ES2228155T3 - Matgerial de grabacion sensible al calor. - Google Patents

Matgerial de grabacion sensible al calor.

Info

Publication number
ES2228155T3
ES2228155T3 ES99965436T ES99965436T ES2228155T3 ES 2228155 T3 ES2228155 T3 ES 2228155T3 ES 99965436 T ES99965436 T ES 99965436T ES 99965436 T ES99965436 T ES 99965436T ES 2228155 T3 ES2228155 T3 ES 2228155T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
alkyl
substituted
halogen
alkoxy
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES99965436T
Other languages
English (en)
Inventor
Michael Heneghan
Roy Alan Kirk
James Philip Taylor
John Whitworth
Robert Montgomery O'neil
John Barry Henshall
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Schweiz AG
Original Assignee
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Ciba SC Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG, Ciba SC Holding AG filed Critical Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Application granted granted Critical
Publication of ES2228155T3 publication Critical patent/ES2228155T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/44Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/48Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C317/50Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups at least one of the nitrogen atoms being part of any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/333Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
    • B41M5/3333Non-macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/50Compounds containing any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
    • C07C311/51Y being a hydrogen or a carbon atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/50Compounds containing any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
    • C07C311/52Y being a hetero atom
    • C07C311/54Y being a hetero atom either X or Y, but not both, being nitrogen atoms, e.g. N-sulfonylurea
    • C07C311/57Y being a hetero atom either X or Y, but not both, being nitrogen atoms, e.g. N-sulfonylurea having sulfur atoms of the sulfonylurea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C311/60Y being a hetero atom either X or Y, but not both, being nitrogen atoms, e.g. N-sulfonylurea having sulfur atoms of the sulfonylurea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having nitrogen atoms of the sulfonylurea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/50Compounds containing any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
    • C07C311/52Y being a hetero atom
    • C07C311/54Y being a hetero atom either X or Y, but not both, being nitrogen atoms, e.g. N-sulfonylurea
    • C07C311/57Y being a hetero atom either X or Y, but not both, being nitrogen atoms, e.g. N-sulfonylurea having sulfur atoms of the sulfonylurea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C311/62Y being a hetero atom either X or Y, but not both, being nitrogen atoms, e.g. N-sulfonylurea having sulfur atoms of the sulfonylurea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having nitrogen atoms of the sulfonylurea groups further acylated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Display Devices Of Pinball Game Machines (AREA)

Abstract

Un material de grabación sensible al calor, que consta de: a) por lo menos un compuesto cromógeno y b) por lo menos un revelador de la **fórmula** en la que R1 es fenilo o naftilo que puede estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8 o halógeno; o alquilo C1-C20 que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C1-C8 o halógeno; X es un grupo de la **fórmula** ((sustituir ¿or¿ por ¿o¿)) A es fenileno, naftileno o alquileno C1-C12 sin sustituir o sustituidos o es un grupo heterocíclico sin sustituir o sustituido, B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO2-, -SO2-O-, -NH- SO2-, -SO2-NH-, -S-SO2-, -O-CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -S-CO- NH-, -S-CS-NH-, -CO-NH-SO2-, -O-CO-NH-SO2-, -NH=CH-, -CO-NH- CO-, -S-, -CO-, -O-, -SO2-NH-CO-, -O-CO-O- y -O-PO-(OR2)2 y R2 es arilo, con preferencia fenilo o naftilo, que puede estar sin sustituir o sustituido por alquilo C1-C8, alquilo C1-C8 sustituido por halógeno, alquilo C1-C8 sustituido por alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8sustituido halógeno o halógeno; o bencilo que puede estar sustituido por alquilo C1-C8, alquilo C1-C8 sustituido por halógeno, alquilo C1-C8 sustituido por alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8 sustituido por halógeno o halógeno; o alquilo C1-C20 que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C1-C8, halógeno, fenilo o naftilo; con la condición de que si B no es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO2-, entonces R2 es fenilo, naftilo o alquilo C1- C8 sin sustituir o sustituidos y que si B es -O-, entonces R2 no es alquilo y con la condición siguiente: si B significa -OSO2- o -SO2O-, entonces R2 no es alquilo C1-C20.

Description

Material de grabación sensible al calor.
