用される。
【００４８】反応温度は、通常−１０℃乃至１００℃、
好適には０℃乃至５０℃である。反応時間は、通常３０
分乃至１５時間、好適には３０分間乃至８時間である。
好適には０℃乃至５０℃である。反応時間は、通常３０
分乃至１５時間、好適には３０分間乃至８時間である。
【００４９】（工程Ｅ）本工程は、式（Ｉａ）の化合物
を、式Ｒ1bＯＨで表されるカルボン酸若しくはその反応
性誘導体と反応させることによりアミド結合を形成し、
式（Ｉｂ）の化合物を製造する工程である。
を、式Ｒ1bＯＨで表されるカルボン酸若しくはその反応
性誘導体と反応させることによりアミド結合を形成し、
式（Ｉｂ）の化合物を製造する工程である。
【００５０】本工程は、式（Ｉａ）のスルホンアミドの
アミノ基とカルボン酸Ｒ1bＯＨとのアミド化反応であっ
て、それ故、アミド化反応としてそれ自体知られた公知
の方法によって行なわれる。
アミノ基とカルボン酸Ｒ1bＯＨとのアミド化反応であっ
て、それ故、アミド化反応としてそれ自体知られた公知
の方法によって行なわれる。
【００５１】カルボン酸Ｒ1bＯＨの反応性誘導体として
は、例えば、酸ハライド（酸クロリド、酸ブロミド
等）、酸無水物、混合酸無水物、活性エステル（例え
ば、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニルエス
テル）、活性アミド等、アミド化に通常用いられるもの
が挙げられる。
は、例えば、酸ハライド（酸クロリド、酸ブロミド
等）、酸無水物、混合酸無水物、活性エステル（例え
ば、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニルエス
テル）、活性アミド等、アミド化に通常用いられるもの
が挙げられる。
【００５２】式Ｒ1bＯＨのカルボン酸の酸ハライドを用
いる場合、反応は、好適には、塩基の存在下で行なわれ
る。好適な塩基としては、例えば、トリエチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルア
ミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］
ノネン−５（ＤＢＮ）又は１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）のような有機
塩基を挙げることができる。
いる場合、反応は、好適には、塩基の存在下で行なわれ
る。好適な塩基としては、例えば、トリエチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルア
ミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］
ノネン−５（ＤＢＮ）又は１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）のような有機
塩基を挙げることができる。
【００５３】カルボン酸Ｒ1bＯＨの酸ハライドは、化合
物（Ｉａ）に対して通常１乃至２０当量、好適には２乃
至１０当量、塩基は通常１乃至２０当量、好適には２乃
至１０当量使用される。
物（Ｉａ）に対して通常１乃至２０当量、好適には２乃
至１０当量、塩基は通常１乃至２０当量、好適には２乃
至１０当量使用される。
【００５４】反応は、通常は溶媒中で行なわれる。溶媒
の種類は、反応に関与しないものであれば特に限定はな
く、例えば、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような炭化水素類：クロロホルム、塩
化メチレン、ｏ−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類：ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類：酢酸エチルのようなエステル類等が挙
げられる。
の種類は、反応に関与しないものであれば特に限定はな
く、例えば、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような炭化水素類：クロロホルム、塩
化メチレン、ｏ−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類：ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類：酢酸エチルのようなエステル類等が挙
げられる。
【００５５】反応温度は、通常０℃乃至１００℃、好適
には２０℃乃至６０℃である。反応時間は、通常３０分
間乃至３時間である。
には２０℃乃至６０℃である。反応時間は、通常３０分
間乃至３時間である。
【００５６】（工程Ｆ）本工程は、前記工程Ｃにより製
造されるＲ2aがアセチル基である化合物（Ｉａ１）を、
Ｏ−メチルヒドロキシルアミン若しくはＯ−エチルヒド
ロキシルアミン又はそれらの塩（例えば、塩酸、硝酸、
硫酸のような鉱酸との塩）と反応させることによって、
Ｒ2bが式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基又は
式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基であ
る化合物（Ｉａ２）を製造する工程である。
造されるＲ2aがアセチル基である化合物（Ｉａ１）を、
Ｏ−メチルヒドロキシルアミン若しくはＯ−エチルヒド
ロキシルアミン又はそれらの塩（例えば、塩酸、硝酸、
硫酸のような鉱酸との塩）と反応させることによって、
Ｒ2bが式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基又は
式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ3 で表される基であ
る化合物（Ｉａ２）を製造する工程である。
【００５７】本工程は、工程Ｂと同様の方法により行な
うことができる。
うことができる。
【００５８】上記各工程の反応終了後、反応目的物は常
法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶剤を加え水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は、
