JPH05271199A - Ｎ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体、その製造方法及び除草剤 - Google Patents
Ｎ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体、その製造方法及び除草剤Info
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- A01N47/28—Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N<
- A01N47/36—Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N< containing the group >N—CO—N< directly attached to at least one heterocyclic ring; Thio analogues thereof
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- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
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- C07C311/37—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C311/38—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring having sulfur atoms of sulfonamide groups and amino groups bound to carbon atoms of six-membered rings of the same carbon skeleton
- C07C311/39—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring having sulfur atoms of sulfonamide groups and amino groups bound to carbon atoms of six-membered rings of the same carbon skeleton having the nitrogen atom of at least one of the sulfonamide groups bound to hydrogen atoms or to an acyclic carbon atom
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- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/40—Nitrogen atoms
- C07D251/42—One nitrogen atom
- C07D251/46—One nitrogen atom with oxygen or sulfur atoms attached to the two other ring carbon atoms
Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規なＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベ
ンゼンスルホンアミド誘導体およびそれを有効成分とす
る除草剤を提供する。 【構成】 Ｎ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼン
スルホンアミド誘導体は、式（Ｉ）で示され、除草剤は
それを有効成分として含有する。 （式中、Ｒ1 はＣ1 −Ｃ4 アルキル、モノクロルメチ
ル、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシメチ
ル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4アル
キルチオエチル、ピリジル、チエニル、テニル、テトラ
ヒドロフルフリル、モルホリノ、無置換フェニル、また
は塩素もしくはＣ1 −Ｃ4 アルキルで置換されたフェニ
ル基を示し、Ｒ2 は水素またはＣ1 −Ｃ4 アルキル基を
示し、Ｒ3 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｘ1 はＣ
1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ基または塩素
を示し、Ｘ2 はＣ1 −Ｃ3 アルキルまたはＣ1 −Ｃ3 ア
ルコキシ基を示し、Ｚは、ＮまたはＣＨを示す。）
ンゼンスルホンアミド誘導体およびそれを有効成分とす
る除草剤を提供する。 【構成】 Ｎ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼン
スルホンアミド誘導体は、式（Ｉ）で示され、除草剤は
それを有効成分として含有する。 （式中、Ｒ1 はＣ1 −Ｃ4 アルキル、モノクロルメチ
ル、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシメチ
ル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4アル
キルチオエチル、ピリジル、チエニル、テニル、テトラ
ヒドロフルフリル、モルホリノ、無置換フェニル、また
は塩素もしくはＣ1 −Ｃ4 アルキルで置換されたフェニ
ル基を示し、Ｒ2 は水素またはＣ1 −Ｃ4 アルキル基を
示し、Ｒ3 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｘ1 はＣ
1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ基または塩素
を示し、Ｘ2 はＣ1 −Ｃ3 アルキルまたはＣ1 −Ｃ3 ア
ルコキシ基を示し、Ｚは、ＮまたはＣＨを示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｎ−置換−３−（置換
ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体、その製造
方法、その誘導体を有効成分とする除草剤、およびその
製造中間体に関する。
ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体、その製造
方法、その誘導体を有効成分とする除草剤、およびその
製造中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、除草剤として多数の化合物が提案
されており、Ｎ−置換ベンゼンスルホンアミド誘導体に
ついても多種類のものが除草剤として報告されている。
例えば、特開昭５９−１５２３７７号公報および特開昭
６２−１２９２７６号公報には、広範な化合物が開示さ
れており、その中には、ベンゼンスルホンアミドのベン
