JPS60252479A - ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体、その製法および除草剤 - Google Patents

ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体、その製法および除草剤

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JPS60252479A
JPS60252479A JP10807084A JP10807084A JPS60252479A JP S60252479 A JPS60252479 A JP S60252479A JP 10807084 A JP10807084 A JP 10807084A JP 10807084 A JP10807084 A JP 10807084A JP S60252479 A JPS60252479 A JP S60252479A
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進 山本
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角田 卓彌
Toshiaki Sato
敏明 佐藤
Katsuyuki Morimoto
勝之 森本
Takashi Igai
猪飼 隆
Toshihiko Oguchi
小口 寿彦
Tsutomu Nawamaki
縄巻 勤
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なピラゾールスルホニルウレア誘導体、当
該化合物の製法および当該化合物を有効成分とする選択
性除草剤に関するものである。
イネ、小麦、トウモロコシ等重要な作物を雑草害から守
り増収をはかる為に除草剤を使用することは欠くことが
できない。特に近年はこれらの有用作物と雑草の混在す
る耕地において、作物と雑草の茎葉部へ同時処理しても
作物に対して薬害を示さず雑草のみを選択的に枯殺しう
る選択性除草剤が望まれている。また、環境汚染防止、
輸送、散布の際の経済コスト低減等の観点から、できる
だけ低薬量で高い除草効果をあげる化合物の探索研究が
長年にわたり続けられている。このような特性を有する
化合物のいくつかは選択性除草剤として現在使用されて
いるが、以前としてこれらの性質を備える新しい化合物
の需要も存在する。
本発明者らは、重要作物に対して選択性のある除草剤を
開発するため長年にわたる研湯をつづけ殺草力のより高
い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの化
合物についてその除草特性を検討してきた。その結果前
記一般式(+)で表される本発明化合物が土壌処理、茎
葉処理のいずれの場合にも多くの雑草に対して強い殺草
力を有しかつ重要作物であるイネ、小麦、トウモロコシ
に対して高い安全性を有することを見いだして本発明を
完成した。一方、本発明化合物は従来の除草剤に比して
非常に低薬量で高い除草活性を示すことから果樹園、非
耕地用の除草剤としても有用である。
一般式(1)で表される本発明化合物は新規化合物であ
り、下記の反応式1〜2のいずれかを選ぶことにより容
易に製造できる。
返裟メJ− 〔式中h+、1マ2、X、YおよびZは前記と同じ意味
を示す。〕 すなわち、ピラゾールスルホニルイソシアナート誘導体
を、充分に乾燥したジオキサン、アセトニトリル等の不
活性溶媒に溶がし、これに式(ill)で表されるピリ
ミジンまたはトリアジン誘導体を添加し撹拌することに
より、一般的に速やかに反応して本発明化合物(1)が
得られる。反応が進行しがたい場合には適当な塩基、例
えばトリエチルアミン、トリエナレンジアミン、ピリジ
ン、ナトリウムアルコキシ1ζ、水素化ナトリウム等の
微少量を添加することにより容易に反応が進行する。
反&人1 C式中R1,1(2、Xl、Y、 zおよび1(al 
は前記と同し意味を示す。〕 すなわち、ピラゾールスルホニルウレア誘導体(IV 
’)をアセトン、アセトニトリル、ベンゼン等の溶媒中
、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基
