JPH1112275A - テトラゾールで置換されたベンゼン誘導体および除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】工業的に有利に合成でき、より低い薬量で効果
の確実な安全性の高い、作物との選択性に優れた、新規
な除草剤を提供する。 【解決手段】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｒ¹ ，Ｒ² は、それぞれ独立して、ハロゲン，
Ｃ_1-6 アルキル，Ｃ_1-6アルコキシ，Ｃ_1-6 アルキルス
ルホニル等を、Ｒ³ は水素，Ｃ_1-6 アルキルを、Ｒ⁴ は
水素，Ｃ_1-6 アルキル等を、Ｒ⁵ は水素、Ｃ_1-6 アルキ
ル等を、Ｒ⁶ は水素，Ｃ_1-6 アルキル等を表し、ＸはＳ
Ｏ₂ ，単結合等を表す。）で表されるテトラゾリルで置
換されたベンゼン誘導体またはその塩、および該化合物
を有効成分として含有する除草剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なフェニル基
で置換されたベンゼン誘導体および除草剤に関する。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工業
的に有利に合成できより低薬量で効果の確実な安全性の
高い、作物との選択性の良い除草剤を提供することであ
る。

【０００３】

【従来の技術】ピラゾール環の４位にベンゾイル基が置
換したピラゾール骨格を有する除草剤としては、一般式
〔ＩＩ〕

【０００４】

【化３】

【０００５】で表される化合物等が特開平２−１７３号
公報に記載され、またＷＯ９３／１８０３１号公報等
に、式〔ＩＩＩ〕で表される化合物が記載されている。

【０００６】

【化４】

【０００７】また、ＷＯ９６／２６２０６号には、式
〔ＶＩ〕で表される化合物が記載されている。

【０００８】

【化５】

【０００９】しかしながら、ベンゾイル部３位の置換基
がテトラゾリル基である４−ベンゾイルピラゾール化合
物はいまだ知られていない。

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式〔Ｉ〕
で表されるベンゾイル部の３位がテトラゾリル基で置換
された４−ベンゾイルピラゾール化合物、および、ピラ
ゾール環のエノール性水酸基が保護されている化合物を
有効成分として含有することを特徴とする除草剤であ
る。すなわち、本発明は、

【００１０】

【化６】

【００１１】［式中、Ｒ¹ ，Ｒ² は、それぞれ独立し
て、ニトロ基，シアノ基，ハロゲン原子，Ｃ_1-6 アルキ
ル基，Ｃ_1-6 アルコキシ基，Ｃ_1-6 ハロアルキル基，Ｃ
_1-6 ハロアルコキシ基，Ｃ_1-6 アルキルチオ基，Ｃ_1-6
アルキルスルフィニル基またはＣ_1-6 アルキルスルホニ
ル基を表す。Ｒ³ は、水素原子，またはＣ_1-6 アルキル
基を表す。Ｒ⁴ は、水素原子，Ｃ_1-6 アルキル基，Ｃ
_1-6 ハロアルキル基，ヒドロキシＣ_1-6 アルキル基また
はＣ_1-6 アルコキシＣ_1-6 アルキル基を表す。Ｒ⁵ は、
水素原子，Ｃ_1-6 アルキル基，Ｃ_2-6 アルケニル基また
はＣ_2-6 アルキニル基を表す。Ｒ⁶ は、水素原子，Ｃ
_1-6 アルキル基，Ｃ_3-8 シクロアルキル基，（ハロゲン
原子，ニトロ基，Ｃ_1-6 アルキル基，Ｃ_1-6 アルコキシ
基，Ｃ_1-6 ハロアルキル基またはＣ_1-6 ハロアルコキシ
基によって置換されていてもよい）フェニル基を表す。
ＸはＳＯ₂ ，（ＣＨ₂)_m ＣＯ，アルキル基で置換されて
もよいＣ_1-3 アルキレンまたは単結合を表す。ｍは０，
１，２，３を表す。］で表される化合物またはその塩、
およびそれら化合物を含有する除草剤である。

【００１２】Ｒ¹ ，Ｒ² において、ハロゲン原子として
は、フッ素，塩素，臭素などが、Ｃ_1-6 アルキル基とし
ては、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，ｔ−ブチルなどが、Ｃ_1-6 アルコキシ基としては、
メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブ
トキシ，ｔ−ブトキシなどが、Ｃ_1-6 ハロアルキル基と
しては、フルオロメチル，１−フルオロエチル，２−フ
ルオロエチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチ
ル，ジフルオロクロロメチル，フルオロクロロメチル，
トリクロロメチル，トリブロモメチル，トリフルオロエ
チル，ペンタフルオロエチルなどが、Ｃ_1-6 ハロアルコ
キシ基としては、トリフルオロメトキシ，１，１，２，
２−テトラフルオロエトキシ，トリクロロメトキシ，ジ
フルオロメトキシなどが、Ｃ_1-6 アルキルチオ基として
は、メチルチオ，エチルチオ，プロピルチオ，イソプロ
ピルチオなどが、Ｃ_1-6 アルキルスルフィニル基として
は、メチルスルフィニル，エチルスルフィニル，プロピ
ルスルフィニル、イソプロピルスルフィニルなどが、Ｃ
_1-6 アルキルスルホニル基としては、メチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロ
ピルスルホニルなどが挙げられる。

【００１３】Ｒ³ において、Ｃ_1-6 アルキル基として
は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチルなどが挙げられる。

