HK1119444A1 - Method for the production of a thin glassy coating on substrates in order to reduce gas permeation - Google Patents
Method for the production of a thin glassy coating on substrates in order to reduce gas permeationInfo
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---|---|---|---|---|
DE102007034393A1 (de) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Clariant International Ltd. | Artikel mit geringer Wasserstoffpermeation |
JP2009255040A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-11-05 | Kyodo Printing Co Ltd | フレキシブルガスバリアフィルムおよびその製造方法 |
DE102008020324A1 (de) * | 2008-04-23 | 2009-10-29 | Clariant International Limited | Polysilazane enthaltende Beschichtungen zur Erhöhung der Lichtausbeute von verkapselten Solarzellen |
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DE102009013904A1 (de) * | 2009-03-19 | 2010-09-23 | Clariant International Limited | Solarzellen mit einer Verkapselungsschicht auf Basis von Polysilazan |
JP5712509B2 (ja) * | 2009-07-09 | 2015-05-07 | コニカミノルタ株式会社 | バリアフィルムの製造方法 |
JP5516582B2 (ja) * | 2009-07-09 | 2014-06-11 | コニカミノルタ株式会社 | バリアフィルム、有機光電変換素子及びバリアフィルムの製造方法 |
JP5640976B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2014-12-17 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルムとその製造方法、これを用いた光電変換素子 |
JP5585267B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2014-09-10 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、その製造方法、及びそれを用いた有機光電変換素子 |
JPWO2011027619A1 (ja) * | 2009-09-02 | 2013-02-04 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | バリアフィルム及びその製造方法 |
JP5487894B2 (ja) * | 2009-11-16 | 2014-05-14 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルム及び有機光電変換素子 |
JP5736644B2 (ja) * | 2009-12-11 | 2015-06-17 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、その製造方法及びそれを用いた有機光電変換素子 |
JP2011128501A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Konica Minolta Opto Inc | フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽光集光用ミラー |
JP5267467B2 (ja) * | 2010-01-12 | 2013-08-21 | コニカミノルタ株式会社 | バリアフィルム、バリアフィルムの製造方法、バリアフィルムを有する有機光電変換素子及び該素子を有する太陽電池 |
WO2011086839A1 (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-21 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法、ガスバリア性フィルムを有する有機光電変換素子及び該素子を有する太陽電池 |
JP5381734B2 (ja) * | 2010-01-14 | 2014-01-08 | コニカミノルタ株式会社 | バリア性フィルム及び有機電子デバイス |
JP5515847B2 (ja) * | 2010-02-24 | 2014-06-11 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルムの製造方法 |
JP5273074B2 (ja) * | 2010-03-19 | 2013-08-28 | コニカミノルタ株式会社 | バリアフィルムの製造方法 |
JP5402799B2 (ja) * | 2010-04-07 | 2014-01-29 | コニカミノルタ株式会社 | 有機電子デバイスの製造方法、有機電子デバイスおよびガスバリアフィルム前駆体 |
JP5598086B2 (ja) * | 2010-05-21 | 2014-10-01 | 株式会社カネカ | ガスバリアフィルム |
JP5581834B2 (ja) * | 2010-06-15 | 2014-09-03 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法、有機電子デバイス |
JP5565129B2 (ja) * | 2010-06-22 | 2014-08-06 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、及びそれを用いた有機素子デバイス |
JP5692230B2 (ja) * | 2010-07-14 | 2015-04-01 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルムの製造方法 |
JP5549448B2 (ja) * | 2010-07-20 | 2014-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | バリア性フィルム、バリア性フィルムの製造方法及び有機電子デバイス |
WO2012011377A1 (ja) | 2010-07-22 | 2012-01-26 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | ガスバリアフィルムの製造方法 |
WO2012026362A1 (ja) | 2010-08-25 | 2012-03-01 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法及び有機光電変換素子 |