存在下ハロゲン化物(V)と反応させる事により本発明
化合物(1)を得る事ができる。ピラゾールスルホニル
ウレア誘導体(1v)の製法は特願昭58−70407
に記載されている。
〔式中R1、R2、x、yおよびZは前記と同し意味を
示す。R7はアルキル番もしくはフェニル基を示す。〕 すなわち、ピラゾールスルホンアミド誘導体(Vl)を
、アセトン、メナルエナルケトン等の溶媒中、炭酸カリ
ウム等の塩基存在下クロルギ酸エステルもしくは炭酸エ
ステルと反応させ、反応後塩酸等酸性物質で処理するこ
とにより化合物(■)を得る。次いでトルエン等の溶媒
中にて化合物(Ill)と加熱することにより本発明化
合物(1)を得ることができる。
反応式1で用いられる原料のピラゾールスルホニルイソ
シアナートは以下に記載する方法にてピラゾールスルホ
ンアミドを合成し、さらに特開昭55−13266号公
報に記載されている方法を参考にして合成できる。
本発明に用いられる中間体のピラゾールスルホンアミド
の合成例を以下参考例として記す。
豊考拠二↓ 4−エトキシカルボニル−1−メトキシメチルピラゾー
ル−5−スルポンアミドの合成 (1)1−メトキシンナルピラゾール−4−カルボン酸
エチルの合成 乾燥テトラヒドロ、フラン150m1に水素化ナトリウ
ム(55χ) 2.4g、ピラゾール−4−カルボン酸
エチル7.1gを加え、氷冷下クロルメチルメナルエー
テル4.0gを滴下した。室温で一夜攪拌後溶媒を留去
し、残渣にエーテル及び氷水を加え、有機層を分離し乾
燥後溶媒を留去すると油状の目的物5.9gが得られた
(2)4−エトキシカルボニル−1−メトキシンナルピ
ラゾール−5−スルホンアミドの合成上記で得られたピ
ラゾール7.0gを乾燥エーテル150m1に懸濁し一
60℃以下に冷却した。次いでリナウムジイソプロピル
アミド(1,2倍モル)エーテル溶液を滴下した。その
まま1時間攪拌し、次いで亜硫酸ガスを約30分間吹き
込んだ。−60℃で2時間反応後更に室温で2時間攪拌
した。析出した結晶を濾過乾燥し、固体の4−エトキシ
カルボニル−1−メトキシンナルすラゾール−5−スル
ホン酸リナウム塩9.3gを得た。次ぎにこれを氷水1
5f)n+1、ジクロルメタン100m1の溶液中に加
え、N−クロルコハク酸イミド4.9gを0〜5”Cの
温度で加えた。室温で45分間攪拌後ジクロルメタン層
を分離し、更に水層をジクロルメタン100m1で抽出
し合計した。得られた4−エトキシカルボニル−1−メ
トキソメナルビラゾールー5−スルホニルクロライドの
ジクロルメタン溶液を10℃以下に冷却したアンモニア
水(28χ)100ml中に滴下した。
室温にて1時間攪拌後、溶媒を留去すると目的のスルホ
ンアミド6.4gが得られた。
融点 88〜89℃ 皇」」[1変 1−アリル−4−エトキシカルボニルピラゾール−5−
スルホンアミドの合成 参考例−1の方法に準じて合成した。
融点 82〜84℃ 灸夷斑二主 4−エトキシカルボニル−1−エトキシ力ルポニルメナ
ルビラゾール−5−スルホンアミドの合成 (1)5−アミノ−4−エトキシカルボニル−1−エト
キシカルボニルメチルピラゾール ベンゼン200m1中にエトキシメナレンンアン酢酸エ
チル16.9g 、エナルヒドラジノアセテート塩酸塩
15.4gを加え水50m1に溶解した炭酸カリウム6
.9gを水冷上滴下した。室温にて2時間攪拌後右機層
を分離濃縮した。これにエタノール100m lを加え
1時間還流後溶媒を留去すると目的物結晶]5gが析出
した。融点 76〜77℃ (2)4−エトキシカルボニル−1−エトキシカルポニ
ルメナルピラゾール−5−スルホンアミドの合成 濃塩酸10mI、酢酸20m1、リン酸20m lの混
合溶液中に上記で得られたピラゾール5.0gを加えた
−10℃に冷却し、水10m1に溶解した亜硝酸ナトリ
ウム1.5gを滴下した。次ぎに二酸化イオウの酢酸飽
和溶液100m1に塩化第−tJi1.Ogを加え、0
℃に冷却したなかへ先に調製した溶液を少しづつ加えた
。滴下終了後10℃で1時間攪拌後反応液を氷水中に注
ぎ、エーテルで抽出することによって粗製の4−エトキ
シカルボニル−1−エトキシカルボ。
ニルメチルビラゾール−5−スルホニルクロライド5.
