JPH0660177B2 - ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体、その製法および除草剤 - Google Patents
ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体、その製法および除草剤Info
- Publication number
- JPH0660177B2 JPH0660177B2 JP59108070A JP10807084A JPH0660177B2 JP H0660177 B2 JPH0660177 B2 JP H0660177B2 JP 59108070 A JP59108070 A JP 59108070A JP 10807084 A JP10807084 A JP 10807084A JP H0660177 B2 JPH0660177 B2 JP H0660177B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は新規なピラゾールスルホニルウレア誘導体、当
該化合物の製法および当該化合物を有効成分とする選択
性除草剤に関するものである。
該化合物の製法および当該化合物を有効成分とする選択
性除草剤に関するものである。
イネ、小麦、トウモロコシ等重要な作物を雑草害から守
り増収をはかる為に除草剤を使用することは欠くことが
できない。特に近年はこれらの有用作物と雑草の混在す
る耕地において、作物と雑草の茎葉部へ同時処理しても
作物に対して薬害を示さず雑草のみを選択的に枯殺しう
る選択性除草剤が望まれている。また、環境汚染防止、
輸送、散布の際の経済コスト低減等の観点から、できる
だけ低薬量で高い除草効果をあげる化合物の探索研究が
長年にわたり続けられている。このような特性を有する
化合物のいくつかは選択性除草剤として現在使用されて
いるが、以前としてこれらの性質を備える新しい化合物
の需要も存在する。
り増収をはかる為に除草剤を使用することは欠くことが
できない。特に近年はこれらの有用作物と雑草の混在す
る耕地において、作物と雑草の茎葉部へ同時処理しても
作物に対して薬害を示さず雑草のみを選択的に枯殺しう
る選択性除草剤が望まれている。また、環境汚染防止、
輸送、散布の際の経済コスト低減等の観点から、できる
だけ低薬量で高い除草効果をあげる化合物の探索研究が
長年にわたり続けられている。このような特性を有する
化合物のいくつかは選択性除草剤として現在使用されて
いるが、以前としてこれらの性質を備える新しい化合物
の需要も存在する。
本発明者らは、重要作物に対して選択性のある除草剤を
開発するため長年にわたる研鑽をつづけ殺草力のより高
い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの化
合物についてその除草特性を検討してきた。その結果前
記一般式（１）で表される本発明化合物が土壌処理、茎
葉処理のいずれの場合にも多くの雑草に対して強い殺草
力を有しかつ重要作物であるイネ、小麦、トウモロコシ
に対して高い安全性を有することを見いだして本発明を
完成した。一方、本発明化合物は従来の除草剤に比して
非常に低薬量で高い除草活性を示すことから果樹園、非
耕地用の除草剤としても有用である。
開発するため長年にわたる研鑽をつづけ殺草力のより高
い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの化
合物についてその除草特性を検討してきた。その結果前
記一般式（１）で表される本発明化合物が土壌処理、茎
葉処理のいずれの場合にも多くの雑草に対して強い殺草
力を有しかつ重要作物であるイネ、小麦、トウモロコシ
に対して高い安全性を有することを見いだして本発明を
完成した。一方、本発明化合物は従来の除草剤に比して
非常に低薬量で高い除草活性を示すことから果樹園、非
耕地用の除草剤としても有用である。
一般式（１）で表される本発明化合物は新規化合物であ
り、下記の反応式１〜２のいずれかを選ぶことにより容
易に製造できる。
り、下記の反応式１〜２のいずれかを選ぶことにより容
易に製造できる。
反応式１ 〔式中Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同じ意味を示
す。〕 すなわち、ピラゾールスルホニルイソシアナート誘導体
を、充分に乾燥したジオキサン、アセトニトリル等の不
活性溶媒に溶かし、これに式（III）で表されるピリミ
ジンまたはトリアジン誘導体を添加し攪拌することによ
り、一般的に速やかに反応して本発明化合物（１）が得
られる。反応が進行しがたい場合には適当な塩基、例え
ばトリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ピリジ
ン、ナトリウムアルコキシド、水素化ナトリウム等の微
少量を添加することにより容易に反応が進行する。
す。〕 すなわち、ピラゾールスルホニルイソシアナート誘導体
を、充分に乾燥したジオキサン、アセトニトリル等の不