【００１４】また、Ｒ⁴ において、Ｃ_1-6 アルキル基と
しては、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブ
チル，イソブチル，ｔ−ブチルなどが、Ｃ_1-6 ハロアル
キル基としては、フルオロメチル，１−フルオロエチ
ル，２−フルオロエチル，ジフルオロメチル，トリフル
オロメチル，ジフルオロクロロメチル，フルオロクロロ
メチル，トリクロロメチル，トリブロモメチル，トリフ
ルオロエチル，ペンタフルオロエチルなどが、ヒドロキ
シＣ_1-6 アルキル基としては、ヒドロキシメチル，１−
ヒドロキシエチル，２−ヒドロキシエチル，ヒドロキシ
プロピルなどが、Ｃ_1-6 アルコキシＣ_1-6 アルキル基と
しては、メトキシメチル．エトキシメチル，プロポキシ
メチル，イソプロポキシメチル，メトキシエチル，エト
キシエチル，エトキシプロピル，メトキシプロピル，エ
トキシプロピル，ブトキシプロピル，ｔ−ブトキシメチ
ル，ｔ−ブトキシエチルなどが挙げられる。

【００１５】Ｒ⁵ において、Ｃ_1-6 アルキル基として
は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，イソブチル，ｔ−ブチルなどが、Ｃ_2-6 アルケニル
基としては、ビニル，１−プロペニル，クロチル，アリ
ル，ブタジエニルなどが、Ｃ_2-6アルキニル基として
は、エチニル，１−プロピニル，２−プロピニルなどが
挙げられる。

【００１６】Ｒ⁶ において、Ｃ_1-6 アルキル基として
は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，イソブチル，ｔ−ブチルなどが、Ｃ_3-8 シクロアル
キル基としては、シクロプロピル，シクロブチル，シク
ロペンチル，シクロヘキシルなどが挙げられる。また、
（フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル，エ
チル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，
ｔ−ブチルなどのＣ_1-6 アルキル基、メトキシ，エトキ
シ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブト
キシなどのＣ_1-6 アルコキシ基、フルオロメチル，１−
フルオロエチル，２−フルオロエチル，ジフルオロメチ
ル，トリフルオロメチル，ジフルオロクロロメチル，フ
ルオロクロロメチル，トリクロロメチル，トリブロモメ
チル，トリフルオロエチル，ペンタフルオロエチルなど
のＣ_1-6 ハロアルキル基、トリフルオロメトキシ，１，
１，２，２−テトラフルオロエトキシ，トリクロロメト
キシ，ジフルオロメトキシなどのＣ_1-6 ハロアルコキシ
基で置換されていてもよい）フェニル基を挙げられる。

【００１７】Ｘは、ＳＯ₂ 、（ＣＨ₂)_m ＣＯ（ｍは０，
１，２または３を表す）、メチル，エチル等のアルキル
基で置換されてもよいＣ_1-3 アルキレンあるいは単結合
を表す。

【００１８】ＸＲ⁶ のより好ましい例としては、水素原
子，ＣＯＰｈ，ＣＨ₂ Ｐｈ，ＣＨ₂ＣＯＰｈ，ＳＯ₂ Ｐ
ｈで表される基を挙げることができる〔ここで、Ｐｈ
は、ベンゼン環の任意の位置が（フッ素、塩素、臭素等
のハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロ
ピル，ブチル，イソブチル，ｔ−ブチル等のＣ_1-6 アル
キル基、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポ
キシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシ等のＣ_1-6 アルコキシ基
またはフルオロメチル，１−フルオロエチル，２−フル
オロエチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，
ジフルオロクロロメチル，フルオロクロロメチル，トリ
クロロメチル，トリブロモメチル，トリフルオロエチ
ル，ペンタフルオロエチル等のＣ_1-6 ハロアルキル基ま
たはトリフルオロメトキシ，１，１，２，２−テトラフ
ルオロエトキシ，トリクロロメトキシ，ジフルオロメト
キシ等のＣ_1-6 ハロアルコキシ基によって置換されてい
てもよい）フェニル基を表す。〕。

【００１９】本発明化合物並びに以下に述べる中間体化
合物において、置換基の炭素数は、１〜６（Ｃ_1-6 ）ま
たは、２〜６（Ｃ_2-6 ）であるが、好ましくは、それぞ
れ、炭素数は、１〜４（Ｃ_1-4 ）または２〜４
（Ｃ_2-4 ）である。以下においても同様である。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明化合物は、次に示す方法に
よって製造することができる。

【００２１】

【化７】

【００２２】（式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，
Ｒ⁶ およびＸは、前記と同じ意味を有す。Ｑは、ハロゲ
ン原子、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカル
ボニルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を表し、Ｌは
ハロゲン原子を表す。）

【００２３】工程において、化合物〔Ｖa 〕および〔Ｖ
b 〕は、化合物〔ＶＩＩ〕と化合物［ＩＶａ］（Ｑは、
前記と同じ意味を表す。）とを各々１モルずつあるいは
一方を過剰に用い、１モルまたは過剰の塩基の存在下に
反応させることによって得られる。

【００２４】反応に用いられる塩基としては、ＫＯＨ，
ＮａＯＨ等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム，
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化カルシウ
ム，水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化
物、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、トリ
エチルアミン，ジイソプロピルエチルアミン等のトリ
（Ｃ_1-6 アルキル）アミン，ピリジン等の有機塩基、燐
酸ナトリウム等を例示することができる。

【００２５】また、溶媒としては、水，塩化メチレン，
クロロホルム，トルエン，酢酸エチル，Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ），テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ），ジメトキシエタン（ＤＭＥ），アセトニトリル等
が用いられる。

【００２６】反応混合物は反応が完了するまで−１０℃
から用いる溶媒の沸点で攪拌される。また、四級アンモ
ニウム塩等の相間移動触媒を用いて、二相系で反応させ
ることもできる。

