JPH03173887A - スルタムスルホンアミド及び除草剤 - Google Patents

スルタムスルホンアミド及び除草剤

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JPH03173887A
JPH03173887A JP5445790A JP5445790A JPH03173887A JP H03173887 A JPH03173887 A JP H03173887A JP 5445790 A JP5445790 A JP 5445790A JP 5445790 A JP5445790 A JP 5445790A JP H03173887 A JPH03173887 A JP H03173887A
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JP
Japan
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group
carbon atoms
substituted
alkyl group
lower alkyl
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Application number
JP5445790A
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English (en)
Inventor
Kenji Makino
健二 牧野
Katsuyuki Morimoto
勝之 森本
Shigeaki Akiyama
秋山 茂明
Hideaki Suzuki
秀章 鈴木
Koichi Suzuki
宏一 鈴木
Tsutomu Nawamaki
縄巻 勤
Shigeomi Watanabe
渡辺 重臣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規なスルタムスルホンアミド誘導体およびそ
れらの農業的に適している塩類および当該化合物を有効
成分とする除草剤に関するものである。
[従来の技術および課題〕 イネ、小麦、トウモロコシ、大豆、ワタ、ビート等重要
な作物を雑草害から守り増収をはかる為に除草剤を使用
することは欠くことができない。
特に近年はこれらの有用作物と雑草の混在する耕地にお
いて作物と雑草の茎葉部へ同時処理しても作物に対して
薬害を示さず雑草のみを選択的に枯殺しうる選択性除草
剤が望まれている。また、環境汚染防止、輸送、散布の
際の経済コスト低減等の観点から、できるだけ低薬量で
高い除草効果をあげる化合物の探索研究が長年にわたり
続けられている。このような特性を有する化合物のいく
つかは選択性除草剤として現在使用されているが、依然
としてこれらの性質を備える新しい化合物の需要も存在
する。
本発明化合物に構造が類似する先行技術としては、N−
アルキルスルホニルアミノスルボニル尿素化合物が特開
昭60−48973号公報に、また、1カルバモイル−
2−ビラプリン誘導体が特開昭63−122671号公
報に開示されているが、本発明化合物のごとく、ピラゾ
リン構造を有するスルタムスルホンアミド誘導体は従来
全く知られておらず新規化合物である。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、重要作物に対して選択性のある除草剤を
開発するため長年にわたる研mをつづけ殺草力のより高
い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの化
合物についてその除草特性を検討してきた。その結果−
数式(1)%式% (1) 〔式中、 Qは R+ 、R2、Rs 、R4およびR6はそれぞれ独立
に水素原子、炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素
原子数2〜6の低級アルケニル基、炭素原子数2〜6の
低級アルキニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数1〜6
の低級アルコキシ基、フェノキシ基(但し、このフェノ
キシ基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素
原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の低
級アルコキシ基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシカ
ルボニル基により置換されていても良い。)、炭素原子
数1〜6の低級アルキルチオ基、フェニルチオ基(但し
、このフェニルチオ基は、ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原
子数1〜6の低級アルコキシ基、炭素原子数1〜6の低
級アルコキシカルボニル基により置換されていても良い
。)、炭素原子数1〜6の低級アルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基(但し、このベンゼンスルホニル
基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素原子
数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の低級ア
ルコキシ基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシカルボ
ニル基により置換されていても良い。)、炭素原子数1
〜6のアルキルカルボニル基、カルボン酸基、炭素原子
数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1〜6
の低級モノアルキルアミノカルボニル基、炭素原子fi
1〜Gの低級ジアルキルアミノカルボニル基、炭素原子
数2〜6の低級アシルアミノ基、炭素原子数1〜6の低
級ハロゲノアルキル基、シアノ基により置換されている
炭素原子数1〜6の低級アルキル基、水酸基により置換
されている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、75ノ
基により置換されている炭素原子数I〜6の低級アルキ
ル基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシ基により置換
されている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原
子数1〜6の低級ハロゲノアルコキシ基により置換され
ている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数
1〜6の低級アルキルチオ基により置換されている炭素
原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の低
級アルキルスルホニル基により置換されている炭素原子
数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数l〜6の低級ア
ルキルカルボニル基により置換されている炭素原子数1
〜6の低級アルキル基、カルボン酸基により置換されて
いる炭素原子数l〜6の低級アルキル基、炭素原子数1