必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿、ならびに
クロマトグラフィー等によって更に精製される。
法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶剤を加え水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は、
必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿、ならびに
クロマトグラフィー等によって更に精製される。
【００５９】本発明の化合物（Ｉ）は、畑作の茎葉処理
及び土壌処理において問題となる種々の雑草、例えば、
ソバカズラ、スベリヒユ、ハコベ、シロザ、アオゲイト
ウ、アメリカツノクサネム、エビスグサ、ノハラガラ
シ、ナズナ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィールド
パンジー、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、ヒメオドリ
コソウ、ホトケノザ、シロバナチョウセンアサガオ、イ
ヌホオズキ、オオイヌノフグリ、イヌカミツレ、コーン
マリーゴールドのような広葉雑草；ヒエ、イヌビエ、エ
ノコログサ、メヒシバ、オヒシバ、スズメノカタビラ、
ブラックグラス、スズメノテッポウ、カラスムギ、セイ
バンモロコシ、シバムギ、ウマノチャヒキ、ギョウギシ
バのようなイネ科雑草及びツユクサのようなツユクサ科
雑草；コゴメガヤツリ、ハマスゲのようなカヤツリグサ
科雑草等の種々の雑草に対して、除草活性を示し、か
つ、トウモロコシ、コムギ、ダイズのような主要作物に
対して問題となるような薬害を示さない。
及び土壌処理において問題となる種々の雑草、例えば、
ソバカズラ、スベリヒユ、ハコベ、シロザ、アオゲイト
ウ、アメリカツノクサネム、エビスグサ、ノハラガラ
シ、ナズナ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィールド
パンジー、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、ヒメオドリ
コソウ、ホトケノザ、シロバナチョウセンアサガオ、イ
ヌホオズキ、オオイヌノフグリ、イヌカミツレ、コーン
マリーゴールドのような広葉雑草；ヒエ、イヌビエ、エ
ノコログサ、メヒシバ、オヒシバ、スズメノカタビラ、
ブラックグラス、スズメノテッポウ、カラスムギ、セイ
バンモロコシ、シバムギ、ウマノチャヒキ、ギョウギシ
バのようなイネ科雑草及びツユクサのようなツユクサ科
雑草；コゴメガヤツリ、ハマスゲのようなカヤツリグサ
科雑草等の種々の雑草に対して、除草活性を示し、か
つ、トウモロコシ、コムギ、ダイズのような主要作物に
対して問題となるような薬害を示さない。
【００６０】又、本発明の化合物（Ｉ）は、水田におい
て問題となる種々の雑草、例えば、タイヌビエのような
イネ科雑草；コナギ、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ
のような広葉雑草；タマガヤツリ、ホタルイ、マツバ
イ、ミズガヤツリのようなカヤツリグサ科雑草等に対し
て除草活性を示し、かつ、イネに対しては問題となる薬
害を示さない。
て問題となる種々の雑草、例えば、タイヌビエのような
イネ科雑草；コナギ、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ
のような広葉雑草；タマガヤツリ、ホタルイ、マツバ
イ、ミズガヤツリのようなカヤツリグサ科雑草等に対し
て除草活性を示し、かつ、イネに対しては問題となる薬
害を示さない。
【００６１】更に、畑地、水田のみならず、果樹園、桑
園、非農耕地においても使用することができる。
園、非農耕地においても使用することができる。
【００６２】尚、本発明化合物は、植物を枯死させるこ
となく、その生長を抑制する作用も有するので、例えば
水稲の短捍化による倒伏防止、芝生の生育抑制による刈
込回数の低減等の種々の有用性が期待される。
となく、その生長を抑制する作用も有するので、例えば
水稲の短捍化による倒伏防止、芝生の生育抑制による刈
込回数の低減等の種々の有用性が期待される。
【００６３】本発明の化合物（Ｉ）から除草剤及び植物
生長調節剤を調製するには、固体担体、液体担体のよう
な担体で希釈し、必要に応じて、界面活性剤のようなそ
の他の製剤用補助剤を加えることにより、粉剤、粗粉
剤、粒剤、微粒剤、乳剤、懸濁剤、水和剤、フロアブル
剤、水溶剤、液剤等に調製することができる。もちろ
ん、精製の任意の段階で精製を中止し、粗製物を有効成
分とすることもできる。
生長調節剤を調製するには、固体担体、液体担体のよう
な担体で希釈し、必要に応じて、界面活性剤のようなそ
の他の製剤用補助剤を加えることにより、粉剤、粗粉
剤、粒剤、微粒剤、乳剤、懸濁剤、水和剤、フロアブル
剤、水溶剤、液剤等に調製することができる。もちろ
ん、精製の任意の段階で精製を中止し、粗製物を有効成
分とすることもできる。
【００６４】担体とは、有効成分の植物への到達性を助
け、又は有効成分の貯蔵、輸送或いは取扱を容易にする
ために除草剤及び植物生長調節剤に混合される合成又は
天然の無機又は有機物質を意味する。
け、又は有効成分の貯蔵、輸送或いは取扱を容易にする
ために除草剤及び植物生長調節剤に混合される合成又は
天然の無機又は有機物質を意味する。
【００６５】又、除草剤および植物生長調節剤として使
用する場合においても、他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ
剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改
良剤等と混合し、適用範囲を拡大し、省力化を図ること
もできる。
用する場合においても、他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ
剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改
良剤等と混合し、適用範囲を拡大し、省力化を図ること