【００２７】さらに、化合物〔Ｖa 〕および〔Ｖb 〕
は、化合物〔ＶＩＩ〕と化合物［ＩＶｂ］とを、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等の脱水縮合剤の
存在下に反応させることによっても得られる。ＤＣＣ等
との反応において用いられる溶媒としては、塩化メチレ
ン、クロロホルム、トルエン、酢酸エチル、ＤＭＦ、Ｔ
ＨＦ、ＤＭＥ、アセトニトリル、ｔ−アミルアルコール
等が用いられる。反応混合物は反応が完了するまで−１
０℃から用いる溶媒の沸点で攪拌される。反応混合物は
常法によって処理される。また、この反応混合物を、そ
のまま次の反応に用いることもできる。

【００２８】化合物〔Ｖａ〕および〔Ｖｂ〕は混合物と
して、次の転位反応に使用される。転位反応は、シアン
化合物および穏和な塩基の存在下で行われる。すなわ
ち、化合物〔Ｖa 〕および〔Ｖb 〕の１モルを、１〜４
モルの塩基、好ましくは１〜２モルの塩基および0.０１
モルから1.０モル、好ましくは0.０５モルから0.２モル
のシアン化合物と反応させることにより、〔Ｉａ〕で表
される化合物を得るものである。ここで用いられる塩基
は前記の塩基がいずれも用いられ得る。また、シアン化
合物としては、シアン化カリウム，シアン化ナトリウ
ム，アセトンシアンヒドリン，シアン化水素，シアン化
カリウムを保持したポリマー等が用いられる。なお、少
量のクラウンエーテル等の相間移動触媒を加えることに
より、反応がより短い時間で完結する。反応温度は８０
℃より低い温度、好ましくは室温から４０℃で行われ
る。用いられる溶媒は、１，２−ジクロロエタン，クロ
ロホルム，塩化メチレン，トルエン，アセトニトリル，
酢酸エチル，ＤＭＦ，メチルイソブチルケトン，ＴＨ
Ｆ，ＤＭＥ等である。

【００２９】また、この転位反応は溶媒中、炭酸カリウ
ム，炭酸ナトリウム，トリエチルアミン，ピリジン等の
塩基の存在下に行うこともできる。用いられる塩基の量
は、好ましくは、化合物〔Ｖａ〕および〔Ｖｂ〕に対し
て0.５〜2.０モルであり、溶媒としては、ＴＨＦ，ジオ
キサン，ｔ−アミルアルコール，ｔ−ブチルアルコール
等が用いられる。反応は、室温から用いる溶媒の沸点ま
での温度範囲で円滑に進行する。

【００３０】さらに、化合物〔Ｖａ〕および〔Ｖｂ〕を
単離することなしに、化合物〔ＶＩＩ〕と化合物［ＩＶ
ｂ］を、ＤＣＣ等の脱水縮合剤の存在下、塩基を作用さ
せることによっても化合物〔Ｉａ〕を得ることができ
る。反応に用いられる塩基としては、炭酸カリウム，炭
酸ナトリウム，ジイソプロピルエチルアミン，トリエチ
ルアミン，ピリジン等である。用いられる塩基の量は、
好ましくは、化合物〔ＶＩＩ〕に対して、0.５〜2.０モ
ルである。また、溶媒としては、ＴＨＦ，ジオキサン，
ｔ−アミルアルコール，ｔ−ブチルアルコール等が使用
することができ、反応温度は、室温から用いる溶媒の沸
点までの温度範囲が好ましい。

【００３１】次に、化合物〔Ｉ〕は、化合物〔Ｉａ〕
に、Ｒ⁶ Ｘ−Ｌ（Ｌはハロゲンを表す。）を、塩基の存
在下に反応させることによって製造できる。この反応に
おいて用いられる塩基としては、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等の
アルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム，炭酸ナトリウム
等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化カルシウム等のアルカ
リ土類金属水酸化物、炭酸カルシウム等のアルカリ土類
金属炭酸塩、トリエチルアミン，ジイソプロピルエチル
アミン等のトリ（Ｃ_1-6 アルキル）アミン，ピリジン等
の有機塩基、燐酸ナトリウム等である。溶媒としては、
塩化メチレン，クロロホルム，トルエン，酢酸エチル，
ＤＭＦ，ＴＨＦ，ＤＭＥ，アセトニトリル等が用いられ
る。反応は、０℃から用いる溶媒の沸点までの温度で円
滑に進行する。また、四級アンモニウム塩等の相間移動
触媒を用いて、水と、上記溶媒中水に不溶の溶媒との二
相系で反応させることによっても同様に目的物を製造す
ることができる。

【００３２】一般式〔ＶＩＩ〕で表される５−ヒドロキ
シピラゾール類は、例えば、特開昭６２−２３４０６９
号公報または特開平３−４４３７５号公報に記載された
以下に例示する方法に従って製造することができる。

【００３３】

【化８】

【００３４】本発明化合物の製造の重要な中間体である
化合物（１）および化合物（２）は、以下のような方法
によって製造できる。

【００３５】

【化９】

【００３６】〔式中、Ｒ¹ ，Ｒ² は、前記と同じ意味を
表す。Ｒ¹⁵は、Ｒ³ に対応するが水素原子を含まない。
Ｒは低級アルキルを表し、Ｚは、ハロゲン原子，Ｒ¹⁵Ｏ
ＳＯ₃基、Ｒ¹⁶ＳＯ₃ 基（Ｒ¹⁶は低級アルキル基、置換
していてもよいフェニル基）を表し、Ｙは、ハロゲン，
アルコキシを表す。〕

【００３７】これらの中間体であるテトラゾール誘導体
は、以下に示すような総説に記載の方法によって合成す
ることができる。Ｐ．Ｋ．Ｋａｄａｂａ，Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｉｓ，１９７３ ７１；Ｍ．Ｆ．Ａｎｓｅｌｌ，Ｒｏ
ｄｄ’ｓ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｃａｒｂｏｎ
Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，ＩＶＤ，２１１−２３７，Ｅｌｓ
ｅｖｉｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ
（１９８６）； Ｒ．Ｎ．Ｂｕｔｌｅｒ，Ａｄｖａｎｃ
ｅｓｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，２
１ ３２３−４３６，Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ
（１９７７）