〜6のアルコキシカルボニル基により置換されている炭
素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアル
ケニルオキシ基により置換されている炭素原子数l〜6
のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルキニルオキシ基
により置換されている炭素原子数1〜6のアルキル基、
炭素原子数2〜6のアシルアミノ基により置換されてい
る炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜
6の低級アルキルスルホニルオキシ基により置換されて
いる炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1
〜6のアルコキシカルボニル基により置換されている炭
素原子数2〜6の低mアルケニル基、シアノ基により置
換されている炭素原子数2〜6の低級アルキニル基、フ
ェニル基(但し、このフェニル基は、ハロゲン原子、ト
リフルオロメチル基、炭素原子数1〜6の低級アルキル
基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシ基、炭素原子数
1〜6の低級アルコキシカルボニル基により置換されて
いても良い。)またはフェニル基(但し、このフェニル
基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素原子
数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の低級ア
ルコキシ基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシカルボ
ニル基により置換されていても良い。)を有する炭素原
子数1〜6の低級アルキル基を表し、Xは酸素原子また
はイオウ原子を表し、A、B、CおよびDはそれぞれ独
立に水素原子、炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭
素原子数1〜6の低級ハロゲノアルキル基、炭素原子数
1〜6の低級アルコキシ基に置換されている炭素原子数
1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の低級アル
コキシカルボニル基、フェニル基及びベンジル基(但し
、これらのフェニル基及びヘンシル基は、ハロゲン原子
、トリフルオロメチル基、炭素原子数1〜6の低級アル
キル基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシ基、炭素原
子数1〜6の低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基に
よりモノまたはポリ置換されていてもよい。)を表す。
〕で表わされるスルタムスルホンアミド誘導体およびそ
れらの農業的に適している塩類(以下本発明化合物と称
する)が、土壌処理、茎葉処理のいずれの場合にも多く
の雑草に対して、格段に強い殺草力を有しかつ重要作物
である小麦、トウモロコシ、ワタ、ダイズ、ビート、イ
ネ等に対して高い安全性を有することを見い出して本発
明を完成した。一方、本発明化合物は従来の除草剤に比
して非常に低薬量で高い除草活性を示すことから果樹園
、非農耕地用の除草剤等としても有用である。 −数式
(1)で表わされる本発明化合物は下記の反応式1〜4
のいずれかを選ぶことにより容易に製造できる。
反五ΔしL Q−5O2N=C=X  →−H−G (U)        (III) Q  5OzNllCG 1 (1) 〔式中、Q、 GおよびXは前記と同様の意味を示す。
] すなわち、スルタムスルホニルイソ(チオ)シアナート
誘導体(II)を、充分に乾燥したジオキサン、アセト
ニトリル、アセトン等の不活性溶媒に溶かし、これに式
(III)で表わされるビラプリン誘導体を添加し、攪
拌することにより、−膜内に速やかに反応して本発明化
合物N)が得られる。反応が進行しがたい場合には適当
な塩基、例えばトリエチルアミン、トリエチレンシアミ
ン、ピリジン、ナトリウムアルコキシド、水素化ナトリ
ウム、炭酸カリウム等の微少量を添加することにより容
易に反応が進行する。
反玉遣した Q  5OzNIIz (IV) Q−5o□NlIC0Y 1 (V)   X +1−G  (m) Q−5O7NIIC−G 1 (I) 〔式中、Q、 GおよびXは前記と同様の意味を示す。
Yは炭素原子数l〜6の低級アルキル基またはフェニル
基を示す。)すなわち、スルタムスルホンアミド講導体
(rV)を、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニ
トリル等の溶媒中、炭酸カリウム等の塩基の存在下クロ
ルギ酸(チオ)エステルもしくは炭酸(チオ)エステル
と反応させることにより化合物(V)を得る。次いでト
ルエン等の溶媒中にて化合物(III)と加熱すること
により本発明化合物(I)を得ることができる。
(以下、余白) 反五潴【土 1 SOZNllCO2Y ( V;X=O) (1;  X・0) (式中、Q、GおよびYは前記と同し意味を示す。
]すなわち、スルタム類(■)とクロルスルホニルフェ
ニルカーバメート (VINY−フェニル基)あるいは
クロルスルホニルアルキルカーバメ−1・(Vl ; 
Y−低級アルキル基)との反応は、スルタム類(■)1
モルに対してクロルスルホニルフェニルカーバメート 
(Vl;Y=フェニル基)あるいはクロルスルホニルア
ルキルカーバメート(VliY=低級アルキル基)を0
.5から3.0モル量用いて行われる。好ましくは0.
 9から1. 2モル量の゛範囲が適当である。
反応温度は一50″Cから100°Cの範囲から任意に
選択できるが、好ましくは一20°Cから30゛Cの範
囲が適当である。
本反応は各種の塩基を用い実施される。塩基の鼠はスル
タム類(■)1モルに対して0.5から4.0モル量用
いられる。
適当な塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属
水素化物類、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシ
ド類、n−ブチルリチウム等のアルキル金属類、トリエ
チルアミン、ピリジン、1゜8−ジアザビシクロ (5
,4,0) −7−ウンデセン(DBU)等の有機塩基
類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基が
用いられる。
特に好ましくは金属水素化物類を用いた場合である。
本反応の適当な溶媒としては、本反応に不活性な溶媒、
例えばベンゼン、トルエン、キシレン系の芳香族炭化水
素、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素、エチルエーテル、イソプロピルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
、アセトニトリル、プロピオニトリル等の二i・リル類
、石油エーテル、石油ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素
、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エ