ゼン環の３位に、−ＮＨＣ（ＣＨ3 ）＝ＣＨＣＯＣ
Ｈ3 、−ＮＨＣ（ＣＨ3 ）＝ＣＨＣＯＯＣＨ3 、−ＮＨ
ＣＨ3 、−ＯＣＨ2 ＣＦ3 、または−ＳＣＨ2 ＣＦ3 を
結合させ、かつ、窒素原子にピリミジン環または、１，
３，５−トリアジン環を結合させたＮ−置換−３−置換
ベンゼンスルホンアミド誘導体が開示されている。ま
た、特開平２−２０７０７５号公報には、ベンゼンスル
ホンアミドのベンゼン環の３位に、−ＮＨＮ＝ＣＨＣＦ
3 、−ＮＨＮ＝ＣＨＣＯＯＨ、または−ＮＨＮ＝ＣＨＣ
Ｃｌ＝ＣＣｌＣＯＯＨを結合させ、かつ、窒素原子にピ
リミジン環または１，３，５−トリアジン環を結合させ
たＮ−置換−３−置換ベンゼンスルホンアミド誘導体が
開示されている。
されており、Ｎ−置換ベンゼンスルホンアミド誘導体に
ついても多種類のものが除草剤として報告されている。
例えば、特開昭５９−１５２３７７号公報および特開昭
６２−１２９２７６号公報には、広範な化合物が開示さ
れており、その中には、ベンゼンスルホンアミドのベン
ゼン環の３位に、−ＮＨＣ（ＣＨ3 ）＝ＣＨＣＯＣ
Ｈ3 、−ＮＨＣ（ＣＨ3 ）＝ＣＨＣＯＯＣＨ3 、−ＮＨ
ＣＨ3 、−ＯＣＨ2 ＣＦ3 、または−ＳＣＨ2 ＣＦ3 を
結合させ、かつ、窒素原子にピリミジン環または、１，
３，５−トリアジン環を結合させたＮ−置換−３−置換
ベンゼンスルホンアミド誘導体が開示されている。ま
た、特開平２−２０７０７５号公報には、ベンゼンスル
ホンアミドのベンゼン環の３位に、−ＮＨＮ＝ＣＨＣＦ
3 、−ＮＨＮ＝ＣＨＣＯＯＨ、または−ＮＨＮ＝ＣＨＣ
Ｃｌ＝ＣＣｌＣＯＯＨを結合させ、かつ、窒素原子にピ
リミジン環または１，３，５−トリアジン環を結合させ
たＮ−置換−３−置換ベンゼンスルホンアミド誘導体が
開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来、環境
中の存在量を少なくできる利点を持つような低薬量で確
実な除草効果を示す除草剤、環境条件の変化にかかわら
ず作物と雑草間に選択性を示す除草剤、及び二期作で後
作に薬害を生じない除草剤など、優れた除草効果を示す
除草剤に対する要望が高い。
中の存在量を少なくできる利点を持つような低薬量で確
実な除草効果を示す除草剤、環境条件の変化にかかわら
ず作物と雑草間に選択性を示す除草剤、及び二期作で後
作に薬害を生じない除草剤など、優れた除草効果を示す
除草剤に対する要望が高い。
【０００４】本発明は、従来の上記のような要望に応え
ることを課題としてなされたものである。したがって、
本発明の目的は、優れた除草効果を示す新規な化合物、
その製造方法、その化合物を有効成分とする新規な除草
剤、およびその製造中間体を提供することにある。
ることを課題としてなされたものである。したがって、
本発明の目的は、優れた除草効果を示す新規な化合物、
その製造方法、その化合物を有効成分とする新規な除草
剤、およびその製造中間体を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ベンゼン
スルホンアミドのベンゼン環の３位に、上記特開昭５９
−１５２３７７号公報および特開昭６２−１２９２７６
号公報に開示されているものとは異なる置換基を有する
文献未記載の新規な化合物が、優れた除草効果を有する
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
スルホンアミドのベンゼン環の３位に、上記特開昭５９
−１５２３７７号公報および特開昭６２−１２９２７６
号公報に開示されているものとは異なる置換基を有する
文献未記載の新規な化合物が、優れた除草効果を有する
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】本発明は次の構成上の特徴を有する。本発
明の第１のものは、Ｎ−置換−３−（置換ヒドラジノ）
ベンゼンスルホンアミド誘導体に関するものであって、
下記式（Ｉ）で示される。
明の第１のものは、Ｎ−置換−３−（置換ヒドラジノ）
ベンゼンスルホンアミド誘導体に関するものであって、
下記式（Ｉ）で示される。
【化８】 （式中、Ｒ1 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、モノクロルメ
チル基、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキ
シメチル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル基、Ｃ1
−Ｃ4 アルキルチオエチル基、ピリジル基、チエニル
基、テニル基、テトラヒドロフルフリル基、モルホリノ
基、無置換フェニル基、または塩素原子もしくはＣ1 −
Ｃ4 アルキル基で置換されたフェニル基を示し、Ｒ
2 は、水素原子またはＣ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｒ
3 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｘ1は、Ｃ1 −Ｃ
3 アルキル基、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ基または塩素原子
を示し、Ｘ2 は、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル基またはＣ1 −Ｃ
3 アルコキシ基を示し、Ｚは、ＮまたはＣＨを示す。）
チル基、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキ
シメチル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル基、Ｃ1
−Ｃ4 アルキルチオエチル基、ピリジル基、チエニル
基、テニル基、テトラヒドロフルフリル基、モルホリノ
基、無置換フェニル基、または塩素原子もしくはＣ1 −
Ｃ4 アルキル基で置換されたフェニル基を示し、Ｒ
2 は、水素原子またはＣ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｒ
3 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｘ1は、Ｃ1 −Ｃ
3 アルキル基、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ基または塩素原子
を示し、Ｘ2 は、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル基またはＣ1 −Ｃ
3 アルコキシ基を示し、Ｚは、ＮまたはＣＨを示す。）
【０００７】本発明の第２のものは、上記式（Ｉ）で示
されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスル
ホンアミド誘導体を製造する方法に関するものであっ
て、下記反応式で示される。すなわち、式（IV）で示さ
れる２−アミノ−４，６−ジ置換−１，３，５−トリア
ジンまたはピリミジンと炭酸ジフェニルを反応させて、
式（III ）で示されるフェニルカーバメート誘導体を生
成させ、それを単離することなく、式（II）で示される