WO2012026482A1 (ja) * | 2010-08-27 | 2012-03-01 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | セラミック膜形成方法、セラミック膜形成装置 |
JP5691309B2 (ja) * | 2010-09-06 | 2015-04-01 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルムおよびそれを用いた電子機器デバイス |
JP5552975B2 (ja) * | 2010-09-07 | 2014-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルム及びガスバリアフィルムを有する有機電子デバイス |
JP5552979B2 (ja) * | 2010-09-15 | 2014-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルムの製造方法、該ガスバリアフィルムを有する有機電子デバイス |
JP2012086436A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Hitachi Chemical Techno Service Co Ltd | ガスバリア成形体 |
JP5652150B2 (ja) * | 2010-11-18 | 2015-01-14 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルム及びその製造方法 |
WO2012067186A1 (ja) * | 2010-11-19 | 2012-05-24 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法、及びガスバリア性フィルム |
JP5594099B2 (ja) * | 2010-12-01 | 2014-09-24 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
JP5691457B2 (ja) * | 2010-12-06 | 2015-04-01 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法 |
JP5761203B2 (ja) | 2010-12-27 | 2015-08-12 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム及び電子デバイス |
JP5716752B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2015-05-13 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアフィルムの製造方法、ガスバリアフィルムおよび電子デバイス |
CN103596757B (zh) * | 2011-06-15 | 2016-03-30 | 柯尼卡美能达株式会社 | 水蒸气阻隔膜、及其制造方法以及使用了其的电子设备 |
EP2724854A4 (en) * | 2011-06-27 | 2015-03-25 | Konica Minolta Inc | GASPERRFILM, METHOD FOR THE PRODUCTION OF GASPERRFILMS AND ELECTRONIC DEVICE |
WO2013011872A1 (ja) | 2011-07-15 | 2013-01-24 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 |
JP5845676B2 (ja) * | 2011-07-20 | 2016-01-20 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
FR2980394B1 (fr) * | 2011-09-26 | 2013-10-18 | Commissariat Energie Atomique | Structure multicouche offrant une etancheite aux gaz amelioree |
CN103917364A (zh) * | 2011-11-11 | 2014-07-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 透明耐热阻气性薄膜的制造方法 |
JP5835344B2 (ja) * | 2011-11-24 | 2015-12-24 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアーフィルム及び電子機器 |
KR101688173B1 (ko) * | 2011-12-26 | 2016-12-21 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 플라스틱 기판 |
JP5849726B2 (ja) * | 2012-01-26 | 2016-02-03 | コニカミノルタ株式会社 | 水蒸気バリアフィルムの製造方法 |
EP2815880A4 (en) | 2012-02-15 | 2015-10-21 | Konica Minolta Inc | FUNCTIONAL FOIL, MANUFACTURING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE WITH THE FUNCTIONAL FILM |
FR2988520B1 (fr) * | 2012-03-23 | 2014-03-14 | Arkema France | Utilisation d'une structure multicouche a base de polymere halogene comme feuille de protection de module photovoltaique |
US20150099126A1 (en) | 2012-04-25 | 2015-04-09 | Konica Minolta, Inc. | Gas barrier film, substrate for electronic device and electronic device |
CN104540884A (zh) * | 2012-06-25 | 2015-04-22 | 可隆工业株式会社 | 透明聚酰亚胺基底以及制备该基底的方法 |
JP5987562B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-09-07 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法及び電子デバイス |
JP6017256B2 (ja) * | 2012-10-11 | 2016-10-26 | メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 | ケイ素質緻密膜の形成方法 |
KR101579645B1 (ko) * | 2013-04-10 | 2015-12-22 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 폴리이미드 커버기판 |
US20160059261A1 (en) * | 2013-05-01 | 2016-03-03 | Konica Minolta, Inc. | Gas barrier film and method for producing the same |
JP6003799B2 (ja) * | 2013-05-15 | 2016-10-05 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