La presente invención se refiere a materiales sensibles al calor. Se refiere más en particular a material de grabación en forma de un sustrato soporte, por ejemplo una lámina de papel, una lámina sintética de papel o una película de resina plástica recubierta con sistemas cromógenos que constan de un compuesto dador de electrones, incoloro o de color pálido (compuesto cromógeno) y un aceptor de electrones orgánico (revelador).
La grabación sensible al calor se ha venido utilizando convencionalmente como sistema de grabar la información transferida por mediación del calor, utilizando una reacción de color entre un compuesto cromógeno y un revelador.
En el documento EP-A-0701905 se describe un material de grabación termosensible que tiene por lo menos un compuesto cromógeno y por lo menos un revelador, el revelador tiene un grupo funcional -SO_{2}NHC(=X)NH-, en el que X es O o S.
En el documento EP-A-0526072 se describe un material de grabación sensible al calor que contiene por lo menos un compuesto cromógeno y por lo menos un revelador, dicho revelador contiene entre otros la N-(p-toluenosulfonil)-N'-(p-etoxicarbonilfenil)urea.
En el documento JP-A-08295081 se describe un material de grabación sensible al calor que contiene por lo menos un compuesto cromógeno y por lo menos un revelador, dicho revelador contiene el grupo funcional -SO_{2}NHC(=X)NH-, en el que X significa O o S.
En el documento JP-A-10058836 se describe un material de grabación sensible al calor que contiene por lo menos un compuesto cromógeno y por lo menos un revelador, dicho revelador contiene el grupo funcional -SO_{2}NHC(=O)NH-.
En el documento EP-A-0860738 se describe un método de procesar un material fotográfico de haluro de plata sensible a la luz que contiene entre otros un compuesto H-42, que contiene un grupo flúor y un sistema heterocíclico.
Las propiedades más deseables de un material cromógeno, además de un revelado eficaz del color, son la respuesta térmica, la blancura de fondo y la estabilidad de la imagen, en especial la solidez a la luz del color revelado, solidez al calor y a la humedad, solidez al aceite, resistencia a los plastificantes y solidez al agua del color revelado.
Hay necesidad de mejorar las propiedades anteriores y la capacidad de archivo de estos materiales de grabación. Es objeto de la presente invención proporcionar materiales de grabación termosensibles de propiedades mejoradas, en especial mejor estabilidad de imagen y mejor blancura de fondo de papel antes de generar la imagen y mejor blancura de fondo de la porción no revelada después de generar la imagen.
La presente invención se dirige a un material de grabación sensible al calor, que contiene
a) por lo menos un compuesto cromógeno y
b) por lo menos un revelador de la fórmula
(1),R_{1}-
\melm{\delm{\dpara}{O}}{S}{\uelm{\dpara}{O}}
-
\delm{N}{\delm{\para}{H}}
-X-
\delm{N}{\delm{\para}{H}}
-A-B-R_{2}
en la que
R_{1} es fenilo o naftilo que puede estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno; o alquilo C_{1}-C_{20} que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno;
X es un grupo de la fórmula
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{NH}}
-,
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{S}}
-
\hskip0,5cm
o
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-,
A es fenileno, naftileno o alquileno C_{1}-C_{12} sin sustituir o sustituidos o es un grupo heterocíclico sin sustituir o sustituido,
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, -SO_{2}-O-, -NH-SO_{2}-, -SO_{2}-NH-, -S-SO_{2}-, -O-CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -S-CO-NH-, -S-CS-NH-, -CO-NH-SO_{2}-, -O-CO-NH-SO_{2}-, -NH=CH-, -CO-NH-CO-, -S-, -CO-, -O-, -SO_{2}NH-CO-, -O-CO-O- y -O-PO-(OR_{2})_{2} y
R_{2} es arilo, con preferencia fenilo o naftilo, que puede estar sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido halógeno o halógeno; o bencilo que puede estar sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno o halógeno; o alquilo C_{1}-C_{20} que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, halógeno, fenilo o naftilo;
con la condición de que si B no es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, entonces R_{2} es fenilo, naftilo o alquilo C_{1}-C_{8} sin sustituir o sustituidos y que si B es -O-, entonces R_{2} no es alquilo y con la condición siguiente: si B significa-OSO_{2}- o -SO_{2}O-, entonces R_{2} no es alquilo C_{1}-C_{20}.