３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体
と反応させることを特徴とする。
されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスル
ホンアミド誘導体を製造する方法に関するものであっ
て、下記反応式で示される。すなわち、式（IV）で示さ
れる２−アミノ−４，６−ジ置換−１，３，５−トリア
ジンまたはピリミジンと炭酸ジフェニルを反応させて、
式（III ）で示されるフェニルカーバメート誘導体を生
成させ、それを単離することなく、式（II）で示される
３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体
と反応させることを特徴とする。
【０００８】
【化９】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘ1 、Ｘ2 およびＺは、そ
れぞれ前記と同じ内容を示す。）
れぞれ前記と同じ内容を示す。）
【０００９】本発明の第３のものは、上記Ｎ−置換−３
−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体の
製造中間体である３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスル
ホンアミド誘導体に関するものであって、下記式（II）
で示される。
−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体の
製造中間体である３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスル
ホンアミド誘導体に関するものであって、下記式（II）
で示される。
【化１０】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ前記と同じ
内容を示す。）
内容を示す。）
【００１０】本発明の第４のものは、除草剤に関するも
のであって、上記式（Ｉ）で示されるＮ−置換−３−
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を有
効成分として含有することを特徴とする。
のであって、上記式（Ｉ）で示されるＮ−置換−３−
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を有
効成分として含有することを特徴とする。
【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。なお、以
下の説明において、式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘ1 、Ｘ
2 およびＺはそれぞれ前記と同じ内容を示すので、各符
号の説明を省略する。本発明における上記式（I ）で示
されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスル
ホンアミド誘導体の具体例としては、表１〜表６に示す
ものをあげることができる。
下の説明において、式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘ1 、Ｘ
2 およびＺはそれぞれ前記と同じ内容を示すので、各符
号の説明を省略する。本発明における上記式（I ）で示
されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスル
ホンアミド誘導体の具体例としては、表１〜表６に示す
ものをあげることができる。
【表１】
【００１２】
【表２】
【００１３】
【表３】
【００１４】
【表４】
【００１５】
【表５】
【００１６】
【表６】
【００１７】上記式（Ｉ）で示されるＮ−置換−３−
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体は、
下記反応式にしたがい、式（II）で示される３−（置換
ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミドと、式（III ）で
示されるフェニルカーバメート誘導体とを、有機溶媒中
で塩基の存在下反応させることによって合成することが
できる。
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体は、
下記反応式にしたがい、式（II）で示される３−（置換
ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミドと、式（III ）で
示されるフェニルカーバメート誘導体とを、有機溶媒中
で塩基の存在下反応させることによって合成することが
できる。
【化１１】
【００１８】上記の反応式による合成法としては、次の
Ａ法とＢ法とが使用できる。 Ａ法： 式（III ）で示されるフェニルカーバメート誘
導体を、例えば、ヨーロッパ特許第２３８，０７０号公
報に記載された方法で、合成・単離し、その後、式（I
I）で示される３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホ
ンアミド誘導体と反応させる方法。 Ｂ法： 有機溶媒に、式（IV）で示される２−アミノ−
４，６−ジ置換−１，３，５−トリアジンまたはピリミ
ジンを加え、ついで、塩基を加え、しばらく攪拌した
後、生成物を単離することなく、炭酸ジフェニルを加
え、さらに、式（II）で示される３−（置換ヒドラジ
ノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を反応させる方法。 式（Ｉ）で示されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）
ベンゼンスルホンアミド誘導体において、Ｚ＝Ｎの化合
物を合成する場合には、Ｂ法が好ましい。
Ａ法とＢ法とが使用できる。 Ａ法： 式（III ）で示されるフェニルカーバメート誘
導体を、例えば、ヨーロッパ特許第２３８，０７０号公
報に記載された方法で、合成・単離し、その後、式（I
I）で示される３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホ
ンアミド誘導体と反応させる方法。 Ｂ法： 有機溶媒に、式（IV）で示される２−アミノ−
４，６−ジ置換−１，３，５−トリアジンまたはピリミ
ジンを加え、ついで、塩基を加え、しばらく攪拌した
後、生成物を単離することなく、炭酸ジフェニルを加
え、さらに、式（II）で示される３−（置換ヒドラジ
ノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を反応させる方法。 式（Ｉ）で示されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）
ベンゼンスルホンアミド誘導体において、Ｚ＝Ｎの化合
物を合成する場合には、Ｂ法が好ましい。
【００１９】上記のＡ法およびＢ法の反応において、有
機溶媒としては、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、アセトニトリル等を用いることができる。ま