チル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のア旦
F類である。
これら溶媒は単独でまたは混合して用いてもよい。
特に好ましくは、エーテル類またはアミド類を用いた場
合である。
次いで、スルタムスルホニルフェニルカーバメート(V
 ; X−〇、Y=フェニル基)あるいはスルタムスル
ホニルアルキルカーバメート(V 、 X−〇、Y−低
級アルキル基)と化合物([[I)をベンゼン、トルエ
ン等の溶媒中にて加熱することにより本発明化合物([
)を得ることができる。
反五点【圭 U  502NH2+ (IV) 1! 0C−G (■) G −SO,NlIC−G (1;X=0) 〔式中、Q、GおよびYは前記と同様の意味を示す。〕
 すなわち、スルタムスルホンアミド誘導体(■)を、
アセトン、アセトニトリル、ジオキサン等の溶媒中、炭
酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、D
BU等の有機塩基の存在下、カーバメート誘導体(■)
と反応させることにより本発明化合物(1)を得ること
ができる。
反応式lで用いられる原料のスルタムスルホニルイソ(
チオ)シアチーN1体(II)は、スルタムスルホンア
ミド誘導体(IV)から、ヨーロッパ特許出願公開Nα
87,780号公報および特開昭55−13266号公
報等に記載されている方法を参考にして合成できる。
また、スルタムスルホニルイソシアナート(■:X=0
)は、特開昭49−81320号公報等に記載されてい
る方法を参考にして、反応式5の方法にても合成できる
反鳳式工 (■) 1 0   (■) Δ 〔式中、Qは前記と同様の意味を示す。)スルタムスル
ホンアミド誘導体(IV)は以下の反応式〇及び7の方
法を用いスルタム誘導体(■)より合成することが出来
る。
(以下、余白) 反盃潴【も (X) (IV) 〔式中、Qは前記と同様の意味を示す。〕反応式6にお
いてtert−ブチル基の除去はトリフルオロ酢酸を用
いて行なわれる。
トリフルオロ酢酸の量は当モルから過剰量まで任意に選
択することができる。トリフルオロ酢酸を溶媒として用
いても何ら問題はない。
反応温度は一50°Cから80°Cの範囲から作意に選
択できる。好ましくは−20’Cから30’Cの範囲が
適当である。
本反応に溶媒を用いる場合には、本反応に不活性な溶媒
、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン系の芳香族炭
化水素、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素、エチルエーテル、イソプロピル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル
類、石油エーテル、石油ヘンシル、ヘキサン等の炭化水
素、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸
エチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のア
ミド類である。これら溶媒は単独でまたは混合して用い
ても良い。
反応式1 (式中、Qは前記と同様の意味を示す。)反応式7にお
いて、2−メチル−2−プロパツールとクロルスルホニ
ルイソシアナートとの反応は、それ自体公知の方法例え
ば、特開昭50101323号公報を参考にして実施す
ることができる。
スルタム類(■)とter t−ブチルスルファモイル
クロリドとの反応は、スルタム類(■)1モルに対して
ter t−ブチルスルファモイルクロリド0.5から
3.0モル量を用いて行なわれる。好ましくは0.9か
ら1.2モル量の範囲が適当である。
反応温度は一50°Cから100″Cの範囲から任意に
選択できるが、好ましくは一20°Cから30°Cの範
囲が適当である。
本反応は各種の塩基を用い実施される。塩基の量はスル
タムM(■)1モルに対し、0.5〜4.0モル量用い
られる。好ましくは0.8から2.2モル量の範囲が適
当である。適当な塩基としては、例えば水素化ナトリウ
ム等の金属水素化物類、ナトリウムエトキシド等の金属
アルコキシド類、nブチルリチウム等のアルキル金属類
、トリエチルアミン、ピリジン、1.8−ジアザビシク
ロ  〔5,4,0)−7−ウンデセン(DBU)等の
有機塩基類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無
機塩基が用いられる。
特に好ましくは金属水素化物類を用いた場合である。
本反応の適当な溶媒としては、本反応に不活性な溶媒、
例えばベンゼン、トルエン、キシレン系の芳香族炭化水
素、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素、エチルエーテル、イソプロピルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、
石油エーテル、石油ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチ
ル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアごド等のアミド
類である。
これら溶媒は単独でまたは混合して用いてもよい。
特に好ましくは、エーテル類またはアξト1が用いられ
た場合である。
反応式3に於いて、クロルスルホニルフェニルカーバメ
ート(Vl;Y−フェニル基)あるいはクロルスルホニ
ルアルキルカーバメート(VI;Y=低級アルキル基)
は、それ自体公知の方法例えばケミイソシュ・ベリイヒ
テ(Chemishe Berichte)96巻、5
6ページ(1963年)を参考にして合成することがで
きる。
上記反応の出発原料として用いられるスルタム類(■)
は、ジャーナル・オプ・オーガニックケミストリイ(J
ournal of Organic Chemist
ry)28巻、 3537 (1963年)、ジャーナ
ル・オブ・オーガニック ケミストリイ(Journa
l of OrganicChemistry) 48
巻、537ページ(1983年)。
テトラヘドロン レター(Tetrahedron L
etters)24巻、 2131ページ(1983年
)、ケミカル アフストラクト(Chemical A
bstracts) 62巻、 14484g(196
5年)およびドイツ特許Get、 1300933号公
報などを参考に容易に合成できる。
代表例として1,4−ブタンスルタムの合成法を反応式
8に記載する。
(以下、余白) 反五Δ【亀 Cl /\/\/SO・C1 tz0 2 /′\/VSO・Nl(・ N a 01! e011 上記反応の出発原料として用いられるピラゾリン類(I
II)は特開昭63〜122671号公報などを参考に
容易に合成できる。
以下に本発明化合物の合成例を実施例として具体的に述
べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実讃己組L 1−(3−メチル−1,3 ニルカルバモイル) ラゾリンの合成 プロパンスルタム−N スルホ 3−メチル−5−フェニル−2−ピ (化合物 No、 2 ) N−(3−メチル−1,3−プロパンスルタム−N−ス
ルホニル)フェニルカーバメーI−0,97g(3mm
ol)、3メチル−5−フェニル−2−ピラゾリン1.