活性溶媒に溶かし、これに式（III）で表されるピリミ
ジンまたはトリアジン誘導体を添加し攪拌することによ
り、一般的に速やかに反応して本発明化合物（１）が得
られる。反応が進行しがたい場合には適当な塩基、例え
ばトリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ピリジ
ン、ナトリウムアルコキシド、水素化ナトリウム等の微
少量を添加することにより容易に反応が進行する。
反応式２ 〔式中Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙ、ＺおよびHalは前記と同じ意
味を示す。〕 すなわち、ピラゾールスルホニルウレア誘導体（IV）を
アセトン、アセトニトリル、ベンゼン等の溶媒中、炭酸
カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基存在下
ハロゲン化物（Ｖ）と反応させる事により本発明化合物
（１）を得る事ができる。ピラゾールスルホニルウレア
誘導体（IV）の製法は特願昭58-70407に記載されてい
る。
味を示す。〕 すなわち、ピラゾールスルホニルウレア誘導体（IV）を
アセトン、アセトニトリル、ベンゼン等の溶媒中、炭酸
カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基存在下
ハロゲン化物（Ｖ）と反応させる事により本発明化合物
（１）を得る事ができる。ピラゾールスルホニルウレア
誘導体（IV）の製法は特願昭58-70407に記載されてい
る。
〔式中Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同じ意味を示
す。Ｒ7はアルキル基もしくはフェニル基を示す。〕 すなわち、ピラゾールスルホンアミド誘導体（VI）を、
アセトン、メチルエチルケトン等の溶媒中、炭酸カリウ
ム等の塩基存在下クロルギ酸エステルもしくは炭酸エス
テルと反応させ、反応後塩酸等酸性物質で処理すること
により化合物（VII）を得る。次いでトルエン等の溶媒
中にて化合物（III）と加熱することにより本発明化合
物（１）を得ることができる。
す。Ｒ7はアルキル基もしくはフェニル基を示す。〕 すなわち、ピラゾールスルホンアミド誘導体（VI）を、
アセトン、メチルエチルケトン等の溶媒中、炭酸カリウ
ム等の塩基存在下クロルギ酸エステルもしくは炭酸エス
テルと反応させ、反応後塩酸等酸性物質で処理すること
により化合物（VII）を得る。次いでトルエン等の溶媒
中にて化合物（III）と加熱することにより本発明化合
物（１）を得ることができる。
反応式１で用いられる原料のピラゾールスルホニルイソ
シアナートは以下に記載する方法にてピラゾールスルホ
ンアミドを合成し、さらに特開昭５５−１３２６６号公
報に記載されている方法を参考にして合成できる。
シアナートは以下に記載する方法にてピラゾールスルホ
ンアミドを合成し、さらに特開昭５５−１３２６６号公
報に記載されている方法を参考にして合成できる。
本発明に用いられる中間体のピラゾールスルホンアミド
の合成例を以下参考例として記す。
の合成例を以下参考例として記す。
参考例−１ ４−エトキシカルボニル−１−メトキシメチルピラゾー
ル−５−スルホンアミドの合成 (1)１−メトキシメチルピラゾール−４−カルボン酸エ
チルの合成 乾燥テトラヒドロフラン150mlに水素化ナトリウム（55
%）2.4ｇ、ピラゾール−４−カルボン酸エチル7.1ｇを
加え、氷冷下クロルメチルメチルエーテル4.0ｇを滴下
した。室温で一夜攪拌後溶媒に留去し、残渣にエーテル
及び氷水を加え、有機層を分離し乾燥後溶媒を留去する
と油状の目的物5.9ｇが得られた。
ル−５−スルホンアミドの合成 (1)１−メトキシメチルピラゾール−４−カルボン酸エ
チルの合成 乾燥テトラヒドロフラン150mlに水素化ナトリウム（55
%）2.4ｇ、ピラゾール−４−カルボン酸エチル7.1ｇを
加え、氷冷下クロルメチルメチルエーテル4.0ｇを滴下
した。室温で一夜攪拌後溶媒に留去し、残渣にエーテル
及び氷水を加え、有機層を分離し乾燥後溶媒を留去する
と油状の目的物5.9ｇが得られた。
(2)４−エトキシカルボニル−１−メトキシメチルピラ
ゾール−５−スルホンアミドの合成 上記で得られたピラゾール7.0ｇを乾燥エーテル150mlに
懸濁し−60℃以下に冷却した。次いでリチウムジイソプ
ロピルアミド（1.2倍モル）エーテル溶液を滴下した。
そのまま１時間攪拌し、次いで亜硫酸ガスを約30分間吹
き込んだ。−60℃で２時間反応後更に室温で２時間攪拌
した。析出した結晶を濾過乾燥し、固体の４−エトキシ
カルボニル−１−メトキシメチルピラゾール−５−スル
ホン酸リチウム塩9.3ｇを得た。次ぎにこれを氷水150m
l、ジクロルメタン100mlの溶液中に加え、Ｎ−クロルコ
ハク酸イミド4.9ｇを０〜５℃の温度で加えた。室温で4
5分間攪拌後ジクロルメタン層を分離し、更に水層をジ
クロルメタン100mlで抽出し合計した。得られた４−エ
トキシカルボニル−１−メトキシメチルピラゾール−５