もできる。
【００６６】処理方法としては、通常、製剤化して、雑
草の出芽前又は出芽後約１か月以内に土壌処理、茎葉処
理又は湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土
壌混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方から
の処理のほか、作物に付着しないよう雑草に限って処理
する局部処理等があり、湛水処理には、粒剤の散布や水
面への灌注処理等がある。
草の出芽前又は出芽後約１か月以内に土壌処理、茎葉処
理又は湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土
壌混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方から
の処理のほか、作物に付着しないよう雑草に限って処理
する局部処理等があり、湛水処理には、粒剤の散布や水
面への灌注処理等がある。
【００６７】本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧
草地、芝生地、森林又は非農耕地の除草剤として使用で
きる。
草地、芝生地、森林又は非農耕地の除草剤として使用で
きる。
【００６８】以下、本発明について製剤例と実施例を示
し更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限られるも
のではない。
し更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限られるも
のではない。
【００６９】
【００７０】
【製剤例１】 （水和剤）化合物番号１番の化合物１０％、エマルゲン
８１０（登録商標） (花王株式会社製界面活性剤) ０．
５％、デモールＮ（登録商標） (花王株式会社製界面活
性剤) ０．５％、クニライト２０１( クニミネ工業株式
会社製珪藻土) ２０％、ジークライトＣＡ (ジークライ
ト鉱業株式会社製クレー) ６９％を均一に混合し粉砕し
て水和剤とした。
８１０（登録商標） (花王株式会社製界面活性剤) ０．
５％、デモールＮ（登録商標） (花王株式会社製界面活
性剤) ０．５％、クニライト２０１( クニミネ工業株式
会社製珪藻土) ２０％、ジークライトＣＡ (ジークライ
ト鉱業株式会社製クレー) ６９％を均一に混合し粉砕し
て水和剤とした。
【００７１】
【製剤例２】 （乳剤）化合物番号３９番の化合物３０％、乳化剤ソル
ポールＳＭ１００（登録商標）(東邦化学株式会社製界
面活性剤) １０％及びキシレン６０％をよく混合して乳
剤とした。
ポールＳＭ１００（登録商標）(東邦化学株式会社製界
面活性剤) １０％及びキシレン６０％をよく混合して乳
剤とした。
【００７２】
【製剤例３】 （粒剤）化合物番号５９番の化合物５％、ラウリルアル
コール硫酸エステルのナトリウム塩２％、リグニンスル
ホン酸ナトリウム５％、カルボキシメチルセルロースの
ナトリウム塩２％及びクレー８６％を均一に混合し粉砕
した。この混合物１００重量部に水２０重量部を加えて
練合し、押出式造粒機を用いて、１４〜３２メッシュの
粒状に加工した後、乾燥して粒剤とした。
コール硫酸エステルのナトリウム塩２％、リグニンスル
ホン酸ナトリウム５％、カルボキシメチルセルロースの
ナトリウム塩２％及びクレー８６％を均一に混合し粉砕
した。この混合物１００重量部に水２０重量部を加えて
練合し、押出式造粒機を用いて、１４〜３２メッシュの
粒状に加工した後、乾燥して粒剤とした。
【００７３】
【００７４】
【実施例１】 ［工程Ａ］２−（４−アミノ−３−メトキシカルボニルフェノキ
シ）ピリミジン ４−アミノ−３−メトキシカルボニルフェノール（５．
４ｇ，３２．３ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ、１２ｍｌ）とトルエン（１００ｍｌ）の混合溶液
に、アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム（１．９ｇ，
４７．４ｍｍｏｌ；６０％純度）を加え、１５分間撹拌
した。ついで、２−クロロピリミジン（３．６９ｇ，３
２．２ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で１時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して、残渣をカ
ラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的物
７．２８ｇ（９１％）を得た。
シ）ピリミジン ４−アミノ−３−メトキシカルボニルフェノール（５．
４ｇ，３２．３ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ、１２ｍｌ）とトルエン（１００ｍｌ）の混合溶液
に、アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム（１．９ｇ，
４７．４ｍｍｏｌ；６０％純度）を加え、１５分間撹拌
した。ついで、２−クロロピリミジン（３．６９ｇ，３
２．２ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で１時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して、残渣をカ
ラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的物
７．２８ｇ（９１％）を得た。
【００７５】核磁気共鳴スペクトル(200MHz)δ(CDCl3)p
pm:8.54(d,2H,J=4.8Hz),7.69(d,1H,J=2.8Hz),7.12(dd,1
H,J=2.8,8.8Hz),7.00(t,1H,J=4.8Hz),6.70(d,1H,J=8.8H
z),5.71(br.s,2H),3.83(s,3H).
pm:8.54(d,2H,J=4.8Hz),7.69(d,1H,J=2.8Hz),7.12(dd,1
H,J=2.8,8.8Hz),7.00(t,1H,J=4.8Hz),6.70(d,1H,J=8.8H
z),5.71(br.s,2H),3.83(s,3H).