た、塩基としては、水素化ナトリウム、ジアザビシクロ
オクタン、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウン
デセン等を用いることができる。なお、Ｂ法において
は、水素化ナトリウムが特に好ましい。反応は、−２０
〜１００℃、好ましくは０〜５０℃の範囲の反応温度
で、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間の範
囲の反応時間で行われる。反応終了後、希塩酸水溶液に
反応混合物を加え、生じた析出物を濾取して、風乾した
後、生成物をカラムクロマトグラフィーや洗浄法によっ
て精製し、目的とする式（Ｉ）のＮ−置換−３−（置換
ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を得ること
ができる。
機溶媒としては、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、アセトニトリル等を用いることができる。ま
た、塩基としては、水素化ナトリウム、ジアザビシクロ
オクタン、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウン
デセン等を用いることができる。なお、Ｂ法において
は、水素化ナトリウムが特に好ましい。反応は、−２０
〜１００℃、好ましくは０〜５０℃の範囲の反応温度
で、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間の範
囲の反応時間で行われる。反応終了後、希塩酸水溶液に
反応混合物を加え、生じた析出物を濾取して、風乾した
後、生成物をカラムクロマトグラフィーや洗浄法によっ
て精製し、目的とする式（Ｉ）のＮ−置換−３−（置換
ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を得ること
ができる。
【００２０】上記の反応において、原料となる製造中間
体である式（II）の３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンス
ルホンアミドは、式（Ｖ）で示される３−アミノベンゼ
ンスルホンアミド誘導体を出発物質として、下記の反応
式にしたがい、合成することができる。
体である式（II）の３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンス
ルホンアミドは、式（Ｖ）で示される３−アミノベンゼ
ンスルホンアミド誘導体を出発物質として、下記の反応
式にしたがい、合成することができる。
【化１２】
【００２１】上記の反応式による式（II）で示される化
合物の合成は、次のようにして実施することができる。
即ち、式（Ｖ）で示される３−アミノベンゼンスルホン
アミド誘導体のアミノ基をジアゾ化した後、還元するこ
とによって得られる式（VI）で示される３−ヒドラジノ
ベンゼンスルホンアミド誘導体を、式（VII ）で示され
るアルデヒド類またはケトン類と共にメタノールまたは
ジオキサン中で、３０〜１２０℃、好ましくは７０〜９
０℃において、０．５〜８時間攪拌する。反応終了後、
生成物を反応混合物から濾取するか、または反応混合物
を減圧乾固し、必要ならば洗浄して精製し、式（II）で
示される化合物を純度良く得ることができる。
合物の合成は、次のようにして実施することができる。
即ち、式（Ｖ）で示される３−アミノベンゼンスルホン
アミド誘導体のアミノ基をジアゾ化した後、還元するこ
とによって得られる式（VI）で示される３−ヒドラジノ
ベンゼンスルホンアミド誘導体を、式（VII ）で示され
るアルデヒド類またはケトン類と共にメタノールまたは
ジオキサン中で、３０〜１２０℃、好ましくは７０〜９
０℃において、０．５〜８時間攪拌する。反応終了後、
生成物を反応混合物から濾取するか、または反応混合物
を減圧乾固し、必要ならば洗浄して精製し、式（II）で
示される化合物を純度良く得ることができる。
【００２２】なお、上記反応式で使用した式（Ｖ）で示
される３−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体は、下
記反応式にしたがって得ることができる。すなわち、式
（VIII）で示される４−ニトロ−２−（アミノスルホニ
ル）安息香酸を、式（IX）で示されるアルコールでエス
テル化し、得られる式（Ｘ）で示される安息香酸エステ
ル誘導体のニトロ基を、３５％塩酸を含んだ式（IX）で
示されるアルコール中で、ＳｎＣｌ2 を用いて還元する
ことによって得ることができる。
される３−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体は、下
記反応式にしたがって得ることができる。すなわち、式
（VIII）で示される４−ニトロ−２−（アミノスルホニ
ル）安息香酸を、式（IX）で示されるアルコールでエス
テル化し、得られる式（Ｘ）で示される安息香酸エステ
ル誘導体のニトロ基を、３５％塩酸を含んだ式（IX）で
示されるアルコール中で、ＳｎＣｌ2 を用いて還元する
ことによって得ることができる。
【化１３】
【００２３】上記製造中間体として使用される式（II）
の化合物の具体例としては、表７に示すものをあげるこ
とができる。
の化合物の具体例としては、表７に示すものをあげるこ
とができる。
【表７】
【００２４】本発明の上記式（Ｉ）のＮ−置換−３−
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体（以
下、「本発明化合物」という。）は、低薬量で確実な除
草効果を示し、かつ、作物と雑草間に選択性を示す。し
たがって、この化合物を有効成分として含有する除草剤
は、例えば、コムギ、イネ、トウモロコシ、ダイズ、ワ
タ、テンサイ、ジャガイモ、トマト、等の重要作物中の
双子葉雑草や単子葉雑草を、発芽前あるいは発芽後に防
除するのに適している。
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体（以
下、「本発明化合物」という。）は、低薬量で確実な除
草効果を示し、かつ、作物と雑草間に選択性を示す。し
たがって、この化合物を有効成分として含有する除草剤
は、例えば、コムギ、イネ、トウモロコシ、ダイズ、ワ
タ、テンサイ、ジャガイモ、トマト、等の重要作物中の
双子葉雑草や単子葉雑草を、発芽前あるいは発芽後に防
除するのに適している。
【００２５】本発明の除草剤によって防除することがで
きる双子葉雑草としては、ヒユ属（Ａｍａｒａｎｔｈｕ
ｓ）、センダングサ属（Ｂｉｄｅｎｓ）、ハコベ属（Ｓ
ｔｅｌｌａｒｉａ）、ナス属（Ａｂｕｔｉｌｏｎ）、セ
イヨウヒルガオ属（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、シカギ
ク属（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ）、ヤエムグラＧａｌｉｕ
ｍ）、アゼトウガラシ属（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）等があ