Como fenilo o naftilo, R_{1} puede estar sin sustituir o sustituido por ejemplo por alquilo C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno. Los sustituyentes preferidos son alquilo C_{1}-C_{4}, en especial el metilo o el etilo, alcoxi C_{1}-C_{4}, en especial el metoxi o el etoxi, o halógeno, en especial el cloro. Como naftilo, R_{1} está con preferencia sin sustituir. En calidad de fenilo, R_{1} está con preferencia sustituido, en especial por uno de los sustituyentes alquilo recién mencionados.
En calidad de alquilo C_{1}-C_{20}, R_{1} puede estar sin sustituir o sustituido, por ejemplo por alcoxi C_{1}-C_{8} o por halógeno. Los sustituyentes preferidos son alcoxi C_{1}-C_{4}, en especial el metoxi o el etoxi, o halógeno, en especial el cloro. En calidad de alquilo C_{1}-C_{20}, R_{1} está con preferencia sin sustituir.
R_{1} es con preferencia fenilo que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno. Los más importantes son los grupos fenilo sustituidos. Son muy importantes los grupos fenilo que están sustituidos por alquilo C_{1}-C_{4}, con preferencia por metilo.
X es con preferencia un grupo de la fórmula
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{S}}
-
\hskip0,5cm
o
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-
en especial un grupo de la fórmula
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-.
En calidad de grupo fenileno o naftileno, A puede estar sin sustituir o sustituido por ejemplo por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo, halógeno, fenilo, fenoxi o fenoxicarbonilo. Los sustituyentes alquilo y alcoxi preferidos son los que contienen de 1 a 4 átomos de carbono. Los sustituyentes preferidos son alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo o halógeno. En calidad de grupo naftileno, A está con preferencia sin sustituir.
En calidad de grupo heterocíclico, A es con preferencia pirimidileno que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, en especial por alquilo C_{1}-C_{4}.
En calidad de grupo alquileno C_{1}-C_{12}, A es con preferencia alquileno C_{1}-C_{8}, en especial alquileno C_{1}-C_{4}.
Los grupos A son con preferencia grupos fenileno que están sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo, fenilo, fenoxi o fenoxicarbonilo, en especial alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo o halógeno.
Son grupos A muy preferidos los grupos fenileno que están sin sustituir o sustituidos por alquilo C_{1}-C_{4} o por halógeno, en especial los grupos fenileno sin sustituir.
Los grupos eslabón B preferidos son los de las fórmulas -O-SO_{2}-, -SO_{2}-O-, -SO_{2}-NH-, -S-SO_{2}-, -O_{x}- y -O-CO-NH-, en especial los grupos eslabón de las fórmulas -O-SO_{2}-, -SO_{2}-O- y -SO_{2}-NH-. Son muy preferidos los grupos eslabón B de la fórmula -O-SO_{2}- y -O-.
En calidad de arilo, R_{2} es con preferencia fenilo o naftilo que pueden estar sin sustituir o sustituidos por ejemplo por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno o halógeno. Los sustituyentes alquilo y alcoxi preferidos son los que tienen de 1 a 4 átomos de carbono. Los sustituyentes preferidos son alquilo C_{1}-C_{4} y halógeno. En calidad de naftilo, R_{2} está con preferencia sin sustituir.
En calidad de bencilo, R_{2} puede estar sustituido por los sustituyentes indicados para el caso de ser R_{2} fenilo o naftilo. Es preferido el bencilo sin sustituir.
En calidad de alquilo C_{1}-C_{20}, R_{2} es con preferencia alquilo C_{1}-C_{8}, en especial alquilo C_{1}-C_{6}, y puede estar sin sustituir o sustituido por ejemplo por alcoxi C_{1}-C_{8}, halógeno, fenilo o naftilo. Son preferidos los grupos alquilo sin sustituir, en especial alquilo C_{1}-C_{4}.
Los grupos R_{2} preferidos son alquilo C_{1}-C_{6}; alquilo C_{1}-C_{6} sustituido por halógeno; alquilo C_{1}-C_{6} sustituido por fenilo; alquilo C_{1}-C_{6} sustituido por naftilo; fenilo sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno o halógeno; naftilo y bencilo que están sustituidos por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno.
