JP2001501943A - ヒドロキシムおよびヒドラゾン基を含有する殺真菌剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明はＧが基Ｇ１ないしＧ９から選択される一般式（Ｉ）（ここで、異なる記号は種々の有機基を表す）の殺真菌化合物、およびそれを含有する組成物に関する。また、本発明は、これらの化合物を用いる植物の処理方法にも関する。

Description

【発明の詳細な説明】 ヒドロキシムおよびヒドラゾン基を含有する殺真菌剤 本発明は、ヒドロキシムまたはヒドラゾン官能基を含有する新規化合物、特に 殺真菌剤組成物の形態での殺真菌剤としてのそれらの使用、およびこれらの化合 物またはこれらの組成物を用いる作物の植物病原菌を防除する方法に関する。 作物の植物病原菌を防除するのに使用されるヒドラゾン官能基を含有する誘導 体は、特にＥＰ ４６３，４８８およびＥＰ３７０，６２９から公知である。 本発明の１つの目的は、このように、ヒドロキシムまたはヒドラゾン官能基を 含有する殺菌剤として有用な化合物の新規ファミリーを提供することである。 本発明のもう１つの目的は、作物の植物病原菌に対する広スペクトル作用を有 するヒドロキシムまたはヒドラゾン官能基を含有する化合物の新規ファミリーを 提供することである。 本発明のもう１つの目的は、遭遇する特定の問題を克服するのを可能とする、 作物の植物病原菌に対する広スペクトル作用を有するヒドロキシムまたはヒドラ ゾン官能基を含有する化合 物の新規ファミリーを提供することである。 本発明のもう１つの目的は、作物の植物病原菌に対する改良されたスペクトル の作用を有するヒドロキシムまたはヒドラゾン官能基を含有する新規ファミリー を提供することである。 本発明のもう１つの目的は、米、穀物、果実樹木、ブドウつるおよびビートの 根のような作物の植物病原菌に対する改良されたスペクトルの作用を有するヒド ロキシムまたはヒドラゾン官能基を含有する化合物の新規ファミリーを提供する ことである。 これらの目的は、本発明で記載される化合物によって、全体的にまたは部分的 に達成することができる。 本発明の一般的定義 本発明は、一般式（Ｉ）：［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９： から選択され、ここで、 ｎは０または１、 Ｑ１は窒素原子またはＣＨ基、 Ｑ２は酸素もしくは硫黄原子、 Ｑ３は酸素もしくは硫黄原子、 Ｑ４は窒素原子または基ＣＲ₁₁、 Ｑ５は酸素もしくは硫黄原子または基ＮＲ₁₂、 Ｙは酸素もしくは硫黄原子またはアミノ（ＮＨ）もしくはオ キシアミノ（ＯＮＨ）基、 Ｗ１は酸素もしくは硫黄原子またはスルフィニル（ＳＯ）もしくはスルホニル （ＳＯ₂）基、 Ｗ２は酸素原子または基ＮＲ₁₃、 Ｗ２が酸素原子である場合、ｐは１、 Ｗ２が基ＮＲ₁₃である場合、ｐは０または１、 Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃は、相互に独立して、水素原子、ハロゲン原子；または ヒドロキシル、メルカプト、ニトロ、チオシアナト、アジド、シアノまたはペ ンタフルオロスルホニル基；低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシ、ハ ロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルコキシアルキル、ハロア ルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキル、シアノ アルキル、シアノアルコキシ、シアノアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハ ロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニルまたは アルコキシスルホニル基；または 低級シクロアルキル、低級ハロシクロアルキル、アルケニル、アルキニル、ア ルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニ ルチオまたはアルキニルチオ基；または アミノ、Ｎ−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、アシルアミノ、ア ミノアルキル、Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキ ルまたはアシルアミノアルキル基；または カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキ ルカルバモイルまたは低級アルコキシカルボニル基；または アシル基； Ｘ４は水素原子、ハロゲン原子；または 低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシまたはハロアルコキシ基；また は シアノまたはニトロ基、 Ｒ₁およびＲ₂は、相互に独立して、水素原子、低級アルキルまたは低級ハロア ルキル基、低級シクロアルキルまたは低級ハロシクロアルキル基、アルコキシア ルキル、ハロアルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオア ルキルまたはシアノアルキル基；または シアノ、アシル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキ ルカルバモイルまたはＮ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、低級アルコキシカル ボニル、アルキルチオカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、アルコキシチオ カルボニル、ハロアルコキシチオカルボニル、またはアルキルチオチオカルボニ ル基；または アミノアルキル、Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノア ルキルまたはアシルアミノアルキル基、 Ｒ₁およびＲ₂は一緒になって、任意に１個またはそれを超えるハロゲン原子ま たは低級アルキル基で置換されていてもよいアルキレン基のような二価基を形成 でき、 Ｒ₃は水素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロアルキ ルまたは低級ハロシクロアルキル基、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチ オ、ハロアルキルチオ、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、アルキ ルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキルまたはシアノアルキル基；または ニトロ、シアノ、アシル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバ モイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル、低級アルコキシカルボニル、アルキ ルチオカルボニル、ハロア ルコキシカルボニル、アルコキシチオカルボニル、ハロアルコキシチオカルボニ ルまたはアルキルチオチオカルボニル基；または アルケニル、アルキニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノまたはＮ，Ｎ−ジアルキ ルアミノアルキル基；または 任意に置換されていてもよいフェニルまたはベンジル基、 Ｒ₄は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロアルキル、低級ハ ロシクロアルキルまたはアルコキシアルキル基；または アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノまたはジアルキ ルアミノ基、 Ｒ₅またはＲ₆は、相互に独立して、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、 Ｒ₇は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキ シアルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₈は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキ シアルキル、アルケニル、アルキニル、ホルミルまたはアシル基、 Ｒ₉は水素原子、低級アルキルもしくは低級ハロアルキル基ま たは低級シクロアルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシアルキル、ハロ アルコキシアルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₁₀はハロゲン原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロア ルキルまたは低級ハロシクロアルキル基またはアルコキシ、ハロアルコキシ、ア ルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィ ニル、アルキルスルホニルまたはハロアルキルスルホニル基、 Ｒ₁₁およびＲ₁₂は、相互に独立して、水素原子、低級アルキルまたは低級ハロ アルキル基または低級シクロアルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシア ルキル、ハロアルコキシアルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₁₃は水素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロアルキ ル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、 アルキルチオアルキルまたはハロアルキルチオアルキル基、任意に置換されてい てもよいアリル基、任意に置換されていてもよいプロパルギル基または任意に置 換されていてもよいベンジル基；または アシル、Ｎ−アルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカ ルバモイル、低級アルコキシカルボニル、アルキルチオカルボニル、ハロアルコ キシカルボニル、アルコキシチオカルボニル、ハロアルコキシチオカルボニルま たはアルキルチオチオカルボニル基；または アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニルまたは任意に置換されていても よいアリールスルホニル基、 但し、 Ｗ２およびＱ２が酸素原子である場合、およびＧが基Ｇ１を表す場合、Ｒ₅は アルキル基以外であり、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルア ミノ基以外であり、Ｒ₃は水素原子、アルキルまたはハロアルキル基、シクロア ルキルまたはハロシクロアルキル基、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアル キル、アルキルチオアルキル、シアノアルキル、アルケニル、アルキニルまたは ジアルキルアミノアルキル基、または任意に置換されていてもよいフェニルまた はベンジル基以外である］ の、ヒドロキシムまたはヒドラゾン官能基を含有する化合物、ならびに上記で定 義した式（Ｉ）の化合物の塩、金属および半金属複合体に関する。 本発明の明細書において、「ヒドロキシム基」という用語は、「ヒドロキシム 基」それ自体（Ｏ−Ｃ＝Ｎ−Ｏ配列を持つ）および「チオヒドロキシム基」（Ｓ −Ｃ＝Ｎ−Ｏ配列を持つ）を共に含む。同様に、「ヒドラゾン基」という用語は 、「ヒドラゾン基」それ自体（Ｏ−Ｃ＝Ｎ−Ｎ配列）および「チオヒドラゾン基 」（Ｓ−Ｃ＝Ｎ＝Ｎ配列を持つ）を共に含む。 さらに、以下の一般的用語は以下の意味で使用される： −ハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子を意味する。 −有機基を修飾する形容詞「低級」は、形容詞「低級」が３ないし６個の炭素 原子を意味するシクロアルキル基を除き、この基が１ないし６個の炭素原子を含 有することを意味する。 −アルキル基は直鎖または分岐鎖状であり得る。 −ハロアルキル基は１個以上の同一または異なるハロゲン原子を含有し得る。 −アシル基はアルキルカルボニルまたはシクロアルキルカルボニルを意味する 。 −アシルを修飾する形容詞「低級」はこの基のアルキルまたはシクロアルキル 部分に適用される。 −アルキレン基はｍが２ないし５である基−（ＣＨ₂）_m−をさす。 −アミノ基が二置換されている場合、２つの置換基は５または６個の原子の飽 和または不飽和窒素含有複素環を構成し得る。 −カルバモイル基が二置換されている場合、２個の置換基は５または６個の原 子の飽和または不飽和窒素含有複素環を構成し得る。 本発明の好ましい具体例は、式（Ｉ）の生成物が別々にまたは組み合わされて 以下の特徴の１つ及び／又は他のものも有するものである： ｎは０または１、 ｐは１、 Ｑ２は酸素原子であり、及び／又はＱ３は酸素原子であり、及び／又はＱ４は 窒素原子であり、及び／又はＱ５は酸素原子であり； Ｗ１は酸素もしくは硫黄原子であり、 Ｗ２は酸素原子またはアルキルアミノ、ハロアルキルアミノ、アルコキシアル キルアミノまたはアリルアミノ基であり、 Ｙは酸素原子であり、 Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびＸ₄は、相互に独立して、水素原子、低級アルキル基、ハ ロゲン原子またはシアノ、トリフルオロメチルまたはメトキシ基、 Ｒ₁およびＲ₂は、相互に独立して、水素原子、低級アルキル、低級シクロアル キル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、シアノ、シアノアルキル、Ｎ− アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、アシルアミノア ルキル、低級アルコキシカルボニル、Ｎ−アルキルカルバモイルまたはＮ，Ｎ− ジアルキルカルバモイル基であり、 Ｒ₃は水素原子、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級ハロアルキルまた はアルコキシアルキル基、好ましくはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル 、シクロプロピルまたはメトキシメチル基であり、 Ｒ₄は低級アルキル、アルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基 、好ましくはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、メチルアミノま たはエチルアミノ基であり、 Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₈およびＲ₉は、相互に独立して、低級アルキルまたは低級ハロア ルキル基、好ましくはメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオ ロメチル、エチル、２， ２，２−トリフルオロエチルまたはプロピル基であり、 Ｒ₇は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、好ましくはメチル、フルオロ メチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、エチル、２，２，２−トリフ ルオロエチルまたはプロピル基、またはアリルまたはプロパルギル基であり、 Ｒ₁₀は塩素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、好ましくはメチル 、アルコキシまたはアルキルチオ基、好ましくはメトキシまたはメチルチオであ り、 Ｒ₁₁およびＲ₁₂は、相互に独立して、低級アルキル、低級ハロアルキル、アル コキシアルキル、アリルまたはプロパルギル基であり、 Ｒ₁₃は水素原子または低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル 、ハロアルキルコキシアルキル、アリル、プロパルギルまたはベンジル基である 。 前記置換基のうち、より特別に選択されるものは、別々のまたは組み合わせた 以下の置換基である： Ｗ１は酸素原子であり、 Ｒ₁は水素原子またはメチル基であり、 Ｒ₂は水素原子または低級アルキル、シアノ、シアノアルキル、 アルコキシアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、低級アルコキシカル ボニルまたは低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基である。 さらにより特別に好ましい化合物は、置換基Ｗ１およびＷ２が二重結合−Ｃ（ Ｒ₃）＝Ｎ−に対してトランス位（後記参照）にあるものである。 一般式（Ｉ）および任意に調製プロセスで中間体として使用でき、これらのプ ロセスの記載で定義されるであろう化合物は、当該化合物中の二重結合の数に応 じて、１以上の形態の幾何異性体で存在し得る。Ｇが基Ｇ１、Ｇ２またはＧ３で ある一般式（Ｉ）の化合物は、２つの二重結合の立体配置に応じて、（Ｅ，Ｅ） 、（Ｅ，Ｚ）、（Ｚ，Ｅ）または（Ｚ，Ｚ）と呼ばれる４つの異なる立体異性体 を含有し得る。表示ＥおよびＺは、各々、用語シンおよびアンチ、またはシスお よびトランスによって置き換えることができる。これらの標記の記載および使用 については、Ｗｉｌｅｙ（１９９４）によって公表されたＥ．Ｅｌｉｅｌおよび Ｓ．Ｗｉｌｅｎによる書籍「Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｏｒｇａ ｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」を特に参照されるであろう。 慣例により、本発明の場合、用語（Ｅ，Ｅ）、（Ｅ，Ｚ）、（Ｚ，Ｅ）または （Ｚ，Ｚ）は、最初の文字によって、基Ｇ１、Ｇ２またはＧ３の二重結合の立体 配置を、二番目の文字によって、ヒドロキシムまたはヒドラゾン基の立体配置を 示す。 Ｇが基Ｇ４ないしＧ９である一般式（Ｉ）の化合物は、ヒドロキシムまたはヒ ドラゾン基の立体配置に応じて（Ｅ）または（Ｚ）と示される２つの異なる立体 配置を含み得る。 一般式（Ｉ）の化合物および任意に調製プロセスで中間体として使用でき、こ れらのプロセスの記載で定義されるであろう化合物は、当該化合物における不斉 中心の数に応じて、１以上の光学的またはキラル異性体形にて存在できる。この ように、本発明は、全ての光学異性体、およびラセミ混合物、および混合物また は分離されたものとしての対応するジアステレオ異性体に同等に関する。ジアス テレオ異性体及び／又は光学異性体は、自体公知（Ｅ．Ｅｌｉｅｌ，前掲）の方 法により分離することができる。 調製プロセス： 一般式（Ｉ）の本発明の化合物および任意に調製プロセスで中間体として使用 できる化合物は、後記する一般的調製方法： 方法ＡないしＬのうち少なくとも１つによって調製できる。 一般的方法のうち１つまたは他のもので使用される試薬の調製は、通常、自体 公知であって、通常、先行技術に具体的に記載されているか、あるいは当業者が それを所望の目的に適用できるように記載されている。試薬を調製する条件を確 立するために当業者が使用できる先行技術は、Ｗｉｌｅｙ（１９９２）によって 出版されたＪ．Ｍａｒ−ｃｈによる「Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｇａｎｉｃ Ｃｈｅ ｍｉｓｔｒｙ」、Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇによって出版された 「Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ」（Ｈｏ ｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ）、またはＡｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉ ｅｔｙによって出版された「Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ」、ならび に公に接近可能なコンピューターデータベースのような多くの一般的化学書籍中 に見出すことができる。 方法Ａ： Ｇが基Ｇ１ないしＧ９のうち１つであり、他の置換基が既に示した定義を有す る一般式（Ｉ）の化合物は、溶媒の存在または不存在下で、有機または無機塩基 の存在下、式（ＩＩ）Ａ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうち１つであり、該基Ｇ１ないしＧ９は式（Ｉ ）につき与えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄は式（Ｉ）につき与えられた ものと同一の定義を有し、 Ｖ₁はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）、アルキルスルホネート またはハロアルキルスルホネート（好ましくは、メチルスルホネートまたはトリ フルオロメチルスルホネート）、またはアリールスルホネート（好ましくは、４ −メチルフェニルスルホネート）基である］ の化合物を式（ＩＩＩ）Ａ：［式中、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは式（Ｉ） で与えられたものと同一の定義を有する］ と接触させることよりなるプロセスによって得ることができる。反応は、一般に 、−８０℃および１８０℃（好ましくは、０℃ および１５０℃）の間の温度にて、あるいは使用する溶媒の沸点にて行われる。 この反応に適した溶媒は、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはオクタンのよう な脂肋族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンまたはハロベンゼンのような 芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーチル、テトラヒドロフ ラン、ジオキサンまたはジメトキシエタンのようなエーテル；ジクロロメタン、 クロロホルム、１，２−ジクロロエタンまたは１，１，１−トリクロロエタンの ようなハロゲン化炭化水素；酢酸メチルまたは酢酸エチルのようなエステル、ア セトニトリル、プロピオニトリルまたはベンゾニトリルのようなニトリル；ジメ チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメトキシ プロピレン尿素またはジメチルスルホキシドのような二極性非プロトン性溶媒； または水であり得る。これらの種々の溶媒の混合物も使用することができる。 反応時間は使用する条件に依存し、一般に、０．１および４８時間の間である 。 この反応に適した有機または無機塩基としては、水酸化ナトリウム、カリウム 、セシウムまたはカルシウムのようなアルキ ル金属またはアルカリ土類金属水酸化物；カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのよう なアルカリ金属またはアルカリ土類金属アルコキシド、水素化ナトリウム、カリ ウムまたはセシウムのようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属水素化物；炭 酸ナトリウム、カリウムまたはカルシウムまたは炭酸水素ナトリウム、カリウム またはカルシウムのようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属炭酸塩または炭 酸水素塩；ピリジン、アルキルピリジンのような好ましくは窒素含有の有機塩基 、トリメチルアミン、トリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンのよ うなアルキルアミン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エンま たは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンのようなアザ誘 導体が挙げられる。 式（ＩＩ）Ａおよび式（ＩＩＩ）Ａの化合物の相対的割合に関しては厳格な限 定はない。しかしながら、０．