【００７６】
【実施例２】 ［工程Ｂ］２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−ピリミ
ジニルオキシ）アニリン ジオキサン（２ｍｌ）、メタノール（２ｍｌ）及び水
（１．２ｍｌ）の混合溶液に、実施例１の方法に準じて
製造された２−アセチル−４−（２−ピリミジニルオキ
シ）アニリン（２３２ｍｇ，１．０１ｍｍｏｌ）とＯ−
メチルヒドロキシルアミン塩酸塩（１７１ｍｇ，２．０
５ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で２４時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮して、２−（１−メトキシイミノエチル）−４
−（２−ピリミジニルオキシ）アニリンの粗生成物を２
３６ｍｇ（９０％）得た。
ジニルオキシ）アニリン ジオキサン（２ｍｌ）、メタノール（２ｍｌ）及び水
（１．２ｍｌ）の混合溶液に、実施例１の方法に準じて
製造された２−アセチル−４−（２−ピリミジニルオキ
シ）アニリン（２３２ｍｇ，１．０１ｍｍｏｌ）とＯ−
メチルヒドロキシルアミン塩酸塩（１７１ｍｇ，２．０
５ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で２４時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮して、２−（１−メトキシイミノエチル）−４
−（２−ピリミジニルオキシ）アニリンの粗生成物を２
３６ｍｇ（９０％）得た。
【００７７】
【実施例３】 ［工程Ｃ］２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニ
ル）アミノ−３−メトキシカルボニルフェノキシ］ピリ
ミジン 及びＮ−［２−メトキシカルボニル−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号１） 実施例１の方法で得た２−（４−アミノ−３−メトキシ
カルボニルフェノキシ）ピリミジン（７．２８ｇ，２
９．７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、氷冷下、トリ
エチルアミン（１２．４ｍｌ）と無水トリフルオロメタ
ンスルホン酸（１２．４ｍｌ）を順次加え、１時間撹拌
した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥し、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタ
ンスルホニル）アミノ−３−メトキシカルボニルフェノ
キシ］ピリミジンと、Ｎ−［２−メトキシカルボニル−
４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオ
ロメタンスルホンアミドの混合物の粗生成物を３０．０
ｇ得た。
ル）アミノ−３−メトキシカルボニルフェノキシ］ピリ
ミジン 及びＮ−［２−メトキシカルボニル−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号１） 実施例１の方法で得た２−（４−アミノ−３−メトキシ
カルボニルフェノキシ）ピリミジン（７．２８ｇ，２
９．７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、氷冷下、トリ
エチルアミン（１２．４ｍｌ）と無水トリフルオロメタ
ンスルホン酸（１２．４ｍｌ）を順次加え、１時間撹拌
した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥し、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタ
ンスルホニル）アミノ−３−メトキシカルボニルフェノ
キシ］ピリミジンと、Ｎ−［２−メトキシカルボニル−
４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオ
ロメタンスルホンアミドの混合物の粗生成物を３０．０
ｇ得た。
【００７８】
【実施例４】 ［工程Ｃ］２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニ
ル）アミノ−３−（１−メトキシイミノエチル）フェノ
キシ］ピリミジン 及びＮ−［２−（１−メトキシイミノ
エチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド（化合物番号５７） 上記実施例２で得た２−（１−メトキシイミノエチル）
−４−（２−ピリミジニルオキシ）アニリンの粗生成物
（２３６ｍｇ）の塩化メチレン溶液に、氷冷下、トリエ
チルアミン（０．３７ｍｌ）と無水トリフルオロメタン
スルホン酸（０．３７ｍｌ）を順次加え、一時間撹拌し
た。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥し、濃縮して、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフル
オロメタンスルホニル）アミノ−３−（１−メトキシイ
ミノエチル）フェノキシ］ピリミジンと、Ｎ−［２−
（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ドの混合物の粗生成物を０．３０ｇ得た。
ル）アミノ−３−（１−メトキシイミノエチル）フェノ
キシ］ピリミジン 及びＮ−［２−（１−メトキシイミノ
エチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］
トリフルオロメタンスルホンアミド（化合物番号５７） 上記実施例２で得た２−（１−メトキシイミノエチル）
−４−（２−ピリミジニルオキシ）アニリンの粗生成物
（２３６ｍｇ）の塩化メチレン溶液に、氷冷下、トリエ
チルアミン（０．３７ｍｌ）と無水トリフルオロメタン
スルホン酸（０．３７ｍｌ）を順次加え、一時間撹拌し
た。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥し、濃縮して、２−［４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリフル
オロメタンスルホニル）アミノ−３−（１−メトキシイ
ミノエチル）フェノキシ］ピリミジンと、Ｎ−［２−
（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ドの混合物の粗生成物を０．３０ｇ得た。
【００７９】
【実施例５】 ［工程Ｄ］Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド（化合物番号１） 上記実施例３で得られた粗生成混合物３０．０ｇのＴＨ
Ｆ溶液に、３規定の水酸化ナトリウム水溶液を加え、室