44 g(9mmol)、無水ベンゼン30m lの混
合物を5分間加熱還流させた。放冷後、酢酸エチル15
0 mlを加え、酢酸エチル−無水ベンゼン層を稀塩酸
にて2回、引続き水にて3回洗浄した。 次に、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。
得られた残渣をイソプロピルエーテルで洗浄し、目的の
1−(3−メチル−1,3−プロパンスルタム−N−ス
ルホニルカルバモイル)−3−メチル−5−フェニル−
2ピラゾリン 1.20 gを得た。
融点1 4−1 46°C 前記実施例1と同様の方法を用いることにより合成され
た化合物の構造式と物性値を以下に示した。
( 化合物 No。
■ ) 融点 147〜 148°C ( 化合物 No。
) 融点 106〜 108°C 門e ( 化合物 No。
) 融点 132〜 133”C ( 化合物 魔 5) 融点 80〜 82゛C 門e (化合物 に6) 融点 144〜 145°C ( 化合物 N117) 融点 99〜 103°C ( 化合物 No 8 ) 融点 129〜 133°C ( 化合物 No 9 〉 融点 148〜 149°C ( 化合物 随 10) 融点 114〜 116℃ ( 化合物 咀 11) 融点 200°C (分解) ( 化合物 N。
12’) 融点230〜231’C ( 化合物 随 13) 融点 144〜 145°C (化合物 匣14) 融点 189〜 193°C ( 化合物 恥 16) 融点 149〜 155°C (化合物 0 17) 融点 88〜92℃ 0 ( 化合物 N。
18) 融点 136〜 137”c 門e ( 化合物 恥。
19) オイル状 (化合物 No、 20) 融点 156〜 157°C (化合物 漱 21) 融点 135〜 136°C ( 化合物 No、  22) 融点 161〜 162“C ( 化合物 No 23) 融点 168〜 169°C ( 化合物 No。
24) 融点 160〜 161 ’C ( 化合物 N。
25) 融点 134〜 135°C (化合物 No、 26) ガラス状 (化合物 No、 27) ガラス状 ( 化合物 No。
28) オイル状 ( 化合物 No。
29) 融点 140〜 141°C (化合物 No、 30) オイル状 (化合物 Nα31) 融点 140〜 142°C ( 化合物 No、 32) 融点 151〜 153°C ( 化合物 No、  33) 融点 133〜 135“C (化合物 No、 34) 融点 149〜 150°C ( 化合物 No、  35) 融点 164〜 165“C ( 化合物 No。
3G) オイル状 ( 化合物 Nα 37〉 融点 160〜 161°C ( 化合物 N。
38) 融点 141〜 【43°C ( 化合物 No、 39) 融点 144〜 145’c ( 化合物 N。
40) ガラス状 ( 化合物 No。
41) 融点 140〜 142°C ( 化合物 No。
42) 融点 148〜 149°C ( 化合物 0 43) 融点 118〜 120°C ( 化合物 No。
44) 融点 142〜 144°C (以下、 余白) 次に、本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合
成した化合物を含め以下の第1表より第5表に示すが本
発明化合物はこれらに限定されるものではない。
ただし、表中の記号はそれぞれ以下の意味を示す。
門e;メチル基、EL;エチル基、Pr−n;ノルマル
プロピル基、 Pr−1;イソプロピル5. Bu−n
;ノルマルブヂル基、ph−; フェニル基を表し、G
nは以下の意味を表す。
Ga=G1〜G117. Gb=01〜G72及びG1
02〜G117゜Gc=GL−G35及びG102〜G
11745 G46 47 一〇 48 υビr−n 罰り一 112 113 114 1 2 3 n 1 e e E【 L r−n r−n r−i r−i u−n u−n r−n 1 b u−n 1 1 b 1 e r−n 3 1 Rz 3 n 2 3 n R。
2 Rz n R+ t 3 n R8 I?z 3 n Ph−4−CI r−n b R。
2 3 R1 n e 1( a 1 1 e 1 a ■ r−n ■ 1 3 Ill。
z 3 4 n 1 r−n 1 r−i e e e 門e a r−n u−n e t r−n l 門e e b t 3 4 n r−n u−n u−n u−n u−n CI B「 ■ u−n e t r−n u−n ■ ■ OE t ■ e e a 1 R2 3 4 n h Me Me Ga Me    Me Me    Me Me    Me OGa OGa OGa 1 z 3 4 χ n Pr−n Me Me Me b z 3 4 n C1阿e CI    Me CI    Me 0     Ga OGa OGa 1 2 2 4 n cot: t CI Me Me a R+ R2 +12 4 n Cll=C1lCN    CI    MePh  
      CI    MeOGa OGa z 3 4 n +1゜ 1 3 4 n 2 3 4 n 1 R2 3 4 n R+ 2 Rコ 4 n 2 3 4 n R。
2 3 4 n Ph 1( εt t Ga II    CI HBr II Me     OGa Me    OGa Me     OGa 1 OMe Me a 1 R2 3 4 n 1 1 h e a R+ 2 3 4 n e 1 C三C11 e a e ■ oEt e a R。
R。
3 4 n R8 2 1 4 n e OE t e 1 a R2 3 4 n e CII=CIICN e 1 a 2 3 1 1 4 n 1 a t 3 4 n )1 1 0i’en−n 1 c ]?1 2 3 4 n RZ 3 a n 1 h 1 3 (以下余白) 2 3 a n 1 2 3 4 n 2 R1 4 n R2 3 4 n R。
t 1 1?4 n 3 2 R7 4 n II     II     F II     II    C1 1111C1 S     G3 0     Ga S     G3 1 1 N 1 3 3 2 4 n 1 1 Me 1 Ga If    If     S[1u−nII    
II     5Pen−no     Gc OGc II    II     CO[1tIt    I
I     C0Pr−R5G3 0     Gb 3 R2 4 n 3 2 R+ 4 n (以下余白) 3 2 4 n 3 2 R。