2gを得た。ここで得られたスルボニルクロライドを5
0m1のアセトンに溶解し炭酸水素ナトリウム1.3g
を加え攪拌したなかへ水冷下アンモニア水(28X)を
滴下した。室温で1時間攪拌後、乾燥、濃縮すると目的
物3.0gが析出した。
融点 118〜119℃ 髪斐拠工 1−(1−エトキシ力ルポニルエナル)−4−エトキシ
カルボニルピラゾール−3−スルホンアミドの合成 4−エトキシカルボニルピラゾール−5(3)−スルホ
ンアミド4gをアjセトニトリル30m1に溶かし、炭
酸カリウム3.76g 、α−ブロモプロピオン酸エチ
ル3.63gを加えて4時間加熱還流した。
反応混合物より溶媒を留去した後、氷水3(bw l及
び6N塩酸10m1を加え、酢酸エチルで抽出した。有
機層を乾燥後、溶媒留去して油状の目的物4.81gを
得た。
皇考斑工 4−エトキシカルボニル−1−メトキシ力ルポニルメナ
ルピラゾー、ルー3−スルホンアミドの合成 上記参考例4に準じて、ブロム酢酸メチルを用い合成し
た。融点 108〜111℃ 上記参考例で得られた置換ピラゾールスルホンアミドを
用いて、本発明化合物の具体的な合成例を以下説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
去ml壓L N−((4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)ア
ミノカルボニル〕−4−エトキシカルボニル−1−メト
キシメチルビラゾール−5−スルホンアミドの合成(化
合物階4) 参考例1で得られたスルホンアミド4.4gのヅメナル
ホルムアミ120m1溶液を55%水素化ナトリウム0
.8gのジメナルホルムアミド5n+1懸濁液に水冷上
滴下した。次ぎにジフェニルカーボネー)3.93gの
ツメナルホルムアミド30m1f4液を水冷上滴下した
後室温にて一夜攪拌した。溶媒を留去し、残渣をエーテ
ルで洗浄後、エーテル不溶物を5%塩酸50m1、氷5
0gおよび酢酸エチル300m1の混合物へ加え、攪拌
した。有機層を水洗後乾燥、濃縮すると油状のN−(フ
ェノキシカルボニル)−4−エトキシカルボニル−1−
メトキシンナルビラゾール−5−スルホンア戒ド5.O
gが得られた。
次ぎに無水ジオキサン10m1に、上記で得られたスル
ホンアミド1.4g、および2−アミノ−4,6−ジメ
トキシピリミジン465mgを加え、1時間加熱還流し
た。反応終了後ジオキサンを減圧上留去し残渣にベンゼ
ン5mlを加え攪拌した。析出した結晶を濾過し、少量
の酢酸エチルで洗浄した後乾燥すると目的物0.7gが
得られた。融点152〜153℃犬施炭1 N−((4,6−ジメトキシビリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル〕−1−アリル−4−エトキシカルボニ
ルピラゾール−5−スルホンアミドの合成(化合物Na
9) 乾燥アセトン3h+1中に参考例2で得られたスルホン
アミド2.1g、炭酸カリウム1.73g 、クロルギ
酸エナル1゜41gを加え、室温にて18時間攪拌した
溶媒留去汲水を加え、濃塩酸で酸性にした後エーテルで
抽出した。有機層を乾燥、濃縮し油状のN−(エトキシ
カルボニル)−1−アリル−4−エトキシカルボニルピ
ラゾール−5−スルホンアミド2.Ogを得た。キシレ
ン1.0mlに上記化合物1.41g 。
2−アミノ−4,6−シメトキシビリミジン0.74g
を加え、2時間加熱還流した。室温で放置すると目的物
1.2gが析出した。融点164〜166℃。
失血史菱 N−((4−メトキシ−6−メチルトリアジン−2−イ
ル)アミノカルボニルツー4−エトキシカルボニル−1
−エトキシ力ルポニルメナルピラゾール−5−スルホン
アミドの合成(化合物階15)参考例3で得られたスル
ホンアミ)”2.2gと乾燥炭酸カリウム1.5gのア
セトン50m1の混合物にn−フナルイソシアナー)0
.85gを室温で加え、加熱還流下、3時間攪拌した。
反応後アセトンを減圧留去し、残渣に氷水を加え不溶物
を濾過した。濾液を塩酸で酸沈し、析出した結晶を濾別
、水洗、乾燥しN−(n−ブナルカルハモイル)−4−
工トキシカルボニル−1−工)−キシカルボニルメナル
ピラゾールスルボンアミド2.2gを得た。
融点116〜117℃ 次いでこれを乾燥トルエン2Om l中に加え加熱還流
下、ホスゲン1.5gを吹き込みその後さらに1.5時
間加熱還流した。反応終了後減圧濃縮し、粗スルホニル
イソシアナートを得た。この粗スルホニルイソンアナー
ト0.9hを2−アミノ−4−メトキシ−6−メナルト
リアジン400 mgの乾燥アセトニトリル20m1溶
液に加え、室温Gこて撹拌した。生成した結晶を濾別、