１および１０、好ましくは０．５ないし２の間の （ＩＩＩ）Ａ／（ＩＩ）Ａモル比を選択するのが有利である。 使用する条件に応じて、一般式（Ｉ）の化合物は、ヒドロキシムまたはヒドラ ゾン基の立体配置に応じて、（Ｅ）および（Ｚ）異性体の種々の混合物の形態で 、あるいは単一の異性体（Ｅ） もしくは単一の異性体（Ｚ）の形態で得られる。要すれば、一般式（Ｉ）の化合 物および（Ｅ）または（Ｚ）立体配置の化合物は、ヒドロキシムまたはヒドラゾ ン基の立体配置に応じて、例えば、抽出、結晶化またクロマトグラフィーのよう な自体公知の方法に従って単離し精製することができる。 Ｗ２が酸素原子であってｐが１である式（ＩＩＩ）Ａのヒドロキサム酸または チオヒドロキサム酸、またはＷ２が基ＮＲ₁₃であってｐが０または１であり、Ｗ １、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃が式（Ｉ）で与えられたものと同 一の定義を有する式（ＩＩＩ）Ａのヒドラゾン酸またはチオヒドラゾン酸は、式 （ＩＶ）： ［式中、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐが式（Ｉ）で与えられ たものと同一の定義を有する］ の化合物を、式（Ｖ）：［式中、Ｗ１およびＲ₃は式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有し、Ｕ１ はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）、またはヒドロキシル、低級ア ルコキシまたはベンジルオキシ、低級アルキルチオまたはアミノ基、または基Ｏ （Ｃ＝Ｏ）Ｒ_aであり、Ｒ_aは式（Ｉ）で与えられたＲ₃のものと同一の定義を有 し、Ｒ₃と同一または異なり、好ましくはハロゲン原子である］ の化合物（従って、式（Ｖ）の化合物は酸ハライドである）と接触させることよ りなるプロセスによって得ることができる。 式（ＩＶ）の化合物および式（Ｖ）の化合物の間の縮合は、溶媒の存在下また は不存在下で、有機または無機塩基の存在下で、あるいはカルボン酸無水物、好 ましくは無水酢酸または無水プロピオン酸のような脱水剤の存在下で行われる。 式（ＩＶ）の化合物および式（Ｖ）の化合物の間の縮合のための一般的条件は、 式（ＩＩ）Ａの化合物および式（ＴＩＩ）Ａの化合物の間の縮合のための条件と 同様または同一であり、あるいは「Ｈ ｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ」、前掲、第Ｅ５巻、１１４４−１１４９頁に従って自体 公知である。 Ｗ２が酸素原子であってｐが１である式（ＩＩＩ）Ａのヒドロキサム酸、また はＷ２が基ＮＲ₁₃であってｐが１であり、Ｗ１、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂ およびＸ₃が式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する式（ＩＩＩ）Ａの ヒドラゾン酸は、式（ＶＩ）： ［式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃は式（Ｉ）で与えられたものと同一の定 義を有し、Ｕ₂はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）またはアルキル スルホネート基（好ましくは、メチルスルホネートまたはトリフルオロメチルス ルホネート）である］ の化合物を、式（ＶＩＩ）の、Ｗ２が酸素原子であるヒドロキサム酸誘導体、ま たはＷ２がＮＲ₁₃であり、Ｒ₃およびＲ₁₃が式（Ｉ）で与えられたものと同一の 定義を有するヒドラジン酸誘導体と接触させることよりなるプロセスによっても 得ることができる。 式（ＶＩ）の化合物および式（ＶＩＩ）の化合物の間の縮合は、溶媒の存在下 または不存在下で、有機または無機塩基の存在下で行われる。 式（ＶＩ）の化合物および式（ＶＩＩ）の化合物の間の縮合の一般的条件は、 式（ＩＩ）Ａの化合物および式（ＩＩＩ）Ａの化合物の間の縮合のための条件と 同様または同一であり、「Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ」、第Ｅ５巻、１１４８−１ １４９頁により自体公知である。 Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐが式（Ｉ）で与え られたものと同一の定義を有し、Ｕ₁およびＵ₂が方法Ａで与えられたものと同一 の定義を有する式（ＩＶ）、式（Ｖ）、式（ＶＩ）および式（ＶＩＩ）の化合物 は、自体公知のプロセスにより調製することができる。 基Ｇ１ないしＧ９が式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄が式 （Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有し、Ｖ₁がハロゲン原子（好ましくは 、塩素または臭素）、アルキル スルホネート基（好ましくは、メチルスルホネートまたはトリフルオロメチルス ルホネート）またはアリールスルホネート基（好ましくは、４−メチルフェニル スルホネート）であるＧが基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つである式（ＩＩ）Ａの 化合物は、調製方法の記載の残りにつき、慣例によって、一般的用語「ベンジル ハライド誘導体」によって示される。 Ｖ₁がハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）である式（ＩＩ）Ａのベ ンジルハライド誘導体は、式（ＶＩＩＩ）： ［式中、Ｇが基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、該基Ｇ１ないしＧ９は式（ Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄は式（Ｉ）につき与えられ たものと同一の定義を有する］ の化合物のハロゲン化によって得ることができる。 式（ＶＩＩＩ）の化合物のハロゲン化は、Ｊ．Ｍａｒｃｈ、前掲、６８９−６ ９８頁に従い、２０℃ないし１７０℃、好ましくは８０℃ないし１００℃の温度 にて、フリーラジカル開始剤を含むまたは含まない、ベンゼンまたは四塩化炭素 のような 不活性溶媒中、または溶媒の不存在下で、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−クロ ロスクシンイミドまたはＮ−ブロモアセトアミドのようなＮ−ハロアセトアミド によって、ラジカル、加熱または光化学経路を介し、つまり、相互を排除しない 種々のプロセスを行うことができる。 Ｖ₁がハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）である式（ＩＩ）Ａのベ ンジルハライド誘導体は、式（ＩＩ）Ｂ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は式（Ｉ ）につき与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₄はアルキルアミノまたはジア ルキルアミノ基であり、基Ｇ８およびＧ９は式（Ｉ）につき与えられたものと同 一の定義を有し、Ｘ₄は式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有し、Ｗ₁ は酸素原子である］ の化合物を、Ｊ．Ｍａｒｃｈ、前掲、４３１−４３３頁に従って塩化チオニル、 オキシ三塩化リンまたは三臭化リンのようなハロゲン化剤で、あるいはＪ．Ｏｒ ｇ．Ｃｈｅｍ． （１９７１）、３６、３０４４に従って、リチウムハライド／メシルハライド／ コリジン試薬でハロゲン化することによっても得ることができる。 Ｖ₁がハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）である式（ＩＩ）Ａのベ ンジルハライド誘導体は、式（ＩＩ）Ｃ： ［式中、ＧはＧ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は式（Ｉ） につき与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₄はアルキルアミノまたはジアル キルアミノ基であり、基Ｇ８およびＧ９は式（Ｉ）につき与えられたものと同一 の定義を有し、Ｘ₄は式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有し、Ｗ₁は 酸素原子であって、Ｐは、エステル、好ましくは酢酸もしくは安息香酸エーテル 、好ましくはメチル、メトキシメチル、フェニルまたはベンジルのような、アル コール官能基用の保護基（該保護基の選択および調製については、Ｗｉｌｅｙ（ １９９１）によって出版されたＷ．ＧｒｅｅｎｅおよびＰ．ｗｕｔｓによる書籍 「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉ」が有利に参照されよう）である］ の化合物を、三臭化ホウ素のようなルイス酸、または塩化水素のような無水水素 酸で開裂させることによっても得ることができる。この開裂反応は、特に、欧州 特許ＥＰ ５２５，５１６から公知である。 式（ＩＩ）Ａのベンジルハライド誘導体および式（ＶＩＩＩ）、（ＩＩ）Ｂお よび（ＩＩ）Ｃの化合物は、自体公知の方法に従って調製することができる。こ れらの種々の方法またはそれに関する先行技術は方法Ｊ、ＫおよびＬに概説する 。 方法Ｂ Ｇが基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は式（ｉ）につ き与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₄はアミノ、アルキルアミノまたはジ アルキルアミノ基またはラジカルであり、基Ｇ８およびＧ９は式（Ｉ）につき与 えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄は式（Ｉ）につき与えられたものと同一 の定義を有する一般式（Ｉ）の化合物は、Ｇが基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つで あり、基Ｇ１ないしＧ７が式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有し、 Ｒ₄がアミノ、アルキ ルアミノまたはジアルキルアミノ基またはラジカルであり、Ｇ８およびＧ９が式 （Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄が式（Ｉ）につき与えら れたものと同一の定義を有し、Ｗ₁が酸素もしくは硫黄原子である式（ＩＩ）Ｂ の化合物を、式（ＩＩＩ）Ｂ： ［式中、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは式（Ｉ）につき 与えられたものと同一の定義を有し、Ｕ₃はハロゲン原子、好ましくは塩素原子 であり、（Ｅ）または（Ｚ）立体化学となる二重結合Ｕ₃−Ｃ（Ｒ₃）＝Ｎ−Ｗ₂ −が可能である］ の化合物と接触させることよるなるプロセスによって得ることができる。 この反応は、溶媒の存在下または不存在下にて、無機または有機塩基の存在下 で行われる。該反応は一般に−８０℃および１８０℃の間の温度（好ましくは、 ０℃および１５０℃の間）または使用する溶媒の沸点で行われる。この反応に適 した溶媒 はジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ ンまたはジメトキシエタンのようなエーテル、アセトニトリル、プロピオニトリ ルまたはベンゾニトリルのようなニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルア セトアミド、Ｎ−メチルピロリドンまたはジメチルプロリレン尿素のような二極 性非プロトン性溶媒、またはジメチルスルホキシドであり得る。これらの種々の 溶媒の混合液も使用できる。 反応時間は使用する条件に依存し、一般に、０．１および４８時間の間である 。 この反応に適した有機または無機塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カ リウムまたは水素化セシウムのようなアルカリ金属およびアルカリ土類金属水素 化物、およびカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属およびアルカ リ土類金属アルコキシドを挙げることができる。 式（ＩＩ）Ｂおよび式（ＩＩＩ）Ｂの化合物の相対的割合につき厳格な限定は ない。しかしながら、０．１および１０の間、好ましくは０．５ないし２の（Ｉ ＩＩ）Ｂ／（ＩＩ）Ｂモル比を選択するのが有利である。 使用する条件に依存し、一般式（Ｉ）の化合物は、ヒドロキ シムまたはヒドラゾン基の立体配置に応じて、（Ｅ）および（Ｚ）異性体の種々 の混合物または単一の（Ｅ）異性体もしくは単独の（Ｚ）異性体の形態で得られ る。要すれば、一般式（Ｉ）の化合物および（Ｅ）または（Ｚ）異性体の化合物 は、ヒドロキシムまたはヒドラゾン基の立体配置に応じて、例えば、抽出、結晶 化またはクロマトグラフィーのような自体公知の方法に従って単離し精製するこ とができる。 一般式（ＩＩＩ）Ｂの化合物は、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ，Ｃｈｅｍ．（１９８５ ）、５０、９９３、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９７１）、３６、２３４および Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔｒａｃｔｓ（１９７０）、７３、３４７５０ｓのような自体 公知の方法に従って調製される。 方法Ｃ Ｗ１が硫黄原子であってＷ２が酸素原子である式（ＩＩＩ）Ａのチオヒドロキ サム酸、またはＷ１が硫黄原子であってＷ２が式（Ｉ）につき与えられたものと 同一の定義を有する基ＮＲ₁₃、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐで ある式（ＩＩＩ）Ａのチオヒドロキサム酸も本発明の主題である。 それらは、「Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ」、第Ｅ５巻、１２７９ −１２８０頁およびＳｙｎｔｈｅｓｉｓ（１９８４）、８２９に記載されたプロ セスと同一または同様にして、Ｗ１が酸素原子であってＷ２が酸素原子である式 （ＩＩＩ）Ａのヒドロキサム酸、またはＷ１が酸素原子であってＷ２が式（Ｉ） につき与えられたものと同一の定義を有する基ＮＲ₁₃、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、 Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐである式（ＩＩＩ）Ａのヒドラゾン酸を、五硫化リンま たはＬａｗｅｓｓｏｎ試薬のような加硫剤で加硫することによって得ることがで きる。 方法Ｄ Ｇが基Ｇ３であり、Ｑ２が酸素原子であり、Ｒ₄がアルコキシ、アルキルアミ ノまたはジアルキルアミノ基であり、他の置換基か式（Ｉ）につき与えられたも のと同一の定義を有し、Ｒ₆が低級アルキルまたは低級ハロアルキル基である一 般式（Ｉ）の化合物は、Ｊ．Ｍａｒｃｈ、前掲、９５６−９６３頁または国際出 願ＷＯ９５／２９８９６に従って、−７８℃ないし５０℃、好ましくは−７０℃ ないし２０℃の温度にて、エーテル、好ましくはジエチルエーテルまたはテトラ ヒドロフランのような非プロトン性溶媒中、アルカリ金属またはアルカリ土類金 属アルコキシド、好ましくはナトリウムエトキシド、ナトリウムメト キシドまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、またはアルカリ金属およびアルカ リ土類金属水素化物、好ましくは水素化物ナトリウムまたは水素化物カリウムの ような１当量以上の塩基の作用によって、あるいはアルキルリチウム、好ましく はブチルリチウム、アルキルマグネシウムハライドまたはリチウムジイソプロピ ルアミドのような有機金属誘導体の作用によって、式（ＩＸ）：［式中、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、 他の置換基は式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する］ の化合物を、式（Ｘ）Ａ： Ｒ₆−ＣＨ₂−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ_b）₂ （Ｘ）Ａ ［式中、Ｒ₆は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基であり、Ｒ_bは低級アルキ ル、フェニルまたはベンジル基である］ のウィティヒ−ホルネル試薬と接触させ、 あるいは別法として、式（Ｘ）Ｂ： Ｒ₆−ＣＨ₂−Ｐ（Ｒ_d）₃ ⁺；Ｈａｌ^- （Ｘ）Ｂ ［式中、Ｒ₆は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基であり、Ｒ_dは任意に置換 されていてもよいフェニル基であり、Ｈａｌ^-はハライドイオンである］ と接触させることよりなるプロセスによって得ることができる。 式（Ｘ）Ａのウィティヒ−ホルネル試薬および式（Ｘ）Ｂのウィティヒ試薬は 自体公知のプロセスに従って得ることができる。 方法Ｅ： ＧがＧ１またはＧ２であり、Ｑ１が窒素原子またはＣＨ基であり、Ｑ２が酸素 原子であり、Ｒ₄がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であ り、他の置換基が式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₅が低 級ハロアルキル基である一般式（Ｉ）の化合物は、−２０℃および２5０℃の間 、好ましくは２５℃ないし１５０℃の温度または溶媒の還流点で、触媒量のヨウ 素化物イオンの存在下または不存在下にて、ジメチルホルムアミド、ジメチルア セトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルプロリレン尿素またはジメチルス ルホ キシドのような二極性非プロトン性溶媒中、式（ＸＩ）： ［式中、Ｔは酸素原子であって、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属イオ ンであり、Ｑ１は窒素原子またはＣＨ基であり、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルア ミノまたはジアルキルアミノ基であり、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁ 、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐは式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する］ の化合物を、ｑが１または２であり、Ｈａｌが相互に同一または異なってよく、 そのうち少なくとも１つが塩素または臭素原子であるハロゲン原子を示す式ＣＨ_q （Ｈａｌ）_4-qのハロゲン化化合物と接触させることよりなるプロセスによって 得ることができる。この反応は、特に、特許ＤＥ ４，４２４，７８８およびＷ Ｏ９６／０６０７２に記載されている。 Ｔが酸素原子であって、Ｍがアルカリ金属またはアルカリ土類金属イオンであ り、Ｑ１が窒素原子であり、Ｒ₄がアルコキシ、 アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃ 、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐは式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義 を有する式（ＸＩ）の化合物は、Ｊ．Ｍａｒｃｈ、前掲、９０６−９０７頁に従 い、ヒドロキシルアミンおよび塩基の作用によって、Ｒ₄がアルコキシ、アルキ ルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、他の置換基が式（Ｉ）で与えられた ものと同一の定義を有する式（ＩＸ）の化合物から容易に得ることができる。 Ｔが酸素原子であって、Ｍがアルカリ金属またはアルカリ土類金属イオンであ り、Ｑ１がＣＨ基であり、Ｒ₄がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキル アミノ基であり、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およ びｐが式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する式（ＸＩ）の化合物は、 特に、特許ＥＰ １７６，８２６のものと同様の方法で調製することができる。 方法Ｆ ＧがＧ４であり、ここでｎは１であり、Ｑ２が酸素原子であり、Ｒ₄がアルコ キシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノであり、他の置換基が式（Ｉ）で 与えられたものと同一の定義 を有する一般式（Ｉ）の化合物は、−78℃ないし４０℃、好ましくは−２０およ び２５℃の間の温度にて、エーテル、好ましくはジエチルエーテルまたはテトラ ヒドロフランのような非プロトン性溶媒中、任意に第四級アンモニウムのような 相間移動触媒の存在下にて、アルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物、ア ルカリ金属またはアルカリ土類金属アルコキシド、アルカリ金属またはアルカリ 土類金属水素化物、アルカリ金属またはアルカリ土類金属炭酸塩および炭酸水素 塩のような１当量以上の塩基の作用によって、式（ＸＩＩ）Ａ： ［式中、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、 他の置換基は式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有する］ の化合物と、式（ＸＩＩＩ）： ［式中、Ｖ₁はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）であり、Ｒ₅は式（ Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有する］ の試薬との間の反応によって得ることができる。 Ｒ₄がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、他の置 換基が式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有する一般式（ＸＩＩ）Ａ の化合物は、一般式（ＸＩＩ）Ｂ：［式中、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、 Ｘ₄は式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有し、 Ｖ₁はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）またはアルキルスルホネ ート（好ましくは、メチルスルホネートまたはトリフルオロメチルスルホネート ）またはアリールスルホネート（好ましくは、４−メチルフェニルスルホネート ）基である］ の化合物と、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、 Ｘ₃およびｐが式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有する式（ＩＩＩ ）Ａの化合物との間の反応によって得ることができる。 式（ＸＩＩ）Ｂの化合物および式（ＩＩＩ）Ａの化合物の間の縮合についての 一般的条件は、方法Ａで記載した式（ＩＩ）Ａの化合物および式（ＩＩＩ）Ａの 化合物の間の縮合条件と同様または同一である。 一般式（ＸＩＩ）Ｂの化合物は文献ＥＰ ４９８，３９６に従って得ることが できる。 