【００３８】次に、テトラゾール誘導体の製造を、具体
的な例を挙げて説明する。化合物（３）あるいは化合物
（５）から既知の方法によって合成されるベンゾニトリ
ル体（７）に、アジ化ナトリウム，アジ化リチウム，ア
ジ化アンモニウムなどのアジ化物、または、アジ化ナト
リウムと塩化アンモニウムを加え、ＤＭＦ，Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド（ＤＭＡ），ジメチルスルホオキサ
イド（ＤＭＳＯ），アセトニトリルなどの溶媒中、室温
から用いる溶媒の沸点の間の温度で１〜４８時間反応さ
せることにより、化合物（８）を製造できる。さらに、
化合物（８）を原料として、通常のアルキル化により、
例えば、化合物（８）とアルキルハライド，ジアルキル
スルフェート，アルキルスルホネートとアルカリ金属水
酸化物、アルカリ金属炭酸塩，有機アミン類、金属ハラ
イドなどのアルキル化剤とを、エーテル類、アルコール
類、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどの溶媒中、
−１０℃から溶媒の沸点の間で反応させることにより、
化合物（１）を製造することができる。また、カルボン
酸（５）から常法に従って得られるＮ−アルキルアミド
体（９）から、常法に従い、イミドイルハライドあるい
はイミデート体（１０）を合成し、化合物（１０）とア
ジ化ナトリウムを、アセトン、水、ＤＭＦ、ＤＭＡ、Ｄ
ＭＳＯなどの溶媒中−１０℃から用いる溶媒の沸点の間
の温度で反応させることにより化合物（２）を得ること
ができる。

【００３９】さらに式［Ｉ−１］で表される安息香酸類
は、式［Ｉ−２］で表される４─Ｃｌ体に、塩基の存在
下にＲ’ＳＨで表されるメルカプタンを作用させること
によって、式［Ｉ−３］で表される４−ＳＲ’体とした
のち、酸化することにより製造することができる。ＳＯ
₂ Ｒ’が４位以外に置換している場合も相当する位置の
クロル体から同様にして変換できる。

【００４０】

【化１０】

【００４１】（式中、Ｒ¹ は、前記と同じ意味を表し、
Ｒは低級アルキルを表し、Ｒ’はＣ_1-6 アルキルを表
す。）

【００４２】この反応に用いられる塩基としては、水酸
化ナトリウム，水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、ナトリウムメトキシド，ナトリウムエトキシド等の
金属アルコキシド，炭酸ナトリウム，炭酸カリウム等の
炭酸塩、水素化ナトリウムなどの水素化物、トリエチル
アミン，ジイソプロピルエチルアミン，１，８−ジアザ
−ビシクロ［５．４．０］ウンデ−７−セン（ＤＢ
Ｕ），ピリジンなどの有機塩基を例示することができ
る。また、反応に用いられる溶媒としては、メタノー
ル，エタノールなどのアルコール類、ＴＨＦ，ＤＭＥな
どのエーテル類、ＤＭＦ，ＤＭＡなどアミド類、ジメチ
ルスルホキサイド（ＤＭＳＯ），アセトニトリル，ベン
ゼン，トルエン，キシレン等を例示することことができ
る。次の酸化反応は、水、酢酸等の有機酸、ジクロロメ
タン，クロロホルム，四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素等の不活性溶媒中、過酸化水素，過酢酸，過安息香
酸，ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸、次亜塩素酸ナト
リウム，次亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸等の酸化剤
を使用して行われる。反応は、室温から溶媒の沸点まで
の温度範囲で円滑に進行する。

【００４３】又、化合物［Ｉ］が、遊離のヒドロキシル
基を含有している場合には、該化合物から、その塩、特
に農園芸的に許容され得る塩、エナミンまたはその類似
物，アシレート，スルホネート，カルバメート，エーテ
ル，チオエーテル，スルホキシドまたはスルホン等を誘
導し得る。適当な農園芸的に許容され得る塩として、ナ
トリウム，カリウム，カルシウムおよびアンモニウム等
の塩が挙げられる。アンモニウム塩の例としては、式：
Ｎ⁺ ＲａＲｂＲｃＲｄ（式中、Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃおよび
Ｒｄは、それぞれ独立して、水素および、場合によりヒ
ドロキシ基等により置換されたＣ_1-10アルキル基であ
る）のイオンとの塩が挙げられる。Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃお
よびＲｄは、いずれかが、場合により置換されたアルキ
ル基である場合には、これらは１〜４個の炭素原子を含
有していることが望ましい。適当なエナミンまたはその
類似物は、ＯＨ部分がそれぞれ、式：−ＮＲｅＲｆ（式
中、ＲｅおよびＲｆは、それぞれ独立して、水素また
は、例えば炭素数が１〜６個の、場合により置換された
アルキル基またはアリール基、例えばフェニル基であ
る。）、ハロゲン、Ｓ（Ｏ）ｇＲｈ（式中：Ｒｈは、例
えば炭素数が１〜６個の、場合により置換されたアルキ
ル基またはアリール基、例えばフェニル基であり、ｇは
０〜２を表す。）に転化されている化合物である。適当
なアシレート，エーテルまたはカルバメート誘導体は、
ＯＨ部分が、それぞれ、式：−ＯＣＯＲｉ，−ＯＲｊま
たは−ＯＣＯＮＲｋＲｌ（式中、ＲｉおよびＲｊは、前
記のＲｈと同じ意味を表し、ＲｋおよびＲｌは、前記の
Ｒｅと同じ意味を表す。）に転化されている化合物であ
る。これらの誘導体は、慣用の方法で製造し得る。