洗浄、乾燥することにより目的物0.8gを得た。融点
140〜145℃爽施桝土 N−〔(4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)ア
ミノカルボニルツー1−アセナル−4=エトキシカルボ
ニルピラゾール−3−スルホンアミドの合成(化合物1
1に128) N−((4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)ア
ミノカルボニルj−4−エトキンカルボニルピラゾール
−5(3)−スルホンアミド1gをトルエン20m l
に懸濁させ、無水酢酸0.26gを加えて6時間加熱還
流した。減圧上反応混合物より溶媒を留去して油状物を
得た。この油状物をテトラヒドロフラン5ml に溶か
し、−60℃まで冷却し、析出した結晶を濾別して目的
物0.6gを得た。
融点 80〜87℃ 犬巖叢】 N−((4,6−シフトキンビリミジン−2−イル」ア
ミノカルボニル」−4−エトキシカルボニル−1−プロ
パルギルピラゾール−3−スルホンアミドの合成(化合
物ヌ33) N−((4,6−シメトキシビリミジンー2−イアL/
)アミノカルボニル〕−4−エトキシカルボニルピラゾ
ール−5(3)−スルボンアミド1gをアセトニトリル
2On+1に懸濁させ、炭酸カリウム0.52g 、プ
ロパルギルブロマイド0.33gを加えて3時間加熱還
流した。減圧上反応混合物より溶媒を留去し、氷水を加
え、6N塩酸にて酸性にした後酢酸エチルで抽出した。
有機層を乾燥後、溶媒−を留去して油状物を得た。この
油状物をエーテル/アセトニトリル10/lの混合液に
溶かし、24時間室温攪拌後析出した結晶を濾別して目
的物0.6gを得た。融点109〜113℃ 次に本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合成
した化合物と以下第1.2表に示すが本発明化合物はこ
れらに限定されるものではない。
第1表 Me:メナル基、、Ht: エナル暴を示す。
発明化合物を除草剤として施用するにあたっては一般に
は適当な担体1、例えばクレー、タルク、ベントナイト
、珪藻土等の固体担体あるいは水、アルコール(メタノ
ール、エタノール等ン、芳香族炭化水素類(ベンゼン、
トルエン、キシレン等)、塩素化炭化水素類、エーテル
類、ケトン類、エステル類(酢酸エチル等)、酸アミド
類(ジメナルポルムアミド等)などの液体担体と混用し
て適用することができ、所望により乳化剤、分散剤、懸
濁剤、浸透剤、展着剤、安定剤などを添加し、液剤、孔
側、水和剤、粉剤、粒剖等任意の剤型にて実用に供する
ことができる。
次に本発明化合物を有効成分とする除草剤の配合例を示
すがこれらのみに限定されるものではない。
なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味する
N金側1 水和剤 本発明化合物 隘3 −−−−−−−−−一−50部シ
ークライトA −−−−−−−−−−46部(カオリン
系クレー−シークライト上業■商品名)ツルポール50
39 −−−−−−−−−・−2部(非イオン性界面活
性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学−商
品名) カープレックス(固結防止剤) −2部(ホワイトカー
ボン:塩野義製薬−商品名)以上を均一に混合粉砕して
水和剤とする。使用に際しては上記水和剤を50〜50
,000倍に希釈して、有効成分量かへクタール当たり
0.005 kg〜iobになるように散布する。
配合例2 水和剤 本発明化合物 階9 −一−−−−−−−−−−−−−
−75部ジークライトA −−−−−−−−−−−〜−
−−19部(カオリン系クレー:ジークライト上業−商
品名)ツルポール5039 ・−・−・・・・・−−m
−−−・ 2部(非イオン性界面活性剤とアニオン性界
面活性剤との混合物:東邦化学■商品名ツ カーブレックス(固結防止剤> −−4部(ホワイトカ
ーボン:塩野義製薬■商品名)以上を均一に混合粉砕し
て水和剤とする。
配合例3− 水和剖 本発明化合物 嵐12 −−−−−一・−一一一〜・−
・ 50部ジークライトA −・−・−・−・−・−・
46部(カオリン系クレー:ジークライト上業■商品名
)ツルポール5039 −・−・−・−−−−−−−2
部(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との
混合物:東邦化学■商品名ン カーブレソクス(固結防止剤」 −・・−2部(ホワイ
トカーボン:塩野義製薬■商品名)以上を均一に混合粉
砕して水和剤とする。
配合例4 水和剤 本発明化合物 隘28 −−−−−−−−−−−−−2