方法Ｇ Ｇが基Ｇ１ないしＧ７であって、Ｒ₄がアルキルアミノまたはジアルキルアミ ノ基であり、他の置換基が式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有する 一般式（Ｉ）の化合物は、−５０℃ないし１００℃の温度または選択した溶媒の 沸点にて、メタノール、エタノール、プロパノールまたはイソプロパノールのよ うなアルコール溶媒中、Ｇが基Ｇ１ないしＧ７であり、Ｒ₄がアルコキシまたは アルキルチオ基であり、他の置換基が式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定 義を有する］ の化合物をアルキルアミンまたはジアルキルアミン、好ましく はメチルアミンと接触させることよりなるプロセスによって得ることができる。 一般に、Ｇが基Ｇ１ないしＧ７であり、Ｒ４がアルコキシまたはアルキルアミノ 基であり、他の置換基が式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有する一 般式（Ｉ）の化合物に対して、１ないし５当量、好ましくは１．１ないし２当量 過剰のアルキルまたはジアルキルアミンを使用するのが有利である。 方法Ｈ Ｗ１がスルホキシド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ₂）基であり、Ｇが基Ｇ１ 、Ｇ３、Ｇ４およびＧ６ないしＧ９のうち１つであり、Ｑ２およびＱ３が酸素原 子であり、他の置換基が式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有する一 般式（Ｉ）の化合物は、Ｊ．Ｍａｒｃｈ、前掲、１２０１−１２０３頁に従い、 不活性溶媒中、触媒の存在下または不存在下、有機過酸化物、好ましくは過酢酸 または３−クロロ過安息香酸、無機過酸化物、過酸化水素のようなヒドロ過酸化 物、無機オキシ塩化物または酸素のような１当量以上の酸化剤を用い、Ｗ１が硫 黄原子であり、ＧがＧ１、Ｇ３、Ｇ４およびＧ６ないしＧ９のうちの１つであり 、Ｑ２およびＱ３が酸素原子であり、他の置 換基が式（Ｉ）につき与えられたものと同一の定義を有する一般式（Ｉ）の化合 物を酸化することによって得ることができる。 方法Ｉ 方法Ａまたは方法Ｂに従って調製した一般式（Ｉ）の化合物は、原子および基 Ｗ１およびＷ２にて（Ｗ１およびＷ２は式（Ｉ）についてと同一の意味を有する ）、二重結合−Ｃ（Ｒ₃）＝Ｎ−に対してシス位にて（前記参照）得られる（ヒ ドロキシムまたはヒドラゾン基）。 二重結合−Ｃ（Ｒ₃）＝Ｎ−に対してトランス位（ヒドロキシムまたはヒドラ ゾン基）の原子または基Ｗ１およびＷ２を持つ一般式（Ｉ）の異性体は、触媒、 特に酸触媒にてまたはそれ無くして、好ましくは紫外線照射下、溶媒中で加熱す ることによってシス異性体から調製することができる。反応時間はシス異性体の トランス異性体への全転化が得られるように選択される。反応は、一般に、０℃ および溶媒の沸点の間の温度で行われる。この反応に適した溶媒はペンタン、ヘ キサン、ヘプタンまたはオクタンのような脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン またはキシレンのような芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはジ メトキシエタンのようなエーテル；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジ クロロエタンまたは１，１，１−トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素 ；酢酸メチルまたは酢酸エチルのようなエステル；アセトニトリル、プロピオニ トリルまたはベンゾニトリルのようなニトリル；メタノール、エタノール、プロ パノールまたはイソプロパノールのようなアルコール；ジメチルホルムアミド、 ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルプロリレン尿素または ジメチルスルホキシドのような二極性非プロトン性溶媒；または水であり得る。 これらの種々の溶媒の混合液も使用できる。 溶媒は、好ましくは、トルエンまたはキシレンのような芳香族溶媒、またはジ イソプロピルエーテルのようなエーテルであろう。触媒、好ましくは酸触媒は、 塩化水素のような無水水素酸、酢酸、プロピオン酸またはトリフルオロ酢酸のよ うなカルボン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸または４− メチルフェニルスルホン酸のようなスルホン酸、または硫酸から選択されるであ ろう。 方法Ｊ （式（ＩＩ）Ａ等のベンジルハライド誘導体） 式（ＩＩ）Ａのベンジルハライド誘導体および式（ＶＩＩＩ）、（ＩＩ）Ｂお よび（ＩＩ）Ｃの化合物は、自体公知の非常に多数の方法に従って調製すること ができる。 非限定的で限られない例としては、式（ＩＩ）Ａのベンジルハライド誘導体お よび式（ＶＩＩＩ）の化合物または式（ＩＩ）Ｂの化合物または式（ＩＩ）Ｃの 化合物を調製するプロセスを記載する種々の特許が挙げられる： Ｇが（Ｅ）または（Ｚ）立体化学の基Ｇ１またはＧ２である式（ＩＩ）Ａ等の ベンジルハライド誘導体は、特許ＥＰ ４２６，４６０、ＥＰ ３９８，６９２ 、ＥＰ ６１７，０１４、ＥＰ ５８５，７５１、ＥＰ ４８７，４０９、ＥＰ ５３５，９２６およびＤＥ ４，３０５，５０２に記載されていものに従って 調製することができる。 Ｇが（Ｅ）または（Ｚ）立体化学の基Ｇ３である式（ＩＩ）Ａ等のベンジルハ ライド誘導体は国際出願ＷＯ ９６／１６９４３により公知である。 Ｇが基Ｇ４、Ｇ５またはＧ６である式（ＩＩ）Ａ等のベンジルハライド誘導体 は特許ＥＰ ４９８，３９６、ＥＰ ６１９，３０１およびＷＯ ９３／１５０ ４６により公知である。 Ｇが基Ｇ７である式（ＩＩ）Ａ等のベンジルハライド誘導体は国際出願ＷＯ ９５／２７６９３およびＷＯ ９６／０７６３３により公知である。 Ｇが基Ｇ８またはＧ９である式（ＩＩ）Ａ等のベンジルハライド誘導体は、国 際出願ＷＯ ９５／１４００９により公知である。 方法Ｋ 基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐが式（Ｉ）にお けるのと同一の意味を有し、Ｇが基Ｇ７である一般式（Ｉ）の化合物は、やはり 本発明の主題である以下の製法を用いて調製することもできる。 このプロセスは方法Ａに記載したプロセスに従って、基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂ 、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐが式（Ｉ）におけると同一の意味を有する 一般式（ＩＩＩ）Ａの中間体を、Ｇが基Ｇ７であり、Ｘ₄が式（Ｉ）につき与え られたものと同一の定義を有し、Ｖ₁がハロゲン原子、好ましくは塩素または臭 素である一般式（ＩＩ）Ａの化合物と接触させることよりなる。 Ｇが基Ｇ７であり、Ｘ₄が式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有し、Ｖ₁ がハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素で ある一般式（ＩＩ）Ａの化合物は、ハロゲン化剤との反応によって、式（ＸＩＶ ）Ａ：［式中、Ｙ、Ｘ₄、Ｑ２、Ｒ₄およびＲ₈は式（Ｉ）におけるものと同一の意味を 有し、Ｒｃは水素原子または任意に１個以上のハロゲンもしくはアルコキシ基で 置換されていてもよい低級アルキル基、任意に置換されていてもよいベンジルま たは任意に置換されていてもよいアリールである］ の化合物の開裂反応によって得ることができる。 この反応は、不活性溶媒中、−３０℃および５０℃の間の温度で行われる。「 不活性溶媒」という用語は、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンまたは石油エ ーテルのような脂肪族炭化水素；またはトルエンまたはキシレンのような芳香族 化合物；または塩化メチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタンお よびクロロベンゼンのような塩素化化合物；またはジエチルエーテル、ジイソプ ロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチル メチルエーテル、ジオキサン、アニソールまたはテトラヒドロフランのようなエ ーテル；アセトニトリルまたはプロピオニトリルのようなニトリル、またはメタ ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノールおよび ｔｅｒ−ｔ−ブタノールのようなアルコール；またはジメチルスルホキシド、ま たはジメチルホルムアミド、またはこれらの溶媒の混合液を意味する。 使用することができるハロゲン化剤は、例えば、塩化アルミニウムまたは三塩 化ホウ素のようなルイス酸、または塩化水素または臭化水素のようなハロゲン化 水素酸である。ハロゲン化剤は等モル量または過剰であろう。 Ｙ、Ｘ₄、Ｑ２、Ｒ₄およびＲ₈が式（Ｉ）におけると同一の意味を有し、Ｒｃ が水素原子または任意に１個以上のハロゲンまたはアルコキシ基で置換されてい てもよい低級アルキル基、任意に置換されていてもよいベンジルまたは任意に置 換されていてもよいアリールである式（ＸＩＶ）Ａの化合物は、式（ＸＩＶ）Ｂ ： ［式中、Ｙ、Ｘ₄、Ｑ２、Ｒ₄およびＲ₈が式（Ｉ）におけると同一の意味を有し 、Ｒｃが水素原子または任意に１個以上のハロゲンまたはアルコキシ基で置換さ れていてもよい低級アルキル基、任意に置換されていてもよいベンジルまたは任 意に置換されていてもよいアリールである］ の化合物をアルキル化することによって調製することができる。 使用されるであろうアルキル化剤は、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９６９）、 ２３７２およびＢｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．（１９７８）、５１、８ ６６により、銀塩または酸化物のような銀誘導体の存在下における、式（ＸＶ） ： Ｒ₈−Ｖ₁ （ＸＶ） ［式中、Ｒ₈は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロア ルコキシアルキル、ホルミルまたはアシル基であり、Ｖ₁はハロゲン原子（好ま しくは、臭素またはヨウ素）またはアルキルスルホネート（好ましくは、トリフ ルオロメチル スルホネート）またはアリールスルホネート基である］ のアルキルもしくはアシルハライドまたはスルホネートである。反応は−７０℃ および１８０℃、好ましくは−３０℃および８０℃の間の温度にて、二極性非プ ロトン性溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドまたはＮ −メチルピロリドンのようなアミド中で行われる。 Ｙ、Ｘ₄、Ｑ２およびＲ₄が式（Ｉ）におけると同一の意味を有し、Ｒ_cが化合 物（ＸＩＶ）Ａにおけるのと同一の意味を有する式（ＸＩＶ）Ｂの化合物は、Ｊ ．Ｍａｒｃｈ、前掲、９１０頁に従い、メタノール、エタノール、プロパノール 、イソプロパノール、ブタノールまたはｔｅｔ−ブタノールのようなアルコール 中、アルカリ金属またはアルカリ土類金属水素化物、好ましくはホウ水素化ナト リウムのような還元剤を用い、式（ＸＩＶ）Ｃ： ［式中、Ｙ、Ｘ₄、Ｑ２およびＲ₄は式（Ｉ）におけると同一の 意味を有し、Ｒ_cは化合物（ＸＩＶ）Ａにおけるのと同一の意味を有する］ の化合物を還元することによって得ることができる。 Ｙ、Ｘ₄、Ｑ２およびＲ₄が式（Ｉ）におけると同一の意味を有し、Ｒｃが化合 物（ＸＩＶ）Ａにおけるのと同一の意味を有する式（ＸＩＶ）Ｃの化合物は、、 Ｊ．Ｍａｒｃｈ、前掲、３９８頁に従い、式（ＸＩＶ）Ｄ： ［式中、Ｙ、Ｘ₄、Ｑ２およびＲ₄は式（Ｉ）におけると同一の意味を有し、Ｖ₁ はハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素である］ の化合物をホルメート、アセテートまたはプロピオネートのような無機カルボキ シレート、または低級アルキルカルボン酸のようなもう１つの無機塩（ここで該 アルキル基は任意に１個以上のハロゲンまたはアルコキシ基で置換されていても よい）または任意に置換されていてもよいフェニル基、または別法とし て任意に置換されていてもよい安息香酸の塩と接触させることよりなるプロセス によって得ることができる。 反応は、好ましくは、０℃ないし溶媒の沸点の範囲の温度で、アミド、好まし くはホルムアミド、アセトアミド、ジメチルアセトアミドまたはＮ−メチルピロ リジンのような二極性非プロトン性溶媒中で行われる。 化合物（ＸＩＶ）Ｄは、特許ＥＰ ３８４，８１１に記載されているごとく、 自体公知の方法により得ることができる。 方法Ｌ 基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐが式（Ｉ）にお けると同一の意味を有し、Ｇが基Ｇ３であり、Ｒ₆がトリフルオロメチル基であ る一般式（Ｉ）の化合物は、やはり本発明の主題である以下の製法を用いて調製 することもできる。 このプロセスは、方法Ａに記載されたプロセスに従い、基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、 Ｒ₂、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐが式（Ｉ）におけると同一の意味を有す る一般式（ＩＩＩ）Ａの中間体を、Ｇが基Ｇ３であり、Ｒ₆がトリフルオロメチ ル基であり、Ｘ₄、Ｒ₄およびＱ２が式（Ｉ）で与えられたものと同一の 定義を有し、Ｖ₁がハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素である一般式（Ｉ Ｉ）Ａの化合物と接触させることよりなる。 Ｇが基Ｇ３であり、Ｒ₆がトリフルオロメチル基であり、Ｘ₄、Ｒ₄およびＱ２ が式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有し、Ｖ₁がハロゲン原子、好まし くは塩素または臭素である一般式（ＩＩ）Ａの化合物は、方法Ａに記載されたプ ロセスに従い、Ｇが基Ｇ３であり、Ｒ₆がトリフルオロメチル基であり、Ｘ₄、Ｒ₄ およびＱ２が式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する一般式（ＶＩＩ Ｉ）の化合物をハロゲン化することによって得ることができる。 Ｇが基Ｇ３であり、Ｒ₆がトリフルオロメチル基であり、Ｘ₄、Ｒ₄およびＱ２ が式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する一般式（ＶＩＩＩ）の化合物 は、Ｊ．Ｍａｒｃｈ、前掲、１０１１頁またはＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．（１９８６） 、１１９、２２３３に従い、無水水素酸（好ましくは、硫酸）、それらのアルカ リ金属またはアルカリ土類金属塩（好ましくは、硫酸水素カリウム）または五酸 化リン、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ（１９９０）、１、５２ １に従い、ピリジン、アルキルピリジンまたはトリメチルアミン、トリエチルア ミン もしくはジイソプロピルエチルアミンのようなアルキルアミンのような窒素含有 塩基の存在下で、オキシ三塩化リン、アルキルスルホネート（好ましくは、メチ ルスルホネートまたはトリフルオロメチルスルホネート）クロライド、またはア リールスルホネート（好ましくは、４−メチルフェニルスルホネート）クロライ ド、あるいはＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９８４）、４９、１４３０に従い、ジ フェニルホスフインのようなトリアリールホスフィンの存在下、ジアルキルジア ザゾジカルボキシレート（好ましくは、ジエチルジアゾジカルボキシレート）の ような脱水剤を用い、式（ＸＶＩ）： ［式中、Ｘ₄、Ｒ₄およびＱ２は式（Ｉ）におけると同一の意味を有する］ の化合物を脱水することによって得ることができる。 この反応は、溶媒の不存在下または存在下で行われる。該反応は、一般に、− ８０℃および１８０℃の間の温度（好ましくは、０℃および１５０℃の間）また は使用する溶媒の沸点で行 われる。この反応に適した溶媒は、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジ クロロエタンまたは１，１，１−トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素 、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ ンまたはジメトキシエタンのようなエーテル、アセトニトリル、プロピオニトリ ルまたはベンゾニトリルのようなニトリル、ピリジン、アルキルピリジンのよう な窒素含有塩基、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ ロリドン、ジメチルプロリレン尿素またはジメチルスルホキシドのような窒素含 有塩基であり得る。これらの種々の溶媒の混合液も使用することができる。 反応時間は使用する条件に依存し、一般に、０．１および４８時間の間である 。 Ｘ₄、Ｒ₄およびＱ２が式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する一般式 （ＸＶＩ）の化合物は、−７８℃ないし５０℃、好ましくは−７０℃ないし２０ ℃の温度にて、エーテル、好ましくはジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラ ンのような非プロトン性溶媒中、アルカリ金属またはアルカリ土類金属水素化物 、好ましくは水素化ナトリウム又は水素化カリウム、アル カリ金属およびアルカリ土類金属アルコキシド、アルキルリチウム、好ましくは ブチルリチウムのような有機金属誘導体、アルキルマグネシウムハライド、また はリチウムジイソプロピルアミドまたはリチウムヘキサメチルジシラザンアミド のようなアルカリ金属およびアルカリ土類金属アミドのような１当量以上の塩基 の作用によって、式（ＸＶＩＩ）： ［式中、Ｘ₄、Ｒ₄およびＱ２は式（Ｉ）についてと同一の意味を有する］ の化合物のアルドール縮合反応によって得ることができる。 また、本発明は、有効量の少なくとも１の式（Ｉ）の有効物質を含有する殺菌 組成物にも関する。 本発明の殺菌組成物は、式（Ｉ）の有効物質の外に、農業上許容される固体も しくは液体支持体及び／又はやはり農業上許容される界面活性剤を含む。特に、 通常の不活性な支持体およひ通常の界面活性剤を使用することができる。これら の組成物 は、適当なデバイスによって処理すべき植物または種子に適用される準備ができ た組成物のみならず、作物に適用される前に希釈されなければならない商業的濃 厚組成物も含む。 本発明のこれらの殺菌組成物は、例えば、保護コロイド、接着剤、増粘剤、チ キソトロピー剤、浸透剤、安定化剤、金属イオン封鎖剤等のようないずれかの種 類の他の成分も含有することができる。より一般的には、有効物質は慣用の製剤 技術に適合するいずれかの固体または液体添加物と組み合わせることができる。 一般に、本発明の組成物は、通常、０．０５ないし９５（重量）％の有効物質 、１種以上の固体または液体支持体、および任意に１種以上の界面活性剤を含有 する。 本明細書では、「支持体」なる語は、有効成分をそれと組み合わせて、それが 植物の部分に適用されるのを容易とする天然または合成の有機または無機物質を さす。このように、この支持体は、一般に、不活性であり、農業上許容されるも のであるべきである。該支持体は固体（クレイ、天然または合成シリケート、シ リカ、樹脂、ワックス、固体肥料等）または液体（水、アルコール、特にブタノ ール等）であり得る。 界面活性剤はイオン性タイプまたは非イオン性タイプの乳化剤、分散剤または 湿潤剤あるいはこのような界面活性剤の混合物であり得る。例えば、ポリアクリ ル酸塩、リグノスルホン酸塩、フェノールスルホン酸塩またはナフタレンスルホ ン酸塩、エチレンオキシドと脂肪アルコールまたは脂肪酸または脂肪アミンとの ポリ縮合物、置換フェノール（特に、アルキルフェノールまたはアリールフェノ ール）、スルホコハク酸エステル塩、タウリン誘導体（特に、アルキルタウレー ト）、ポリオキシエチル化アルコールまたはフェノールのリン酸エステル、ポリ オールの脂肪酸エステル、並びにスルフェート、スルホネートおよびホスフェー ト官能基を含有する前記化合物の誘導体を挙げることができる。有効物質及び／ 又は不活性支持体が水溶性の場合、および適用のための搬送体が水である場合、 少なくとも１種の界面活性剤の存在が一般に必須である。 このように、本発明の農業で使用される組成物は、０．０５％ないし９５（重 量）％の非常に広い範囲の有効物質を含有することができる。それらの界面活性 剤含有量は、有利には、５重量％および４０重量％の間である。特記する以外は 、本明細書で与えるパーセンテージは重量パーセンテージである。 本発明によるこれらの組成物は、それ自体、かなり多様な固体または液体形態 である。 固体組成物形態としては、散粉用粉末（１００％までであり得る有効物質含有 の）および顆粒、特に、押し出し、圧縮、顆粒化支持体の含浸、または粉末から の顆粒化によって得られたものを挙げることができる（これらの顆粒における有 効物質含有量は後者の場合、０．５および８０％の間である）。 また、本発明の殺菌組成物は、散粉用粉末の形態で使用することもでき；５０ ｇの有効物質および９５０ｇのタルクを含有する組成物も使用することができ； ２０ｇの有効物質、１０ｇの微粉砕シリカおよび９７０ｇのタルクを含有する組 成物も使用することができ；これらの成分は一緒に混合し、粉砕し、混合物を散 粉によって適用する。 液体組成物形態または適用する場合に液体組成物を構成することを意図した形 態としては、溶液、特に水溶性濃厚物、エマルジョン、濃厚懸濁液および湿潤性 粉末（水和剤）（または噴霧用粉末）を挙げることができる。 噴霧によって適用できる濃厚懸濁液は、析出しない安定な流体生成物が得られ るように調製され、それらは通常は１０ない し７５％の有効物質、０．５ないし１５％の界面活性剤、０．１ないし１０％の チキソトロピー剤、０ないし１０％の消泡剤、腐食阻害剤、安定化剤、浸透剤お よび接着剤のような適当な淵加剤、および支持体としての、水または有機液体を 含有し、ここで、有効物質は不溶性またはわずかに可溶性であり：有る種の有機 固体物質または無機塩を支持体に溶解させて、沈積を防止し、水用に凍結防止剤 として助力することができる。 例として、以下の濃厚懸濁液の組成物がある。 実施例ＣＳ１： −有効物質 ５００ｇ −ポリエトキシル化トリスチリルフェノールホスフェート ５０ｇ −ポリエトキシル化アルキルフェノール ５０ｇ −ポリナトリウムカルボキシレート ２０ｇ −エチレングリコール ５０ｇ −ポリオルガノシロキサン油（消泡剤） １ｇ −多糖 １．５ｇ −水 ３１５．５ｇ 湿潤性粉末（または噴霧用粉末）は、通常、それらが２０ないし９５％の有効 物質を含有し、それらが通常は固体支持体に加えて０ないし３０％の湿潤剤、３ ないし２０％の分散剤および、要すれば、０．１ないし１０％の１種以上の安定 化剤及び／又は浸透剤、接着剤、ケーキ形成防止剤、色素等の他の添加剤を含有 するような調製される。 噴霧用粉末または湿潤性粉末を得るには、有効物質を適当なミキサー中でさら なる物質と直ちに混合し、ミル類または他の適当なブレンダーで粉砕する。有利 な湿潤性および懸濁液形成性を有する噴霧用粉末がこのように得られ；それらは 、所望の濃度で水との懸濁液とすることができ、これらの懸濁液は、特に例えば 植物の葉または種子への適用のために非常に有利に使用することができる。 例として、以下に種々の湿潤性粉末（水和剤）組成物（または噴霧用粉末）を 挙げる。 実施例ＷＰ１： −有効物質 ５０％ −エトキシル化脂肪アルコール（湿潤剤） ２．５％ −エトキシル化フェニルエチルフェノール（分散剤） ５％ −白亜（不活性支持体） ４２．５％ 実施例ＷＰ２： −有効物質 １０％ −８ないし１０のエチレンオキシドでエトキシル化した分岐タイプの合成Ｃ１ ３オキソアルコール（湿潤剤） ０．７５％ −中性リグニンスルホン酸カルシウム（分散剤） １２％ −炭酸カルシウム（不活性充填剤） 適量にて１００％まで 実施例ＷＰ３： この湿潤性粉末は、以下の割合の、前記実施例におけると同一の成分を含有す る。 −有効物質 ７５％ −湿潤剤 １．５０％ −分散剤 ８％ −炭酸カルシウム（不活性充填剤） 適量にて１００％まで 実施例ＷＰ４： −有効物質 ９０％ −エトキシル化脂肪アルコール（湿潤剤） ４％ −エトキシル化フェニルエチルフェノール（分散剤） ６％ 実施例ＷＰ５： −有効物質 ５０％ −アニオン性および非イオン性界面活性剤の混合物（湿潤剤） ２．