Son grupos R_{2} muy preferidos los alquilo C_{1}-C_{4}; alquilo C_{1}-C_{4} sustituido por halógeno; fenilo sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno; naftilo o bencilo sin sustituir o sustituidos por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno; en especial fenilo sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}.
Son preferidos los reveladores de la fórmula (1), en la que
R_{1} es fenilo que está sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}, con preferencia por metilo,
X es un grupo de la fórmula
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-,
A es fenilo que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno, con preferencia fenileno sin sustituir, por ejemplo el 1,3-fenileno,
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}- u -O- y
R_{2} es fenilo, naftilo o bencilo, que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno, en especial fenilo que está sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}.
Los compuestos de la fórmula (1) pueden obtenerse con arreglo a los siguientes esquemas 1-3:
\vskip1.000000\baselineskip
1
2
3
\vskip1.000000\baselineskip
en los que R_{1}, R_{2}, A, B y X tienen los significados definidos antes y E es alquilo o arilo.
Además, en el caso de que esté disponible el compuesto H_{2}N-A-B-H, los compuestos de la fórmula (1) pueden obtenerse con arreglo al siguiente esquema 4:
4
En el caso de los esquema 1, 2 y 4 se hace reaccionar el isocianato de R_{1}-sulfonilo (o R_{1}-sulfonamida) con la R_{2}-amina (o con el isocianato de R_{2}) en presencia o en ausencia de un disolvente orgánico. Con preferencia en presencia de un disolvente aprótico (apolar o polar), por ejemplo los hidrocarburos aromáticos, hidrocarburos aromáticos clorados, hidrocarburos alifáticos o alicíclicos, hidrocarburos clorados, dialquilacilamidas, ésteres alifáticos, cetonas alifáticas, cetonas alicíclicas, ésteres alifáticos, éteres cíclicos, alquilonitrilo y mezclas de los mismos. Son preferidos en especial el tolueno, el xileno, el éter de petróleo, el ciclohexano, la dimetilformamida, la dimetilacetamida, el acetato de etilo, el acetato de propilo, el acetato de butilo, el éter de dietilo, el éter de dibutilo, el tetrahidrofurano, la acetona, la butanona, la ciclohexanona, el nitrometano, el acetonitrilo, el propionitrilo, el nitrometano, el éter de dimetilo del etilenglicol, el cloroformo, el diclorometano, el tetracloruro de carbono, el clorobenceno, el diclorobenceno, el dioxano y mezclas de los mismos. Pueden utilizarse también los solventes polares próticos, por ejemplo los alcoholes. La reacción se lleva a cabo con preferencia entre 0 y 100ºC, en especial entre 0 y 40ºC durante un período de tiempo de hasta 12 horas. La reacción puede catalizarse además con aminas terciarias, ácidos carboxílicos, amidas y ureas.
En el caso del esquema 3, la reacción del carbamato R_{1}SO_{2}NHCXOE con la amina R_{2}BANH_{2} puede llevarse a cabo en un exceso de amina, agua, disolvente orgánico o una mezcla de los mismos en presencia o en ausencia de una base inorgánica u orgánica. Los disolventes típicos incluyen los mencionados anteriormente. Entre las bases se incluyen los carbonatos de metales alcalinos (K_{2}CO_{3}, Na_{2}CO_{3}), los hidróxidos de metales alcalinos (NaOH, KOH), los alcóxidos de metales alcalinos (metóxido sódico), la piridina, las aminas terciarias, por ejemplo la trietilamina, la diisopropiletilamina.
Se conocen muchas síntesis de sulfonilureas que se incorporan a la presente como referencia (J. Med. Chem. (33), 9, 2393, 1990; Chem, Rev., (50), 1, 1952; Chem. Rev. (65), 365, 1965).
La presente invención se refiere además a nuevos compuestos de la fórmula
5
en la que
R_{1} es fenilo o naftilo que pueden estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno; o es alquilo C_{1}-C_{20}, que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno;
R_{3} y R_{4} con independencia entre sí son hidrógeno, alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo, halógeno, fenilo, fenoxi o fenoxicarbonilo,
X es un grupo de la fórmula
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{NH}}
-,
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{S}}
-
\hskip0,5cm
o
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-.