【００４４】本発明化合物〔Ｉ〕には、光学活性体が存
在する場合もあり、さらに下記に示すような多数の互変
異性体の形で存在し得る。かかる形は、すべて本発明の
範囲に含まれる。

【００４５】

【化１１】

【００４６】本発明において、反応終了後は、通常の後
処理を行うことにより目的物を得ることができる。本発
明化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳ等から決定
した。

【００４７】〔除草剤〕本発明化合物は畑作条件で、土
壌処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示
し、アキノエノコログサ、イチビ、イヌビユ、エンバク
等の各種畑雑草に有効で、トウモロコシ、ムギ類、大
豆、ワタ等の作物に選択性を示す化合物も含まれてい
る。

【００４８】また、本発明化合物は、作物、観賞用植
物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用等の植物成
長調節作用を示す化合物も含まれている。

【００４９】また、本発明化合物は、水田雑草のノビ
エ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等の各種水田雑
草に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す
化合物も含まれている。さらに、本発明化合物は、果樹
園、芝生、線路端、空き地等の雑草の防除にも適用する
ことができる。本発明化合物には植物成長調節作用、殺
菌活性、殺虫・殺ダニ活性を有するものも含まれる。

【００５０】本発明除草剤は、本発明化合物の１種また
は２種以上を有効成分として含有する。本発明化合物を
実際に施用する際には、他成分を加えず純粋な形で使用
できるし、また農薬として使用する目的で一般の農薬の
とり得る形態、すなわち、水和剤，粒剤，粉剤，乳剤，
水溶剤，懸濁剤，フロアブル等の形態で使用することも
できる。添加剤および担体としては固型剤を目的とする
場合は、大豆粉，小麦粉等の植物性粉末、珪藻土，燐灰
石，石こう，タルク，ベントナイト，パイロフィライ
ト，クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ，尿素，
芒硝等の有機および無機化合物が使用される。液体の剤
型を目的とする場合は、ケロシン，キシレンおよびソル
ベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサン，シクロヘ
キサノン，ＤＭＦ，ＤＭＳＯ，アルコール，アセトン，
トリクロルエチレン，メチルイソブチルケトン，鉱物
油，植物油，水等を溶剤として使用する。これらの製剤
において均一かつ安定な形態をとるために、必要ならば
界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤として
は、特に限定はないが、例えば、ポリオキシエチレンが
付加したアルキルフェニルエーテル，ポリオキシエチレ
ンが付加したアルキルエーテル，ポリオキシエチレンが
付加した高級脂肪酸エステル，ポリオキシエチレンが付
加したソルビタン高級脂肪酸エステル，ポリオキシエチ
レンが付加したトリスチリルフェニルエーテル等の非イ
オン性界面活性剤，ポリオキシエチレンが付加したアル
キルフェニルエーテルの硫酸エステル塩，アルキルベン
ゼンスルホン酸塩，高級アルコールの硫酸エステル塩，
アルキル硫酸塩，アルキルナフタレンスルホン酸塩，ポ
リカルボン酸塩，リグニンスルホン酸塩，アルキルナフ
タレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物，イソブ
チレン−無水マレイン酸の共重合物などが挙げられる。

【００５１】本発明除草剤における有効成分濃度は、前
述した製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤においては、５〜９０重量％、好ま
しくは１０〜８５％：乳剤においては、３〜７０％、好
ましくは５〜６０％：粒剤においては、0.０１〜５０
％、好ましくは、0.０５％〜４０％の濃度が用いられ
る。

【００５２】このようにして得られた水和剤、乳剤は水
で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳濁液として、粒
剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に散布処理もしく
は混和処理される。実際に本発明除草剤を適用するに当
たっては１ヘクタール当たり有効成分0.１ｇ以上の適当
量が施用される。

【００５３】また、本発明除草剤は公知の殺菌剤，殺虫
剤，殺ダニ剤，除草剤，植物成長調整剤，肥料等と混合
して使用することも出来る。特に、除草剤と混合使用す
ることにより、使用薬量を減少させることが可能であ
る。また、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相
乗作用により一層高い効果も期待できる。その場合、複
数の公知除草剤との組合せも可能である。

【００５４】本発明除草剤と混合使用するにふさわしい
薬剤としては、ジフルフェニカン，プロパニル等のアニ
リド系除草剤、アラクロール，プレチラクロール等のク
ロロアセトアニリド系除草剤、２，４−Ｄ，２，４−Ｄ
Ｂ等のアリールオキシアルカン酸系除草剤、ジクロホッ
プ−メチル，フェノキサプロップ−エチル等のアリール
オキシフェノキシアルカン酸系除草剤、ジカンバ，ピリ
チオバック等のアリールカルボン酸系除草剤、イマザキ
ン，イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤、ジウロ
ン，イソプロツロン等のウレア系除草剤、クロルプロフ
ァム，フェンメジファム等のカーバメート系除草剤、チ
オベンカルブ、ＥＰＴＣ等のチオカーバメート系除草
剤、トリフルラリン，ペンジメタリン等のジニトロアニ
リン系除草剤、アシフルオルフェン、ホメサフェン等の
ジフェニルエーテル系除草剤、ベンスルフロン−メチ
ル、ニコスルフロン等のスルホニルウレア系除草剤、メ
トリブジン、メタミトロン等のトリアジノン系除草剤、
アトラジン、シアナジン等のトリアジン系除草剤、フル
メツラム等のトリアゾピリミジン系除草剤、ブロモキシ
ニル、ジクロベニル等のニトリル系除草剤、グリホサー
ト、グリホシネート等のリン酸系除草剤、パラコート、
ジフェンゾコート等の４級アンモニウム塩系除草剤、フ
ルミクロラック−ペンチル、フルチアセット−メチル等
の環状イミド系除草剤、その他として、イソキサベン、
エトフメセート、オキサジアゾン、キンクロラック、ク
ロマゾン、スルコトリオン、シンメチリン、ジチオピ
ル、ピラゾレート、ピリデート、フルポキサム、ベンタ
ゾン、ベンフルセート、更に、セトキシジム、トラルコ
キシジム等のシクロヘキサンジオン系除草剤等が挙げら
れる。また、これらの組み合わせた物に植物油及び油濃
縮物を添加することも出来る。