4 n 3 R2 1 4 χ n 3 2 +7゜ 4 n 3 2 4 n +1    11 1(11 CONIIRu−n CONIIRu −5ec II     O II     0 4 R1 2 n R2 0Pen−n Me Me Et IEL Pr−n Pr−n Bu−n Sr’en−n 4 3 2 n (以下余白) 4 R:I 2 1 n 4 R3 2 R。
n 1 Ph ■ 3 4 3 2 1 n 4 3 2 R。
n 4 3 2 n 1 R2 3 4 n 2 3 4 n r−n r−n r−n r−n r−n r−n 1 1 r−i r−i 1 r−n r−n 1 1 2 3 4 n 1 2 3 4 n R2 3 4 n Me Et 門e 1 Ga パe Et Pr−n 1( Ga Pr−n Pr−n Pr−n Pr−n Pr−n Pr−n Pr−n Pr−i Pr Pr−i Pr−i Pr−i Pr−i Bu−n Bu−n 門e Me lミt 1ミ( Pr−n Pr−n MePr−iBu−nH5G3 Me     13u−n     Me      
If     OGaMe     Bu−n    
 Me      II     S    G3ガe 1u−n Bu−n 1 3 2 3 4 n [Et Pr−i Bu−n 1 3 1?2 3 4 n EL     Bu−n     MeEt     
nu−n     MeEL     Bu−n   
  IEtII     OGa II     S    G3 If     OGa Pr−n 1’r−n Pr−n 1’r−n Pr n I’r−n Pr−n Pr n Pr−n Pr Bu−n Bu−n Me Pr−n    Et Pr−n    1Et Pr−n    Et 1’r−i    II     S    G3Bu
−n     If     OGaBu−n    
II     S    G3Pr−n    l’r
−n     Et      If     S  
  G3I’r−n    I’r−n     Pr
−n     II     OGaPr−n    
Pr−n     Pr−n    II     S
    G3Pr−n Pr−n Bu−n 3 R2 2 3 R。
n Pr−n Pr−n Pr−n Pr−n Pr−n Pr−i Pr−i Pr−i Pr−i Pr−i I’r−n    l1u−n     IEt   
   II     OGaPr−n   Bu−n 
    lEt     It     S    G
3Pr−n    Bu−n     Pr−n   
 II     OGaPr−n Pr−n Pr−i Pr−i Pr−i Pr−i Pr Pr−i Pr−i Pr−i Bu−n Bu−n Me Me it El Pr−n Pr n Pr−i Pr−i Pr−i    1it I’r−i    Et Pr−i    F、L If     S    G3 It     OC:a II     S    G3 Pr−1El Pr−i    nt Pr−i    Et Pr−i    II     S    G3Bu−
n    If     OG11Bu−n    I
t     S    G3R2 3 1?4 n z 3 4 n 2 3 4 × n R+ t 3 4 n 17+ R2 R1 4 n 2 3 R1 n R3 2 3 4 n R。
R2 3 4 n 1?。
2 Rゴ 4 n Z Rゴ 4 n h I a R。
2 3 4 n R2 Rゴ R1 n 2 3 4 n 1 R。
3 4 n R。
t 3 4 n 1?。
R2 3 4 n 11゜ 3 4 n 1 R1 4 n R+ t 3 4 n Pr−n Me II    COMe     H ll    CO門e     H OGb OGa oct !1 COMe 1 Ga CI+201Et )1 COMe a R1 R。
3 4 n 1 g 3 4 n R。
3 4 n R2 3 4 n 1 2 R1 4 n 向 2 3 4 n R+ h 3 4 n Rt 3 4 n R。
R。
3 4 n R。
2 Rゴ l?a n R。
Rt Rコ 4 n R2 ff 4 n 1 2 R1 4 n 2 3 a n Ph 1 Ph 1( a Ph 1 Ph 1 a 1 2 R1 4 n R。
R2 3 4 n R。
2 3 4 n R2 3 4 n 2 3 4 χ n 2 3 4 χ n R。
3 4 × n R2 3 4 n R。
2 3 4 n R。
2 3 4 n 3 2 R。
4 n 3 R2 R。
4 n R1 R。
1 4 χ n 3 t 4 n 3 R2 1 4 n 3 2 R8 4 n 3 h 4 n R3 R2 R+ 4 n 3 2 4 n 3 2 1 4 n 3 2 4 n ff R2 1?。
n R:l 2 4 n 3 2 1 4 n 3 2 R。
4 n 13 R2 R+ 4 n 3 2 1 4 n 1 2 R。
4 n 3 t 4 n 3 R2 [1゜ 4 n 3 R。
4 n R+ 2 R。
4 n 3 1 R9 4 n 3 R2 R。
4 χ n 3 2 1 4 n 3 2 4 n 61コ h 1 4 n R3 R。
4 n R1 2 4 n 3 2 1 4 n 3 2 1 4 n 3 R2 R。
4 n 3 2 R1 χ n 3 2 R+ 4 n 3 2 1 4 n R3 1?z 4 n 1?3 2 1 4 n 3 2 1 4 n R2 3 4 5 n 1 1 1 r−i b R。
2 3 4 R1 n 2 3 4 s n 2 3 4 5 n R2 3 4 5 n R1 2 3 4 5 n R7 2 R1 4 S n 2 3 4 S n Rz 3 4 5 n 11゜ I 4 R3 n R。
2 3 4 5 n 2 3 4 5 n R2 3 4 5 n 2 3 4 S n R。
t 3 4 5 n R5 R2 Rコ 4 5 n 1? 2 3 4 S χ n 11゜ 2 R3 4 R。
n 2 Rゴ 4 5 n R2 3 4 S に n 2 3 4 5 n R。
2 3 4 5 n 1 2 3 4 s n R。
R2 3 4 R。
n R2 3 4 5 × n R。
2 1 4 5 n 11゜ 3 4 5 n 2 3 4 5 n R2 3 4 5 χ n 2 ff 4 s n 11゜ z 3 4 S n R。
2 R1 4 s n R2 3 4 5 n R。
3 !?4 5 n R。
Rコ 4 5 n 2 3 4 5 n R。
R2 3 4 5 n 1 2 3 4 5 χ n R。
2 3 4 5 χ n R+ t 3 4 5 n R2 3 4 R。
n 1 2 3 4 R6 n 2 3 4 R1 n R+ 2 3 4 S n I R2 3 4 5 n R。
2 3 4 5 n R。