げられる。また、単子葉雑草としては、キビ属（Ｅｃｈ
ｉｎｏｃｈｌｏａ）、エノコログサ属（Ｓｅｔａｒｉ
ａ）、メヒシバ属（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ）、カラスムギ
属（Ａｖｅｎａ）、カヤツリグサ属（Ｃｙｐｅｒｕ
ｓ）、ヘラオモダカ属（Ａｌｉｓｍａ）、ミズアオイ属
（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）等があげられる。本発明の除
草剤の施用範囲は、畑地、水田、果樹園等の農耕地の
他、グランド、工場敷地等の非農耕地があげられる。
きる双子葉雑草としては、ヒユ属（Ａｍａｒａｎｔｈｕ
ｓ）、センダングサ属（Ｂｉｄｅｎｓ）、ハコベ属（Ｓ
ｔｅｌｌａｒｉａ）、ナス属（Ａｂｕｔｉｌｏｎ）、セ
イヨウヒルガオ属（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、シカギ
ク属（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ）、ヤエムグラＧａｌｉｕ
ｍ）、アゼトウガラシ属（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）等があ
げられる。また、単子葉雑草としては、キビ属（Ｅｃｈ
ｉｎｏｃｈｌｏａ）、エノコログサ属（Ｓｅｔａｒｉ
ａ）、メヒシバ属（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ）、カラスムギ
属（Ａｖｅｎａ）、カヤツリグサ属（Ｃｙｐｅｒｕ
ｓ）、ヘラオモダカ属（Ａｌｉｓｍａ）、ミズアオイ属
（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）等があげられる。本発明の除
草剤の施用範囲は、畑地、水田、果樹園等の農耕地の
他、グランド、工場敷地等の非農耕地があげられる。
【００２６】本発明化合物は、除草剤としてそのまま使
用することもできるが、通常は製剤補助剤とともに、粉
剤、水和剤、粒剤、乳剤などの種々の形態に製剤して使
用する。このとき、製剤中に、本発明化合物の１種また
は２種以上が、０．１〜９５重量％、好ましくは０．５
〜９０重量％、より好ましくは２〜７０重量％含まれる
ように製剤する。
用することもできるが、通常は製剤補助剤とともに、粉
剤、水和剤、粒剤、乳剤などの種々の形態に製剤して使
用する。このとき、製剤中に、本発明化合物の１種また
は２種以上が、０．１〜９５重量％、好ましくは０．５
〜９０重量％、より好ましくは２〜７０重量％含まれる
ように製剤する。
【００２７】製剤補助剤として使用する担体・希釈剤、
界面活性剤を例示すれば、固体担体としては、タルク、
カオリン、ベントナイト、珪藻土、ホワイトカーボン、
クレーなどをあげることができる。液体希釈剤として
は、水、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、シクロ
ヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、アルコールなどをあげることが
できる。
界面活性剤を例示すれば、固体担体としては、タルク、
カオリン、ベントナイト、珪藻土、ホワイトカーボン、
クレーなどをあげることができる。液体希釈剤として
は、水、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、シクロ
ヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、アルコールなどをあげることが
できる。
【００２８】界面活性剤は、その効果により使いわける
のが好ましく、乳化剤として、ポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン
モノラウレートなどをあげることができる。分散剤とし
ては、リグニンスルホン酸塩、ジブチルナフタリンスル
ホン酸塩などをあげることができる。湿潤剤としては、
アルキルスルホン酸塩、アルキルフェニルスルホン酸塩
などをあげることができる。
のが好ましく、乳化剤として、ポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン
モノラウレートなどをあげることができる。分散剤とし
ては、リグニンスルホン酸塩、ジブチルナフタリンスル
ホン酸塩などをあげることができる。湿潤剤としては、
アルキルスルホン酸塩、アルキルフェニルスルホン酸塩
などをあげることができる。
【００２９】前記製剤は、そのまま使用するものと、水
等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用するものとに大別
される。希釈して使用する場合において、本発明化合物
の濃度は０．００１〜１．０％の範囲が望ましい。ま
た、本発明化合物の使用量は１ｈａあたり、０．０１〜
１０ｋｇ、好ましくは０．０５〜５ｋｇである。これら
の使用濃度および使用量は、剤型、使用時期、使用方
法、使用場所、対象作物等によっても異なるため、前記
の範囲にこだわることなく増減することは勿論可能であ
る。さらに、本発明化合物は、他の有効成分、例えば、
殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤と組み合わせて使用
することもできる。
等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用するものとに大別
される。希釈して使用する場合において、本発明化合物
の濃度は０．００１〜１．０％の範囲が望ましい。ま
た、本発明化合物の使用量は１ｈａあたり、０．０１〜
１０ｋｇ、好ましくは０．０５〜５ｋｇである。これら
の使用濃度および使用量は、剤型、使用時期、使用方
法、使用場所、対象作物等によっても異なるため、前記
の範囲にこだわることなく増減することは勿論可能であ
る。さらに、本発明化合物は、他の有効成分、例えば、
殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤と組み合わせて使用
することもできる。
【００３０】
【実施例】以下、本発明化合物である上記式（Ｉ）で示
されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスル
ホンアミド誘導体の製造例、製剤例および試験例を示
し、本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、その
要旨を越えない限り以下の製造例、製剤例および試験例
によって限定されるものではない。
されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスル
ホンアミド誘導体の製造例、製剤例および試験例を示
し、本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、その
要旨を越えない限り以下の製造例、製剤例および試験例
によって限定されるものではない。
【００３１】合成例１ ４−［（エチリデン）ヒドラジノ］−２−