温で一時間撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、
希塩酸でｐＨを７に調整した後、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
５．７２ｇ（５１％）の目的物を得た。
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド（化合物番号１） 上記実施例３で得られた粗生成混合物３０．０ｇのＴＨ
Ｆ溶液に、３規定の水酸化ナトリウム水溶液を加え、室
温で一時間撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、
希塩酸でｐＨを７に調整した後、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
５．７２ｇ（５１％）の目的物を得た。
【００８０】
【実施例６】 ［工程Ｄ］Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号５７） 上記実施例４で得た粗生成混合物（０．３０ｇ）のテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ、１０ｍｌ）−水（５ｍｌ）の
混合溶液に、炭酸カリウム（０．２０ｇ）を加え、室温
で一時間撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、希
塩酸でｐＨを７に調整した後、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、０．
１１ｇ（４０％）の目的物を得た。
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号５７） 上記実施例４で得た粗生成混合物（０．３０ｇ）のテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ、１０ｍｌ）−水（５ｍｌ）の
混合溶液に、炭酸カリウム（０．２０ｇ）を加え、室温
で一時間撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、希
塩酸でｐＨを７に調整した後、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、０．
１１ｇ（４０％）の目的物を得た。
【００８１】
【実施例７】 ［工程Ｅ］Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−メトキシカルボニル−４
−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロ
メタンスルホンアミド（化合物番号３） 上記実施例５の方法で得られたＮ−［２−メトキシカル
ボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド（０．１４ｇ，０．３
７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃でトリエチル
アミン（１．０３ｍｌ）とプロピオニルクロリド（０．
５１ｍｌ）を加え、１時間撹拌した。反応終了後、反応
液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１Ｎ塩
酸と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製して、０．１０ｇ（６２％）の目的物を得た。
−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロ
メタンスルホンアミド（化合物番号３） 上記実施例５の方法で得られたＮ−［２−メトキシカル
ボニル−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド（０．１４ｇ，０．３
７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃でトリエチル
アミン（１．０３ｍｌ）とプロピオニルクロリド（０．
５１ｍｌ）を加え、１時間撹拌した。反応終了後、反応
液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１Ｎ塩
酸と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製して、０．１０ｇ（６２％）の目的物を得た。
【００８２】
【実施例８】 ［工程Ｅ］Ｎ−プロピオニル−Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエ
チル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド（化合物番号５９） 上記実施例６の方法で得られたＮ−［２−（１−メトキ
シイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド（６６ｍ
ｇ，０．１７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃で
トリエチルアミン（３６ｍｌ）とプロピオニルクロリド
（３１μｌ）を加え、１時間撹拌した。反応終了後、反
応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１Ｎ
塩酸と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製して５８ｍｇ（７７％）の目的物を得た。
チル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フェニル］ト
リフルオロメタンスルホンアミド（化合物番号５９） 上記実施例６の方法で得られたＮ−［２−（１−メトキ
シイミノエチル）−４−（２−ピリミジニルオキシ）フ
ェニル］トリフルオロメタンスルホンアミド（６６ｍ
ｇ，０．１７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃で
トリエチルアミン（３６ｍｌ）とプロピオニルクロリド
（３１μｌ）を加え、１時間撹拌した。反応終了後、反
応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１Ｎ
塩酸と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製して５８ｍｇ（７７％）の目的物を得た。
【００８３】
【実施例９】 ［工程Ｆ］Ｎ−［２−（１−メトキシイミノエチル）−４−（２−
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号５７） ジオキサン（２ｍｌ）、メタノール（２ｍｌ）及び水
（１．２ｍｌ）の混合溶液に、実施例３の方法に準じて