−スルホニルクロライドのジクロルメタン溶液を10℃以
下に冷却したアンモニア水(28%)100ml中に滴下した。室
温にて１時間攪拌後、溶媒を留去すると目的のスルホン
アミド6.4ｇが得られた。
ゾール−５−スルホンアミドの合成 上記で得られたピラゾール7.0ｇを乾燥エーテル150mlに
懸濁し−60℃以下に冷却した。次いでリチウムジイソプ
ロピルアミド（1.2倍モル）エーテル溶液を滴下した。
そのまま１時間攪拌し、次いで亜硫酸ガスを約30分間吹
き込んだ。−60℃で２時間反応後更に室温で２時間攪拌
した。析出した結晶を濾過乾燥し、固体の４−エトキシ
カルボニル−１−メトキシメチルピラゾール−５−スル
ホン酸リチウム塩9.3ｇを得た。次ぎにこれを氷水150m
l、ジクロルメタン100mlの溶液中に加え、Ｎ−クロルコ
ハク酸イミド4.9ｇを０〜５℃の温度で加えた。室温で4
5分間攪拌後ジクロルメタン層を分離し、更に水層をジ
クロルメタン100mlで抽出し合計した。得られた４−エ
トキシカルボニル−１−メトキシメチルピラゾール−５
−スルホニルクロライドのジクロルメタン溶液を10℃以
下に冷却したアンモニア水(28%)100ml中に滴下した。室
温にて１時間攪拌後、溶媒を留去すると目的のスルホン
アミド6.4ｇが得られた。
融点 88〜89℃ 参考例−２ １−アリル−４−エトキシカルボニルピラゾール−５−
スルホンアミドの合成 参考例−１の方法に準じて合成した。
スルホンアミドの合成 参考例−１の方法に準じて合成した。
融点 82〜84℃ 参考例−３ ４−エトキシカルボニル−１−エトキシカルボニルメチ
ルピラゾール−５−スルホンアミドの合成 (1)５−アミノ−４−エトキシカルボニル−１−エトキ
シカルボニルメチルピラゾール ベンゼン200ml中にエトキシメチレンシアン酢酸エチル1
6.9ｇ、エチルヒドラジノアセテート塩酸塩15.4ｇを加
え水50mlに溶解した炭酸カリウム6.9ｇを氷冷下滴下し
た。室温にて２時間攪拌後有機層を分離濃縮した。これ
にエタノール100mlを加え１時間還流後溶媒を留去する
と目的物結晶15ｇが析出した。融点76〜77℃ (2)４−エトキシカルボニル−１−エトキシカルボニル
メチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成 濃塩酸10ml、酢酸20ml、リン酸20mlの混合溶液中に上記
で得られたピラゾール5.0ｇを加えた。
ルピラゾール−５−スルホンアミドの合成 (1)５−アミノ−４−エトキシカルボニル−１−エトキ
シカルボニルメチルピラゾール ベンゼン200ml中にエトキシメチレンシアン酢酸エチル1
6.9ｇ、エチルヒドラジノアセテート塩酸塩15.4ｇを加
え水50mlに溶解した炭酸カリウム6.9ｇを氷冷下滴下し
た。室温にて２時間攪拌後有機層を分離濃縮した。これ
にエタノール100mlを加え１時間還流後溶媒を留去する
と目的物結晶15ｇが析出した。融点76〜77℃ (2)４−エトキシカルボニル−１−エトキシカルボニル
メチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成 濃塩酸10ml、酢酸20ml、リン酸20mlの混合溶液中に上記
で得られたピラゾール5.0ｇを加えた。
−10℃に冷却し、水10mlに溶解した亜硝酸ナトリウム1.
5ｇを滴下した。次ぎに二酸化イオウの酢酸飽和溶液100
mlに塩化第一銅1.0ｇを加え、０℃に冷却したなかへ先
に調製した溶液を少しづつ加えた。滴下終了後10℃で１
時間攪拌後反応液を氷水中に注ぎ、エーテルで抽出する
ことによって粗製の４−エトキシカルボニル−１−エト
キシカルボニルメチルピラゾール−５−スルホニルクロ
ライド5.2ｇを得た。ここで得られたスルホニルクロラ
イドを50mlのアセトンに溶解し炭酸水素ナトリウム1.3
ｇを加え攪拌したなかへ氷冷下アンモニア水（28%）を
滴下した。室温で１時間攪拌後、乾燥、濃縮すると目的
物3.0ｇが析出した。
5ｇを滴下した。次ぎに二酸化イオウの酢酸飽和溶液100
mlに塩化第一銅1.0ｇを加え、０℃に冷却したなかへ先
に調製した溶液を少しづつ加えた。滴下終了後10℃で１
時間攪拌後反応液を氷水中に注ぎ、エーテルで抽出する
ことによって粗製の４−エトキシカルボニル−１−エト
キシカルボニルメチルピラゾール−５−スルホニルクロ
ライド5.2ｇを得た。ここで得られたスルホニルクロラ
イドを50mlのアセトンに溶解し炭酸水素ナトリウム1.3
ｇを加え攪拌したなかへ氷冷下アンモニア水（28%）を
滴下した。室温で１時間攪拌後、乾燥、濃縮すると目的
物3.0ｇが析出した。
融点118〜119℃ 参考例４ １−（１−エトキシカルボニルエチル）−４−エトキシ
カルボニルピラゾール−３−スルホンアミドの合成 ４−エトキシカルボニルピラゾール−５（３）−スルホ
ンアミド４ｇをアセトニトリル30mlに溶かし、炭酸カリ
ウム3.76ｇ、α−ブロモプロピオン酸エチル3.63ｇを加
えて４時間加熱還流した。
カルボニルピラゾール−３−スルホンアミドの合成 ４−エトキシカルボニルピラゾール−５（３）−スルホ