【００５５】

【実施例】次に実施例、参考例を挙げて、本発明化合物
を更に詳細に説明する。

【００５６】実施例１ ４−［２，４−ジクロロ−３−（１−メチルテトラゾー
ル−５−イル）ベンゾイル］−１−エチル−５−ヒドロ
キシピラゾール（化合物番号Ｉ−１１）の製造

【００５７】

【化１２】

【００５８】ベンゼン２０ｍｌに、２，４−ジクロロ−
３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾイッ
クアシッド0.６０ｇ、チオニルクロリド1.３ｇおよびピ
リジン１滴を加え、２時間加熱還流した。ベンゼンを減
圧留去した後、残留物をジクロロメタン２０ｍｌに溶解
し、１−エチル−５−ヒドロキシピラゾール塩酸塩0.４
２ｇを加えた後、冷却下にトリエチルアミン0.５１ｇを
滴下した。室温で１時間攪拌した後、アセトンシアンヒ
ドリン0.１０ｇおよびトリエチルアミン0.２２ｇを加え
て、室温で４日間攪拌した。反応液は、１Ｎ−水酸化ナ
トリウム水溶液１０ｍｌと水１０ｍｌを加えて抽出し、
得られた水層を１規定塩酸でｐＨ＝４にした後、酢酸エ
チルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にメ
タノールを加え、析出した結晶を濾取して、目的物0.０
７ｇを得た。ｍ．ｐ．２３３−２３５℃

【００５９】実施例２ ４−［２，４−ジクロロ−３−（２−メチルテトラゾー
ル−５−イル）ベンゾイル］−１−エチル−５−ヒドロ
キシピラゾール（化合物番号ＩＩ−１１）の製造

【００６０】

【化１３】

【００６１】ベンゼン２０ｍｌに、２，４−ジクロロ−
３−（２−メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾイッ
クアシッド0.８３ｇ、チオニルクロリド1.８ｇおよびピ
リジン１滴を加え、１時間加熱還流した。ベンゼンを減
圧留去した後、ジクロロメタン２０ｍｌに溶解し、１−
エチル−５−ヒドロキシピラゾール塩酸塩0.５４ｇを加
えた後、冷却下にトリエチルアミン0.６５ｇを滴下し
た。室温で1.５時間攪拌した後、アセトンシアンヒドリ
ン0.１０ｇおよびトリエチルアミン0.３３ｇを加えて、
室温で１４時間攪拌した。反応液は、１Ｎ−水酸化ナト
リウム水溶液１５ｍｌと水１５ｍｌを加えて抽出し、得
られた水層を濃塩酸でｐＨ＝４にした後、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を分取用薄
層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９
／１）で精製して、粉末として目的物0.３１ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，δｐｐｍ）の結果を別記し
た。（ＮＭＲ−２）

【００６２】実施例３ ４−［２−クロロ−４−メチルスルホニル−３−（２−
メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾイル］−５−ヒ
ドロキシ−１−メチルピラゾール（化合物番号ＩＩ−
７）の製造

【００６３】

【化１４】

【００６４】ベンゼン２０ｍｌに、２，４−ジクロロ−
３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾイッ
クアシッド0.８０ｇ、チオニルクロリド1.５ｇおよびピ
リジン１滴を加え、２時間加熱還流した。ベンゼンを減
圧留去した後、ジクロロメタン２０ｍｌに溶解し、塩酸
５−ヒドロキシ−１−メチルピラゾール0.４０ｇを加
えた後、冷却下にトリエチルアミン0.３０ｇを滴下し
た。室温で２時間攪拌した後、アセトンシアンヒドリン
0.１０ｇおよびトリエチルアミン0.３０ｇを加えて、室
温で１７時間攪拌した。反応液は、１Ｎ−水酸化ナトリ
ウム水溶液１０ｍｌと水１０ｍｌを加えて抽出し、得ら
れた水層を濃塩酸で酸性にした後、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去した。得られた残留物にメタノールを加
え、析出した結晶を濾取して、目的物0.４１ｇを得た。
ｍ．ｐ．２２６−２２７℃

【００６５】本発明化合物の¹H−ＮＭＲデータ（ＣＤＣ
ｌ₃ ，δｐｐｍ）を次に示す。 ＮＭＲ−１（Ｉ−１０）：1.81(3H,s),3.21(3H,s),3.48
(3H,s).3.67(3H,s),3.96(3H,s),3.98(1H,bs),7.78(1H,
d),8.31(1H,d)．（後出の第１表） ＮＭＲ−２（ＩＩ−１１）：1.47(3H,t),4.07(2H,q),4.
50(3H,s),4.93(1H,bs),7.40(1H,s),7.59(2H,s)．（後出
の第２表）