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, -SO_{2}-O-, -SO_{2}-NH- o -CO-NH-SO_{2}-, y
R_{2} es fenilo o naftilo que pueden estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno o halógeno; o es alquilo C_{1}-C_{20} que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, halógeno, fenilo o naftilo;
con la condición de que si B no es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, entonces R_{2} es fenilo sin sustituir o sustituido, naftilo o alquilo C_{1}-C_{8} y con la condición adicional de que si B significa -OSO_{2}- o -SO_{2}O-, entonces R_{2} no es alquilo C_{1}-C_{20}.
Al igual que a R_{1}, a R_{2}, X y B se les aplican las preferencias definidas anteriormente.
R_{3} y R_{4} son con preferencia hidrógeno, alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo o halógeno. Los grupos alquilo y alcoxi R_{3} y R_{4} preferidos tienen de 1 a 4 átomos de carbono. Los grupos R_{3} y R_{4} muy preferidos son hidrógeno, alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno, en especial hidrógeno.
Son importantes los compuestos de fórmula (2) en la que R_{1} es fenilo que está sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}, con preferencia por metilo,
X es un grupo de la fórmula
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-,
R_{3} y R_{4} con independencia entre sí son hidrógeno, alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno, con preferencia hidrógeno,
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}- y
R_{2} es fenilo está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}, en especial fenilo sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}.
Los compuestos de la fórmula (2) pueden obtenerse del modo indicado antes para los compuestos de la fórmula (1).
Son compuestos cromógenos, por ejemplo, los trifenilmetanos, las lactonas, las benzoxazinas, los espiropiranos o, con preferencia, los fluoranos.
Los cromógenos preferidos incluyen, pero no se limitan a: 3-dietilamino-6-metilfluorano, 3-dimetilamino-6-metil-7-anilinofluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(2,4-dimetilanilino)fluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-clorofluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(3-trifluormetilamino)fluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(2-cloroanilino)fluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(4-cloroanilino)fluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(2-fluoranilino)fluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(4-n-octilanilino)fluorano, 3-dietilamino-7-(4-n-octilanilino)fluorano, 3-dietilamino-7-(n-octilamino)fluorano, 3-dietilamino-7-(dibencilamino)fluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(dibencilamino)fluorano, 3-dietilamino-6-cloro-7-metilfluorano, 3-dietilamino-7-t-butilfluorano, 3-dietilamino-7-carboxietilfluorano, 3-dietilamino-6-cloro-7-anilinofluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(3-metilanilino)fluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(4-metilanilino)fluorano, 3-dietilamino-6-etoxietil-7-anilinofluorano, 3-dietilamino-7-metilfluorano, 3-dietilamino-7-clorofluorano, 3-dietilamino-7-(3-trifluormetilanilino)fluorano, 3-dietilamino-7-(2-cloroanilino)fluorano, 3-dietilamino-7-(2-fluoranilino)fluorano, 3-dietilamino-benzo[a]fluorano, 3-dietilamino-benzo[c]fluorano, 3-dibutilamino-7-dibencilaminofluorano, 3-dibutilamino-7-anilinofluorano, 3-dietilamino-7-anilinofluorano, 3-dibutilamino-6-metilfluorano, 3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano, 3-dibutilamino-6-metil-7-(2,4-dimetilanilino)fluorano, 3-dibutilamino-6-metil-7-(2-cloroanilino)fluorano, 3-dibutilamino-6-metil-7-(4-cloroanilino)fluorano, 3-dibutilamino-6-metil-7-(2-fluoranilino)fluorano, 3-dibutilamino-6-metil-7-(3-trifluormetilanilino)fluorano, 3-dibutilamino-6-etoxietil-7-anilinofluorano, 3-dibutilamino-6-cloro-anilinofluorano, 3-dibutilamino-6-metil-7-(4-metilanilino)fluorano, 3-dibutilamino-7-(2-cloroanilino)fluorano, 3-dibutilamino-7-(2-fluoranilino)fluorano, 3-dibutilamino-7-(N-metil-N-formilamino)fluorano, 3-dipentilamino-6-metil-7-anilinofluorano, 