2 3 4 5 n 1 2 Rゴ 4 s n 1?。
R2 R1 4 5 n 1 T。
3 4 R3χ n R2 3 4 SX n R+ i 3 4 1?sX n 1 3 4 SX n R。
2 Rコ R1 sX n R+ R2 3 4 sX n R2 3 4 R,X n 1 2 3 4 SX n 4 Rゴ 2 sX n 4 R1 R。
+1゜ 1?、X n 4 R3 2 R,X n 4 3 2 +1゜ R6X n 4 R3 2 1 R,X n 4 73 z 5X n 4 3 2 R。
R3X n 4 R3 2 sX n 4 3 2 R。
R6X n l?4 3 2 R+ R,X n 4 R3 2 R8 RlX n z 3 n 2 3 n R。
2 3 n 1 R2 Rコ n 2 3 n 2 3 n R2 3 n 2 3 n R。
3 n 2 3 n R2 3 n 1 2 3 n R。
2 3 n 1 2 3 n 本発明化合物を除草剤として施用するにあたっては一般
には適当な担体、例えばクレー、タルク、ヘントナイト
、珪藻上等の固体担体あるいは水、アルコール(メタノ
ール、エタノール等) 、芳香族炭化水素類(ヘンゼン
、トルエン、キシレン等)塩素化炭化水素類、エーテル
類、ケトン類、エステル類(酢酸エチル等)、酸アミド
類(ジメチルホルムアミド等)などの液体担体と混用し
て適用することができ、所望により乳化剤、分散剤、懸
濁剤、浸透剤、展着剤、安定剤などを添加し、液剤、乳
剤、水和剤、粉剤、粒剤、フロアブル等(モ意の剤型に
て実用に供することができる。
次に本発明化合物を有効成分とする除草剤の配合例を示
すがこれらのみに一限定されるものではない。なお、以
下の配合例において「部」は重量部を意味する。
配立桝上 水和剤 本発明化合物 No、 1−−−−−20部ジークライ
トA   −・・−・−−−76部(カオリン系クレー
:ジークライト工業■商品名)ツルポール5039−−
−−−一・−・・・−・−・・−・ 2部(非イオン性
界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化
学σ勾商晶名) カープレックス(固結防止剤)  −2部(ホワイトカ
ーボン:塩野義製薬味商品名)以上を均一に混合粉砕し
て水和剤とする。
配在J2  水和剤 本発明化合物 No、 2−−−一・−−−−−一−−
40部ジークライトA   −−−−−−−・−−−−
−−−−54部(カオリン系クレー:ジークライト工業
Ql商晶名)ツルポール5039−・−−−−一−・−
−2部(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤
との混合物:東邦化学■商品名) カープレックス(固結防止剤)−4部 (ホワイトカーボン:塩野義製薬■商品名)以上を均一
に混合粉砕して水和剤とする。
配【Σ嘲」−乳剤 本発明化合物 No、 5   ・−−−−−−・−−
−5部キ  シ  し  ン       ・・−・−
−−−−−75部ジメチルホルムアごドー−−−−−−
−−−15部ツルポール2680−・・・−・−・・−
−−−−−5部(非イオン性界面活性剤とアニオン性界
面活性剤との混合物:東邦化学■商品名) 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤をI 0−10,000倍に希釈して有効戊分雇が
へククール当たり0.005 kg〜10kgになるよ
うに散布する。
配邊む口ユ フロアブル 本発明化合物 Nα7 −−−−−・−・−25部アゲ
リシールS −710−−一−−−・−・−・−10部
(非イオン性界面活性剤:花王(11部品名)ルノック
ス100OC・・−・・・−・−・・−・−0,5部(
アニオン性界面活性剤:東邦化学■商品名)1%コドポ
ール水 ・・−・・・・−−−−−−−−−−−−−〜
 20部(増粘剤=ロース・ブーラン社商品名)水  
     −・・−・−・−・−−−−一−−−−−−
−−−−−−・−−−−44,5部以上を均一に混合し
てフロアブル剤とする。
址会員i フロアブル 本発明化合物 No、 8 −・−−−−−−−−−−
−−−−40部アゲリシールS−710・−−一−−−
・−・−10部(非イオン性界面活性剤:花王■商晶名
)ルノックス1000 C−・−−一−−・−・−−−
−−0,5部(アニオン性界面活性剤:東邦化学a@商
品名)1%ロドポール水 −・・・・・−−−−−−−
−−−−20部(増粘剤:ロース・ブーラン社商品名)
水         −−−−一・−−−−−−−−−
−−−m−・−・−一−−−−29,5部以上を均一に
混合してフロアブル剤とする。
血六Σ例」−粒剤 本発明化合物 No、2−・・−・・−−一−−−−−
−−−〜−1部ベントナイト    −・−・−・−−
−−−−−−55部タ  ル  り         
 −・−・−−一−・−・−・−・・・・−44部組上
を均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて撹拌混合捏
和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤にする。
また、本発明化合物は必要に応して製剤または散布時に
他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、共力剤などと混合
施用しても良い。
上記の他種の除草剤としては、例えば、ファーム・ケミ
カルズ、ハンドブック(Farm Chemicals
llandbook)  1986年版に記載されてい
る化合物などがある。
なお、本発明化合物は畑地、水田、果樹園などの農園芸
分野以外に運動場、空地、線路端など非農耕地における
各種雑草の防除にも適用することができ、その施用薬量
は適用場面、施用時期、施用方法、対象草種、栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たり0.005〜10kg程度が適当である。
次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試
験例において具体的に説明する。
但し、試験例に於ける化合物番号は前述の番号に対応す
る。
遍4組無二」−土壌処理による除草効果試験縁15cm
、横22cm、深さ6cmのプラスチック製箱に殺菌し
た洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、カヤツリグサ、
イヌホーズキ、ハキダメギク、イヌガラシ、稲、トーモ
ロコシ、コムギ、ダイズ、ワタを混播し、約1.5 c
m覆土した後、有効成分量が所定の割合となるように土