製造されたＮ−［２−アセチル−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド（１０３ｍｇ，０．２８５ｍｍｏｌ）とＯ−メチルヒ
ドロキシルアミン塩酸塩（４８ｍｇ，０．５７ｍｍｏ
ｌ）を順次加え、室温で２４時間撹拌した。反応終了
後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、目的物を７０ｍｇ（６３％）得た。
ピリミジニルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンス
ルホンアミド（化合物番号５７） ジオキサン（２ｍｌ）、メタノール（２ｍｌ）及び水
（１．２ｍｌ）の混合溶液に、実施例３の方法に準じて
製造されたＮ−［２−アセチル−４−（２−ピリミジニ
ルオキシ）フェニル］トリフルオロメタンスルホンアミ
ド（１０３ｍｇ，０．２８５ｍｍｏｌ）とＯ−メチルヒ
ドロキシルアミン塩酸塩（４８ｍｇ，０．５７ｍｍｏ
ｌ）を順次加え、室温で２４時間撹拌した。反応終了
後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、目的物を７０ｍｇ（６３％）得た。
【００８４】
【発明の効果】本発明の化合物は、イネに薬害のない優
れた除草活性を有し、除草剤、特に水田用除草剤の有効
成分として有用である。
れた除草活性を有し、除草剤、特に水田用除草剤の有効
成分として有用である。
【００８５】次に、生物試験例を挙げて、具体的にその
効果を示す。
効果を示す。
【００８６】
【００８７】
【試験例１】水田除草湛水土壌処理 １００ｃｍ2 のポリプロピレン製ポット３ポット（Ａ、
Ｂ、Ｃとする）に水田土壌を充填し、Ａポットに休眠覚
醒したタイヌビエ及びホタルイの種子を表層１ｃｍに混
和した。Ｂポットに催芽したミズガヤツリ及びクログワ
イの塊茎を植え、Ｃポットに２葉期の水稲の苗を移植し
た。各ポットを湛水状態とし、温室で生育させ、３日後
（雑草発芽前）又は１０日後（ヒエ１．５葉期）に製剤
例１に準じて調製した水和剤を用いて所定の薬量を湛水
土壌処理し、処理後２１日目に次に示す判定基準に従っ
て調査を行なった。３日後処理の結果を表２に、１０日
後処理の結果を表３に、それぞれ示す。
Ｂ、Ｃとする）に水田土壌を充填し、Ａポットに休眠覚
醒したタイヌビエ及びホタルイの種子を表層１ｃｍに混
和した。Ｂポットに催芽したミズガヤツリ及びクログワ
イの塊茎を植え、Ｃポットに２葉期の水稲の苗を移植し
た。各ポットを湛水状態とし、温室で生育させ、３日後
（雑草発芽前）又は１０日後（ヒエ１．５葉期）に製剤
例１に準じて調製した水和剤を用いて所定の薬量を湛水
土壌処理し、処理後２１日目に次に示す判定基準に従っ
て調査を行なった。３日後処理の結果を表２に、１０日
後処理の結果を表３に、それぞれ示す。
【００８８】判定基準 ０−−−生育抑制率 ０− １０％ １−−−生育抑制率 １１− ３０％ ２−−−生育抑制率 ３１− ５０％ ３−−−生育抑制率 ５１− ７０％ ４−−−生育抑制率 ７１− ９０％ ５−−−生育抑制率 ９１−１００％ なお、表２及び表３の比較化合物１は、特開平２−１４
９５６７号公報に包含される次の化合物である。
９５６７号公報に包含される次の化合物である。
【００８９】
【化７】
【００９０】又、表２及び表３の比較化合物２は、米国
特許４，３４５，０７６号公報に記載の次の化合物であ
る。
特許４，３４５，０７６号公報に記載の次の化合物であ
る。
【００９１】
【化８】
【００９２】又、表２及び表３の比較化合物３は、特開
昭６０−２２２４６１号公報に記載の次の化合物であ
る。
昭６０−２２２４６１号公報に記載の次の化合物であ
る。
【００９３】
【化９】
【００９４】表２及び表３において、ＥＯはタイヌビエ
を、ＳＪはホタルイを、ＣＳはミズガヤツリを、ＥＫは
クログワイを、ＯＳは水稲を、ＥＣはイヌビエを、ＳＨ
はジョンソングラスを、ＤＳはメヒシバを、ＩＳはアサ
ガオを、ＳＡはカラシナを、ＡＲはアオゲイトウをそれ
ぞれ示す。
を、ＳＪはホタルイを、ＣＳはミズガヤツリを、ＥＫは
クログワイを、ＯＳは水稲を、ＥＣはイヌビエを、ＳＨ
はジョンソングラスを、ＤＳはメヒシバを、ＩＳはアサ
ガオを、ＳＡはカラシナを、ＡＲはアオゲイトウをそれ
ぞれ示す。
【００９５】
【表２】 （雑草発芽前） ───────────────────────────── 化合物番号 薬量(g/a) ＥＯ ＳＪ ＣＳ ＥＫ ＯＳ ───────────────────────────── １ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ２ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ３ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ４ ５ ５ ５ ５ ５ ０ １７ ５ ５ ５ ５ ５ ０ １９ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ２２ ５ ５ ５ ５ ４ ０ ２７ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ２８ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ３９ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ４０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ４１ ５ ５ ５ ５ ５ １ ４３ ５ ５ ５ ５ ５ １ ４４ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ５１ ５ ５ ５ ５ ５ １ ５７ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ５９ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ６０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ７０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ７１ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ７２ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ７３ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ８３ ５ ５ ５ ５ ５ １ ８９ ５ ５ ５ ５ ５ １ ９０ ５ ５ ５ ５ ５ １ ９５ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ９６ ５ ５ ５ ５ ５ ０ １０１ ５ ５ ５ ５ ５ １ １０７ ５ ５ ５ ５ ５ １ １０８ ５ ５ ５ ５ ４ １ １１３ ５ ５ ５ ５ ５ １ １１５ ５ ５ ５ ５ ４ ０ １１６ ５ ５ ５ ５ ５ ０ １２７ ５ ５ ５ ５ ５ ０ １２８ ５ ５ ５ ４ ３ ０ １３９ ５ ５ ５ ５ ４．５ ０ １４０ ５ ５ ５ ５ ４ ０ １６３ ５ ５ ５ ５ ４ ０ １６４ ５ ５ ５ ５ ４ ０ 比較化合物１ ５ ４ ０ ０ １ ０ 比較化合物２ ５ ５ ５ ５ ５ ４ 比較化合物３ ５ ２ ４ ０ ０ ０ ─────────────────────────────