５％ −リグニンスルホン酸ナトリウム（分散剤）５％ −カオリンクレイ（不活性支持体） ４２．５％ 水性分散液およびエマルジョン、例えば、本発明の湿潤性粉末を水で希釈する ことによって得られた組成物は、本発明の一般的範囲内に含まれる。エマルジョ ンは油中水型または水中油型タイプのものとでき、それらは「マヨネーズ」のそ れのような濃厚な粘ちょうを有し得る。 本発明の殺菌組成物は、水分散性顆粒の形態に処方することができ、これも本 発明の範囲に含まれる。 一般に約０．３および約０．６の間の見掛け密度を持つこれ らの分散性顆粒は、一般に約１５０および約２０００の間、好ましくは３００お よび１５００ミクロンの間の粒子サイズを有する。 これらの顆粒の有効物質含有量は、一般に、約１％および約９５％、好ましく は２５％および９０％の間である。 顆粒の残りは、実質的に、固体支持体および任意に顆粒に水分散性特性を与え る界面活性剤補助剤よりなる。これらの顆粒は、選択された支持体が水に可溶性 であるか不溶性であるかに応じて、実質的に２つの異なるタイプであり得る。支 持体が水溶性である場合、それは無機性、又は、好ましくは有機性であり得る。 優れた結果は尿素で得られた。不溶性支持体の場合、それは例えばカオリンまた はベントナイトのような好ましくは無機性である。従って、それには有利には、 界面活性剤（上記顆粒の２ないし２０重量％の割合の）を有し、該界面活性剤の 半分以上が、例えば、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属ポリナフタレンス ルホネートまたはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属リグノスルホネートの ような本質的にアニオン性の少なくとも１種の分散剤よりなり、残りはアルカリ 金属またはアルカリ土類金属アルキルナフタレンスルホネートのような 非イオン性またはアニオン性湿潤剤よりなる。 さらに、これは必須ではないが、消泡剤のような他のアジュバントを添加する ことができる。 本発明の顆粒は、所要の成分を一緒に混合し、続いて自体公知のいくつかの技 術（造粒機、流動床、噴霧器、押出等）により顆粒化することによって調製する ことができる。該プロセスは、一般に、破砕操作、続いての前記した限界内で選 択した粒子サイズへの分級により終了する。前記したごとく得られ、次いで有効 物質を含有する組成物を含浸させた顆粒も使用できる。 好ましくは、それは、後記実施例に示すプロセスを行うことによって押出によ り得られる。 実施例ＤＧ１：分散性顆粒 ９０重量％の有効物質および１０％の尿素ペレットをミキサー中で一緒に混合 する。次いで、混合物を歯付きロール粉砕機で粉砕する。粉末が得られ、これを 約８重量％の水で湿らせる。湿潤粉末を有孔ローラー押出機で押し出す。顆粒が 得られ、これを乾燥し、次いで、粉砕し分級して、各々、サイズが１５０および ２０００ミクロンの間の顆粒のみを保持する。 実施例ＤＧ２：分散性顆粒 以下の成分をミキサー中で一緒に混合する。 −有効物質 ７５％ −湿潤剤（ナトリウムアルキルナフタレンスルホネート） ２％ −分散剤（ポリナトリウムナフタレンスルホネート） ８％ −水不溶性不活性充填剤（カオリン） １５％ 水の存在下、この混合物を流動床で造粒し、次いで乾燥し、粉砕し、分級して サイズが０．１５および０．８０ｍｍの間の顆粒を得る。 これらの顆粒は単独で用いることができ、あるいは水中の溶液または分散液と して用いて所望の用量が得られる。また、それらを用いて他の有効物質、特に抗 真菌剤との組合せを調製することができ、これらは湿潤性粉末、顆粒または水性 懸濁液の形態である。 本発明の化合物は１種以上の殺虫剤、殺真菌剤、殺菌剤、誘引性殺ダニ剤また はフェロモンまたは生物学的活性を持つ他の化合物と混合することもできる。こ のように得られた混合物は 広いスペクトルの活性を有する。他の殺真菌剤との混合物、特にカルベンダジム 、チウラム、ドジン、マネブ、マンコゼブ、ベノミル、シモキサニル、フェンプ ロピジン、フェンプロピモルフ、トリアジメフオン、カプタン、カプタフオル、 フオルペット、フォルペル、チオファネート、チアベンダゾール、フォセチル− Ａｌ、クロロタロニル、ジクロラン、メタラキシル、イプロジオン、オキサジキ シル、ビンクロゾリン、テブコナゾール、ジフェンコナゾール、ジニコナゾール 、メトコナゾール、ペンコナゾール、プロピコナゾール、プロクロラズ、フェナ リモール、トリアジメノール、フララキシル、銅水酸化物もしくは銅オキシ塩化 物のような銅誘導体、およびプロベナゾールとの混合物は特に有利である。 本発明の組成物は、穀物（特に小麦、ライ麦、ライ小麦および大麦）、ジャガ イモ、綿、エンドウ豆、菜種、トウモロコシまたは亜麻の種子、あるいは森林樹 木（特に、樹脂分泌性樹木）の種子を処理するのに有用である。 この点につき、当業者の用語法において、「種子の処理」という用語は、事実 、穀粒に関することに注意すべきであろう。適用技術は当業者によく知られ、そ れらは本発明の意味でいず れの欠点も無くして使用することができる。例えば、フィルムクラッディングま たはコーティングが挙げられる。 本発明のもう１つの主題は、好ましくは本発明による殺真菌組成物の形態の、 有効（耕種学的に有効）で非植物毒性量の式（Ｉ）の有効物質を植物種子または 植物の葉あるいは植物がそこで成長するまたはそこで植物を成長させるのを望む 土壌に適用することを特徴とする、作物の植物病原真菌と治癒的にまたは予防的 に戦う方法である。 「有効で非植物毒性量」という表現は、作物に存在しまたは作物に出現する可 能性がある真菌を防除または破壊するのに十分で、該作物に対して植物毒性のい ずれの認識可能な徴候も含まない本発明による組成物の量を意味する。このよう な量は戦うべき真菌、作物のタイプ、気候条件および本発明の殺真菌組成物に含 まれる化合物に応じて広い範囲内で変化し得る。この量は、当業者の能力内であ る組織的現場試験によって決定することができる。 最後に、本発明は、植物増殖生成物を有効で非植物毒性量の本発明の組成物で コーティングすることを特徴とする、該生成物を予防的にまたは治癒的に保護す る方法、ならびにそれから 得られた植物に関する。 関連する植物増殖生成物の中では、特に種子または穀粒および塊茎を挙げるこ とができる。 種子の場合に本発明の方法を使用するのが好ましい。 前記にて示したごとく、植物増殖生成物、特に種子をコーティングする方法は 当該分野でよく知られており、特に、フィルムクラッディングまたはコーティン グ技術を含む。 本発明の生成物および組成物は植物作物の葉に適用することもできる。 本発明の方法の標的とする植物の内では、以下のものを挙げることができる。 −以下の種子病：フサリア（ｆｕｓａｒｉａ）（Ｍｉｃｒｏ ｄｏｃｈｉｕｍ ｎｉｖａｌｅおよびＦｕｓａｒｉｕｍ，ｒｏｓｅｕｍ）、黒穂病（Ｔｉｌｌｅ ｔｉａ ｃａｒｉｅｓ、Ｔｉｌｌｅｔｉａ ｃｏｎｔｒｏｖｅｒｓａまたはＴｉ ｌｌｅｔｉａ ｉｎｄｉｃａ）およびセプトリア病（ｓｅｐｔｏｒｉａ）（Ｓｅ ｐｔｏｒｉａ ｎｏｄｏｒｕｍ）を防除することに関して、小麦； −植物の地上部分の以下の病気：穀物眼状斑点病（ｃｅｒｅａｌ ｅｙｅｓｐｏｔ）（Ｐｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ ｈｅｒｐｏｔｒ ｉｃｈｏｉｄｅｓ）、麦類立枯病（ｔａｋｅ−ａｌｌ）(Ｇａｅｕｍａｎｎｏｍ ｙｃｅｓ ｇｒａｍｉｎｉｓ)、あし胴枯病（ｆｏｏｔ ｂｌｉｇｈｔ）（Ｆ． ｃｕｌｍｏｒｕｍ、Ｆ．ｇｒａｍｉｎｅａｒｕｍ）、ブラックスペック（ｂｌａ ｃｋ ｓｐｅｃｋ） （Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｃｅｒｅａｌｉｓ）、ウドン コ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓ ｆｏｒｍａ ｓｐｅｃｉｅ ｔｒ ｉｔｉｃｉ）、サビ病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｓｔｒｉｉｆｏｒｍｉｓおよびＰｕ ｃｃｉｎｉａ ｒｅｃｏｎｄｉｔａ）およびセプトリア病（ｓｅｐｔｏｒｉａ） （Ｓｅｐｔｏｒｉａ ｔｒｉｔｉｃｉおよびＳｅｐｔｏｒｉａ ｎｏｄｏｒｕｍ ）を防除することに関して、小麦； −細菌病およびウイルス病、例えば、大麦黄色モザイク病を防除することに関 して、小麦および大麦； −以下の種子病：ネットブロット（ｎｅｔ ｂｌｏｔｃｈ）（Ｐｙｒｅｎｏｐ ｈｏｒａ ｇｒａｍｉｎｅａ、Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ ｔｅｒｅｓおよびＣｏ ｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ ｓａｔｉｖｕｓ）、裸黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ ｎｕ ｄａ）およびフサリア（ｆｕｓａｒｉａ）（Ｍｉｃｒｏｄｏｃｈｉｕｍ ｎｉｖａｌｅおよびＦｕｓａｒｉｕｍ ｒｏｓｅｕｍ）を防除することに関して 、大麦； −植物の地上部分の以下の病気：穀物眼状斑点病（ｃｅｒｅａｌ ｅｙｅｓｐ ｏｔ）（Ｐｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ ｈｅｒｐｏｔｒｉｃｈｏｉ ｄｅｓ）、ネットブロット（ｎｅｔ ｂｌｏｔｃｈ）（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ ｔｅｒｅｓおよびＣｏｃｈｉｌｏｂｏｌｕｓ ｓａｔｉｖｕｓ）、ウドンコ病 (Ｅｒｙｓｉｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓ ｆｏｒｍａｓｐｅｃｉｅ ｈｏｒｄｅ ｉ)、矯小葉サビ病（ｄｗａｒｆ ｌｅａｆ ｒｕｓt）（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｈ ｏｒｄｅｉ）およびリーフブロット（ｌｅａｆ ｂｌｏｔｃｈ）（Ｒｈｙｎｃｈ ｏｓｐｏｒｉｕｍ ｓｅｃａｌｉｓ）を防除することに関して、大麦； −塊茎病（ｔｕｂｅｒ ｄｉｓｅａｓｅ）（特に、Ｈｅｌｍｉｎｔｈｏｓｐｏ ｒｉｕｍ ｓｏｌａｎｉ、Ｐｈｏｍａ ｔｕｂｅｒｏｓａ、Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎ ｉａ ｓｏｌａｎｉ、Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｓｏｌａｎｉ）および有る種のウイル ス（ウイルスＹ）を防除することに関して、ジャガイモ； −種子から成長した幼若植物の以下の病気：苗立枯病およ び地際部腐敗病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ、Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）およびブラックルートロット（ｂｌａｃｋ ｒｏｏｔ ｒ ｏｔ）（Ｔｈｉｅｌａｖｉｏｐｓｉｓ ｂａｓｉｃｏｌａ）を防除することに関 して、綿： −以下の種子病：炭痕病（Ａｓｃｏｃｈｙｔａ ｐｉｓｉ、Ｍｙｃｏｓｐｈａ ｅｒｅｌｌａ ｐｉｎｏｄｅｓ）、フサリア（ｆｕｓａｒｉａ）（Ｆｕｓａｒｉ ｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）および灰色カビ病（ｇｒｅｙ ｍｏｕｌｄ）（Ｂｏ ｔｒｙｔｉｓ ｃｉｎｅｒｅａ）を防除することに関して、エンドウ豆； −以下の種子病：Ｐｈｏｍａ ｌｉｎｇａｍおよびＡｌｔｅｒｎａｒｉａ ｂ ｒａｓｓｉｃａｅを防除することに関して、菜種； −種子病（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ｓｐ．、Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｓｐ．、Ｔ ｒｉｃｈｏｄｅｒｍａ ｓｐ．、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｓｐ．、およびＧｉ ｂｂｅｒｅｌｌａ ｆｕｊｉｋｕｒｏｉ）を防除することに関して、トウモロコ シ； −種子病：Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｌｉｎｉｃｏｌａを防除することに関して 、亜麻； −苗立枯病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ、Ｒｈｉｚｏｃｔｉｎｉ ａ ｓｏｌａｎｉ）を防除することに関して、森林樹木。 小麦および大麦は本発明の方法を実施するのに好ましい植物である。 適用する組成物の用量は、一般に、有利には、種子処理においては、１００ｋ ｇの種子当たり２および２００ｇの間の有効物質、好ましくは１００ｋｇ当たり ３および１５０ｇの間である。 植物体処理の場合には、１０ないし８００ｇ／ｈａ、好ましくは５０ないし３ ００ｇ／ｈａの用量が茎葉処理として一般的に適用される。 以下の実施例は本発明を説明する。 実施例１： （Ｚ）−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メトキシカルボニル−２−［１−（１−（フェニ ル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］アニリンの調製 １．４７ｇのＮ−（１−（フェニル）エチルオキシ）アセトアミドを３０ｍｌ の無水アセトニトリルに溶解させる。２．２ ６ｇの２−ブロモメチル−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メトキシカルボニルアニリンおよ び２．６７ｇの炭酸セシウムを続けて添加し、反応混合物を２時間還流する。冷 却した後、塩を濾別し、アセトニトリルで洗浄して有機溶液が得られ、これを濃 縮し、３．２ｇの赤色油がこのように得られる。この油を水に取り、酢酸エチル で３回再抽出して、乾燥および蒸発後に、２．６３ｇの暗黄色油を得る。シリカ 上のクロマトグラフィーによりそれを単離でき、黄色油の形態の（Ｚ）立体化学 の０．６ｇの予測された化合物が得られる。ｎ_D＝１．５２７０（２３℃）（こ れらの用語は光としてナトリウムＤ−線を用いる２３℃における屈折率をいう） 。 実施例２： （Ｅ）−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メトキシカルボニル−２−［１−（１−（フェニ ル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］アニリンの調製 ０．４ｇの（Ｚ）−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メトキシカルボニル−２−［１−（１ −（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］アニリンを２５ｍｌ の無水トルエンに溶解させる。酢酸を数滴添加した後、反応媒体を２時間還流す る。該媒 体を５０ｍｌの水に注ぎ、沈降か起こった後にトルエン相を分離し、中性となる まで洗浄し、乾燥し、０．４ｇの黄色油を得る。シリカ上のクロマトグラフィー により単離でき、淡黄色油形態の（Ｅ）立体化学の０．３３ｇの予測化合物が得 られ、これは徐々に結晶化する。融点＝７０℃。 実施例３： （Ｚ）−２，４−ジヒドロ−５−メトキシ−２−メチル−４−［２−［１−（ １−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］フェニル］−３Ｈ −１，２，４−トリアゾール−３−オンの調製 ３．５８ｇのＮ−（１−（フェニル）エチルオキシ）アセトアミドを４０ｍｌ の無水アセトニトリルに溶解させる。５．９６ｇの４−［２−（ブロモメチル） フェニル］−２，４−ジヒドロ−５−メトキシ−２−メチル−３Ｈ−１，２，４ −３−オンおよび７．８２ｇの炭酸セシウムを続けて添加し、反応媒体を４時間 還流する。冷却した後、塩を濾別し、アセトニトリルで洗浄し、次いで、有機画 分を濃縮して７．０ｇのオレンジ色油を得る。シリカ上のクロマトグラフィーの 後、黄色油の形態の（Ｚ）立体化学の０．８２ｇの予測化合物が単離される。Ｒ ｆ ＝０．２４（１／３ヘプタン／酢酸エチル）。（これは、シリカの薄層上のクロ マトグラフィープレートでの保持の係数をいう）。 実施例４ （Ｅ）−２，４−ジヒドロ−５−メトキシ−２−メチル−４−［２−［１−（ １−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］フェニル］−３Ｈ −１，２，４−トリアゾール−３−オンの調製 ０．４ｇの（Ｚ）−２，４−ジヒドロ−５−メトキシ−２−メチル−４−［２ −［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］フェニ ル］−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オンを２０ｍｌの無水トルエンに 溶解させる。反応媒体を紫外線照射下で１３時間還流する。該媒体を濃縮して０ ．４ｇの黄色油を得る。シリカ上のクロマトグラフィーにより単離が可能であり 、淡黄色油の形態の（Ｅ）立体化学の０．１８ｇの予測化合物を得る。ｎ_D＝１ ．５３１０（２１℃） 実施例５ （Ｅ）−２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオ キシメチル］フェニル］−２−メトキシ酢酸 メチルの調製 工程１： ２−（２−アセトキシメチルフェニル）−２−オキソ酢酸メチルの調製 ２５ｇの２−（２−ブロモメチルフェニル）−２−オキソ酢酸メチル、９．５ ｇの酢酸カリウムおよび０．５ｇのヨウ化カリウムの混合物を１５０ｍｌのジメ チルホルムアミド中、３時間還流する。冷却し水で希釈した後、反応混合物をエ ーテルで再抽出する。シリカ上のクロマトグラフィーによる精製後に、１１ｇの 予測化合物が得られる。ｎ_D＝１．５２９２（２５℃） 工程２： ２−（２−アセトキシメチルフェニル）−２−ヒドロキシ酢酸メチルの調製 １１ｇの前記化合物を１５０ｍｌのメタノールに負荷する。氷浴で冷却した後 、０．４ｇのホウ水素化ナトリウムを添加し、混合物を０℃で３０分間撹拌する 。次いで、５ｍｌの酢酸を添加し、しかる後、メタノール相を濃縮する。再抽出 、炭酸水素水溶液での洗浄および乾燥後に、１０．５ｇの予測生成物が黄色油の 形態で単離される。ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：２．１０ｓ， ３Ｈ；３．７２，ｓ３Ｈ；５．２８，ＡＢ，１Ｈ；５．４２，ｓ．１Ｈ；７．２ ５−７．４５，ｍ，４Ｈ） 工程３： ２−（２−アセトキシメチルフェニル）−２−メトキシ酢酸メチルの調製 １．５ｇの銀酸化物を、１時間にわたって、２００ｍｌのＮ−メチルピロリド ンに溶解させた１０ｇの前記化合物および１１．３６ｇのヨウ化メチルに添加す る。４０℃で２時間加熱した後、反応混合物を濾過し、水で希釈し、エーテルで 再抽出する。シリカ上のクロマトグラフィーによる精製後、２．５ｇの予測化合 物が黄色油の形態で得られる。 工程４： ２−（２−ブロモメチルフェニル）−２−メトキシ酢酸メチルの調製 ０および５℃の間の温度にて、臭化水素ガスを１０ｍｌのジクロロメタン中の ０．５ｇの前記化合物の溶液に通気する。濃縮およびシリカ上のクロマトグラフ ィーの精製後に、０．２５ｇの黄色液体が得られる。ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：３ ．４２ｓ，３Ｈ；３．７５，ｓ ３Ｈ；４．４５，ｄ，１Ｈ；４．８２， ｄ，１Ｈ；５．２０，ｓ，１Ｈ；７．２５−７．５５，ｍ ４Ｈ 工程５： （Ｅ）−２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオ キシメチル］フェニル］−２−メトキシ酢酸メチルの調製 １５ｍｌのアセトニトリル中の０．１２５ｇのＮ−（１−（フェニル）エチル オキシ）アセトアミド、０．２ｇの２−（２−ブロモメチルフェニル）−２−メ トキシ酢酸メチルおよび０．２３４ｇの炭酸セシウムの混合物を４時間還流する 。シリカ上のクロマトグラフィーの精製後、（Ｅ）立体化学の０．１ｇの予測化 合物が、２つのジアステレオマーの５０／５０混合物の形態で得られる。ｎ_D： １．５３３０（２５℃） 実施例６： （Ｅ，Ｅ）−２−［２−［１−（Ｎ²−ベンジル−Ｎ²−メチルヒドラゾノ）エ チルオキシメチル］フェニル］−３−メトキシアクリル酸メチルの調製 工程１： Ｎ²−ベンジル−Ｎ²−メチルアセトヒドラジドの調製 ５０ｍｌのエーテルに溶解させたＳｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍ．（１９９０）、２０ 、１８５に従って調製した９．４ｇの１−メチル−１−ベンジルヒドラジンおよ び２５ｍｌの水に溶解させた２．７６ｇの水酸化ナトリウムの激しく撹拌した混 合物に、室温にて５．４ｍｌの塩化アセチルを滴下注入する。２時間の反応後、 反応混合物中の相を沈降によって分離し、有機相を常法により仕上げる。シリカ 上のクロマトグラフィーによる精製後、８．３６ｇの予測生成物が黄色油の形態 で得られる。ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：２．５，ｓ，３Ｈ；２．９５，ｂｓ，２Ｈ ；３．６２，ｓ，２Ｈ；７．２５−７．４５，ｍ，５Ｈ 工程２： （Ｅ，Ｅ）−２−［２−［１−（Ｎ²−ベンジル−Ｎ²−メチルヒドラゾノ）エ チルオキシメチル］フェニル］−３−メトキシアクリル酸メチルの調製 ９０ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドに溶解させた３ｇの（Ｅ）−２−（２− ブロモメチルフェニル）−３−メトキシアクリル酸メチルを、２０℃にて、６０ ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミド中の２．０６ｇのＮ²−ベンジル−Ｎ²−メチル アセトヒドロアジドおよび１．３ｇのカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド の混合物に徐々に添加する。５時間の反応後、混合物を３００ｍｌの水に注ぎ、 酢酸エチルで数回再抽出する。シリカ上のクロマトグラフィーによる精製後、７ ０ｍｇの（Ｅ，Ｅ）立体化学の予測化合物がシロップの形態で得られる。ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）：１．８８，ｓ，３Ｈ；２．４２，ｓ，３Ｈ；３．６６，ｓ，３ Ｈ；３．６８，ｓ，２Ｈ；３．７２，ｓ，３Ｈ；４．９３，ｓ，２Ｈ；７．１０ −７．５０，ｍ，９Ｈ；７．４７，ｓ，１Ｈ 実施例７： メチル（Ｅ，Ｚ）−２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ ）エチルオキシメチル］フェニル］−４，４，４−トリフルオロブタ−２−エノ エートの調製 工程１： ３−ヒドロキシ−２−（２−（メチル）フェニル）−４，４，４−トリフルオ ロブタン酸メチルの調製 １００ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解させた２８．７５ｇ（０．１５モ ル）の２−［２−（メチル）フェニル］酢酸メチルを２００ｍｌのリチウムジイ ソプロピルアミド（乾燥テトラヒドロフラン中１Ｍ）に滴下し、−７０℃まで冷 却する。 Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄｕｃ．（１９７５）、５２、１３１に従って調製した乾燥ト リフルオロアセトアネデヒドを反応媒体に１時間通気する。−７０℃で３時間撹 拌した後、媒体を５００ｍｌの水および２００ｍｌのＩＭ塩酸に注ぎ、酢酸エチ ルで再抽出し、乾燥する。溶媒の蒸発により３７ｇの黄色油が得られ、これを減 圧下で蒸留して（沸点＝４ｍｍＨｇにおいて１１５−１２０℃；これらの表現は １ｍｍの水銀で表した圧力における沸点をいう）。シリカ上のクロマトグラフィ ーによる精製後、予測化合物の７０：３０比の２１．６６ｇのシン：アンチ混合 物か得られる。シン立体配置の主要ジアステレオマーは純粋に単離でき、結晶化 できる。⁴ Ｊ_HH＝５Ｈｚ；融点＝５８℃ 工程２： メチル（Ｅ）−２−［２−（メチル）フェニル］−４，４，４−トリフルオロ ブタ−２−エノエートの調製 ４０ｍｌのジエチルエーテルに溶解させた、前記で得られた３−ヒドロキシ− ２−［２−（メチル）フェニル］−４，４，４−トリフルオロブタン酸メチルの シン：アンチ混合物の９．