3-dipentilamino-6-metil-7-(4-2-cloroanilino)fluorano, 3-dipentilamino-7-(3-trifluormetilanilino)fluorano, 3-dipentilamino-6-cloro-7-anilinofluorano, 3-dipentilamino-7-(4-cloroanilino)fluorano, 3-pirrolidino-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-metil-N-propilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-metil-N-ciclohexilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-ciclohexilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-p-toluidino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-isoamilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-isoamilamino)-6-cloro-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-tetrahidrofurfurilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-isobutilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-butil-N-isoamilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-isopropil-N-3-pentilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-etoxipropilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-ciclohexilamino-6-clorofluorano, 2-metil-6-p-(p-dimetilaminofenil)aminoanilinofluorano, 2-metoxi-6-p-(p-dimetilaminofenil)aminoanilinofluorano, 2-cloro-3-metil-6-p-(p-fenilaminofenil)aminoanilinofluorano, 2-dietilamino-6-p-(p-dimetilaminofenil)aminoanilinofluorano, 2-fenil-6-metil-6-p-(p-fenilaminofenil)aminoanilinofluorano, 2-bencil-6-p-(p-fenilaminofenil)aminoanilinofluorano, 3-metil-6-p-(p-dimetilaminofenil)aminoanilinofluorano, 3-dietilamino-6-p-(p-dietilaminofenil)aminoanilinofluorano, 3-dietilamino-6-p-(p-dibutilaminofenil)aminoanilinofluorano, 2,4-dimetil-6-[(4-dimetilamino)anilino]fluorano, 3-[(4-dimetilaminofenil)amino]-5,7-dimetilfuorano, 3,6,6'-tris(dimetilamino)espiro[fluoreno-9,3'-ftalida], 3,6,6'-tris(dietilamino)espiro[fluoreno-9,3'-ftalida], 3,3-bis(p-dimetilaminofenil)-6-dimetilaminoftalida, 3,3-bis(p-dimetilaminofenil)ftalida, 3,3-bis-[2-(p-dimetilaminofenil)-2-(p-metoxifenil)etenil-4,5,6,7-tetrabromoftalida, 3,3-bis-[2-(p-dimetilaminofenil)-2-(p-metoxifenil)etenil-4,5,6,7-tetracloroftalida, 3,3-bis[1,1-bis(4-pirrolidinofenil)etilen-2-il]-4,5,6,7-tetrabromoftalida, 3,3-bis[1-(4-metoxifenil)-1-(4-pirrolidinofenil)etilen-2-il]-4,5,6,7-tetracloroftalida, 3-(4-dietilamino-2-etoxifenil)-3-(1-etil-2-metilindol-3-il)-4-azaftalida, 3-(4-dietilamino-2-etoxifenil)-3-(1-octil-2-metilindol-3-il)-4-azaftalida, 3-(4-ciclohexiletilamino-2-metoxifenil)-3-(1-etil-2-metilindol-3-il)-4-azaftalida, 3,3-bis(1-etil-2-metilindol-3-il)ftalida, 3,3-bis(1-octil-2-metil-indol-3-il)ftalida, mezcla de 2-fenil-4-(4-dietilaminofenil)-4-(4-metoxifenil)-6-metil-7-dimetilamino-3,1-benzoxazina y 2-fenil-4-(4-dietilaminofenil)4-(4-metoxifenil)-8-metil-7-dimetilamino-3,1-benzoxazina, 4,4'-[1-metiletilideno)-bis(4,1-fenilenoxi-4,2-quinazolinadiil)]-bis[N,N-dietilbencenamina], bis(N-metildifenilamina)-4-il-(N-butilcarbazol)-3-il-metano y mezclas de los mismos.
Todos los compuestos cromógenos anteriores pueden utilizarse a título individual o en forma de mezcla con otros compuestos cromógenos; o pueden utilizarse junto otros compuestos cromógenos negros.
Son muy preferidos el 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(3-metilanilino)fluorano, 3-dietilamino-6-metil-7-(2,4-dimetilanilino)fluorano, 3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano, 3-dipentilamino-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(n-metil-N-propilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-metil-N-ciclohexilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-isoamilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-dietilamino-6-cloro-7-anilinofluorano, 3-dibutilamino-7-(2-cloroanilino)fluorano, 3-N-etil-p-toluidino-6-cloro-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-tetrahidrofurfurilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-(N-etil-N-isobutilamino)-6-metil-7-anilinofluorano, 3-N-etil-N-etoxipropilamino-6-metil-7-anilinofluorano, 2,4-dimetil-6-[(4-dimetilamino)anilino]fluorano, 3-(4-dietilamino-2-etoxifenil)-3-(1-octil-2-metilindol-3-il)-4-azaftalida, 3,3-bis(p-dimetilaminofenil)-6-dimetilaminoftalida y mezclas de los mismos.