5部シータライトA =−−−−−−−−−−−−−−
−−−11部(カオリン系クレー:ジークライト上業■
商品名2ツルポール5039 −−−−−−−−−−−
−− 2部(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活
性剤との混合物:東邦化学■商品名) カープレックス(固結防止剤) −一−−−2部(ホワ
イトカーボン:塩野義製薬■商品名)以上を均一に混合
粉砕して水和剤とする。
配合例5 水和剤 本発明化合物 隘33 −−−−−−−一・−−−−−
−50部ジークライトA −−−−−−−−一・−・・
−−−−44部(カオリン系クレー:ジークライト工業
■商品名)ツルポール5039−・−・−−−−−−−
−−−−−−4部(非イオン性界面活性剤とアニオン性
界面活性剤との混合物:東邦化学■商品名) カープレックス(固結防止剤)・・−2部(ホワイトカ
ーボン:塩野義製薬■商品名)以上を均一に混合粉砕し
て水和剤とする。
配合例6 水和剤 本発明化合物 隘35 −−−−−・−・・−−−−−
45部ジークライトA −−−−−−−−−−−−−−
−−51部(カオリン系クレー;ジークライト上業■商
品名)ツルポール5039 −−−−−一−−−−−・
−−m−−・ 2部(非イオン性界面活性剤とアニオン
性界面活性剤との混合物:東邦化学■商品名) カープレックス(固結防止剤)−−−−−2部(ホワイ
トカーボン:塩野義製薬■商品名)以上を均一に混合粉
砕して水和剤とする。
可31例j−乳剤 本発明化合物 魚4−・−・−・・−2部キ シ し 
ン −−−−・−・−−−一・・・−−−−・−m−・
 78部ジメナルホルムアミド −−−−−−・−15
部ツルポール2680 −−−−−−−〜−−−− 5
部(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との
混合物:東邦化学■商品名ン 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤を10〜10,000倍に希釈して有効成分量かへ
クタール当たり0.005kg〜10kgになるように
散布する。
■企桝エ フロアブル 本発明化合物 階28 −−−−−−−−−−−−・ 
25部アゲリシールS−710・−・・・−10部(非
イオン性界面活性剤:花王アトラス■商品名フ ルノックス1000 に −−−−−−0、5部(アニ
オン性界面活性剤:東邦化学■商品名)1%ロドボール
水 −−一−−−−−・−・−ニー20部(増粘剤:ロ
ーン・ブーラン社商品名)水 −・−・−・−一一−−
−−−−−−・・・−−−−−−−−一−−−・−・−
44,5部以上を均一に混合してフロアブル剤とする。
y金史主 粒剤 本発明化合物 魚4 −一−−−−−−−−−−−・−
0,1部ベントナイト −−−−−−−−−・・−−−
−55,0部タルク −−−−−−・・−・−−−−−
−44,9部以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を
加えて攪拌混合捏和し、押出式増粒機で増粒し、乾燥し
て粒剤にする。
星金勇刊 粒剤 本発明化合物 魚9−・−−一−−−−−−・−・・ 
0.5部ベントナイト −一−−−−−−−−−55,
0部タルク −・−・−・−・−−−−−−44,5部
以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて撹拌混
合捏和し、押出式増粒機で増粒し、乾燥して粒剤にする
へ膠1帆す2 粒剤 本発明化合物 ぬ24−・−・・・−−−−−−1、0
部ベントナイト −−−−−−−−−−−−55,0部
タルク −−−−−−−−−−−−−44,0部以上を
均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて攪拌混合捏和
し、押出式増粒機で増粒し、乾燥して粒剤にする。
また、本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時に
他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、共力剤などと混合
施用しても良い。
上記の他種の除草剤としては、例えば、ファーム・ケミ
カルズ、ハンドブック(flarm Chemical
sllandbook) 68版<19 a 2)に記
載されている化合物などがある。
なお、本発明化合物は畑地、水田、果樹園などの農園芸
分野以外に運動場、空地、線路端など非農耕地における
各種雑草の防除にも適用することができ、その施用薬量