３４ｇに９．３４ｇのトリフェニルホスフィンを添加 する。媒体を ０℃まで冷却し、６．１９ｇのジエチルアゾジカルボキシレートを滴下する。媒 体を２０℃で１５時間撹拌し、次いで、トリフェニルホスフィンオキシドを濾去 する。濾液を球状オーブン中で蒸留して、（Ｅ）立体化学の７ｇの予測化合物を 無色液体形態で得る。ｎ_D：１．４７２２（２０℃） 工程３： メチル（Ｅ）−２−［２−（ブロモメチル）フェニル］−４，４，４−トリフ ルオロブタ−２−エノエートの調製 １００ｍｌの四塩化炭素に溶解させた、７ｇの前記で得られたメチル（Ｅ）− ２−［２−（メチル）フェニル］−４，４，４−トリフルオロブタ−２−エノエ ートに５．３４ｇのＮ−ブロモスクシンイミドおよび０．１ｇの過酸化ベンゾイ ルを添加し、媒体を２時間還流する。冷却後、スクシンイミドを濾別し、有機相 を水で洗浄し、乾燥する。溶媒の蒸発により、約１５％の出発化合物で汚染した （Ｅ）立体化学の８．６３ｇの予測化合物を得る。 工程４： メチル（Ｅ，Ｚ）−２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ ）エチルオキシメチル］フェニル］−４，４， ４−トリフルオロブタ−２−エノエートの調製 ０．８ｇのＮ−（１−（フェニル）エチルオキシ）アセチアミドを２０ｍｌの 無水アセトニトリルに溶解させる。１．４５ｇの前記で得られたメチル（Ｅ）− ２−［２−（ブロモメチル）フェニル］−４，４，４−トリフルオロブタ−２− エノエートおよび１．７６ｇの炭酸セシウムを続けて添加し、反応媒体を２時間 還流する。冷却後、媒体を１００ｍｌの水に注ぎ、酢酸エチルで再抽出し、乾燥 し、次いで濃縮して１．７ｇの黄色油を得る。シリカ上のクロマトグラフィーに より単離可能で、（Ｅ，Ｚ）立体化学の０．４ｇの予測化合物を黄色油として得 る。ｎ_D＝１．５２５１（２０℃） 実施例８： メチル（Ｅ，Ｅ）−２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ ）エチルオキシメチル］フェニル］−４，４，４−トリフルオロブタ−２−エノ エートの調製 実施例２に記載したプロセスと同様にして、１３０ｍｇのメチル（Ｅ，Ｚ）− ２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキジメチル ］フェニル］−４，４，４−トリフルオロブタ−２−エノエートを酢酸の存在下 で還流ト ルエン中で異性化する。シリカ上のクロマトグラフィーにより単離可能で、（Ｅ ，Ｅ）立体化学の７０ｍｇの予測化合物を黄色油として得る。 ｎ_D＝１．５１０７（２６℃） 実施例９： （Ｅ，Ｅ）−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチル−２−［２−［１−（１−（Ｎ −メチルカルバモイル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシ メチル］フェニル］アセトアミドの調製 工程１： ２−ブロモ−２−フェニルプロピオン酸メチルの調製 １０．７ｇのＮ−ブロモスクシンイミドおよび０．１ｇの過酸化ベンゾイルを １２０ｍｌの四塩化炭素に溶解させた９．５８ｇの２−フェニルプロピオン酸メ チルに添加し、媒体を４時間還流する。冷却後、スクシンイミドを濾別し、有機 相を０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム、水で洗浄し、乾燥する。溶媒の蒸発により、 １３．５ｇのオレンジ色油が得られ、これを球状オーブン中で蒸留して（沸点＝ ５ｍｍＨｇで１７５℃）１２．５ｇの予測化合物を無色液体の形態で得る。 Ｎ_D＝１．５４７８（１９℃） 工程２： Ｎ−［１−（メトキシカルホニル）−１−（フェニル）エチルオキシ］アセト アミドの調製 ４０℃に加熱した６０ｍｌの無水メタノール中の１２．１６ｇの前記で得られ た２−ブロモ−２−フェニルプロピオン酸メチルおよび３．７５ｇのアセトヒド ロキサム酸の溶液に２．４３ｇのナトリウムメトキシドを何回かで添加する。媒 体を４０℃で８時間加熱する。メタノールの蒸発後、残渣を５０ｍｌの水に取り 、酢酸エチルで再抽出し、乾燥する。溶媒の蒸発後、１２ｇの無色油が得られ、 これは徐々に結晶化する。固体をペンタン／クロロホルムの４／１混合液１００ ｍｌから再結晶して白色固体の形態の８．７ｇの予測化合物を得る。融点＝９４ ℃工程３：（Ｅ，Ｚ）−２−メトキシイミノ−２−［２−［１−（１−（メトキ シカルボニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］ フェニル］酢酸メチルの調製 前記で得られた５．７ｇのＮ−［１−（メトキシカルボニル）−１−（フェニ ル）エチルオキシ］アセトアミドを５０ｍｌの 無水アセトニトリルに溶解させる。６．８７ｇの（Ｅ）−２−メトキシイミノ− ２−［２−（ブロモメチル）フェニル］酢酸メチルおよび９．３８ｇの炭酸セシ ウムを続けて添加し、反応媒体を４時間還流した。冷却後、セシウム塩を濾過し て、濾液を濃縮して１２ｇの茶色油を得る。シリカ上のクロマトグラフィーによ り単離可能で、（Ｅ，Ｚ）立体化学の４．５ｇの予測化合物が白色固体の形態で 得られる。融点＝１０８℃ 工程４： （Ｅ，Ｅ）−２−メトキシイミノ−２−［２−［１−（１−（メトキシカルホ ニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］フェニル ］酢酸メチルの調製 実施例２に記載したプロセスと同様にして、３．５ｇの（Ｅ，Ｚ）−２−メト キシイミノ−２−［２−［１−（１−メトキシカルホニル）−１−（フェニル） エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］フェニル］酢酸メチルを酢酸の存在 下で還流トルエン中で異性化する。ジイソプロピルエーテル中の粗製固体の再結 晶により単離可能で、（Ｅ，Ｅ）立体化学の３．２ｇの予測化合物が白色固体の 形態で得られる。融点＝１１７℃ 工程５： （Ｅ，Ｅ）−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチル−２−［２−［１−（１−（メ トキシカルホニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチ ル］フェニル］アセトアミドの調製 水中の４０重量％のメチルアミン１４ｍｌを、７０ｍｌのメタノールに溶解さ せた３．２ｇの前記で得られた（Ｅ，Ｅ）−２−メトキシイミノ−２−［２−［ １−（１−（メトキシカルボニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エ チルオキシメチル］フェニル］酢酸メチルに添加し、混合物を２０℃で４時間激 しく撹拌する。メタノールを蒸発除去し、５０ｍｌの酢酸エチルに取った残渣を 水で洗浄し、乾燥する。溶媒の蒸発により（Ｅ，Ｅ）立体化学の３．３３ｇの予 測化合物を無色油の形態で得る。ｎ_D＝１．５３９０（１９℃） 工程６： （Ｅ，Ｅ）−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチル−２−［２−［１−（１−（Ｎ −メチルカルバモイル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシ メチル］フェニル］アセトアミドの調製 ２０ｍｌの無水Ｎ−メチルピロリドンに溶解させた前記で得られた０．８８ｇ の（Ｅ，Ｅ）−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチル−２−［２−［１−（１−（メ トキシカルホニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチ ル］フェニル］アセトアミドに０．１６ｇの６０％水素化ナトリウムを添加する 。媒体を０℃まで冷却し、ガス状メチルアミンを３０分間通気することによって 導入する。反応媒体を０℃で３時間撹拌し、次いで１００ｍｌの水に注ぐ。１Ｎ 塩酸の添加によってｐＨを６とし、水性相を酢酸エチルで再抽出し、水で洗浄し 、乾燥する。溶媒を蒸発させて、１．０ｇの無色油を得る。シリカ上のクロマト グラフィーによる精製後、（Ｅ，Ｅ）立体化学の０．１５ｇの予測化合物が無色 油の形態で得られ、これは徐々に結晶化する。融点＝１５２℃ 実施例１０： メチル（Ｅ，Ｚ）−２−［２−［１−（１−（メチキシカルボニル）−１−（ フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］フェニル］−４，４，４ −トリフルオロブタ−２−ェノエートの調製 実施例９の工程２に従って得られた１．５４ｇのＮ−［１− （メトキシカルボニル）−１−（フェニル）エチルオキシ］アセトアミドを２０ ｍｌの無水アセトニトリルに溶解させる。実施例７の工程３に従って得られた２ ．１ｇのメチル（Ｅ）−２−［２−（ブロモメチル）フェニル］−４，４，４− トリフルオロブタ−２−エノエートおよび２．３３ｇの炭酸セシウムを続けて添 加し、反応媒体を５０℃で７時間維持する。冷却後、セシウム塩を濾別し、媒体 を濃縮して３．２ｇの黄色油を得る。シリカ上のクロマトグラフィーにより単離 可能で、（Ｅ，Ｚ）立体化学の１．５ｇの予測化合物を黄色油の形態で得る。Ｒ ｆ＝０．１９（３／１ヘプタン／酢酸エチル） 実施例１１： メチル（Ｅ，Ｅ）−２−［２−［１−（１−（メトキシカルボニル）−１−（ フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］フェニル］−４，４，４ −トリフルオロブタ−２−エノエートの調製 実施例２のプロセスと同様にして、１．１５ｇのメチル（Ｅ，Ｚ）−２−［２ −［１−（１−（メトキシカルボニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ ）エチルオキシメチル］フェニル］−４，４，４−トリフルオロブタ−２−エノ エートを酢 酸の存在下で還流トルエン中で異性化する。ジイソプロピルエーテル中の粗製固 体の再結晶により（Ｅ，Ｅ）立体化学の０．８５ｇの予測化合物を白色固体の形 態で得る。融点＝８２℃ 実施例１２： （Ｚ）−２，４−ジヒドロ−５−メトキシ−２−メチル−４−［２−［１−（ １−（メトキシカルホニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオ キシメチル］フェニル］−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オンの調製 実施例９の工程２に従って得られた１．９ｇのＮ−［１−（メトキシカルホニ ル）−１−（フェニル）エチルオキシ］アセトアミドを２０ｍｌの無水アセトニ トリルに溶解させる。２．３９ｇの４−［２−（ブロモメチル）フェニル］−２ ，４−ジヒドロ−５−メトキシ−２−メチル−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール −３−オンおよび３．１３ｇの炭酸セシウムを続けて添加し、反応媒体を２時間 還流する。冷却した後、塩を濾別し、アセトニトリルで洗浄し、次いで、有機画 分を濃縮して４．４ｇの黄色油を得る。シリカ上のクロマトグラフィーにより、 （Ｚ）立体化学の２．２１ｇの予測化合物が黄色油の形態で単離され、これは徐 々に結晶化する。融点＝１１０℃ 実施例１３： （Ｅ）−２，４−ジヒドロ−５−メトキシ−２−メチル−４−［２−［１−（ １−（メトキシカルホニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオ キシメチル）フェニル］−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−オンの調製 ２．０７ｇの（Ｚ）−２，４−ジヒドロ−５−メトキシ−２−メチル−４−［ ２−［１−（１−（メトキシカルボニル）−１−（フェニル）エチルオキシイミ ノ）エチルオキシメチル］フェニル］−３Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３− オンを１０ｍｌの無水トルエンに溶解させる。０．５ｍｌの酢酸を添加し、反応 媒体を紫外線照射下で５２時間還流する。媒体を２０ｍｌのトルエンで希釈し、 水で洗浄し、乾燥し、濃縮して２ｇの黄色油を得る。シリカ上のクロマトグラフ ィーにより単離可能で、（Ｅ）立体化学の０．１７ｇの予測化合物が淡黄色油の 形態で得られ、これは徐々に結晶化する。融点＝１１０℃ 実施例１４： （Ｅ）−Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メトキシメチル−２−［１−（１−（ フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］アニリンの調製 工程１： （Ｅ）−Ｎ−メトキシカルボニル−２−［１−（１−（フェニル）エチルオキ シイミノ）エチルオキシメチル］アニリンの調製 ６．５ｇのＮ−（１−（フェニル）エチルオキシ）アセトアミドを１５０ｍｌ の無水アセトニトリルに溶解させる。８．８ｇのＮ−（２−（ブロモメチル）フ ェニル）カルバメートおよび１４．１ｇの炭酸セシウムを続けて添加し、反応媒 体を２時間還流する。冷却後、塩を濾別し、アセトニトリルで洗浄し、濾液を濃 縮して１０ｇのオレンジ色油を得る。シリカ上のクロマトグラフィーにより単離 可能で、（Ｅ）立体化学の１．０ｇの予測化合物が黄色油の形態で得られる。ｎ_D ＝１．５５７１（２２℃） 工程２： （Ｅ）−Ｎ−メトキシカルホニル−Ｎ−メトキシメチル−２−［１−（１−（ フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］アニリンの調製 ２０ｍｌの無水テトラヒドロフランに溶解させた前記で得られた１．０ｇの（ Ｅ）−Ｎ−メトキシカルホニル−２−［１− （１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］アニリンに０． ３３ｇのカリウムｔｅｒ−ｔ−ブトキシドを添加する。２０℃で１５分間撹拌し た後、０．３２ｍｌのブロモメチルメチルエーテルを添加し、混合物を２０℃で ３０分間撹拌する。反応媒体を１００ｍｌのブラインに注ぎ、酢酸エチルで再抽 出し、水で洗浄し、乾燥する。溶媒を蒸発させて１．２ｇの黄色油を得る。シリ カ上のクロマトグラフィーにより単離可能で、（Ｅ）立体化学の１．０ｇの予測 化合物を黄色油の形態で得る。ｎ_D＝１．５４０２（１２℃） 実施例１５： （Ｅ，Ｅ）−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチル−２−［２−［１−（１−（カ ルボキシル）−１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］フ ェニル］アセトアミドの調製 ２０ｍｌの無水Ｎ−メチルピロリドンに溶解させた、実施例９の工程５に記載 したごとくに得られた０．８８ｇの（Ｅ，Ｅ）−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチ ル−２−［２−［１−（１−（メトキシカルボニル）−１−（フェニル）エチル オキシイミノ）エチルオキシメチル］フェニル］アセトアミドに０．２７ ｇのナトリウムアミドを添加する。反応媒体を５５℃で３時間加熱し、次いで、 １００ｍｌの水に注ぐ。１Ｎ塩酸の添加によってｐＨを７とし、水性相を酢酸エ チルで再抽出し、水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶媒の蒸発によ り０．６ｇの黄色油が得られる。最小量のジイソプロピルエーテルでのトリチュ レーションにより０．３１ｇの予測化合物を白色固体の形態で得る。融点＝１４ ４℃ 実施例１６： メチル（Ｅ，Ｅ）−２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ ）エチルオキシメチル］フェニル］−ブタ−２−エノエートの調製 工程１： メチル（Ｅ，Ｚ）−２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ ）エチルオキシメチル］フェニル］ブタ−２−エノエートの調製 １．１ｇのＮ−（１−（フェニル）エチルオキシ）アセトアミドを５０ｍｌの 無水アセトニトリルに溶解させる。ＵＳ５，４１６，０６８に従って調製した１ ．６ｇのメチル（Ｅ）−２−［２−（ブロモメチル）フェニル］ブタ−２−エニ エー トおよび２．１１ｇの炭酸セシウムを続けて添加し、反応媒体を４時間還流する 。冷却後、媒体をセライトを通して濾過し、セライトをアセトニトリルで洗浄す る。濃縮後、残存する油のシリカ上のクロマトグラフィーにより（Ｅ，Ｚ）立体 化学の１．０ｇの予測化合物が黄色油の形態で得られる。Ｒｆ＝０，６７（１／ １ヘプタン／酢酸エチル） 工程２： メチル（Ｅ，Ｅ）−２−［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ ）エチルオキシメチル］フェニル］ブタ−２−エノエートの調製 実施例２に記載したプロセスと同様にして、１．０ｇのメチル（Ｅ，Ｚ）−２ −［２−［１−（１−（フェニル）エチルオキシイミノ）エチルオキシメチル］ フェニル］ブタ−２−エノエートを酢酸の存在下で還流トルエン中で異性化する 。溶媒の蒸発により（Ｅ，Ｅ）立体化学の１．０ｇの予測化合物が淡黄色シロッ プの形態で得られる。 ｎ_D＝１．５４６０（２４℃） 実施例Ｂ１：Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ ｖｉｔｉｃｏｌａ（ブドウベト病）（ｖ ｉｎｅ ｍｉｌｄｅｗ）についてのイン・ビボ試験 以下の組成を有する、試験すべき有効物質の水性懸濁液を微粉砕することによ って調製する： −有効物質：６０ｍｇ −水中に１０％まで希釈した界面活性剤Ｔｗｅｅｎ８０（ソルビタンオレエー トのポリオキシエチレン化誘導体）：０．３ｍｌ −アセトン：５ｍｌ −水で６０ｍｌとする。 次いで、この水性懸濁液を水で希釈して、所望のｐｐｍ（１００万当たりの部 ）濃度を得る。 ブドウ植物（Ｖｉｔｉｓ ｖｉｎｉｆｅｒａ)切穂（Ｃｈａｒｄｏｎｎａｙ品 種）を植物鉢で栽培する。これらの植物が２カ月齢となったとき（８−ないし１ ０−葉段階、１０ないし１５ｃｍの高さ）、前記水性懸濁液を噴霧することによ ってそれらを処理する。 対照として使用した植物を有効物質を含有しない水性溶液で処理する。 ２４時間乾燥した後、４−５日齢培養から得られたＰｌａｓｍｏｐａｒａ ｖ ｉｔｉｃｏｌａの胞子をｃｍ³当たり１００，０００ ユニットの率で懸濁して得た水性懸濁液を噴霧することによって各植物を汚染さ せる。 次いで、汚染した植物を、飽和湿度の雰囲気中、約１８℃で２日間インキュベ ートし、次いで、９０−１００％の相対湿度下にて約２０−２２℃で５日間イン キュベートする。 対照植物との比較によって、汚染７日後に読み取りを行う。 これらの条件下、以下の化合物：１、４、５および９にて、５ｐｐｍの用量で 、良好な（少なくとも７５％）または全体的保護が観察される。 実施例Ｂ２：Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｒｅｃｏｎｄｉｔａ（小麦サビ病）に対する イン・ビボ試験 以下の組成を有する、処理すべき有効物質の水性懸濁液を微粉砕によって調製 する。 −有効物質：６０ｍｇ −水中で１０％まで希釈した界面活性剤Ｔｗｅｅｎ８０（ソルビタンモノオレ エートのポリオキシエチレン化誘導体）：０．３ｍｌ −アセトン：５ｍｌ −水で６０ｍｌとする。 次いで、この水性懸濁液を水で希釈して所望のｐｐｍ（１００万当たりの部） 濃度を得る。 ５０／５０ポゾラン土ピート基材上に播種し、１２℃に維持した、植物鉢中の 小麦（Ｓｃｉｐｉｏｎ品種）を、前記水性懸濁液を噴霧することによって、１− 葉段階（１０ｃｍの高さ）で処理する。 対照として用いた植物を、有効物質を含有しない水性溶液で処理する。 ２４時間後Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｒｅｃｏｎｄｉｔａの胞子（ｃｍ³当たり１５ ０，０００胞子）の水性懸濁液を噴霧することによって各植物を汚染させる。こ の懸濁液は汚染した植物から得られる。 次いで、汚染した小麦植物を、飽和湿度の雰囲気中で約２０℃にて２４時間イ ンキュベートし、次いで、６０％相対湿度で７ないし１４日間インキュベートす る。 対照植物との比較によって、汚染後８日および１５日の間に読み取りを行う。 これらの条件下、以下の化台物：１、２、３、４、５、６、９、１４、１５お よび１６にて、４０ｐｐｍの用量で、良好な （少なくとも７５％）または全体的保護が観察される。 実施例Ｂ３： Ｓｅｐｔｏｒｉａ ｔｒｉｔｉｃｉ（小麦におけるｓｅｐｔｏｒｉａ病）に対 するイン・ビボ試験 以下の組成を有する、試験すべき有効物質の水性懸濁液を微粉砕によって調製 する。 −有効物質：６０ｍｇ −水中で１０％に希釈した界面活性剤Ｔｗｅｅｎ８０（ソルビタンオレエート のポリオキシエチレン化誘導体）：０．３ｍｌ −アセトン：５ｍｌ −水で６０ｍｌとする。 次いで、この水性懸濁液を水で希釈して所望のｐｐｍ（１００万当たりの部） 濃度を得る。 ５０／５０ポゾラン土ピート基材上に播種し、１２℃に維持した、植物鉢中の 小麦（Ｓｃｉｐｉｏｎ品種）を、前記水性懸濁液を噴霧することによって、１− 葉段階（１０ｃｍの高さ）で処理する。 対照として用いた植物を有効物質を含有しない水性溶液で処理する。 ２４時間後、Ｓｅｐｔｏｒｉａ Ｔｒｉｔｉｃｉの胞子（ｃｍ³当たり５００ ，０００胞子）の水性懸濁液を噴霧することによって各植物を汚染させる。胞子 は７日齢培養から収穫する。 汚染した小麦植物を、飽和湿度の雰囲気中で約２０℃にて７２時間インキュベ ートし、次いで、９０％相対湿度で１２日間インキュベートする。 対照植物との比較によって、汚染後２１日後に読み取りを行う。 これらの条件下、以下の化合物：１、２、３、４、５、６、９、１４および１ ６にて、４０ｐｐｍの用量で、良好な（少なくとも７５％）または全体的保護が 観察される。 実施例Ｂ４：Ｓｅｐｔｏｒｉａ ｎｏｄｏｒｕｍ（小麦におけるｓｅｐｔｏｒ ｉａ病）に対するイン・ビボ試験 以下の組成を有する、試験すべき有効物質の水性懸濁液を微粉砕によって調製 する。 −有効物質：６０ｍｇ −水中で１０％に希釈した界面活性剤Ｔｗｅｅｎ８０（ソルビタンオレエート のポリオキシエチレン化誘導体）：０．３ｍｌ −アセトン：５ｍｌ −水で６０ｍｌとする。 次いで、この水性懸濁液を水で希釈して所望のｐｐｍ（１００万当たりの部） 濃度を得る。 ５０／５０ポゾラン土ピート基材上に播種し、１２℃に維持した、植物鉢中の 小麦（Ｓｃｉｐｉｏｎ品種）を、前記水性懸濁液を噴霧することによって、１− 葉段階（１０ｃｍの高さ）で処理する。 対照として用いた植物を、有効物質を含有しない水性溶液で処理する。 ２４時間後、Ｓｅｐｔｏｒｉａ ｎｏｄｏｒｕｍの胞子（ｃｍ³当たり５００ ，０００胞子）の水性懸濁液を噴霧することによって各植物を汚染させる。胞子 は７日齢培養から収穫する。 汚染した小麦植物を、飽和湿度の雰囲気中で約２０℃にて７２時間インキュベ ートし、次いで、９０％相対湿度で１４日間インキュベートする。 対照植物との比較によって、汚染後１５日後に読み取りを行う。 これらの条件下、以下の化合物：１、２、３、４、５、６、９、１４および１ ６にて、４０ｐｐｍの用量で、良好な（少な くとも７５％）または全体的保護が観察される。 実施例Ｂ５：Ｅｒｉｓｙｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓ ｆｓｐｔｒｉｔｉｃｉ（ 小麦におけるウドンコ病）に対するイン・ビボ試験 以下の組成を有する、試験すべき有効物質の水性懸濁液を微粉砕によって調製 する。 −有効物質：６０ｍｇ −水中で１０％に希釈した界面活性剤Ｔｗｅｅｎ８０（ソルビタンオレエート のポリオキシエチレン化誘導体）：０．３ｍｌ −アセトン：５ｍｌ −水で６０ｍｌとする。 次いで、この水性懸濁液を水で希釈して所望のｐｐｍ（１００万当たりの部） 濃度を得る。 ５０／５０ポゾラン土ピート基材上に播種し、１２℃に維持した、植物鉢中の 小麦（Ａｕｄａｃｅ品種）を、前記水性懸濁液を噴霧することによって、１−葉 段階（１０ｃｍの高さ）で処理する。 対照として用いた植物を、有効物質を含有しない水性溶液で処理する。 ２４時間後、Ｅｒｉｓｙｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓの胞子を小麦植物に散布し 、散布は病気植物を用いて行う。 対照との比較によって、汚染１４日後に読み取りを行う。 これらの条件下、以下の化合物：１、２、３、４、５、９、１４および１６に て、４０ｐｐｍの用量で、良好な（少なくとも７５％）または全体的保護が観察 される。 