［〔｛［（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジ
ン−２−イル）アミノ］カルボニル｝アミノ〕スルホニ
ル］安息香酸メチルエステル（化合物番号Ｉ−１）の合
成 ２−アミノ−４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリア
ジン１．８２ｇ（１１．７ｍｍｏｌ）を、乾燥ジメチル
アセトアミド１８ｍｌに懸濁し、かき混ぜた。これに、
室温下、６０％水素化ナトリウム０．４６ｇ（１１．７
ｍｍｏｌ）を添加した。反応液は、発泡が終了すると均
一になった。その後、水冷下、炭酸ジフェニル２．５ｇ
（１１．７ｍｍｏｌ）の乾燥ジメチルアセトアミド６ｍ
ｌ溶液を滴下した。１０分間かき混ぜた後、この反応混
合物に、２−（アミノスルホニル）−４−［（エチリデ
ン）ヒドラジノ］安息香酸メチルエステル２．８７ｇ
（１０．６ｍｍｏｌ）の乾燥ジメチルアセトアミド１２
ｍｌ溶液を、水冷下滴下した。反応液は、褐色に変化し
た。そのまま、１時間５０分かき混ぜた。次に、反応液
を３５％塩酸１．２ｍｌを含む氷水１７０ｍｌに注ぎ、
２０分間かき混ぜた。その後、析出固体を濾取、水洗、
風乾した。粗生成物を、シリカゲル（ワコーゲル Ｃ−
３００）カラムクロマト（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝
１／１）で精製し、さらに、石油エーテルで洗浄した。
白色固体、得量１ｇ（収率２０．４％）、融点１３０℃
分解。その物理化学的性質を表８に示す。
［〔｛［（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジ
ン−２−イル）アミノ］カルボニル｝アミノ〕スルホニ
ル］安息香酸メチルエステル（化合物番号Ｉ−１）の合
成 ２−アミノ−４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリア
ジン１．８２ｇ（１１．７ｍｍｏｌ）を、乾燥ジメチル
アセトアミド１８ｍｌに懸濁し、かき混ぜた。これに、
室温下、６０％水素化ナトリウム０．４６ｇ（１１．７
ｍｍｏｌ）を添加した。反応液は、発泡が終了すると均
一になった。その後、水冷下、炭酸ジフェニル２．５ｇ
（１１．７ｍｍｏｌ）の乾燥ジメチルアセトアミド６ｍ
ｌ溶液を滴下した。１０分間かき混ぜた後、この反応混
合物に、２−（アミノスルホニル）−４−［（エチリデ
ン）ヒドラジノ］安息香酸メチルエステル２．８７ｇ
（１０．６ｍｍｏｌ）の乾燥ジメチルアセトアミド１２
ｍｌ溶液を、水冷下滴下した。反応液は、褐色に変化し
た。そのまま、１時間５０分かき混ぜた。次に、反応液
を３５％塩酸１．２ｍｌを含む氷水１７０ｍｌに注ぎ、
２０分間かき混ぜた。その後、析出固体を濾取、水洗、
風乾した。粗生成物を、シリカゲル（ワコーゲル Ｃ−
３００）カラムクロマト（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝
１／１）で精製し、さらに、石油エーテルで洗浄した。
白色固体、得量１ｇ（収率２０．４％）、融点１３０℃
分解。その物理化学的性質を表８に示す。
【００３２】合成例２〜７ 表１に記載のその他のＮ−置換−３−（置換ヒドラジ
ノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体についても、合成例
１と同様にして合成することができる。それらの物理化
学的性質について、表８に示す。なお、表８および後記
表９中、ＮＭＲの項の略号は、次の意味を表す。 Ｓ（一重線）、ｄ（ニ重線）、ｔ（三重線）、ｑ（四重
線）、ｍ（多重線）、ｄｄ（二重二重線）、ｂｒ（ブロ
ード）、ｂｓ（幅広い一重線）。
ノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体についても、合成例
１と同様にして合成することができる。それらの物理化
学的性質について、表８に示す。なお、表８および後記
表９中、ＮＭＲの項の略号は、次の意味を表す。 Ｓ（一重線）、ｄ（ニ重線）、ｔ（三重線）、ｑ（四重
線）、ｍ（多重線）、ｄｄ（二重二重線）、ｂｒ（ブロ
ード）、ｂｓ（幅広い一重線）。
【００３３】
【表８】
【００３４】合成例８ 製造中間体：２−（アミノスルホニル）−４−［（エチ
リデン）ヒドラジノ］安息香酸メチルエステル（化合物
番号II−１）の合成 （１）２−（アミノスルホニル）−４−ヒドラジノ安息
香酸メチルエステル（式（VI）において、Ｒ3 ＝Ｃ
Ｈ3 ）の合成 ４−アミノ−２−（アミノスルホニル）安息香酸メチル
エステル（式（Ｖ）において、Ｒ3 ＝ＣＨ3 ）３ｇ（１
３ｍｍｏｌ）を、３５％塩酸６ｍｌと水６ｍｌの混合物
に加えて室温で５分間攪拌した。ついで氷水で冷却し、
攪拌して、亜硝酸ナトリウム０．９５ｇ（１３．７ｍｍ
ｏｌ）を水３ｍｌに溶解したものを加えてジアゾ化し
た。塩化第一スズ ６．７８ｇ（６８．５ｍｍｏｌ）
を、 ３５％塩酸６．５２ｍｌに溶解し、氷水冷却下、攪
拌しながら、先に調製したジアゾ化物を加えた。２０分
間攪拌した後、冷蔵庫で１５時間静置した。ついで、反
応混合物を３リットルのビーカーに移し、炭酸水素ナト
リウム粉末３８ｇを加えて攪拌し、ｐＨを６に調整し
た。ついで、３００ｍｌの酢酸エチルエステルで２回抽
出した。抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥した後、抽出溶
媒を留去し、淡黄色固体を得た。得量２．７６ｇ、収率
８６％、融点１６８〜１７０℃ （２）２−（アミノスルホニル）−４−［（エチリデ
ン）ヒドラジノ］安息香酸メチルエステルの合成 上記（１）で合成した化合物（式（Ｖ）において、Ｒ3
＝ＣＨ3 ）０．５ｇ（２ｍｍｏｌ）をメタノールに溶解
し、これにアセトアルデヒド０．３ｇ（６．８ｍｍｏ
ｌ）を加えて７０℃で３時間攪拌した。ついで、反応混
合物からメタノールを留去し、残査を濾取した後、少量
のメタノールで洗浄し、風乾した。黄色固体、得量０．
３１６ｇ、収率５７．３０％。その物理化学的性質を表
９に示す。
リデン）ヒドラジノ］安息香酸メチルエステル（化合物
番号II−１）の合成 （１）２−（アミノスルホニル）−４−ヒドラジノ安息
香酸メチルエステル（式（VI）において、Ｒ3 ＝Ｃ
Ｈ3 ）の合成 ４−アミノ−２−（アミノスルホニル）安息香酸メチル
エステル（式（Ｖ）において、Ｒ3 ＝ＣＨ3 ）３ｇ（１
３ｍｍｏｌ）を、３５％塩酸６ｍｌと水６ｍｌの混合物
に加えて室温で５分間攪拌した。ついで氷水で冷却し、
攪拌して、亜硝酸ナトリウム０．９５ｇ（１３．７ｍｍ
ｏｌ）を水３ｍｌに溶解したものを加えてジアゾ化し
た。塩化第一スズ ６．７８ｇ（６８．５ｍｍｏｌ）
を、 ３５％塩酸６．５２ｍｌに溶解し、氷水冷却下、攪
拌しながら、先に調製したジアゾ化物を加えた。２０分
間攪拌した後、冷蔵庫で１５時間静置した。ついで、反
応混合物を３リットルのビーカーに移し、炭酸水素ナト
リウム粉末３８ｇを加えて攪拌し、ｐＨを６に調整し
た。ついで、３００ｍｌの酢酸エチルエステルで２回抽
出した。抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥した後、抽出溶