Es posible utilizar también soluciones sólidas que contengan por lo menos dos compuestos cromógenos.
Una solución sólida monofase (o huésped-hospedante) posee una red cristalina que es idéntica a la red cristalina de uno de sus componentes. Un componente está inmerso en calidad de huésped en la red cristalina del otro componente, que actúa de hospedante. El modelo de difracción de rayos X de tal solución sólida monofase es sustancialmente idéntico al de uno de los componentes, el llamado "hospedante". Hasta ciertos límites, proporciones diferentes de los componentes dan lugar a resultados casi idénticos.
En la bibliografía técnica, las definiciones dadas por diversos autores de las soluciones sólidas y de los cristales mixtos, por ejemplo G.H. Van't Hoff, A.I. Kitaigorodsky y A. Whitacker, resultan a menudo contradictorias (véase "Analytical Chemistry of Synthetic Dyes", capítulo 10, página 269, coord. K. Venkataraman, ed. J. Wiley, Nueva York, 1977).
El término "solución sólida monofase" o "solución sólida multifase" o "cristal mixto", empleando en esta descripción, deberá tomarse, pues, en el sentido de las definiciones siguientes, que se han adaptado al estado presente, mejorado, de los conocimientos de tales sistemas:
Una solución sólida monofase (o huésped-hospedante) posee una red cristalina que es idéntica a la red cristalina de uno de sus componentes. Un componente está inmerso en calidad de huésped en la red cristalina del otro componente, que actúa de hospedante. El modelo de difracción de rayos X de tal solución sólida monofase es sustancialmente idéntico al de uno de los componentes, el llamado "hospedante". Hasta ciertos límites, proporciones diferentes de los componentes dan lugar a resultados casi idénticos.
Una solución sólida multifase posee una red cristalina uniforme, no precisa. Difiere de una mezcla física de sus componentes por el hecho de que la red cristalina por lo menos de uno de sus componentes está alterada total o parcialmente. Si se compara con la mezcla física de los componentes, que da lugar a un diagrama de difracción de rayos X que es la adición de los diagramas vistos de los componentes individuales, las señales del diagrama de difracción de rayos X de una solución sólida multifase son más anchas, desplazadas o alteradas en su intensidad. En general, proporciones diferentes de los componentes producen resultados diferentes.
Una solución sólida de cristal mixto (o de compuesto sólido) posee una composición precisa y una red cristalina uniforme, que es diferente de las redes cristalinas de todos sus componentes. Si proporciones distintas de los componentes conducen, dentro de ciertos límites, al mismo resultado, entonces existe una solución sólida en la que el cristal mixto actúa como hospedante.
Para evitar la duda puede señalarse además que, entre otros, existen también estructuras amorfas y agregados mixtos de diferentes partículas de diferentes tipos físicos, por ejemplo un agregado de diferentes componentes, cada uno en una modificación cristalina pura. Tales estructuras amorfas y agregados mixtos no pueden equipararse ni a las soluciones sólidas ni a los cristales mixtos y poseen propiedades fundamentales diferentes.
Tal como se detalla en la presente descripción, las soluciones sólidas monofases contienen una pluralidad de compuestos coloreados. Los materiales cromógenos idóneos que pueden incluirse en las soluciones sólidas son los que se han mencionado anteriormente.