実施例Ｂ６：Ｅｒｉｓｙｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓ ｆｓｐｈｏｒｄｅｉ（大 麦におけるウドンコ病）に対するイン・ビボ試験 以下の組成を有する、試験すべき有効物質の水性恕濁液を微粉砕によって調製 する。 −有効物質：６０ｍｇ −水中で１０％に希釈した界面活性剤Ｔｗｅｅｎ８０（ソルビタンオレエート のポリオキシエチレン化誘導体）：０．３ｍｌ −アセトン：５ｍｌ −水で６０ｍｌとする。 次いで、この水性懸濁液を水で希釈して所望のｐｐｍ（１００万当たりの部） 濃度を得る。 ５０／５０ポゾラン土ピート基材上に播種し、１２℃に維持 した、植物鉢中の大麦（Ｅｘｐｒｅｓｓ品種）を、前記水性懸濁液を噴霧するこ とによって、１−葉段階（１０ｃｍの高さ）で処理する。 対照として用いた植物を、有効物質を含有しない水性溶液で処理する。 ２４時間後、Ｅｒｉｓｙｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓの胞子を大麦植物に散布し 、散布は病気の植物を用いて行う。 対照植物との比較によって、汚染後１４日後に読み取りを行う。 これらの条件下、以下の化合物：１、２、４、５、１４および１６にて、４０ ｐｐｍの用量で、良好な（少なくとも７５％）または全体的保護が観察される。 実施例Ｂ７：Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ ｔｅｒｅｓ（大麦におけるネットブロ ット（ｎｅｔ ｂｌｏｔｃｈ）に対するイン・ビボ試験 以下の組成を有する、試験すべき有効物質の水性懸濁液を微粉砕によって調製 する。 −有効物質：６０ｍｇ −水中で１０％に希釈した界面活性剤Ｔｗｅｅｎ８０（ソル ビタンオレエートのポリオキシエチレン化誘導体）：０．３ｍｌ −アセトン：５ｍｌ −水で６０ｍｌとする。 次いで、この水性懸濁液を水で希釈して所望のｐｐｍ（１００万当たりの部） 濃度を得る。 ５０／５０ポゾラン土ピート基材上に播種し、１２℃に維持した、植物鉢中の 大麦（Ｅｘｐｒｅｓｓ品種）を、前記水性懸濁液を噴霧することによって、１− 葉段階（１０ｃｍの高さ）で処理する。 対照として用いた植物を、有効物質を含有しない水性溶液で処理する。 ２４時間後、Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ ｔｅｒｅｓの胞子（ｃｍ³当たり１２ ，０００胞子）の水性懸濁液を噴霧することによって各植物を汚染させる。 次いで、汚染した大麦植物を、飽和湿度の雰囲気で約２０℃にて２４時間イン キュベートし、次いで、８０％相対湿度で７ないし１４日間インキュベートする 。 対照植物との比較によって、汚染後８日および１５日の間に読み取りを行う。 これらの条件下、以下の化合物：１、２、４、５、６、７、９、１０、１１、 １４、１５および１６にて、４０ｐｐｍの用量で、良好な（少なくとも７５％） または全体的保護が観察される。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成１０年３月４日（１９９８．３．４） 【補正内容】 Ｒ₇は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキ シアルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₈は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキ シアルキル、アルケニル、アルキニル、ホルミルまたはアシル基、 Ｒ₉は水素原子、低級アルキルもしくは低級ハロアルキル基または低級シクロ アルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアル キル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₁₀はハロゲン原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロア ルキルまたは低級ハロシクロアルキル基またはアルコキシ、ハロアルコキシ、ア ルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィ ニル、アルキルスルホニルまたはハロアルキルスルホニル基、 Ｒ_llおよびＲ₁₂は、相互に独立して、水素原子、低級アルキルまたは低級ハロ アルキル基または低級シクロアルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシア ルキル、ハロアルコキシアルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₁₃は水素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、 低級シクロアルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアル コキシアルキル、アルキルチオアルキルまたはハロアルキルチオアルキル基、任 意に置換されていてもよいアリル基、任意に置換されていてもよいプロパルギル 基または任意に置換されていてもよいベンジル基；または アシル、Ｎ−アルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル、低級 アルコキシカルボニル、アルキルチオカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、 アルコキシチオカルボニル、ハロアルコキシチオカルボニルまたはアルキルチオ チオカルボニル基；または 任意に置換されていてもよいアルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニルま たはアリールスルホニル基、 但し、 Ｗ１がイオウ原子でＷ２が窒素原子である場合、Ｒ₃はアルキルチオであるこ とができず、 Ｗ２およびＱ２が酸素原子であり、Ｇが基Ｇ１を表す場合、Ｒ₅はアルキル基 以外であり、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基以外 であり、Ｒ₃は水素 反応は、一般に、−８０℃〜１８０℃（好ましくは、０℃〜１５０℃）の温度に て、あるいは使用する溶媒の沸点にて行われる。この反応に適した溶媒は、ペン タン、ヘキサン、ヘプタンまたはオクタンのような脂肪族炭化水素；ベンゼン、 トルエン、キシレンまたはハロベンゼンのような芳香族炭化水素；ジエチルエー テル、ジイソプロピルエーチル、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはジメト キシエタンのようなエーテル；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロ ロエタンまたは１，１，１−トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素；酢 酸メチルまたは酢酸エチルのようなエステル、アセトニトリル、プロピオニトリ ルまたはベンゾニトリルのようなニトリル；ジメチルホルムアミド、ジメチルア セトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメトキシプロピレン尿素またはジメチル スルホキシドのような双極性非プロトン性溶媒；または水であり得る。これらの 種々の溶媒の混合物も使用することができる。 反応時間は使用する条件に依存し、一般に、０．１〜４８時間である。 この反応に適した有機または無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム、水酸化セシウムまたは水酸化カルシ ウムのようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物；カリウムｔｅｒ ｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属のアルコキシド、 水素化ナトリウム、水素化カリウムまたは水素化セシウムのようなアルカリ金属 またはアルカリ土類金属の水素化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸 カルシウムまたは炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムまたは炭酸水素カルシ ウムのようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩または炭酸水素塩； ピリジン、アルキルピリジンのような好ましくは窒素含有の有機塩基、トリメチ ルアミン、トリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンのようなアルキ ルアミン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エンまたは１，８ −ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンのようなアザ誘導体が挙げ られる。 式（ＩＩ）Ａおよび式（ＩＩＩ）Ａの化合物の相対的割合に関しては厳格な限 定はない。しかしながら、０．１〜１０、好ましくは０．５〜２の（ＩＩＩ）Ａ ／（ＩＩ）Ａモル比を選択するのが有利である。 式（ＩＩＩ）Ａの化合物は新規であり、本発明の一部をなす。 使用する条件に応じて、一般式（Ｉ）の化合物は、ヒドロキ シムまたはヒドラゾン基の立体配置に応じて、（Ｅ）および（Ｚ）異性体の種々 の混合物の形態で、あるいは単一の異性体（Ｅ）もしくは単一の異性体（Ｚ）の 形態で得られる。要すれば、一般式（Ｉ）の化合物および（Ｅ）または（Ｚ）立 体配置の化合物は、ヒドロキシムまたはヒドラゾン基の立体配置に応じて、例え ば、抽出、結晶化またクロマトグラフィーのような自体公知の方法に従って単離 し精製することができる。請求の範囲 １． 一般式（Ｉ）： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９から選択され： ｎは０または１、 Ｑ１は窒素原子またはＣＨ基、 Ｑ２は酸素もしくは硫黄原子、 Ｑ３は酸素もしくは硫黄原子、 Ｑ４は窒素原子または基ＣＲ₁₁、 Ｑ５は酸素もしくは硫黄原子または基ＮＲ₁₂、 Ｙは酸素もしくは硫黄原子またはアミノ（ＮＨ）もしくはオキシアミノ（ＯＮ Ｈ）基、 Ｗ１は酸素もしくは硫黄原子またはスルフィニル（ＳＯ）もしくはスルホニル （ＳＯ₂）基、 Ｗ２は酸素原子または基ＮＲ₁₃、 Ｗ２が酸素原子である場合、ｐは１、 Ｗ２が基ＮＲ₁₃である場合、ｐは０または１、 Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃は、相互に独立して、水素原子、ハロゲン原子；または ヒドロキシル、メルカプト、ニトロ、チオシアナト、アジド、シアノまたはペ ンタフルオロスルホニル基；低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシ、ハ ロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルコキシアルキル、ハロア ルコキシアル キル、アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキル、シアノアルキル、シ アノアルコキシ、シアノアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルス ルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニルまたはアルコキシス ルホニル基；または 低級シクロアルキル、低級ハロシクロアルキル、アルケニル、アルキニル、ア ルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオまたはアルキニルチオ基； または アミノ、Ｎ−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、アシルアミノ、ア ミノアルキル、Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキ ルまたはアシルアミノアルキル基；または カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキ ルカルバモイルまたは低級アルコキシカルホニル基；または アシル基； Ｘ４は水素原子、ハロケン原子；または 低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシまたはハロアルコキシ基；また は シアノまたはニトロ基、 Ｒ₁およびＲ₂は、相互に独立して、水素原子、低級アルキルまたは低級ハロア ルキル基、低級シクロアルキルまたは低級ハロシクロアルキル基、アルコキシア ルキル、ハロアルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオア ルキルまたはシアノアルキル基；または シアノ、アシル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバモイルま たはＮ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、低級アルコキシカルボニル、アルキル チオカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、アルコキシチオカルボニル、ハロ アルコキシチオカルボニルまたはアルキルチオチオカルボニル基；または アミノアルキル、Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノア ルキルまたはアシルアミノアルキル基、 Ｒ₁およびＲ₂は一緒になって、任意に１個またはそれを超えるハロゲン原子で 置換されていてもよいかまたは任意に１個またはそれを超える低級アルキル基で 置換されていてもよいアルキレン基のような二価基を形成でき、 Ｒ₃は水素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、 低級シクロアルキルまたは低級ハロシクロアルキル基、アルコキシ、ハロアルコ キシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルコキシアルキル、ハロアルコキシ アルキル、アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキルまたはシアノアル キル基；または ニトロ、シアノ、アシル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバ モイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル、低級アルコキシカルボニル、アルキ ルチオカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、アルコキシチオカルボニル、ハ ロアルコキシチオカルボニルまたはアルキルチオチオカルボニル基；または アルケニル、アルキニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノまたはＮ，Ｎ−ジアルキ ルアミノアルキル基；または 任意に置換されていてもよいフェニルまたはベンジル基、 Ｒ₄は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロアルキル、低級ハ ロシクロアルキルまたはアルコキシアルキル基；または アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノまたはジアルキ ルアミノ基、 Ｒ₅またはＲ₆は、相互に独立して、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、 Ｒ₇は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキ シアルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₈は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキ シアルキル、アルケニル、アルキニル、ホルミルまたはアシル基、 Ｒ₉は水素原子、低級アルキルもしくは低級ハロアルキル基または低級シクロ アルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアル キル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₁₀、はハロゲン原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロ アルキルまたは低級ハロシクロアルキル基またはアルコキシ、ハロアルコキシ、 アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフ ィニル、アルキルスルホニルまたはハロアルキルスルホニル基、 Ｒ₁₁およびＲ₁₂は、相互に独立して、水素原子、低級アルキルまたは低級ハロ アルキル基または低級シクロアルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシア ルキル、ハロアルコキシ アルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₁₃は水素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロアルキ ル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、 アルキルチオアルキルまたはハロアルキルチオアルキル基、任意に置換されてい てもよいアリル基、任意に置換されていてもよいプロパルギル基または任意に置 換されていてもよいベンジル基；または アシル、Ｎ−アルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル、低級 アルコキシカルボニル、アルキルチオカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、 アルコキシチオカルボニル、ハロアルコキシチオカルボニルまたはアルキルチオ チオカルボニル基；または 任意に置換されていてもよいアルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニルま たはアリールスルホニル基、 但し、 Ｗ１がイオウ原子を表しＷ２が窒素原子を表す場合、Ｒ₃はアルキルチオを表 すことができず、 Ｗ２およびＱ２が酸素原子である場合、およびＧが基Ｇ１を表す場合、Ｒ₅は アルキル基以外であり、Ｒ₄はアルコキシ、ア ルキルアミノまたはジアルキルアミノ基以外であり、Ｒ₃は水素原子、アルキル またはハロアルキル基、シクロアルキルまたはハロシクロアルキル基、アルコキ シアルキル、ハロアルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、シアノアルキル 、アルケニル、アルキニルまたはジアルキルアミノアルキル基、または任意に置 換されていてもよいフェニルまたはベンジル基以外である（但し、低級アルキル とは炭素原子を１〜６個有する基を表す）］ の、ヒドロキシムまたはヒドラゾン官能基を含有する化合物、ならびに上記で定 義した式（Ｉ）の化合物の塩、金属および半金属複合体、光学異性体および幾何 異性体。 ２． ｎが０または１、ｐが１、及び／又はＱ２が酸素原子、及び／又はＱ３が 酸素原子、及び／又はＱ４が窒素原子、及び／又はＱ５が酸素原子であり； Ｗ１が酸素もしくは硫黄原子であり； Ｗ２が酸素原子またはアルキルアミノ、ハロアルキルアミノ、アルコキシアル キルアミノまたはアリルアミノ基であり、 Ｙが酸素原子である請求項１記載の化合物。 ３． Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびＸ₄が、相互に独立して、水素原 子、低級アルキル基、ハロゲン原子またはシアノ、トリフルオロメチルまたはメ トキシ基である請求項１または２に記載の化合物。 ４． Ｒ₁およびＲ₂が、相互に独立して、水素原子、低級アルキル、低級シクロ アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、シアノ、シアノアルキル、 Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、アシルアミ ノアルキル、低級アルコキシカルボニル、Ｎ−アルキルカルバモイルまたはＮ， Ｎ−ジアルキルカルバモイル基であり、 Ｒ₃が水素原子、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級ハロアルキルまた はアルコキシアルキル基、好ましくはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル 、シクロプロピルまたはメトキシメチル基であり、 Ｒ₄が低級アルキル、アルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基 、好ましくはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、メチルアミノま たはエチルアミノ基であり、 Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₈およびＲ₉が、相互に独立して、低級アルキルまたは低級ハロア ルキル基、好ましくはメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオ ロメチル、エチル、２， ２，２−トリフルオロエチルまたはプロピル基であり、 Ｒ₇が低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、好ましくはメチル、フルオロ メチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、エチル、２，２，２−トリフ ルオロエチルまたはプロピル基、またはアリルまたはプロパルギル基であり、 Ｒ₁₀が塩素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、好ましくはメチル 、アルコキシまたはアルキルチオ基、好ましくはメトキシまたはメチルチオであ り、 Ｒ₁₁およびＲ₁₂が、相互に独立して、低級アルキル、低級ハロアルキル、アル コキシアルキル、アリルまたはプロパルギル基であり、 Ｒ₁₃が水素原子または低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル 、ハロアルキルコキシアルキル、アリル、プロパルギルまたはベンジル基である 請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。 ５． Ｗ１が酸素原子であり、 Ｒ₁が水素原子またはメチル基であり、 Ｒ₂が水素原子または低級アルキル、シアノ、シアノアルキル、アルコキシア ルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、 低級アルコキシカルボニルまたは低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基である 請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。 ６． 置換基Ｗ１およびＷ２が二重結合−Ｃ（Ｒ₃）＝Ｎ−に対してトランス位 にある請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。 ７． 有効量の請求項１〜６のいずれか１項に記載の少なくとも１の有効物質を 含有する殺真菌組成物。 ８． 式（Ｉ）の有効物質以外に、農業上許容される固体または液体支持体及び ／又は農業上許容される界面活性剤を含有する請求項７に記載の殺真菌組成物。 ９． ０．０５ないし９５重量％の有効物質を含む請求項７または８に記載の殺 真菌組成物。 １０． 耕種学的に有効で非植物毒性量の、少なくとも１の有効物質または請求 項１記載の式（Ｉ）の有効物質を含有する殺真菌組成物を、植物の種子または植 物の葉あるいは植物がそこで成長するまたは植物を成長させるのを望む土壌に適 用することを特徴とする、作物の植物病原真菌を予防的にまたは治癒的に防除す る方法。 １１． 有効で非植物毒性量の請求項１〜９のいずれか１項に 記載の化合物または組成物で植物増殖生成物をコーティングすることを特徴とす る、真菌病に対して予防的にまたは治癒的に植物増殖生成物を処理する方法、な らびにそれから得られた植物。 １２． 米、穀類、果実樹木、ブドウつるまたはビート根を処理する請求項１１ に記載の方法。 １３． 小麦または大麦を処理する請求項１１または１２に記載の方法。 １４． 穀類、ジャガイモ、綿、エンドウ豆、菜種、トウモロコシまたは亜麻の 種子、または森林樹木の種子を処理する請求項１１に記載の方法。 １５． 種子処理において、適用される有効物質の用量が１００ｋｇ種子当たり ２０〜２００ｇの有効物質、好ましくは１００ｋｇ当たり３〜１５０ｇの有効物 質である請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の方法。 １６． 茎葉処理において、適用される有効物質の用量がヘクタール当たり１０ 〜８００ｇの有効物質、好ましくはヘクタール当たり５０〜３００ｇの有効物質 である請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の方法。 １７． 式（ＩＩ）Ａ：［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうち１つであり、該基Ｇ１ないしＧ９は請求項 １ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄は請求項１ ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有し、 Ｖ₁はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）、アルキルスルホネート またはハロアルキルスルホネート（好ましくは、メチルスルホネートまたはトリ フルオロメチルスルホネート）、またはアリールスルホネート（好ましくは、４ −メチルフェニルスルホネート）基である］ の化合を式（ＩＩＩ）Ａ： ［式中、Ｗ１，Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項１ ないし６のうち１つで与えられたものと同 一の定義を有する］ の化合物と接触させることよりなり、 Ｖ₁がハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）である式（ＩＩ）Ａのベ ンジルハライド誘導体は、 −式（ＩＩ）Ｂ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は請求項 １ないし６で与えられたのと同一の定義を有し、Ｒ₄はアルキルアミノまたはジ アルキルアミノ基であり、基Ｇ８およびＧ９は請求項１ないし６で与えられたの と同一の定義を有し、Ｘ₄は請求項１ないし６で与えられたものと同一の定義を 有し、Ｗ₁は酸素原子である］ の化合物を、塩化チオニル、オキシ三塩化リンまたは三臭化リンのようなハロゲ ン化剤で、またはリチウムハライド／メシルハライド／コリジン試薬でハロゲン 化することによって、あるいは −式（ＩＩ）Ｃ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は請求項 １ないし６で与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₄はアルキルアミノまたは ジアルキルアミノ基であり、基Ｇ８およびＧ９は請求項１ないし６で与えられた ものと同一の定義を有し、Ｘ₄は請求項１ないし６で与えられたものと同一の定 義を有し、Ｗ₁は酸素原子であってＰはエステル、好ましくは酢酸または安息香 酸、またはエーテル、好ましくはメチル、メトキシメチル、フェニルまたはベン ジルのような、アルコール官能基用の保護基である］ の化合物を、三臭化ホウ素のようなルイス酸、または塩化水素のような無水水素 酸で開裂させることによって得られる、請求項１ないし６のいずれか１項に記載 の化合物の製法。 １８． Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐが請求項１ないし ６の１つで与えられたのと同一の定義を有する式（ＩＩＩ）Ａの化合物（但し、 Ｗ２が−ＮＲ₁₃を表す化合物、およびＲ₃がフェニル、ベンジル、アルコキシま たはアルキルチオを表す化合物を除く）。１９． 式（ＩＩ）Ｂ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は請求項 １ないし６の１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₄はアミノ、アルキ ルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、Ｇ８およびＧ９は請求項１ないし６ のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄は請求項１ないし６の うちの１つで与えられたのと同一の定義を有し、Ｗ₁は酸素もしくは硫黄原子で ある］ の化合物を、式（ＩＩＩ）Ｂ： ［式中、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項１ないし ６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｕ₃はハロゲン原子、好 ましくは塩素原子であり、二重結合Ｕ₃−Ｃ（Ｒ₃）＝Ｎ−Ｗ₂−は（Ｅ）または （Ｚ）立体化学であることが可能である］ の化合物と接触させることよりなる、Ｇが基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり 、基Ｇ１ないしＧ７は請求項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の 定義を有し、Ｒ₄はアミノ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、 基Ｇ８およびＧ９は請求項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定 義を有し、Ｘ₄は請求項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義 を有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製法。 ２０． 式（ＩＸ）： ［式中、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキル アミノ基であり、他の置換基は請求項１ないし６いずれか１つで与えられたのと 同一の定義を有する］ の化合物を、式（Ｘ）Ａ： Ｒ₆−ＣＨ₂−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ_b）₂ （Ｘ）Ａ ［式中、Ｒ₆は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基であり、Ｒ_bは低級アルキ ル、フェニルまたはベンジル基である］ のウィティヒーホルネル試薬、あるいは式（Ｘ）Ｂ： Ｒ₆−ＣＨ₂−Ｐ（Ｒ_d）₃ ⁺；Ｈａｌ^- （Ｘ）Ｂ ［式中、Ｒ₆は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基であり、Ｒ_dは任意に置換 されていてもよいフェニル基であり、Ｈａｌ^-はハライドイオンである］ のウィティヒ試薬と接触させることよりなる、Ｇが基Ｇ３であり、Ｑ２が酸素原 子であり、Ｒ₄がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり 、他の置換基が請求項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を 有し、Ｒ₆が低級アルキルまたは低級ハロアルキル基である請求項１ないし６の いずれか１項に記載の化合物の製法。 ２１． 式（ＸＩ）：［式中、Ｔは酸素原子であり、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属イオン であり、Ｑ１は窒素原子またはＣＨ基であり、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミ ノまたはジアルキルアミノ基であり、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、 Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐは請求項１ないし６いずれか１つで与えられたものと同 一の定義を有する］ の化合物を、ｑが１または２であって、Ｈａｌが相互に同一または異なってよく て少なくとも１つは塩素もしくは臭素原子であるハロゲン原子を示す式ＣＨ_q（ Ｈａｌ）_4-qのハロゲン化化合物と接触させることよりなる、Ｇが基Ｇ１または Ｇ２であり、Ｑ１が窒素原子またはＣＨ基であり、Ｑ２が酸素原子であり、Ｒ₄ がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、他の置換基が 請求項１ないし６のうち１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₅が低級 ハロアルキル基である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製法。 ２２． 式（ＸＩＩ）Ａ： ［式中、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、 他の置換基は式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する］ の化合物を、式（ＸＩＩＩ）： ［式中、Ｖ₁はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）であり、Ｒ₅は請求 項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有する］ の試薬と反応させることよりなる、Ｇが基Ｇ４（ここでｎは１である）であり、 Ｑ２が酸素原子であり、Ｒ₄がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルア ミノ基であり、他の置換基が請求項１ないし６のいずれか１つで与えられたもの と同一の定義を有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物 の製法。 ２３． Ｇが基Ｇ１ないしＧ７であってＲ₄がアルコキシまたはアルキルチオ基 であり、他の置換基が請求項１ないし６のうちの１つで与えられたのと同一の定 義を有する一般式（Ｉ）の化合物をアルキルアミンまたはジアルキルアミンと接 触させることよりなる、Ｇが基Ｇ１ないしＣ７であってＲ₄がアルキルアミノま たはジアルキルアミノ基であり、他の置換基が請求項１ないし６のうちの１つで 与えられたものと同一の定義を有する請求項１ないし６のいずれか一項に記載の 化合物の製法。 ２４． １当量以上の酸化剤を用いて、Ｗ１が硫黄原子であり、ＧがＧ１、Ｇ３ 、Ｇ４およびＧ６ないしＧ９のうちの１つであり、Ｑ２およびＱ３が酸素原子で あり、他の置換基が請求項１ないし６のいずれか１項で与えられたものと同一の 定義を有する一般式（Ｉ）の化合物を酸化することよりなる、Ｗ１がスルホキシ ド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ₂）基であり、ＧがＧ１、Ｇ３、Ｇ４およびＧ ６ないしＧ９のうちの１つであり、Ｑ２およびＱ３が酸素原子であり、他の置換 基が請求項１ないし６いずれか１で与えられたものと同一の定義を有する請求項 １ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製法。 ２５． 式（ＩＩＩ）Ａ： ［式中、基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項 １ないし６のうち１つにおけると同一の意味を有する］ の中間体を、一般式（ＩＩ）Ａ： ［式中、Ｇは基Ｇ７であり、Ｘ₄は請求項１ないし６のうちの１つで与えられた ものと同一の定義を有し、Ｖ₁はハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素であ る］ の化合物と接触させることよりなる、基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂ 、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐが請求項１ないし６のうちの１つにおけると同一の意味を有 し、Ｇが基Ｇ７である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製法。 ２６． 式（ＩＩＩ）Ａ： ［式中、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項１ ないし６のうち１つにおけると同一の意味を有する］ の化合物を、一般式（ＩＩ）Ａ： ［式中、Ｇは基Ｇ３であり、Ｒ₆はトリフルオロメチル基であり、Ｘ₄、Ｒ₄およ びＱ２は請求項１ないし６のうち１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｖ₁ はハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素である］ の化合物と接触させることよりなる、基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂ 、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐが請求項１ないし６のうち１つにおけると同一の意味を有し 、Ｇが基Ｇ３であって、Ｒ₆がトリフルオロメチル基である請求項１ないし６の いずれか１ 項に記載の化合物の製法。 ２７． 式（ＩＶ）： ［式中、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項１ないし６の いずれか１つで与えられたのと同一の定義を有する］ の化合物を、式（Ｖ）： ［式中、Ｗ１およびＷ２は請求項１ないし６のうち１つで与えられたのと同一の 定義を有し、Ｕ１はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）またはヒドロ キシル、低級アルコキシまたはベンジルオキシ、低級アルキルチオまたはアミノ 基、または基−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ_aであり、Ｒ_aは請求項１ないし６のうち１つで与 えられたＲ₃のそれと同一の定義を有し且つＲ₃と同一または異なり、好ましくは ハロゲン原子である］ の酸ハライド化合物と接触させることよりなる、Ｗ２が酸素原子であってｐが１ であり、Ｗ１、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃が請求項１ないし６の うち１つで与えられたのと同一の定義を有する請求項１８に記載の式（ＩＩＩ） Ａの化合物の製法。 ２８． 式（ＶＩ）：［式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃は請求項１ないし６いずれか１で与えら れたのと同一の定義を有し、Ｕ₂はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素 ）またはアルキルスルホネート基（好ましくは、メチルスルホネートまたはトリ フルオロメチルスルホネート）である］ の化合物を、式（ＶＩＩ）： のＷ２が酸素原子であるヒドロキサム酸誘導体、またはＷ２が 基ＮＲ₁₃、Ｒ₃およびＲ₁₃が請求項１ないし６いずれか１で与えられたのと同一 の定義を有するヒドラゾン酸誘導体と接触させることよりなる、Ｗ２が酸素原子 であってｐが１である請求項１８記載の式（ＩＩＩ）Ａの化合物、またはＷ２か 基ＮＲ₁₃であってｐが１であり、Ｗ１、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂および Ｘ₃が請求項１ないし６のうち１つで与えられたものと同一の定義を有する式（ ＩＩＩ）Ａのヒドラゾン酸の製法。 ２９． Ｗ１が酸素原子であっでＷ２が酸素原子である式（ＩＩＩ）Ａのヒドロ キサム酸、またはＷ１が酸素原子であって、Ｗ２が基ＮＲ₁₃であり、Ｒ₁、Ｒ₂、 Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐが請求項１ないし６のうち１つで与えられた のと同一の定義を有する式（ＩＩＩ）Ａのヒドラゾン酸を加硫剤で加硫すること よりなる、Ｗ１が硫黄原子であってＷ２が酸素原子である請求項１８記載の式（ ＩＩＩ）Ａの化合物、またはＷ１が硫黄原子であってＷ２が基ＮＲ₁₃であり、Ｒ₁ 、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐが請求項１ないし６のうち１つで与 えられたのと同一の定義を有する式（ＩＩＩ）Ａのチオヒドラゾン酸の製法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 337/02 Ｃ０７Ｃ 337/02 337/06 337/06 Ｃ０７Ｄ 249/12 ５０５ Ｃ０７Ｄ 249/12 ５０５ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＥＥ， ＧＥ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，Ｌ Ｋ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＲ， ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ (72)発明者 ジヤン―ピエール，ボール フランス国、エフ―69009・リヨン、シユ マン・ドウ・モンペラ、９ (72)発明者 ジヨゼフ，ペレーズ フランス国、エフ―69009・リヨン、ア レ・デ―リユ・エルネスト・フアブレー グ、19

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 一般式（Ｉ）： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９から選択され： ｎは０または１、 Ｑ１は窒素原子またはＣＨ基、 Ｑ２は酸素もしくは硫黄原子、 Ｑ３は酸素もしくは硫黄原子、 Ｑ４は窒素原子または基ＣＲ₁₁、 Ｑ５は酸素もしくは硫黄原子または基ＮＲ₁₂、 Ｙは酸素もしくは硫黄原子またはアミノ（ＮＨ）もしくはオキシアミノ（ＯＮ Ｈ）基、 Ｗ１は酸素もしくは硫黄原子またはスルフィニル（ＳＯ）もしくはスルホニル （ＳＯ₂）基、 Ｗ２は酸素原子または基ＮＲ₁₃、 Ｗ２が酸素原子である場合、ｐは１、 Ｗ２が基ＮＲ₁₃である場合、ｐは０または１、 Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃は、相互に独立して、水素原子、ハロゲン原子；または ヒドロキシル、メルカプト、ニトロ、チオシアナト、アジド、シアノまたはペ ンタフルオロスルホニル基；低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシ、ハ ロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルコキシアルキル、ハロア ルコキシアル キル、アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキル、シアノアルキル、シ アノアルコキシ、シアノアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルス ルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニルまたはアルコキシス ルホニル基；または 低級アルキル、低級ハロシクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アルケニ ルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオまたはアルキニルチオ基；または アミノ、Ｎ−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、アシルアミノ、ア ミノアルキル、Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキ ルまたはアシルアミノアルキル基；または カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキ ルカルバモイルまたは低級アルコキシカルボニル基；または アシル基； Ｘ４は水素原子、ハロゲン原子；または 低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシまたはハロアルコキシ基；また は シアノまたはニトロ基、 Ｒ₁およびＲ₂は、相互に独立して、水素原子、低級アルキルまたは低級ハロア ルキル基、低級シクロアルキルまたは低級ハロシクロアルキル基、アルコキシア ルキル、ハロアルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオア ルキルまたはシアノアルキル基；または シアノ、アシル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバモイルま たはＮ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、低級アルコキシカルボニル、アルキル チオカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、アルコキシチオカルボニル、ハロ アルコキシチオカルボニルまたはアルキルチオチオカルボニル基；または アミノアルキル、Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノア ルキルまたはアシルアミノアルキル基、 Ｒ₁およびＲ₂は一緒になって、任意に１個またはそれを超えるハロゲン原子で 置換されていてもよいかまたは任意に１個またはそれを超える低級アルキル基で 置換されていてもよいアルキレン基のような二価基を形成でき、 Ｒ₃は水素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低 級シクロアルキルまたは低級ハロシクロアルキル基、アルコキシ、ハロアルコキ シ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルコキシアルキル、ハロアルコキシア ルキル、アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキルまたはシアノアルキ ル基；または ニトロ、シアノ、アシル、カルボキシル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバ モイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル、低級アルコキシカルボニル、アルキ ルチオカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、アルコキシチオカルボニル、ハ ロアルコキシチオカルボニルまたはアルキルチオチオカルボニル基；または アルケニル、アルキニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノまたはＮ，Ｎ−ジアルキ ルアミノアルキル基；または 任意に置換されていてもよいフェニルまたはベンジル基、 Ｒ₄は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロアルキル、低級ハ ロシクロアルキルまたはアルコキシアルキル基；または アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノまたはジアルキ ルアミノ基、 Ｒ₅またはＲ₆は、相互に独立して、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、 Ｒ₇は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキ シアルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₈は低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキ シアルキル、アルケニル、アルキニル、ホルミルまたはアシル基、 Ｒ₉は水素原子、低級アルキルもしくは低級ハロアルキル基または低級シクロ アルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアル キル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₁₀はハロゲン原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロア ルキルまたは低級ハロシクロアルキル基またはアルコキシ、ハロアルコキシ、ア ルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィ ニル、アルキルスルホニルまたはハロアルキルスルホニル基、 Ｒ₁₁およびＲ₁₂は、相互に独立して、水素原子、低級アルキルまたは低級ハロ アルキル基または低級シクロアルキル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシア ルキル、ハロアルコキシ アルキル、アルケニルまたはアルキニル基、 Ｒ₁₃は水素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、低級シクロアルキ ル、低級ハロシクロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、 アルキルチオアルキルまたはハロアルキルチオアルキル基、任意に置換されてい てもよいアリル基、任意に置換されていてもよいプロパルギルまたは任意に置換 されていてもよいベンジル基；または アシル、Ｎ−アルキルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル、低級 アルコキシカルボニル、アルキルチオカルボニル、ハロアルコキシカルボニル、 アルコキシチオカルボニル、ハロアルコキシチオカルボニルまたはアルキルチオ チオカルボニル基；または アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニルまたは任意に置換されていても よいアリールスルホニル基、 但し、 Ｗ２およびＱ２が酸素原子である場合、およびＧが基Ｇ１を表す場合、Ｒ₅は アルキル基以外であり、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルア ミノ基以外であり、Ｒ₃は水素原子、アルキルまたはハロアルキル基、シクロア ルキルまたは ハロシクロアルキル基、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、アルキ ルチオアルキル、シアノアルキル、アルケニル、アルキニルまたはジアルキルア ミノアルキル基、または任意に置換されていてもよいフェニルまたはベンジル基 以外である］ の、ヒドロキシムまたはヒドラゾン官能基を含有する化合物、ならびに上記で定 義した式（Ｉ）の化合物の塩、金属および半金属複合体、光学異性体および幾何 異性体。 ２． ｎが０または１であり、ｐが１であり、及び／又はＱ２が酸素原子であり 、及び／又はＱ３が酸素原子であり、及び／又はＱ４が窒素原子であり、及び／ 又はＱ５が酸素原子であり； Ｗ１が酸素もしくは硫黄原子であり； Ｗ２が酸素原子またはアルキルアミノ、ハロアルキルアミノ、アルコキシアル キルアミノまたはアリルアミノ基であり、 Ｙが酸素原子である請求項１記載の化合物。 ３． Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびＸ₄が、相互に独立して、水素原子、低級アルキル基 、ハロゲン原子またはシアノ、トリフルオロメチルまたはメトキシ基である請求 項１または２に記載の化 合物。 ４． Ｒ₁およびＲ₂が、相互に独立して、水素原子、低級アルキル、低級シクロ アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、シアノ、シアノアルキル、 Ｎ−アルキルアミノアルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、アシルアミ ノアルキル、低級アルコキシカルボニル、Ｎ−アルキルカルバモイルまたはＮ， Ｎ−ジアルキルカルバモイル基であり、 Ｒ₃が水素原子、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級ハロアルキルまた はアルコキシアルキル基、好ましくはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル 、シクロプロピルまたはメトキシメチル基であり、 Ｒ₄が低級アルキル、アルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基 、好ましくはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、メチルアミノま たはエチルアミノ基であり、 Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₈およびＲ₉が、相互に独立して、低級アルキルまたは低級ハロア ルキル基、好ましくはメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオ ロメチル、エチル、２，２，２−トリフルオロエチルまたはプロピル基であり、 Ｒ₇が低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、好ましくはメ チル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、エチル、２， ２，２−トリフルオロエチルまたはプロピル基、またはアリルまたはプロパルギ ル基であり、 Ｒ₁₀が塩素原子、低級アルキルまたは低級ハロアルキル基、好ましくはメチル 、アルコキシまたはアルキルチオ基、好ましくはメトキシまたはメチルチオであ り、 Ｒ₁₁およびＲ₁₂が、相互に独立して、低級アルキル、低級ハロアルキル、アル コキシアルキル、アリルまたはプロパルギル基であり、 Ｒ₁₃が水素原子または低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル 、ハロアルキルコキシアルキル、アリル、プロパルギルまたはベンジル基である 請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。 ５． Ｗ１が酸素原子であり、 Ｒ₁が水素原子またはメチル基であり、 Ｒ₂が水素原子または低級アルキル、シアノ、シアノアルキル、アルコキシア ルキル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、低級アルコキシカルボニルまたは 低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基である請求項１〜４のいずれか１項に記 載の化合物。 ６． 置換基Ｗ１およびＷ２が二重結合−Ｃ（Ｒ₃）＝Ｎ−に対してトランス位 にある請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。 ７． 有効量の請求項１〜６のいずれか１項に記載の少なくとも１の有効物質を 含有する殺真菌組成物。 ８． 式（Ｉ）の有効物質以外に、農業上許容される固体または液体支持体及び ／又は農業上許容される界面活性剤を含有する請求項７に記載の殺真菌組成物。 ９． ０．０５ないし９５重量％の有効物質を含む請求項７または８に記載の殺 真菌組成物。 １０． 耕種学的に有効で非植物毒性量の、少なくとも１の有効物質または請求 項１記載の式（Ｉ）の有効物質を含有する殺真菌組成物を、植物の種子または植 物の葉あるいは植物がそこで成長するまたは植物を成長させるのを望む土壌に適 用することを特徴とする、作物の植物病原真菌を予防的にまたは治癒的に防除す る方法。 １１． 有効で非植物毒性量の請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物また は組成物で植物増殖生成物をコーティングすることを特徴とする、真菌病に対し て予防的にまたは治癒的に 植物増殖生成物を処理する方法、ならびにそれから得られた植物。 １２． 米、穀類、果実樹木、ブドウつるまたはビート根を処理する請求項１１ に記載の方法。 １３． 小麦または大麦を処理する請求項１１または１２に記載の方法。 １４． 穀類、ジャガイモ、綿、エンドウ豆、菜種、トウモロコシまたは亜麻の 種子、または森林樹木の種子を処理する請求項１１に記載の方法。 １５． 種子処理において、適用される有効物質の用量が１００ｋｇ種子当たり ２０〜２００ｇの有効物質、好ましくは１００ｋｇ当たり３〜１５０ｇの有効物 質である請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の方法。 １６． 茎葉処理において、適用される有効物質の用量がヘクタール当たり１０ 〜８００ｇの有効物質、好ましくはヘクタール当たり５０〜３００ｇの有効物質 である請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の方法。 １７．式（ＩＩ）Ａ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうち１つであり、該基Ｇ１ないしＧ９は請求項 １ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄は請求項１ ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有し、 Ｖ₁はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）、アルキルスルホネート またはハロアルキルスルホネート（好ましくは、メチルスルホネートまたはトリ フルオロメチルスルホネート）、またはアリールスルホネート（好ましくは、４ −メチルフェニルスルホネート）基である］ の化合物を式（ＩＩＩ）Ａ： ［式中、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項１ ないし６のうち１つで与えられたものと同一の定義を有する］ と接触させることよりなり、 Ｖ₁がハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）である式（ＩＩ）Ａのベ ンジルハライド誘導体は、 −式（ＩＩ）Ｂ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は請求項 １ないし６で与えられたのと同一の定義を有し、Ｒ₄はアルキルアミノまたはジ アルキルアミノ基であり、基Ｇ８およびＧ９は請求項１ないし６で与えられたの と同一の定義を有し、Ｘ₄は請求項１ないし６で与えられたものと同一の定義を 有し、Ｗ₁は酸素原子である］ の化合物を、塩化チオニル、オキシ三塩化リンまたは三臭化リンのようなハロゲ ン化剤で、またはリチウムハライド／メシルハライド／コリジン試薬でハロゲン 化することによって、あるいは −式（ＩＩ）Ｃ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は請求項 １ないし６で与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₄はアルキルアミノまたは ジアルキルアミノ基であり、基Ｇ８およびＧ９は請求項１ないし６で与えられた ものと同一の定義を有し、Ｘ₄は請求項１ないし６で与えられたものと同一の定 義を有し、Ｗ₁は酸素原子であってＰはエステル、好ましくは酢酸または安息香 酸、またはエーテル、好ましくはメチル、メトキシメチル、フェニルまたはベン ジルのような、アルコール官能基用の保護基である］ の化合物を、三臭化ホウ素のようなルイス酸、または塩化水素のような無水水素 酸で開裂させることによって得られる、請求項１ないし６のいずれか１項に記載 の化合物の製法。 １８． Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐが請求項１ ないし６の１つで与えられたのと同一の定義を有する式（ＩＩＩ）Ａの化合物。１９． 式（ＩＩ）Ｂ： ［式中、Ｇは基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり、基Ｇ１ないしＧ７は請求項 １ないし６の１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₄はアミノ、アルキ ルアミノまたはジアルキルアミノ基もしくはラジカルであり、Ｇ８およびＧ９は 請求項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｘ₄は請 求項１ないし６のうちの１つで与えられたのと同一の定義を有し、Ｗ₁は酸素も しくは硫黄原子である］ の化合物を、式（ＩＩＩ）Ｂ： ［式中、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項１ないし ６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｕ₃はハロゲン原子、好 ましくは塩素原子であり、二重結合Ｕ₃−Ｃ（Ｒ₃）＝Ｎ−Ｗ₂−は（Ｅ）または （Ｚ）立体化学であるのとが可能である］ の化合物と接触させることよりなる、Ｇが基Ｇ１ないしＧ９のうちの１つであり 、基Ｇ１ないしＧ７は請求項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の 定義を有し、Ｒ₄はアミノ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基もしくは ラジカルであり、基Ｇ８およびＧ９は請求項１ないし６のうちの１つで与えられ たものと同一の定義を有し、Ｘ₄は請求項１ないし６のうちの１つで与えられた ものと同一の定義を有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製 法。 ２０． 式（ＩＸ）： ［式中、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルア ミノ基であり、他の置換基は請求項１ないし６いずれか１つで与えられたのと同 一の定義を有する］ の化合物を、式（Ｘ）Ａ： Ｒ₆−ＣＨ₂−Ｐ（＝Ｃ））（ＯＲ_b）₂ （Ｘ）Ａ ［式中、Ｒ₆は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基であり、Ｒ_bは低級アルキ ル、フェニルまたはベンジル基である］ のウィティヒーホルネル試薬、あるいは式（Ｘ）Ｂ： Ｒ₆−ＣＨ₂−Ｐ（Ｒ_d）₃ ⁺；Ｈａｌ^- （Ｘ）Ｂ ［式中、Ｒ₆は低級アルキルまたは低級ハロアルキル基であり、Ｒ_dは任意に置換 されていてもよいフエニル基であり、Ｈａｌ^-はハライドイオンである］ のウィティヒ試薬と接触させることよりなる、Ｇが基Ｇ３であり、Ｑ２が酸素原 子であり、Ｒ₄がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり 、他の置換基が請求項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を 有し、Ｒ₆が低級アルキルまたは低級ハロアルキル基である請求項１ないし６の いずれか１項に記載の化合物の製法。 ２１． 式（ＸＩ）：［式中、Ｔは酸素原子であり、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属イオン であり、Ｑ１は窒素原子またはＣＨ基であり、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミ ノまたはジアルキルアミノ基であり、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、 Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐは請求項１ないし６いずれか１つで与えられたものと同 一の定義を有する］ の化合物を、ｑが１または２であって、Ｈａｌが相互に同一または異なってよく て少なくとも１つは塩素もしくは臭素原子であるハロゲン原子を示す式ＣＨ_q（ Ｈａｌ）_4-qのハロゲン化化合物と接触させることよりなる、Ｇが基Ｇ１または Ｇ２であり、Ｑ１が窒素原子またはＣＨ基であり、Ｑ２が酸素原子であり、Ｒ₄ がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、他の置換基が 請求項１ないし６のうち１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｒ₅が低級 ハロアルキル基である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製法。 ２２． 式（ＸＩＩ）Ａ： ［式中、Ｒ₄はアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ基であり、 他の置換基は式（Ｉ）で与えられたものと同一の定義を有する］ の化合物を、式（ＸＩＩＩ）： ［式中、Ｖ₁はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）であり、Ｒ₅は請求 項１ないし６のうちの１つで与えられたものと同一の定義を有する］ の試薬と反応させることよりなる、Ｇが基Ｇ４（ここでｎは１である）であり、 Ｑ２が酸素原子であり、Ｒ₄がアルコキシ、アルキルアミノまたはジアルキルア ミノ基であり、他の置換基が請求項１ないし６いずれか１つで与えられたものと 同一の定義を有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製 法。 ２３． Ｇが基Ｇ１ないしＧ７であってＲ₄がアルコキシまたはアルキルチオ基 であり、他の置換基が請求項１ないし６のうちの１つで与えられたのと同一の定 義を有する一般式（Ｉ）の化合物をアルキルアミンまたはジアルキルアミンと接 触させることよりなる、ＧがＧ１ないしＧ７であってＲ₄がアルキルアミノまた はジアルキルアミノ基であり、他の置換基が請求項１ないし６のうちの１つで与 えられたものと同一の定義を有する。 ２４． １当量以上の酸化剤を用いて、Ｗ１が硫黄原子であり、ＧがＧ１、Ｇ３ 、Ｇ４およびＧ６ないしＧ９のうちの１つであり、Ｑ２およびＱ３が酸素原子で あり、他の置換基が請求項１ないし６のいずれか１項で与えられたものと同一の 定義を有する一般式（Ｉ）の化合物を酸化することよりなる、Ｗ１がスルホキシ ド（ＳＯ）またはスルホン（ＳＯ₂）基であり、ＧがＧ１、Ｇ３、Ｇ４およびＧ ６ないしＧ９のうちの１つであり、Ｑ２およびＱ３が酸素原子であり、他の置換 基が請求項１ないし６いずれか１で与えられたものと同一の定義を有する請求項 １ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製法。 ２５． 式(ＩＩＩ）Ａ： ［式中、基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項 １ないし６のうち１つにおけると同一の意味を有する］ の中間体を、一般式（ＩＩ）Ａ： ［式中、Ｇは基Ｇ７であり、Ｘ₄は請求項１ないし６のうちの１つで与えられた ものと同一の定義を有し、Ｖ₁はハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素であ る］ の化合物と接触させることよりなる、基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂ 、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐが請求項１ないし６のうちの１つにおけると同一の意味を有 し、Ｇが基Ｇ７である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の化合物の製法。 ２６． 式（ＩＩ）Ａ： ［式中、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項１ ないし６のうち１つにおけると同一の意味を有する］ の化合物を、一般式（ＩＩ）Ａ： ［式中、Ｇは基Ｇ３であり、Ｒ₆はトリフルオロメチル基であり、Ｘ₄、Ｒ₄およ びＱ２は請求項１ないし６のうち１つで与えられたものと同一の定義を有し、Ｖ₁ はハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素である］ の化合物と接触させることよりなる、基Ｗ１、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｘ₁、Ｘ₂ 、Ｘ₃、Ｘ₄およびｐが請求項１ないし６のうち１つにおけると同一の意味を有し 、Ｇが基Ｇ３であって、Ｒ₆がトリフルオロメチル基である請求項１ないし６の いずれか１項に記載の化合物の製法。 ２７． 式（ＩＶ）： ［式中、Ｗ２、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐは請求項１ないし６の いずれか１つで与えられたのと同一の定義を有する］ の化合物を、式（Ｖ）： ［式中、Ｗ１およびＷ２は請求項１ないし６のうち１つで与えられたのと同一の 定義を有し、Ｕ１はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素）またはヒドロ キシル、低級アルコキシまたはベンジルオキシ、低級アルキルチオまたはアミノ 基、または基−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ_aであり、Ｒ_aは請求項１ないし６のうち１つで与 えられたＲ₃のそれと同一の定義を有し且つＲ₃と同一または異なり、好ましくは ハロゲン原子である］ の酸ハライド化合物と接触させることよりなる、Ｗ２が酸素原 子であってｐが１である請求項１８記載の式（ＩＩＩ）Ａの化合物、あるいはＷ ２が基ＮＲ₁₃であってｐが０または１であり、Ｗ１、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁ 、Ｘ₂およびＸ₃が請求項１ないし６のうち１つで与えられたのと同一の定義を有 する式（ＩＩＩ）Ａのヒドラゾン酸またはチオヒドラゾン酸の製法。 ２８． 式（ＶＩ）：［式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃は請求項１ないし６いずれか１で与えら れたのと同一の定義を有し、Ｕ₂はハロゲン原子（好ましくは、塩素または臭素 ）またはアルキルスルホネート基（好ましくは、メチルスルホネートまたはトリ フルオロメチルスルホネート）である］ の化合物を、式（ＶＩＩ）： のＷ２が酸素原子であるヒドロキサム酸誘導体、またはＷ２が 基ＮＲ₁₃、Ｒ₃およびＲ₁₃が請求項１ないし６いずれか１で与えられたのと同一 の定義を有するヒドラゾン酸誘導体と接触させることよりなる、Ｗ２が酸素原子 であってｐが１である請求項１８記載の式（ＩＩＩ)Ａの化合物、またはＷ２が 基ＮＲ₁₃であってｐが１であり、Ｗ１、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂および Ｘ₃が請求項１ないし６のうち１つで与えられたものと同一の定義を有する式（ ＩＩＩ）Ａのヒドラゾン酸の製法。 ２９． Ｗ１が酸素原子であってＷ２が酸素原子である式（ＩＩＩ）Ａのヒドロ キサム酸、またはＷ１が酸素原子であって、Ｗ２が基ＮＲ₁₃であり、Ｒ₁、Ｒ₂、 Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐが請求項１ないし６のうち１つで与えられた のと同一の定義を有する式（ＩＩＩ）Ａのヒドラゾン酸を加硫剤で加硫すること よりなる、Ｗ１が硫黄原子であってＷ２が酸素原子である請求項１８記載の式（ ＩＩＩ）Ａの化合物、またはＷ１が硫黄原子であってＷ２がＮＲ₁₃であり、Ｒ₁ 、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₁₃、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃およびｐが請求項１ないし６のうち１つで与 えられたのと同一の定義を有する式（ＩＩＩ）Ａのチオヒドラゾン酸の製法。