【００９６】
【表３】 （ヒエ１．５葉期） ───────────────────────────── 化合物番号 薬量(g/a) ＥＯ ＳＪ ＣＳ ＥＫ ＯＳ ───────────────────────────── １ ５ ５ ５ ５ ４ ０ ２ ５ ５ ５ ５ ４ ０ ３ ５ ５ ５ ５ ４ ０ ４ ５ ５ ５ ５ ４ ０ １７ ５ ５ ５ ４ ３ ０ １９ ５ ４ ５ ５ ４ ０ ２０ ５ ５ ５ ４ ３ ０ ２２ ５ ４ ５ ５ ３ ０ ２７ ５ ５ ５ ５ ４ ０ ２８ ５ ５ ５ ５ ４ ０ ３９ ５ ５ ５ ５ ４ ０ ４０ ５ ５ ５ ５ ４ ０ ４１ ５ ５ ５ ４ ５ ０ ４３ ５ ５ ５ ４ ４ １ ４４ ５ ４ ５ ４ ４ ０ ５１ ５ ５ ５ ５ ４ １ ５７ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ５９ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ６０ ５ ４ ５ ４ ５ ０ ７０ ５ ４ ５ ４ ５ ０ ７１ ５ ４ ５ ４ ４ ０ ７２ ５ ４ ５ ４ ４ ０ ７３ ５ ４ ５ ４ ４ ０ ８３ ５ ４ ５ ４ ４ ０ ８９ ５ ５ ５ ４ ５ １ ９０ ５ ５ ５ ５ ５ １ ９５ ５ ５ ５ ４ ５ ０ ９６ ５ ４ ５ ５ ５ ０ １０１ ５ ４ ５ ５ ４ ０ １０７ ５ ４ ５ ５ ５ １ １０８ ５ ４ ５ ５ ４ ０ １１３ ５ ５ ５ ５ ５ ０ １１５ ５ ４ ５ ５ ４ ０ １１６ ５ ５ ５ ４ ５ ０ １３９ ５ ５ ５ ４ ４ １ １６３ ５ ４ ５ ５ ４ ０ １６４ ５ ５ ５ ５ ４ ０ 比較化合物１ ５ ０ ０ ０ １ ０ 比較化合物２ ５ ５ ４ ３ ４ ５ 比較化合物３ ５ ０ ２ ０ ０ ０ ─────────────────────────────
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小井 清 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内 (72)発明者 門谷 淳二 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1 は、水素原子、Ｃ２−Ｃ１０アルカノイル
基又はベンゾイル基（当該ベンゾイル基は、ハロゲン原
子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基から選ばれる１又は２個の置
換基により置換されていても良い）を示し、Ｒ2 は、メ
トキシカルボニル基、アセチル基、式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ
3 ）ＣＨ3 で表される基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 ＣＨ
3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、２−ピリミジニ
ル基、５−ハロゲン置換−２−ピリミジニル基又は６−
ハロゲン置換−３−ピリダジニル基を示す。］で表わさ
れるスルホンアミド化合物。 - 【請求項２】一般式（Ｉ） 【化２】 ［式中、Ｒ1 は、水素原子、プロピオニル基、ブタノイ
ル基又はベンゾイル基（当該ベンゾイル基は、１個の塩
素原子又はメチル基により置換されていても良い）を示
し、Ｒ2 は、メトキシカルボニル基、式−Ｃ（＝ＮＯＣ
Ｈ3 ）ＣＨ3 で表される基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、２−ピリミジ
ニル基、５−クロロ−２−ピリミジニル基又は６−クロ
ロ−３−ピリダジニル基を示す。］で表わされるスルホ
ンアミド化合物。 - 【請求項３】一般式（Ｉ） 【化３】 ［式中、Ｒ1 は、水素原子又はプロピオニル基を示し、
Ｒ2 は、メトキシカルボニル基又は式−Ｃ（＝ＮＯＣＨ
3 ）ＣＨ3 で表される基を示し、Ｑは、２−ピリミジニ
ル基又は６−クロロ−３−ピリダジニル基を示す。］で
表わされるスルホンアミド化合物。 - 【請求項４】請求項１乃至３に記載のスルホンアミド化
合物を有効成分として含有する、除草剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2755896A JPH08291146A (ja) | 1995-02-20 | 1996-02-15 | 除草性ｎ−（置換フェニル）スルホンアミド化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-30344 | 1995-02-20 | ||
| JP3034495 | 1995-02-20 | ||
| JP2755896A JPH08291146A (ja) | 1995-02-20 | 1996-02-15 | 除草性ｎ−（置換フェニル）スルホンアミド化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08291146A true JPH08291146A (ja) | 1996-11-05 |
Family
ID=26365494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2755896A Pending JPH08291146A (ja) | 1995-02-20 | 1996-02-15 | 除草性ｎ−（置換フェニル）スルホンアミド化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08291146A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004011429A1 (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-05 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | 新規なハロアルキルスルホンアニリド誘導体及び除草剤並びにその使用方法 |