WO2014192700A1 (ja) * | 2013-05-28 | 2014-12-04 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 |
WO2014196319A1 (ja) * | 2013-06-05 | 2014-12-11 | コニカミノルタ株式会社 | 光学材料、光学フィルム及び発光デバイス |
WO2015020011A1 (ja) * | 2013-08-07 | 2015-02-12 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
JP6257975B2 (ja) * | 2013-09-17 | 2018-01-10 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 被膜形成方法 |
EP3174948B1 (de) | 2014-07-29 | 2021-06-09 | Merck Patent GmbH | Hybridmaterial zur verwendung als beschichtungsmittel in optoelektronischen bauteilen |
KR101665186B1 (ko) * | 2014-09-05 | 2016-10-12 | (주)엘지하우시스 | 표면처리 피막을 적용한 기재 및 이의 제조방법 |
WO2016136841A1 (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
JP2016204487A (ja) | 2015-04-20 | 2016-12-08 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法 |
JP6723051B2 (ja) | 2016-03-31 | 2020-07-15 | 住友化学株式会社 | 積層フィルム及びその製造方法、並びに、積層フィルムの分析方法 |
JP6691803B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2020-05-13 | 住友化学株式会社 | 積層フィルム及びその製造方法 |
JP7133904B2 (ja) | 2016-03-31 | 2022-09-09 | 住友化学株式会社 | 積層フィルム及びその製造方法 |
EP3548576B1 (en) | 2016-12-02 | 2020-11-04 | Merck Patent GmbH | Crosslinkable polymer composition with curing catalyst |
WO2018104433A1 (de) * | 2016-12-08 | 2018-06-14 | Sunny Selection Gmbh | Verfahren zur herstellung einer verpackung und verpackung |
CN106823843B (zh) * | 2017-01-13 | 2019-03-22 | 常州大学 | 一种二氧化硅膜孔径的调控方法及其应用 |
JP6668287B2 (ja) * | 2017-04-04 | 2020-03-18 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | 膜形成組成物およびそれを用いた膜形成方法 |
EP3450516A1 (de) | 2017-09-04 | 2019-03-06 | EBC-Consulting AG | Zusammensetzung zur veredelung eines substrats, insbesondere von glas |
CN111194485A (zh) | 2017-10-13 | 2020-05-22 | 默克专利股份有限公司 | 光电装置的制造方法 |
WO2020179170A1 (ja) * | 2019-03-05 | 2020-09-10 | 株式会社村田製作所 | 電解コンデンサ |
CN112760036A (zh) * | 2019-11-05 | 2021-05-07 | 中国科学院化学研究所 | 一种具有紫外光屏蔽、可见光增透性能的耐原子氧涂层及其制备方法 |
CN113337214B (zh) * | 2020-03-03 | 2022-07-29 | 中国科学院化学研究所 | 一种氧阻隔涂层及其制备方法 |
CN116669864A (zh) * | 2020-12-23 | 2023-08-29 | 东华隆股份有限公司 | 皮膜形成方法 |
WO2023202936A1 (en) * | 2022-04-18 | 2023-10-26 | Merck Patent Gmbh | Method for manufacturing silicon nitrogenous film on substrate having a groove |
WO2024102339A1 (en) * | 2022-11-10 | 2024-05-16 | 10X Genomics, Inc. | Polysilazane coating of inert surfaces to construct reactive sites for grafting and modification |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0745974B1 (en) * | 1995-05-29 | 2002-08-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming silica protective films |
JPH08325699A (ja) * | 1995-05-29 | 1996-12-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | シリカ保護膜の作成方法および磁気記録媒体の製造方法 |
JP3518637B2 (ja) * | 1995-05-29 | 2004-04-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH10279362A (ja) * | 1997-03-31 | 1998-10-20 | Tonen Corp | SiO2系セラミックス膜の形成方法 |
US6383641B1 (en) * | 1997-08-15 | 2002-05-07 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent coated molded product and method for producing the same |
JP3902699B2 (ja) * | 1997-12-04 | 2007-04-11 | クラリアント インターナショナル リミティド | コーティング組成物及びシリカ系セラミックス膜の製造方法 |
CN1222195C (zh) * | 2000-07-24 | 2005-10-05 | Tdk株式会社 | 发光元件 |
TWI259844B (en) * | 2001-04-27 | 2006-08-11 | Clariant Int Ltd | Anti-fouling coating solution containing inorganic polysilazane |
JP2004077874A (ja) * | 2002-08-20 | 2004-03-11 | Clariant (Japan) Kk | 層間絶縁膜用感光性組成物及びパターン化層間絶縁膜の形成方法 |
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