ンアミド４ｇをアセトニトリル30mlに溶かし、炭酸カリ
ウム3.76ｇ、α−ブロモプロピオン酸エチル3.63ｇを加
えて４時間加熱還流した。
反応混合物より溶媒を留去した後、氷水30ml及び６Ｎ塩
酸10mlを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥
後、溶媒留去して油状の目的物4.81ｇを得た。
酸10mlを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥
後、溶媒留去して油状の目的物4.81ｇを得た。
参考例５ ４−エトキシカルボニル−１−メトキシカルボニルメチ
ルピラゾール−３−スルホンアミドの合成 上記参考例４に準じて、ブロム酢酸メチルを用い合成し
た。融点 108〜111℃ 上記参考例で得られた置換ピラゾールスルホンアミドを
用いて、本発明化合物の具体的な合成例を以下説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
ルピラゾール−３−スルホンアミドの合成 上記参考例４に準じて、ブロム酢酸メチルを用い合成し
た。融点 108〜111℃ 上記参考例で得られた置換ピラゾールスルホンアミドを
用いて、本発明化合物の具体的な合成例を以下説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニル−１−メト
キシメチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成（化
合物No.４） 参考例１で得られたスルホンアミド4.4ｇのジメチルホ
ルムアミド20ml溶液を55％水素化ナトリウム0.8ｇのジ
メチルホルムアミド5ml懸濁液に氷冷下滴下した。次ぎ
にジフェニルカーボネート3.93ｇのジメチルホルムアミ
ド30ml溶液を氷冷下滴下した後室温にて一夜攪拌した。
溶媒を留去し、残渣をエーテルで洗浄後、エーテル不溶
物を5%塩酸50ml、氷50ｇおよび酢酸エチル300mlの混合
物へ加え、攪拌した。有機層を水洗後乾燥、濃縮すると
油状のＮ−（フェノキシカルボニル）−４−エトキシカ
ルボニル−１−メトキシメチルピラゾール−５−スルホ
ンアミド5.0ｇが得られた。
ミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニル−１−メト
キシメチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成（化
合物No.４） 参考例１で得られたスルホンアミド4.4ｇのジメチルホ
ルムアミド20ml溶液を55％水素化ナトリウム0.8ｇのジ
メチルホルムアミド5ml懸濁液に氷冷下滴下した。次ぎ
にジフェニルカーボネート3.93ｇのジメチルホルムアミ
ド30ml溶液を氷冷下滴下した後室温にて一夜攪拌した。
溶媒を留去し、残渣をエーテルで洗浄後、エーテル不溶
物を5%塩酸50ml、氷50ｇおよび酢酸エチル300mlの混合
物へ加え、攪拌した。有機層を水洗後乾燥、濃縮すると
油状のＮ−（フェノキシカルボニル）−４−エトキシカ
ルボニル−１−メトキシメチルピラゾール−５−スルホ
ンアミド5.0ｇが得られた。
次ぎに無水ジオキサン10mlに、上記で得られたスルホン
アミド1.4ｇ、および２−アミノ−４，６−ジメトキシ
ピリミジン465mgを加え、１時間加熱還流した。反応終
了後ジオキサンを減圧下留去し残渣にベンゼン5mlを加
え攪拌した。析出した結晶を濾過し、少量の酢酸エチル
で洗浄した後乾燥すると目的物0.7ｇが得られた。融点1
52〜153℃ 実施例２ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−１−アリル−４−エトキシカルボニ
ルピラゾール−５−スルホンアミドの合成（化合物No.
９） 乾燥アセトン30ml中に参考例２で得られたスルホンアミ
ド2.1ｇ、炭酸カリウム1.73ｇ、クロルギ酸エチル1.41
ｇを加え、室温にて18時間攪拌した。溶媒留去後水を加
え、濃塩酸で酸性にした後エーテルで抽出した。有機層
を乾燥、濃縮し油状のＮ−（エトキシカルボニル）−１
−アリル−４−エトキシカルボニルピラゾール−５−ス
ルホンアミド2.0ｇを得た。キシレン10mlに上記化合物
1.41ｇ、２−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジン0.
74ｇを加え、２時間加熱還流した。室温で放置すると目
的物1.2ｇが析出した。融点164〜166℃。
アミド1.4ｇ、および２−アミノ−４，６−ジメトキシ
ピリミジン465mgを加え、１時間加熱還流した。反応終
了後ジオキサンを減圧下留去し残渣にベンゼン5mlを加
え攪拌した。析出した結晶を濾過し、少量の酢酸エチル
で洗浄した後乾燥すると目的物0.7ｇが得られた。融点1
52〜153℃ 実施例２ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−１−アリル−４−エトキシカルボニ
ルピラゾール−５−スルホンアミドの合成（化合物No.