壌表面へ均一に散布した。 散布の際の薬液は、前記配
合例等に準じて適宜調整された水和剤を水で希釈して小
型スプレーで全面に散布した。薬液散布4週間後に稲お
よび各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従い
調査した。
結果は第6表に示す。(化合物No、は実施例に記載し
た化合物No、に対応する。) 本発明化合物のいくつかは、ある種の作物に対して選択
性を有する。
判定基準 5・・・殺草率 90%以上(はとんど完全枯死)4・
・・殺草率 70〜90% 3・・・殺草率 40〜70% 2・・・殺草率 20〜40% 1・・・殺草率  5〜20% O・・・殺草率  5%以下(はとんど効力なし)但し
、上記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重および無
処理区の地上部生草重を測定して下記の式により求めた
ものである。
拭駄朋二l 茎葉処理による除草効果試験縦15cm、
横22cm、深さ6cmのプラスチック製箱に殺菌した
洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、カヤツリグサ、イ
ヌホーズキ、ハキダメギク、イヌガラシ、稲、トーモロ
コシ、コムギ、ダイズ、ワタ、ビートの種子をそれぞれ
スポット状に播種し約1.5 cm覆土した。各種植物
が2〜3葉期に達したとき、有効成分量が所定の割合と
なるように茎葉部へ均一に散布した。散布の際の薬液は
、前記配合例の水和剤を水で希釈して小型スプレーで各
種雑草の茎葉部の全面に散布した。薬液散布4週間後に
稲および各種雑草に対する除草効果を試験例−iの判定
基準に従い調査した。結果は第7表に示す。(化合物N
αは実施例に記載した化合物Nαに対応する。) 第6表 1.6 13.2 6.3 1.6 23.2 6.3 46.3 1.6 53.2 6.3 1.6 73.2 6.3 01145500000 12255500000 23355500000 24355510030 35455530040 45555551151 23345500010 33445510010 44555530030 55555541241 23355510000 34455520010 45555540  132 第6表 (続) 1.6 83.2 6.3 20 6.3 26 6.3 31 6.3 39  G、3 40 6.3 1.6 41 3.2 6.3 1.6 ・ 43 3.2 6.3 34455551221 45555552332 55555553443 21355521233 21245510022 34255500001 232555  1022  1 2334550  102  1 00045500020 1115550002  1 23255530  133 00055500000 00155500010 12255510021 第6表 (続) 1.6 4/I  3.2 6.3 45 6.3 00355 12555 23555 12455 002 20 03 3 1 0 4 002 (以下、余白) 第7表 1.6 13.2 6.3 1.6 23.2 6.3 46.3 1.6 53゜2 6.3 66.3 1.6 73.2 6.3 001555000032 112555000i43 22355500024 4 224555300545 345555410555 455555520555 435555 100334 232445100125 3 4 3 555 3 1 1 2 3 54545
55423345 324555110445 211555200535 422555301545 5345554 12555 第7表 (続) 1.6 83.2 6.3 13 6.3 1.6 43455551 54555552 55555553 21255500 00155500 5 5 5 4 2 6.3 1.6 15 3.2 6.3 1.8 6.3 1.6 20 3.2 6.3 224555000 000555000 111555000 222555000 212555000 111555100 222555200 3345554  12 第7表 (続) 1.6 26 3.2 6.3 31 6.3 35 6.3 1.6 36 3.2 6.3 37 6.3 38 6.3 1.6 39 3.2 6.3 1.6 40 3.2 6.3 000555000515 111555000525 222555000545 211555001124 211555000212 000555000224 111555000335 212555100445 2 11455000235 111555000255 000555000333 111555000445 213555110555 210555000445 32 1555000545 432555011555

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Qは ▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、
    表等があります▼, ▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、
    表等があります▼, ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし R_1,R_2,R_3,R_4およびR_5はそれぞ
    れ独立に水素原子、炭素原子数1〜6の低級アルキル基
    、炭素原子数2〜6の低級アルケニル基、炭素原子数2
    〜6の低級アルキニル基、ハロゲン原子、トリフルオロ
    メチル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数
    1〜6の低級アルコキシ基、フェノキシ基(但し、この
    フェノキシ基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基
    、炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜
    6の低級アルコキシ基、炭素原子数1〜6の低級アルコ
    キシカルボニル基により置換されていても良い。)、炭
    素原子数1〜6の低級アルキルチオ基、フェニルチオ基
    (但し、このフェニルチオ基は、ハロゲン原子、トリフ
    ルオロメチル基、炭素原子数1〜6の低級アルキル基、
    炭素原子数1〜6の低級アルコキシ基、炭素原子数1〜
    6の低級アルコキシカルボニル基により置換されていて