媒を留去し、淡黄色固体を得た。得量２．７６ｇ、収率
８６％、融点１６８〜１７０℃ （２）２−（アミノスルホニル）−４−［（エチリデ
ン）ヒドラジノ］安息香酸メチルエステルの合成 上記（１）で合成した化合物（式（Ｖ）において、Ｒ3
＝ＣＨ3 ）０．５ｇ（２ｍｍｏｌ）をメタノールに溶解
し、これにアセトアルデヒド０．３ｇ（６．８ｍｍｏ
ｌ）を加えて７０℃で３時間攪拌した。ついで、反応混
合物からメタノールを留去し、残査を濾取した後、少量
のメタノールで洗浄し、風乾した。黄色固体、得量０．
３１６ｇ、収率５７．３０％。その物理化学的性質を表
９に示す。
【００３５】合成例９〜１４ 表７に記載のその他の３−（置換ヒドラジノ）ベンゼン
スルホンアミド誘導体についても、合成例８と同様にし
て合成することができる。それらの物理化学的性質につ
いて、表９に示す。
スルホンアミド誘導体についても、合成例８と同様にし
て合成することができる。それらの物理化学的性質につ
いて、表９に示す。
【００３６】
【表９】
【００３７】次に、製剤例および試験例を示すが、担体
（希釈剤）および助剤、その混合比および有効成分は、
広い範囲で変更し得るものである。各製剤例の「部」
は、重量部を表す。 製剤例１（水和剤） 化合物（Ｉ−１） ５０部 リグニンスルホン酸塩 ５部 アルキルスルホン酸塩 ３部 珪藻土 ４２部 を混合粉砕して水和剤とし、水で希釈して使用する。
（希釈剤）および助剤、その混合比および有効成分は、
広い範囲で変更し得るものである。各製剤例の「部」
は、重量部を表す。 製剤例１（水和剤） 化合物（Ｉ−１） ５０部 リグニンスルホン酸塩 ５部 アルキルスルホン酸塩 ３部 珪藻土 ４２部 を混合粉砕して水和剤とし、水で希釈して使用する。
【００３８】 製剤例２（乳剤） 化合物（Ｉ−３） ２５部 キシレン ６５部 ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル １０部 を均一に混合して乳剤とし、水で希釈して使用する。
【００３９】 製剤例３（粒剤） 化合物（Ｉ−４） ８部 ベントナイト ４０部 クレー ４５部 リグニンスルホン酸 ７部 を均一に混合し、さらに水を加えて練り合わせ、押出し
式造粒機で粒状に加工して粒剤として使用する。
式造粒機で粒状に加工して粒剤として使用する。
【００４０】試験例１ 種子発芽試験 直径９ｃｍのシャーレ内に、濾紙２枚を重ねて敷き、供
試化合物の水懸濁液（有効成分０．２５ｐｐｍおよび
２．５ｐｐｍ）を６ｍｌずつ注ぎ、アオビユ、コセンダ
ングサ、カミツレ、イヌホウズキ、ノビエ、コゴメカヤ
ツリ、エノコログサの種子を１０粒ずつ置床した。その
後２８℃の温室内にて発芽させ、置床１４日後に発芽お
よび生育阻害程度を肉眼観察により次の６段階の基準で
判定した。調査基準、０：阻害無し、１：３１％未満の
阻害、２：３１〜５０％の阻害、３：５１〜７０％の阻
害、４：７１〜９０％の阻害、５：９１〜１００％の阻
害。その結果を表１０に示す。
試化合物の水懸濁液（有効成分０．２５ｐｐｍおよび
２．５ｐｐｍ）を６ｍｌずつ注ぎ、アオビユ、コセンダ
ングサ、カミツレ、イヌホウズキ、ノビエ、コゴメカヤ
ツリ、エノコログサの種子を１０粒ずつ置床した。その
後２８℃の温室内にて発芽させ、置床１４日後に発芽お
よび生育阻害程度を肉眼観察により次の６段階の基準で
判定した。調査基準、０：阻害無し、１：３１％未満の
阻害、２：３１〜５０％の阻害、３：５１〜７０％の阻
害、４：７１〜９０％の阻害、５：９１〜１００％の阻
害。その結果を表１０に示す。
【００４１】
【表１０】
【００４２】試験例２ 茎葉処理による殺草効果試験 ポットで生育させたアオビユ、コセンダングサ、野生カ
ラシナ、ハコベ、エビスグサ、イヌホウズキ、イチビ、
西洋ヒルガオ、カミツレ、エノコログサ、食用ビエ、エ
ンバク、メヒシバ（各供試植物とも１葉〜２葉の時）の
茎葉部に、上記製剤例に示すような水和剤を所定濃度に
調製した供試化合物の薬液を５および５０ｇ／ｈａ相当
量を散布した。散布１４日後に、次の基準で除草効果を
調査した。調査基準、０：阻害無し、１：３１％未満の
阻害、２：３１〜５０％の阻害、３：５１〜７０％の阻
害、４：７１〜９０％の阻害、５：９１〜１００％の阻
害。それらの結果を表１１に示す。
ラシナ、ハコベ、エビスグサ、イヌホウズキ、イチビ、
西洋ヒルガオ、カミツレ、エノコログサ、食用ビエ、エ
ンバク、メヒシバ（各供試植物とも１葉〜２葉の時）の
茎葉部に、上記製剤例に示すような水和剤を所定濃度に
調製した供試化合物の薬液を５および５０ｇ／ｈａ相当
量を散布した。散布１４日後に、次の基準で除草効果を
調査した。調査基準、０：阻害無し、１：３１％未満の
阻害、２：３１〜５０％の阻害、３：５１〜７０％の阻
害、４：７１〜９０％の阻害、５：９１〜１００％の阻
害。それらの結果を表１１に示す。
【００４３】
【表１１】
【００４４】試験例３ 茎葉処理による殺草効果試験 ポットで生育させたヤエムグラ、コムギ（各供試植物と
も１葉〜２葉の時）の茎葉部に、上記製剤例に示すよう
な水和剤を所定濃度に調製した供試化合物の薬液を５お
よび５０ｇ／ｈａ相当量を散布した。散布２１日後に、
次の基準で殺草効果を調査した。調査基準、０：阻害無
し、１：３１％未満の阻害、２：３１〜５０％の阻
害、、３：５１〜７０％の阻害、４：７１〜９０％の阻
害、５：９１〜１００％の阻害。それらの結果を表１２
に示す。
も１葉〜２葉の時）の茎葉部に、上記製剤例に示すよう
な水和剤を所定濃度に調製した供試化合物の薬液を５お
よび５０ｇ／ｈａ相当量を散布した。散布２１日後に、
次の基準で殺草効果を調査した。調査基準、０：阻害無
し、１：３１％未満の阻害、２：３１〜５０％の阻
害、、３：５１〜７０％の阻害、４：７１〜９０％の阻
害、５：９１〜１００％の阻害。それらの結果を表１２
に示す。
【表１２】
【００４５】
【発明の効果】本発明の前記式（Ｉ）で示されるＮ−置
換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘
導体は、文献未記載の新規な化合物であって、低薬量で
確実な除草効果を示し、かつ、作物と雑草間に選択性を
示す。したがって、この化合物を有効成分として含有す
る本発明の除草剤は、例えば、コムギ、イネ、トウモロ
コシ、ダイズ、ワタ、テンサイ、ジャガイモ、トマト等
の重要作物中の双子葉雑草や単子葉雑草を、発芽前ある
いは発芽後に防除するのに特に適している。また、畑
地、水田、果樹園等の農耕地の他、グランド、工場敷地
等の非農耕地の雑草の防除にも使用することができる。
換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘
導体は、文献未記載の新規な化合物であって、低薬量で
確実な除草効果を示し、かつ、作物と雑草間に選択性を
示す。したがって、この化合物を有効成分として含有す
る本発明の除草剤は、例えば、コムギ、イネ、トウモロ
コシ、ダイズ、ワタ、テンサイ、ジャガイモ、トマト等
の重要作物中の双子葉雑草や単子葉雑草を、発芽前ある
いは発芽後に防除するのに特に適している。また、畑
地、水田、果樹園等の農耕地の他、グランド、工場敷地