９） 乾燥アセトン30ml中に参考例２で得られたスルホンアミ
ド2.1ｇ、炭酸カリウム1.73ｇ、クロルギ酸エチル1.41
ｇを加え、室温にて18時間攪拌した。溶媒留去後水を加
え、濃塩酸で酸性にした後エーテルで抽出した。有機層
を乾燥、濃縮し油状のＮ−（エトキシカルボニル）−１
−アリル−４−エトキシカルボニルピラゾール−５−ス
ルホンアミド2.0ｇを得た。キシレン10mlに上記化合物
1.41ｇ、２−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジン0.
74ｇを加え、２時間加熱還流した。室温で放置すると目
的物1.2ｇが析出した。融点164〜166℃。
実施例３ Ｎ−〔（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニル−１
−エトキシカルボニルメチルピラゾール−５−スルホン
アミドの合成（化合物No.15） 参考例３で得られたスルホンアミド2.2ｇと乾燥炭酸カ
リウム1.5ｇのアセトン50mlの混合物にｎ−ブチルイソ
シアナート0.85ｇを室温で加え、加熱還流下、３時間攪
拌した。反応後アセトンを減圧留去し、残渣に氷水を加
え不溶物を濾過した。濾液を塩酸で酸沈し、析出した結
晶を濾別、水洗、乾燥しＮ−（ｎ−ブチルカルバモイ
ル）−４−エトキシカルボニル−１−エトキシカルボニ
ルメチルピラゾールスルホンアミド2.2ｇを得た。
ル）アミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニル−１
−エトキシカルボニルメチルピラゾール−５−スルホン
アミドの合成（化合物No.15） 参考例３で得られたスルホンアミド2.2ｇと乾燥炭酸カ
リウム1.5ｇのアセトン50mlの混合物にｎ−ブチルイソ
シアナート0.85ｇを室温で加え、加熱還流下、３時間攪
拌した。反応後アセトンを減圧留去し、残渣に氷水を加
え不溶物を濾過した。濾液を塩酸で酸沈し、析出した結
晶を濾別、水洗、乾燥しＮ−（ｎ−ブチルカルバモイ
ル）−４−エトキシカルボニル−１−エトキシカルボニ
ルメチルピラゾールスルホンアミド2.2ｇを得た。
融点116〜117℃ 次いでこれを乾燥トルエン20ml中に加え加熱還流下、ホ
スゲン1.5ｇを吹き込みその後さらに1.5時間加熱還流し
た。反応終了後減圧濃縮し、粗スルホニルイソシアナー
トを得た。この粗スルホニルイソシアナート0.98ｇを２
−アミノ−４−メトキシ−６−メチルトリアジン400mg
の乾燥アセトニトリル20ml溶液に加え、室温にて攪拌し
た。生成した結晶を濾別、洗浄、乾燥することにより目
的物0.8ｇを得た。融点140〜145℃ 実施例４ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−１−アセチル−４−エトキシカルボ
ニルピラゾール−３−スルホンアミドの合成（化合物N
o.28） Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニルピラゾール
−５（３）−スルホンアミド1gをトルエン20mlに懸濁さ
せ、無水酢酸0.26gを加えて６時間加熱還流した。減圧
下反応混合物より溶媒を留去して油状物を得た。この油
状物をテトラヒドロフラン5mlに溶かし、−60℃まで冷
却し、析出した結晶を濾別して目的物0.6ｇを得た。
スゲン1.5ｇを吹き込みその後さらに1.5時間加熱還流し
た。反応終了後減圧濃縮し、粗スルホニルイソシアナー
トを得た。この粗スルホニルイソシアナート0.98ｇを２
−アミノ−４−メトキシ−６−メチルトリアジン400mg
の乾燥アセトニトリル20ml溶液に加え、室温にて攪拌し
た。生成した結晶を濾別、洗浄、乾燥することにより目
的物0.8ｇを得た。融点140〜145℃ 実施例４ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−１−アセチル−４−エトキシカルボ
ニルピラゾール−３−スルホンアミドの合成（化合物N
o.28） Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニルピラゾール
−５（３）−スルホンアミド1gをトルエン20mlに懸濁さ
せ、無水酢酸0.26gを加えて６時間加熱還流した。減圧
下反応混合物より溶媒を留去して油状物を得た。この油
状物をテトラヒドロフラン5mlに溶かし、−60℃まで冷
却し、析出した結晶を濾別して目的物0.6ｇを得た。
融点80〜87℃ 実施例５ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニル−１−プロ
パルギルピラゾール−３−スルホンアミドの合成（化合
物No.33） Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニルピラゾール
−５（３）−スルホンアミド1gをアセトニトリル20mlに
懸濁させ、炭酸カリウム0.52ｇ、プロパルギルブロマイ
ド0.33ｇを加えて３時間加熱還流した。減圧下反応混合
物より溶媒を留去し、氷水を加え、６Ｎ塩酸にて酸性に
した後酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥後、溶媒を
留去して油状物を得た。この油状物をエーテル／アセト
ニトリル10/1の混合液に溶かし、24時間室温攪拌後析出
した結晶を濾別して目的物0.6ｇを得た。融点109〜113
℃ 次に本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合成
した化合物と以下第１、２表に示すが本発明化合物はこ
れらに限定されるものではない。
ミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニル−１−プロ
パルギルピラゾール−３−スルホンアミドの合成（化合
物No.33） Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−４−エトキシカルボニルピラゾール
−５（３）−スルホンアミド1gをアセトニトリル20mlに
懸濁させ、炭酸カリウム0.52ｇ、プロパルギルブロマイ
ド0.33ｇを加えて３時間加熱還流した。減圧下反応混合
物より溶媒を留去し、氷水を加え、６Ｎ塩酸にて酸性に
した後酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥後、溶媒を
留去して油状物を得た。この油状物をエーテル／アセト
ニトリル10/1の混合液に溶かし、24時間室温攪拌後析出