は適用場面、施用時期、施用方法、対象草種、栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たり0.005〜10kg程度が適当である。
次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試
験例において具体的に説明する。
肱L 土壌処理による除草効果試験 線15cm、横22cm、深さ6cmのプラスナック製
箱に殺菌した洪積土壌を入れ、稲、ノビエ、メヒシバ、
カヤツリグサ、コアカザ、スベリヒュ、ハキダメギク、
イヌガラソを混播し、約1. 5cm覆土した後有効成
分量が所定の割合となるように土壌表面へ均一に散布し
た。
散布の際の薬液は、前記配合例の水和剤を水で希釈して
小型スプレーで全面に散布した。薬液散布4週間後に稲
および各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従
い調査した。
結果は第3表に示す。
本発明化合物のいくつかは、ある種の作物に対して選択
性を有する。
判定基準 5− 殺草率 90%以上(はとんど完全枯死)4− 
殺草率 70〜90% 3− 殺草率 40〜70% 2− 殺草率 20〜40% 1− 殺草率 5〜20% 0− 殺草率 5%以下(はとんど効力なし)但し、上
記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重および無処理
区の地上部生草重を測定して下記の弐によりめたもので
ある。
試販班二I 茎葉処理による除草効果試験線15(J、
横22cln、深さ6cII+のプラスチック製箱に殺
菌した洪積土壌を入れ、稲、ノビエ、メヒシバ、カヤツ
リグサ、コアカザ、スベリヒュ、ハキダメギク、イヌガ
ラシ、トーモロコシ、ダイス、コムギ、トマトの種子を
それぞれスポット状に播種し約1.5cm覆土した。各
種植物が2〜3葉期に達したとき、有効成分量が所定の
割合となるように茎葉部へ均一に散布した。
散布の際の薬液は、前記配合例の水和剤を水で希釈して
小型スプレーで各種雑草の茎葉部の全面に散布した。薬
液散布4週間後に稲および各種雑草に対する除草効果を
試験例−1の判定基準に従い調査した。
結果は第4表に示す。
第3表

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式(1): 〔式中lυはアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
    アルキル基、CH(R3)COO)<’暴(但しR3、
    It’はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル
    基を示す。)、CH(R5)CN基(R5は水素原子ま
    たは低級アルキル基を示す。)またはC0R6()26
    は水素原子または低級アルキル基を示す。)を示す。l
    (”は低級アルキル基、アルケニル基、アルキニル基ま
    たはハロアルキル基を示す。XおよびYはそれぞれ独立
    して水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基また
    はハロゲン原子を示し、Zは窒素原子または−C1(−
    暴を示す。〕で表すれるピラゾールスルホニルウレア誘
    導体。
  2. (2)一般式(11) : 〔式中R1はアルケニル基、アルキニル基、アルコキン
    アルキル番、CI((l(”)COOR’暴(但しR3
    、R’はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル
    基を示す。)、CH(Rs)CN&(R’は水素原子ま
    たは低級アルキル基を示す。)またはC0H6(R6は
    水素原子または低級アルキル基を示す。)を示す。R2
    は低級アルキル基、アルケニル基、アルキニル基または
    ハロアルキル基を示す。J で表されるピラゾールスルホニルイソシアナート誘導体
    と、次式(1■) 〔式中XおよびYはそれぞれ独立して水素原子、低級ア
    ルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示し
    、Zは窒素原子または−CH=基を示す。〕 で表されるアミノピリミジンまたはアミノトリアジン誘
    導体とを、不活性溶媒中で反応させることを特徴とする
    一般式(1): 〔式中i<1はアルケニル基、アルキニル基、アルコキ
    シアルキル基、CH(H3)Cool(’基(但しR3
    、R4はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル
    基を示す。) 、CH(R’)CNJA (R5は水素
    原子または低級アルキル基を示す。)またはc OR6
    (1(6は水素原子または低級アルキル基を示す。)を
    示す H2は低級アルキル基、アルケニル基、アルキニ
    ル基またはハロアルキル基を示す。XおよびYはそれぞ
    れ独立して水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
    基またはハロゲン原子を示し、Zは窒素原子または一〇
    H−基を示す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレ
    アmR体0)製法。
  3. (3)一般式(IV): 〔式中R2は低級アルキル基、アルケニル基、アルキニ
    ル基またはハロアルキル基を示す。XおよびYはそれぞ
    れ独立して水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
    基またはハロゲン原子を示し、Zは窒素原子または−C
    H−基を示す。〕 テ表すレるピラゾールスルホニルウレア誘導体と次式(
    ■): R’tlal (V) 〔式中R1はアルケニル基、アルキニル基、アルコキン
    アルキル基、C1((R3)に00)<’暴(但し)<
    3、R’はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキ
    ル基を示す。> 、Cl−1(h5:+CN基(l(’
    は水素原子または低級アルキル基を示す。)またはC0
    R6(H6は水素原子または低級アルキル基を示す。)
    を示す。Halはハロゲン原子を示す。〕 で表されるハロゲン化物を適当な塩基の存在下反応させ
    ることを特徴とする一般式(j)=C式中R1ばアルケ
    ニル基、アルキニル基、アルコキシアルキル基、CM 
    (H”)GOOR’基(但しR3、R’はそれぞれ独立
    して水素原子または低級アルキル基を示す。)、C)l
     ()(’)CN& (R5は水素原子または低級アル
    キル基を示す。)またはC0H6(R’は水素原子また
    は低級アルキル基を示す。)を示す。H2は低級アルキ
    ル基、アルケニル基、アルキニル基またはハロアルキル
    基を示す。XおよびYはそれぞれ独立して水素原子、低
    級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を
    示し、Zは窒素原子または−CH−、lを示す。〕で表
    されるピラゾールスルボニルウレア誘導体の製法。
  4. (4)一般式(1): 〔式中R′はアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
    アルキル基、CH(R”)COOR’晶(但しR”、R
    ’はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基を
    示す。) 、CH(R’)CN&(R’は水素原子また
    は低級アルキル基を示す。)またはCOR6(R6は水
    素原子または低級アルキル基を示す。)を示す。E2は
    低級アルキル基、アルケニル暴、アルキニル基またはハ
    ロアルキル基を示ず。XおよびYはそれぞれ独立して水
    素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロ
    ゲン原子を示し、Zは窒素原子または−CH−基を示す
    。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア誘導体の1
    種または2種以上を有効成分として含有することを特徴
    とする除草剤。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58219179A (ja) * 1982-05-28 1983-12-20 チバ−ガイギ−・アクチエンゲゼルシヤフト 新規スルホニル(チオ)尿素,その製造法,並びに除草および/又は生長調節用組成物
JPS591480A (ja) * 1982-06-01 1984-01-06 イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー イミダゾール又はピラゾール誘導体

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