等の非農耕地の雑草の防除にも使用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 239/47 Ａ 8615−4Ｃ 239/52 8615−4Ｃ 251/22 251/42 251/46 295/12 Ｚ 307/14 333/20 401/12 ２３９ 8829−4Ｃ ２５１ 8829−4Ｃ 405/12 ２３９ 8829−4Ｃ ２５１ 8829−4Ｃ 409/12 ２３９ 8829−4Ｃ ２５１ 8829−4Ｃ
Claims (4)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ）で示されるＮ−置換−３−
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体。 【化１】 （式中、Ｒ1 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、モノクロルメ
チル基、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキ
シメチル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル基、Ｃ1
−Ｃ4 アルキルチオエチル基、ピリジル基、チエニル
基、テニル基、テトラヒドロフルフリル基、モルホリノ
基、無置換フェニル基、または塩素原子もしくはＣ1 −
Ｃ4 アルキル基で置換されたフェニル基を示し、Ｒ
2 は、水素原子またはＣ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｒ
3 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｘ1は、Ｃ1 −Ｃ
3 アルキル基、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ基または塩素原子
を示し、Ｘ2 は、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル基またはＣ1 −Ｃ
3 アルコキシ基を示し、Ｚは、ＮまたはＣＨを示す。） - 【請求項２】 下記式（IV） 【化２】 （式中、Ｘ1 は、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル基、Ｃ1 −Ｃ3 ア
ルコキシ基または塩素原子を示し、Ｘ2 は、Ｃ1 −Ｃ3
アルキル基またはＣ1 −Ｃ3 アルコキシ基を示し、Ｚ
は、ＮまたはＣＨを示す。）で示される２−アミノ−
４，６−ジ置換−１，３，５−トリアジンまたはピリミ
ジンと炭酸ジフェニルとを反応させて、下記式（III ） 【化３】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＺは、上記と同じ内容を示
す。）で示されるフェニルカーバメート誘導を生成さ
せ、単離することなく下記式（II） 【化４】 （式中、Ｒ1 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、モノクロルメ
チル基、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキ
シメチル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル基、Ｃ1
−Ｃ4 アルキルチオエチル基、ピリジル基、チエニル
基、テニル基、テトラヒドロフルフリル基、モルホリノ
基、無置換フェニル基、または塩素原子もしくはＣ1 −
Ｃ4 アルキル基で置換されたフェニル基を示し、Ｒ
2 は、水素原子またはＣ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｒ
3 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示す。）で示される３−
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体と反
応させることを特徴とする、下記式（Ｉ） 【化５】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＺは、上
記と同じ内容を示す。）で示されるＮ−置換−３−（置
換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体の製造方
法。 - 【請求項３】 下記式（II） 【化６】 （式中、Ｒ1 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、モノクロルメ
チル基、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキ
シメチル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル基、Ｃ1
−Ｃ4 アルキルチオエチル基、ピリジル基、チエニル
基、テニル基、テトラヒドロフルフリル基、モルホリノ
基、無置換フェニル基、または塩素原子もしくはＣ1 −
Ｃ4 アルキル基で置換されたフェニル基を示し、Ｒ
2 は、水素原子またはＣ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｒ
3 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示す。）で示される３−
（置換ヒドラジノ）ベンゼンスルホンアミド誘導体。 - 【請求項４】 下記式（Ｉ） 【化７】 （式中、Ｒ1 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基、モノクロルメ
チル基、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキ
シメチル基、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル基、Ｃ1
−Ｃ4 アルキルチオエチル基、ピリジル基、チエニル
基、テニル基、テトラヒドロフルフリル基、モルホリノ
基、無置換フェニル基、または塩素原子もしくはＣ1 −
Ｃ4 アルキル基で置換されたフェニル基を示し、Ｒ
2 は、水素原子またはＣ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｒ
3 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基を示し、Ｘ1は、Ｃ1 −Ｃ
3 アルキル基、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ基または塩素原子
を示し、Ｘ2 は、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル基またはＣ1 −Ｃ
3 アルコキシ基を示し、Ｚは、ＮまたはＣＨを示す。）
で示されるＮ−置換−３−（置換ヒドラジノ）ベンゼン
スルホンアミド誘導体を有効成分として含有することを
特徴とする除草剤。
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