した結晶を濾別して目的物0.6ｇを得た。融点109〜113
℃ 次に本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合成
した化合物と以下第１、２表に示すが本発明化合物はこ
れらに限定されるものではない。
発明化合物を除草剤として施用するにあたっては一般に
は適当な担体、例えばクレー、タルク、ベントナイト、
珪藻土等の固体担体あるいは水、アルコール（メタノー
ル、エタノール等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等）、塩素化炭化水素類、エーテル
類、ケトン類、エステル類（酢酸エチル等）、酸アミド
類（ジメチルホルムアミド等）などの液体担体と混用し
て適用することができ、所望により乳化剤、分散剤、懸
濁剤、浸透剤、展着剤、安定剤などを添加し、液剤、乳
剤、水和剤、粉剤、粒剤等任意の剤型にて実用に供する
ことができる。
は適当な担体、例えばクレー、タルク、ベントナイト、
珪藻土等の固体担体あるいは水、アルコール（メタノー
ル、エタノール等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等）、塩素化炭化水素類、エーテル
類、ケトン類、エステル類（酢酸エチル等）、酸アミド
類（ジメチルホルムアミド等）などの液体担体と混用し
て適用することができ、所望により乳化剤、分散剤、懸
濁剤、浸透剤、展着剤、安定剤などを添加し、液剤、乳
剤、水和剤、粉剤、粒剤等任意の剤型にて実用に供する
ことができる。
次に本発明化合物を有効成分とする除草剤の配合例を示
すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下
の配合例において「部」は重量部を意味する。
すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下
の配合例において「部」は重量部を意味する。
配合例１ 水和剤 本発明化合物No.３……５０部 ジークライトＡ……４６部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール５０３９……２部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。使用に際して
は上記水和剤を５０〜５０，０００倍に希釈して、有効
成分量がヘクタール当たり０．００５kg〜１０kgになる
ように散布する。
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。使用に際して
は上記水和剤を５０〜５０，０００倍に希釈して、有効
成分量がヘクタール当たり０．００５kg〜１０kgになる
ように散布する。
配合例２ 水和剤 本発明化合物No.９……７５部 ジークライトＡ……１９部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール５０３９……２部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……４部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……４部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
配合例３ 水和剤 本発明化合物No.12……５０部 ジークライトＡ……４６部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール５０３９……２部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
配合例４ 水和剤 本発明化合物No.28……２５部 ジークライトＡ……７１部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール５０３９……２部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
配合例５ 水和剤 本発明化合物No.33……５０部 ジークライトＡ……４４部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール５０３９……４部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
配合例６ 水和剤 本発明化合物No.35……４５部 ジークライトＡ……５１部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール５０３９……２部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤）……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
配合例７ 乳剤 本発明化合物No.4 ……２部 キシレン ……７８部 ジメチルホルムアミド……１５部 ソルポール２６８０ ……５部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤を１０〜１０，０００倍に希釈して有効成分量がヘ
クタール当たり０．００５kg〜１０kgになるように散布
する。
合物：東邦化学（株）商品名） 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤を１０〜１０，０００倍に希釈して有効成分量がヘ
クタール当たり０．００５kg〜１０kgになるように散布
する。
配合例８ フロアブル 本発明化合物No.28 ……２５部 アグリゾールＳ−７１０……１０部 （非イン性界面活性剤：花王アトラス（株）商品名） ルノックス１０００Ｃ……０．５部 （アニオン性界面活性剤：東邦化学（株）商品名） １％ロドポール水 ……２０部 （増粘剤：ローン・プーラン社商品名） 水 ……４４．５部 以上を均一に混合してフロアブル剤とする。
配合例９ 粒剤 本発明化合物No.4…… 0.1部 ベントナイト ……55.0部 タルク ……44.9部 以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて攪拌混
合捏和し、押出式増粒機で増粒し、乾燥して粒剤にす
る。
合捏和し、押出式増粒機で増粒し、乾燥して粒剤にす
る。
配合例10 粒剤 本発明化合物No.9…… 0.5部 ベントナイト ……55.0部 タルク ……44.5部 以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて攪拌混