    も良い。)、炭素原子数1〜6の低級アルキルスルホニ
    ル基、ベンゼンスルホニル基(但し、このベンゼンスル
    ホニル基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭
    素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の
    低級アルコキシ基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシ
    カルボニル基により置換されていても良い。)、炭素原
    子数1〜6のアルキルカルボニル基、カルボン酸基、炭
    素原子数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素原子数
    1〜6の低級モノアルキルアミノカルボニル基、炭素原
    子数1〜6の低級ジアルキルアミノカルボニル基、炭素
    原子数2〜6の低級アシルアミノ基、炭素原子数1〜6
    の低級ハロゲノアルキル基、シアノ基により置換されて
    いる炭素原子数1〜6の低級アルキル基、水酸基により
    置換されている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、ア
    ミノ基により置換されている炭素原子数1〜6の低級ア
    ルキル基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシ基により
    置換されている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭
    素原子数1〜6の低級ハロゲノアルコキシ基により置換
    されている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原
    子数1〜6の低級アルキルチオ基により置換されている
    炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6
    の低級アルキルスルホニル基により置換されている炭素
    原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の低
    級アルキルカルボニル基により置換されている炭素原子
    数1〜6の低級アルキル基、カルボン酸基により置換さ
    れている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子
    数1〜6のアルコキシカルボニル基により置換されてい
    る炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6の
    アルケニルオキシ基により置換されている炭素原子数1
    〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルキニルオキ
    シ基により置換されている炭素原子数1〜6のアルキル
    基、炭素原子数2〜6のアシルアミノ基により置換され
    ている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数
    1〜6の低級アルキルスルホニルオキシ基により置換さ
    れている炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子
    数1〜6のアルコキシカルボニル基により置換されてい
    る炭素原子数2〜6の低級アルケニル基、シアノ基によ
    り置換されている炭素原子数2〜6の低級アルキニル基
    、フェニル基(但し、このフェニル基は、ハロゲン原子
    、トリフルオロメチル基、炭素原子数1〜6の低級アル
    キル基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシ基、炭素原
    子数1〜6の低級アルコキシカルボニル基により置換さ
    れていても良い。)またはフェニル基(但し、このフェ
    ニル基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素
    原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の低
    級アルコキシ基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシカ
    ルボニル基により置換されていても良い。)を有する炭
    素原子数1〜6の低級アルキル基を表し、 Xは酸素原子またはイオウ原子を表し、 Gは▲数式、化学式、表等があります▼基を表し、 A、B、CおよびDはそれぞれ独立に水素原子、炭素原
    子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1〜6の低級
    ハロゲノアルキル基、炭素原子数1〜6の低級アルコキ
    シ基に置換されている炭素原子数1〜6の低級アルキル
    基、炭素原子数1〜6の低級アルコキシカルボニル基、
    フェニル基及びベンジル基(但し、これらのフェニル基
    及びベンジル基は、ハロゲン原子、トリフルオロメチル
    基、炭素原子数1〜6の低級アルキル基、炭素原子数1
    〜6の低級アルコキシ基、炭素原子数1〜6の低級アル
    コキシカルボニル基、ニトロ基によりモノまたはポリ置
    換されていてもよい。)を表す。〕で表わされるスルタ
    ムスルホンアミド誘導体およびそれらの農業的に適して
    いる塩類。
  2. (2)請求項(1)の化合物を有効成分として含有する
    ことを特徴とする選択性除草剤。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005503428A (ja) * 2001-09-21 2005-02-03 ソルベイ・フアーマシユーチカルズ・ベー・ブイ 強力なcb1−拮抗活性を有する4,5−ジヒドロ−1h−ピラゾール誘導体

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JP2005503428A (ja) * 2001-09-21 2005-02-03 ソルベイ・フアーマシユーチカルズ・ベー・ブイ 強力なcb1−拮抗活性を有する4,5−ジヒドロ−1h−ピラゾール誘導体

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