| JP2004107323A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-04-08 | Nippon Nohyaku Co Ltd | 新規なハロアルキルスルホンアニリド誘導体及び除草剤並びにその使用方法 |
| US7312248B2 (en) * | 2004-09-23 | 2007-12-25 | Schering-Plough Animal Health Corporation | Control of parasites in animals by the use of novel trifluoromethanesulfonanilide oxime ether derivatives |
| EP3070080A1 (en) | 2015-03-19 | 2016-09-21 | Basf Se | Herbicidal fluoromethanesulfonamides |
| EP3070079A1 (en) | 2015-03-19 | 2016-09-21 | Basf Se | Herbicidal fluoromethanesulfonamides |
| EP3103798A1 (en) | 2015-06-09 | 2016-12-14 | Basf Se | Herbicidal fluoromethanesulfonamides |
| WO2018069842A1 (en) | 2016-10-14 | 2018-04-19 | Pi Industries Ltd | 4-amino substituted phenylamidine derivatives and their use to protect crops by fighting undesired phytopathogenic micoorganisms |
| WO2018069841A1 (en) | 2016-10-14 | 2018-04-19 | Pi Industries Ltd | 4-substituted phenylamine derivatives and their use to protect crops by fighting undesired phytopathogenic micoorganisms |
-
1996
- 1996-02-15 JP JP2755896A patent/JPH08291146A/ja active Pending
Cited By (12)
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|---|---|---|---|---|
| WO2004011429A1 (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-05 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | 新規なハロアルキルスルホンアニリド誘導体及び除草剤並びにその使用方法 |
| JP2004107323A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-04-08 | Nippon Nohyaku Co Ltd | 新規なハロアルキルスルホンアニリド誘導体及び除草剤並びにその使用方法 |
| US7312248B2 (en) * | 2004-09-23 | 2007-12-25 | Schering-Plough Animal Health Corporation | Control of parasites in animals by the use of novel trifluoromethanesulfonanilide oxime ether derivatives |
| JP2008514610A (ja) * | 2004-09-23 | 2008-05-08 | シェーリング−プラウ・リミテッド | 新規トリフルオロメタンスルホンアニリドオキシムエーテル誘導体の使用による動物における寄生虫の制御 |
| JP4644254B2 (ja) * | 2004-09-23 | 2011-03-02 | シェーリング−プラウ・リミテッド | 新規トリフルオロメタンスルホンアニリドオキシムエーテル誘導体の使用による動物における寄生虫の制御 |
| US7906538B2 (en) * | 2004-09-23 | 2011-03-15 | Schering-Plough Animal Health Corporation | Control of parasites in animals by the use of novel trifluoromethanesulfonanilide oxime ether derivatives |
| EP3070080A1 (en) | 2015-03-19 | 2016-09-21 | Basf Se | Herbicidal fluoromethanesulfonamides |
| EP3070079A1 (en) | 2015-03-19 | 2016-09-21 | Basf Se | Herbicidal fluoromethanesulfonamides |
| EP3103798A1 (en) | 2015-06-09 | 2016-12-14 | Basf Se | Herbicidal fluoromethanesulfonamides |
| WO2018069842A1 (en) | 2016-10-14 | 2018-04-19 | Pi Industries Ltd | 4-amino substituted phenylamidine derivatives and their use to protect crops by fighting undesired phytopathogenic micoorganisms |
| WO2018069841A1 (en) | 2016-10-14 | 2018-04-19 | Pi Industries Ltd | 4-substituted phenylamine derivatives and their use to protect crops by fighting undesired phytopathogenic micoorganisms |
| US11155517B2 (en) | 2016-10-14 | 2021-10-26 | Pi Industries Ltd. | 4-substituted phenylamine derivatives and their use to protect crops by fighting undesired phytopathogenic micoorganisms |
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