合捏和し、押出式増粒機で増粒し、乾燥して粒剤にす
る。
合捏和し、押出式増粒機で増粒し、乾燥して粒剤にす
る。
配合例11 粒剤 本発明化合物No.24 …… 1.0部 ベントナイト ……55.0部 タルク ……44.0部 以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて攪拌混
合捏和し、押出式増粒機で増粒し、乾燥して粒剤にす
る。
合捏和し、押出式増粒機で増粒し、乾燥して粒剤にす
る。
また、本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時に
他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、共力剤などと混合
施用しても良い。
他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、共力剤などと混合
施用しても良い。
上記の他種の除草剤としては、例えば、ファーム・ケミ
カルズ．ハンドブック（Farm Chemicals Handbook）６
８版（１９８２）に記載されている化合物などがある。
カルズ．ハンドブック（Farm Chemicals Handbook）６
８版（１９８２）に記載されている化合物などがある。
なお、本発明化合物は畑地、水田、果樹園などの農園芸
分野以外に運動場、空地、線路端など非農耕地における
各種雑草の防除にも適用することができ、その施用薬量
は適用場面、施用時期、施用方法、対象草種、栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たり０．００５〜１０kg程度が適当である。
分野以外に運動場、空地、線路端など非農耕地における
各種雑草の防除にも適用することができ、その施用薬量
は適用場面、施用時期、施用方法、対象草種、栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たり０．００５〜１０kg程度が適当である。
次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試
験例において具体的に説明する。
験例において具体的に説明する。
試験例−１ 土壌処理による除草効果試験 縦１５cm、横２２cm、深さ６cmのプラスチック製箱に殺
菌した洪積土壌を入れ、稲、ノビエ、メヒシバ、カヤツ
リグサ、コアカザ、スベリヒユ、ハキダメギク、イヌガ
ラシを混播し、約１．５cm覆土した後有効成分量が所定
の割合となるように土壌表面へ均一に散布した。
菌した洪積土壌を入れ、稲、ノビエ、メヒシバ、カヤツ
リグサ、コアカザ、スベリヒユ、ハキダメギク、イヌガ
ラシを混播し、約１．５cm覆土した後有効成分量が所定
の割合となるように土壌表面へ均一に散布した。
散布の際の薬液は、前記配合例の水和剤を水で希釈して
小型スプレーで全面に散布した。薬液散布４週間後に稲
および各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従
い調査した。
小型スプレーで全面に散布した。薬液散布４週間後に稲
および各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従
い調査した。
結果は第３表に示す。
本発明化合物のいくつかは、ある種の作物に対して選択
性を有する。
性を有する。
判定基準 ５……殺草率 ９０％以上（ほとんど完全枯死） ４……殺草率 ７０〜９０％ ３……殺草率 ４０〜７０％ ２……殺草率 ２０〜４０％ １……殺草率 ５〜２０％ ０……殺草率 ５％以下（ほとんど効力なし） 但し、上記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重およ
び無処理区の地上部生草重を測定して下記の式により求
めたものである。
び無処理区の地上部生草重を測定して下記の式により求
めたものである。
試験例−２ 茎葉処理による除草効果試験 縦１５cm、横２２cm、深さ６cmのプラスチック製箱に殺
菌した洪積土壌を入れ、稲、ノビエ、メヒシバ、カヤツ
リグサ、コアカザ、スベリヒユ、ハキダメギク、イヌガ
ラシ、トーモロコシ、ダイズ、コムギ、トマトの種子を
それぞれスポット状に播種し約１．５cm覆土した。各種
植物が２〜３葉期に達したとき、有効成分量が所定の割
合となるように茎葉部へ均一に散布した。
菌した洪積土壌を入れ、稲、ノビエ、メヒシバ、カヤツ
リグサ、コアカザ、スベリヒユ、ハキダメギク、イヌガ
ラシ、トーモロコシ、ダイズ、コムギ、トマトの種子を
それぞれスポット状に播種し約１．５cm覆土した。各種
植物が２〜３葉期に達したとき、有効成分量が所定の割
合となるように茎葉部へ均一に散布した。
散布の際の薬液は、前記配合例の水和剤を水で希釈して
小型スプレーで各種雑草の茎葉部の全面に散布した。薬
液散布４週間後に稲および各種雑草に対する除草効果を
試験例−１の判定基準に従い調査した。
小型スプレーで各種雑草の茎葉部の全面に散布した。薬
液散布４週間後に稲および各種雑草に対する除草効果を
試験例−１の判定基準に従い調査した。
結果は第４表に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 猪飼 隆 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 (72)発明者 小口 寿彦 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 (72)発明者 縄巻 勤 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 審査官 高梨 操 (56)参考文献 特開 昭59−1480（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−219179（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）： 〔式中Ｒ1はアルケニル基、アルコキシアルキル基、Ｃ
Ｈ（Ｒ3）ＣＯＯＲ4基（但しＲ3、Ｒ4はそれぞれ独立し
て水素原子または低級アルキル基を示す。）、ＣＨ（Ｒ
5）ＣＮ基（Ｒ5は水素原子または低級アルキル基を示
す。）またはＣＯＲ6（Ｒ6は水素原子または低級アルキ
ル基を示す。）を示す。Ｒ2は低級アルキル基を示す。
ＸおよびＹはそれぞれ独立して低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子を示し、Ｚは窒素原子ま