【００６６】参考例１ ２，４−ジクロロ−３−（１−メチルテトラゾール−５
−イル）ベンゾイックアシッドの製造

【００６７】

【化１５】

【００６８】２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッドメチルアミド２5.１ｇ、五塩化
リン２0.９ｇをベンゼン３００ｍｌに加え、１時間４５
分間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸分を減
圧留去して得た粗製イミドイルクロリドをＤＭＦ２００
ｍｌに溶解し、室温下に９０％アジ化ナトリウム7.２４
ｇを添加した。添加後、室温で６０時間、８０℃で１０
時間攪拌した。冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水洗、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、結晶を
含む油状物質を得た。酢酸エチルで結晶を濾別後、濾液
を濃縮して得た油状物質をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）で精製
して、結晶として、メチル ２，４−ジクロロ−３−
（１−メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾエート１
0.７ｇを得た。ｍ．ｐ．１０９−１１０℃ メチル ２，４−ジクロロ−３−（１−メチルテトラゾ
ール−５−イル）ベンゾエート4.０ｇをエタノール４２
ｍｌに加え、１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液４1.７ｍｌ
を加えた後、室温で２２時間攪拌した。反応終了後、溶
媒を減圧留去して得られた残留物を水に溶解し、冷却下
に酢酸エチルで洗浄した。水層は、濃塩酸で酸性とし、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧
留去して、結晶として目的物3.６４ｇを得た。ｍ．ｐ．
２３２−２３５℃

【００６９】参考例２ ２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニルベンゾイッ
クアシッドメチルアミドの製造

【００７０】

【化１６】

【００７１】２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド３0.０ｇ、塩化チオニル７1.４
ｇをベンゼン３００ｍｌに加え、数滴のピリジンを添加
後、２時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸
物を減圧下に留去して、得られた残留物をアセトニトリ
ル２００ｍｌに溶解し、氷冷下にメチルアミン塩酸塩8.
９ｇ、次いでトリエチルアミン２6.６ｇを添加後、２時
間加熱還流した。冷却後、アセトニトリルを減圧留去し
て、得られた残留物をクロロホルムに溶解し、水洗およ
び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去して、得られた結晶を酢酸エチルで
洗浄して、目的物２5.１２ｇを得た。

【００７２】参考例３ ２，４−ジクロロ−３−（２−メチルテトラゾール−５
−イル）ベンゾイックアシッドの製造

【００７３】

【化１７】

【００７４】２，４−ジクロロ−３−（テトラゾール−
５−イル）ベンゾイックアシッド3.３ｇをＤＭＦ２０ｍ
ｌに溶解し、炭酸カリウム3.７ｇおよび沃化メチル3.８
ｇを添加後、１００℃で２時間攪拌した。反応液を水に
あけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗、飽和食塩水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去して、得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７／
３）で精製して、メチル ２，４−ジクロロ−３−（２
−メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾエート1.５１
ｇを得た。メチル ２，４−ジクロロ−３−（２−メチ
ルテトラゾール−５−イル）ベンゾエート1.９１ｇをエ
タノール２０ｍｌに添加し、１Ｎ−水酸化ナトリウム水
溶液２０ｍｌを加えて、室温で１５時間攪拌した。参考
例１と同様の後処理を行い、結晶として目的物1.５１ｇ
を得た。ｍ．ｐ．２１４−２１７℃

【００７５】参考例４ メチル ２−クロロ−３−（２−メチルテトラゾール−
５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾエートの製造

【００７６】

【化１８】

【００７７】メチル ２，４−ジクロロ−３−（２−メ
チルテトラゾール−５−イル）ベンゾエート7.４６ｇと
炭酸カリウム3.９３ｇを６０ｍｌのＤＭＦに溶解し、メ
タンチオール1.８６ｇを溶解したＤＭＦ２０ｍｌを加
え、室温で１7.５時間、ついで４０℃で2.５時間攪拌し
た。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽
和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を減圧下留去した。得られた粗製メチル ２−クロロ−
３−（２−メチルテトラゾール−５−イル）−４−メチ
ルスルフェニルベンゾエートを１５０ｍｌのクロロホル
ムに溶解し、ｍ−クロロ過安息香酸２4.３ｇ（純度５５
％）を加え、室温で１８時間攪拌した。反応混合物を濾
過し、濾液を１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液、次いで飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）で
精製し、白色結晶として目的物4.６６ｇを得た。ｍ．
ｐ．１５０−１５１℃

【００７８】参考例５ ２−クロロ−３−（２−メチルテトラゾール−５−イ
ル）−４−メチルスルホニルベンゾイックアシッドの製
造

【００７９】

【化１９】

【００８０】メチル ２−クロロ−３−（２−メチルテ
トラゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾ
エート4.６６ｇをエタノール４２ｍｌに添加し、１Ｎ−
水酸化ナトリウム水溶液４２ｍｌを加えて、室温で１５
時間攪拌した。参考例１と同様の後処理を行い、結晶と
して、目的物4.１ｇを得た。ｍ．ｐ．２０１−２０２℃
同様にして、２−クロロ−３−（１−メチルテトラゾー
ル−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾイックア
シッドを粉末で得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，δｐｐｍ）： 3.20(3H,s),
3.96(3H,s),8.27(1H,d),8.33(1H,d),9.27(1H,bs)

【００８１】参考例６ ２，４−ジクロロ−３−（テトラゾール−５−イル）ベ
ンゾイックアシッドの製造

【００８２】

【化２０】

【００８３】メチル ３−［１−（２−シアノエチル）
テトラゾール−５−イル］−２，４−ジクロロベンゾエ
ート5.６ｇをエタノール１００ｍｌに加え、１Ｎ−水酸
化ナトリウム水溶液１００ｍｌを加えた後、室温で１５
時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去して、得ら
れた残留物を水に溶解し、１Ｎ−塩酸で酸性とした後、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧
留去して、結晶として目的物4.４ｇを得た。ｍ．ｐ．２
３５−２３８℃