たは−ＣＨ＝基を示す。〕 で表されるピラゾールスルホニルウレア誘導体。 - 【請求項２】一般式（II）： 〔式中Ｒ1はアルケニル基、アルコキシアルキル基、Ｃ
Ｈ（Ｒ3）ＣＯＯＲ4基（但しＲ3、Ｒ4はそれぞれ独立し
て水素原子または低級アルキル基を示す。）、ＣＨ（Ｒ
5）ＣＮ基（Ｒ5は水素原子または低級アルキル基を示
す。）またはＣＯＲ6（Ｒ6は水素原子または低級アルキ
ル基を示す。）を示す。Ｒ2は低級アルキル基を示
す。〕 で表されるピラゾールスルホニルイソシアナート誘導体
と、次式（III）： 〔式中ＸおよびＹはそれぞれ独立して低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示し、Ｚは窒素
原子または−ＣＨ＝基を示す。〕 で表されるアミノピリミジンまたはアミノトリアジン誘
導体とを、不活性溶媒中で反応させることを特徴とする
一般式（Ｉ）： 〔式中Ｒ1はアルケニル基、アルコキシアルキル基、Ｃ
Ｈ（Ｒ3）ＣＯＯＲ4基（但しＲ3、Ｒ4はそれぞれ独立し
て水素原子または低級アルキル基を示す。）、ＣＨ（Ｒ
5）ＣＮ基（Ｒ5は水素原子または低級アルキル基を示
す。）またはＣＯＲ6（Ｒ6は水素原子または低級アルキ
ル基を示す。）を示す。Ｒ2は低級アルキル基を示す。
ＸおよびＹはそれぞれ独立して低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子を示し、Ｚは窒素原子ま
たは−ＣＨ＝基を示す。〕 で表されるピラゾールスルホニルウレア誘導体の製法。 - 【請求項３】一般式（IV）： 〔式中Ｒ2は低級アルキル基を示す。ＸおよびＹはそれ
ぞれ独立して低級アルキル基、低級アルコキシ基または
ハロゲン原子を示し、Ｚは窒素原子または−ＣＨ＝基を
示す。〕 で表されるピラゾールスルホニルウレア誘導体と次式
（Ｖ）： Ｒ1Hal 〔式中Ｒ1はアルケニル基、アルコキシアルキル基、Ｃ
Ｈ（Ｒ3）ＣＯＯＲ4基（但しＲ3、Ｒ4はそれぞれ独立し
て水素原子または低級アルキル基を示す。）、ＣＨ（Ｒ
5）ＣＮ基（Ｒ5は水素原子または低級アルキル基を示
す。）またはＣＯＲ6（Ｒ6は水素原子または低級アルキ
ル基を示す。）を示す。Halはハロゲン原子を示す。〕 で表されるハロゲン化物を適当な塩基の存在下反応させ
ることを特徴とする一般式（Ｉ）： 〔式中Ｒ1はアルケニル基、アルコキシアルキル基、Ｃ
Ｈ（Ｒ3）ＣＯＯＲ4基（但しＲ3、Ｒ4はそれぞれ独立し
て水素原子または低級アルキル基を示す。）、ＣＨ（Ｒ
5）ＣＮ基（Ｒ5は水素原子または低級アルキル基を示
す。）またはＣＯＲ6（Ｒ6は水素原子または低級アルキ
ル基を示す。）を示す。Ｒ2は低級アルキル基を示す。
ＸおよびＹはそれぞれ独立して低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子を示し、Ｚは窒素原子ま
たは−ＣＨ＝基を示す。〕 で表されるピラゾールスルホニルウレア誘導体の製法。 - 【請求項４】一般式（Ｉ）： 〔式中Ｒ1はアルケニル基、アルコキシアルキル基、Ｃ
Ｈ（Ｒ3）ＣＯＯＲ4基（但しＲ3、Ｒ4はそれぞれ独立し
て水素原子または低級アルキル基を示す。）、ＣＨ（Ｒ
5）ＣＮ基（Ｒ5は水素原子または低級アルキル基を示
す。）またはＣＯＲ6（Ｒ6は水素原子または低級アルキ
ル基を示す。）を示す。Ｒ2は低級アルキル基を示す。
ＸおよびＹはそれぞれ独立して低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子を示し、Ｚは窒素原子ま
たは−ＣＨ＝基を示す。〕 で表されるピラゾールスルホニルウレア誘導体の１種ま
たは２種以上を有効成分として含有することを特徴とす
る除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59108070A JPH0660177B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体、その製法および除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59108070A JPH0660177B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体、その製法および除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60252479A JPS60252479A (ja) | 1985-12-13 |
| JPH0660177B2 true JPH0660177B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=14475116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59108070A Expired - Lifetime JPH0660177B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体、その製法および除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660177B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0096003B2 (de) * | 1982-05-28 | 1994-06-15 | Ciba-Geigy Ag | Neue Sulfonyl(thio)harnstoffe, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung als Herbizide und/oder Wachstumsregulatoren |
| JP2961267B2 (ja) * | 1982-06-01 | 1999-10-12 | イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | イミダゾール又はピラゾール誘導体 |
-
1984
- 1984-05-28 JP JP59108070A patent/JPH0660177B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60252479A (ja) | 1985-12-13 |
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