【００８４】参考例７ メチル ３−［１−（２−シアノエチル）テトラゾール
−５−イル］−２，４−ジクロロベンゾエートの製造

【００８５】

【化２１】

【００８６】２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド ２−シアノエチルアミド４3.
２ｇ、五塩化リン３2.９ｇをベンゼン５００ｍｌに加
え、１時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸
分を減圧留去して得られた粗製イミドイルクロリドを、
ＤＭＦ３００ｍｌに溶解し、室温下に、９０％アジ化ナ
トリウム１1.４ｇを添加した。添加後、８０℃で１７時
間攪拌し、冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた
粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘ
キサン／酢酸エチル＝７／３）で精製して、目的物5.６
ｇを得た。

【００８７】参考例８ ２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニルベンゾイッ
クアシッド ２−シアノエチルアミドの製造

【００８８】

【化２２】

【００８９】２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド３8.０ｇ、塩化チオニル９0.８
ｇをベンゼン４００ｍｌに加え、数滴のピリジンを添加
後、1.５時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低
沸物を減圧下に留去して、得られた残留物をアセトニト
リル２５０ｍｌに溶解し、氷冷下に、２−シアノエチル
アミン２1.４ｇを滴下後、室温で１７時間攪拌した。ア
セトニトリルを減圧留去後、得られた残留物をクロロホ
ルムに溶解し、水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、目的物
４3.２ｇを得た。

【００９０】上記実施例を含めて、本発明化合物の代表
例を第１表〜第４表に示す。

【００９１】

【表１０１】

【００９２】

【表１０２】

【００９３】

【表１０３】

【００９４】

【表２０１】

【００９５】

【表２０２】

【００９６】

【表２０３】

【００９７】

【表３０１】

【００９８】

【表３０２】

【００９９】

【表４０１】

【０１００】

【表４０２】

【０１０１】〔除草剤〕次に、本発明除草剤に関する製
剤例を若干示すが、有効成分化合物、添加物及び添加割
合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で
変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。

【０１０２】 実施例４ 水和剤 本発明化合物 ２０部 ホワイトカーボン ２０部 ケイソウ土 ５２部 アルキル硫酸ソーダ ８部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分２０％の
水和剤を得た。

【０１０３】 実施例５ 乳剤 本発明化合物 ２０部 キシレン ５５部 ジメチルホルムアミド １５部 ポリオキシエチレンフェニルエーテル １０部 以上を混合、溶解して有効成分２０％の乳剤を得た。

【０１０４】 実施例６ 粒剤 本発明化合物 ５部 タルク ４０部 クレー ３８部 ベントナイト １０部 アルキル硫酸ソーダ ７部 以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径0.５〜1.０ｍ
ｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得た。

【０１０５】

【発明の効果】次に本発明除草剤の効果に関する試験例
を示す。除草効果は下記の調査基準に従って調査し、殺
草指数で表した。

【０１０６】 調査基準 殺 草 率 殺 草 指 数 ０％ ０ ２０〜２９％ ２ ４０〜４９％ ４ ６０〜６９％ ６ ８０〜８９％ ８ １００％ １０ また、１、３、５、７、９の数値は、各々０と２、２と
４、４と６、６と８、８と１０の中間の値を示す。

【０１０７】

【数１】

【０１０８】試験例１ 茎葉散布処理 ２００ｃｍ² のポットに土壌を充填し、表層にイチビ，
イヌビユ，オナモミ，アキノエノコログサ、エンバク、
トウモロコシおよびコムギの各種子を播き、軽く覆土後
温室内で生育させた。各植物が５〜２５ｃｍの草丈に生
育した時点で実施例５に示した乳剤の水希釈液を、有効
成分が所定の薬量になるように、１０００リットル／ｈ
ａ散布量相当量を小型噴霧器にて茎葉部に散布した。３
週間後に作物の薬害及び雑草の除草効果を前記調査基準
に従って調査し、その結果を第５表に示した。

【０１０９】

【表５】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古口 正巳 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 ［式中、Ｒ¹ ，Ｒ² は、それぞれ独立して、ニトロ基，
   シアノ基，ハロゲン原子，Ｃ_1-6 アルキル基，Ｃ_1-6 ア
   ルコキシ基，Ｃ_1-6 ハロアルキル基，Ｃ_1-6 ハロアルコ
   キシ基，Ｃ_1-6 アルキルチオ基，Ｃ_1-6 アルキルスルフ
   ィニル基またはＣ_1-6 アルキルスルホニル基を表す。Ｒ
   ³ は、水素原子，またはＣ_1-6 アルキル基を表す。Ｒ⁴
   は、水素原子，Ｃ_1-6 アルキル基，Ｃ_1-6 ハロアルキル
   基，ヒドロキシＣ_1-6 アルキル基またはＣ_1-6 アルコキ
   シＣ_1-6 アルキル基を表す。Ｒ⁵ は、水素原子，Ｃ_1-6
   アルキル基，Ｃ_2-6 アルケニル基またはＣ_2-6 アルキニ
   ル基を表す。Ｒ⁶ は、水素原子，Ｃ_1-6 アルキル基，Ｃ
   _3-8 シクロアルキル基，または（ハロゲン原子，ニトロ
   基，Ｃ_1-6 アルキル基，Ｃ_1-6 アルコキシ基，Ｃ_1-6 ハ
   ロアルキル基若しくはＣ_1-6 ハロアルコキシ基によって
   置換されていてもよい）フェニル基を表す。Ｘは、ＳＯ
   ₂ ，（ＣＨ₂)_m ＣＯ，アルキル基で置換されてもよいＣ
   _1-3 アルキレンまたは単結合を表す。ｍは０，１，２，
   ３を表す。］で表される化合物またはその塩。
2. 【請求項２】一般式〔Ｉ〕 【化２】 （式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ およびＸ
   は、前記と同じ意味を表す。）で表される化合物もしく
   はその塩の１種または２種以上を有効成分として含有す
   ることを特徴とする除草剤。