Son de un interés particular las siguientes soluciones sólidas monofases:
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dibutilamino-7-dibencilaminofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dibutilamino-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dietilamino-7-anilinofluorano;
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dietilamino-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-2-pentil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-isopropil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-ciclohexilmetil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-diisopropilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-2-butil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-ciclohexil-N-metilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dietilamino-6-metil-7-(3-metilanilino)fluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dietilamino-6-metil-7-(2,4-dimetilanilino)fluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dipentilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-(N-metil-N-propilamino)-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dietilamino-6-cloro-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dibutilamino-7-(2-cloroanilino)fluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-etil-p-toluidino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-(N-etil-N-tetrahidrofurfurilamino)-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-(N-etil-N-isobutilamino)-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-etil-N-etoxipropilamino-6-metil-7-anilinofurano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 2,4-dimetil-6-[(4-dimetilamino)anilino]fluorano;
3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3-N-propil-N-metilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dietilamino-6-metil-7-(3-tolil)aminofluorano y 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y 3,3-bis(1-octil-2-metilindol-3-il)ftalida;
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano y una mezcla de 2-fenil-4-(4-dietilaminofenil)-4-(4-metoxifenil)-6-metil-7-dimetilamino-3,1-benzoxazina y 2-fenil-4-(4-dietilaminofenil)-4-(4-metoxifenil)-8-metil-7-dimetilamino-3,1-benzoxazina;
3-dibutil-6-metil-7-anilinofluorano y 4,4'-[1-metiletilideno)bis(4,1-fenilenoxi-4,2-quinazolinadiil)]bis[N,N-dietilbencenamina].
En las anteriores soluciones sólidas monofase, el primer compuesto está presente en una proporción molar del 75 al 99,9% y el segundo compuesto en una proporción molar del 25 al 0,1%.
Son ejemplos de soluciones sólidas monofases que contienen dos componentes A y B en las proporciones recién establecidas los siguientes:
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (99,9%), 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (0,1%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (99%), 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (1%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (95%), 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (5%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%) y 3-N-pentil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (95%) y 3-N-pentil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (5%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%) y 3-N-isopropil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (95%) y 3-N-isopropil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (5%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%) y 3-N-ciclohexilmetil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (95%) y 3-N-ciclohexilmetil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (5%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%) y 3-dipropilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (95%) y 3-dipropilamino-6-metil-7-anilinofluorano (5%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%) y 3-N-2-butil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (95%) y 3-N-2-butil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (5%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%), 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (85%), 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (15%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%), 3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (20%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (95%), 3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (5%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%), 3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%), 3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (20%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%), 3-N-ciclohexil-N-metilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%), 3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%), 3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (20%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (20%), 3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%), 3-N-isoamil-N-etilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%), 3-N-propil-N-metilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%), 3-N-propil-N-metilamino-6-metil-7-anilinofluorano (20%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (20%), 3-N-propil-N-metilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%), 3-N-propil-N-metilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (10%), 3-dietilamino-6-metil-7-(3-tolil)aminofluorano (90%);
3-dietilamino-6-metil-7-anilinofluorano (20%), 3-dietilamino-6-metil-7-(3-tolil)aminofluorano (80%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%), 3,3-bis(1-octil-2-metilindol-3-il)ftalida (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%), 3,3-bis(1-octil-2-metilindol-3-il)ftalida (20%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%), mezcla 2-fenil-4-(4-dietilaminofenil)-4-(4-metoxifenil)-6-metil-7-dimetilamino-3,1-benzoxazina y 2-fenil-4-(4-dietilaminofenil)-4-(4-metoxifenil)-8-metil-7-dimetilamino-3,1-benzoxazina (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%), mezcla 2-fenil-4-(4-dietilaminofenil)-4-(4-metoxifenil)-6-metil-7-dimetilamino-3,1-benzoxazina y 2-fenil-4-(4-dietilaminofenil)-4-(4-metoxifenil)-8-metil-7-dimetilamino-3,1-benzoxazina (20%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (90%), 4,4'-[1-metiletilideno)bis(4,1-fenilenoxi-4,2-quinazolinadiil)]bis[N,N-dietilbencenamina] (10%);
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano (80%), 4,4'-[1-metiletilideno)bis(4,1-fenilenoxi-4,2-quinazolinadiil)]bis[N,N-dietilbencenamina] (20%).
Las soluciones sólidas monofases pueden utilizarse a título individual o bien en forma de mezcla con otros compuestos cromógenos, por ejemplo trifenilmetanos, lactonas, fluoranos, benzoxazinas y espiropiranos; o pueden utilizarse también junto con otros compuestos cromógenos negros. Los ejemplos de estos compuestos cromógenos se han mencionado anteriormente.
Las soluciones sólidas monofases pueden prepararse por un gran número de métodos. Uno de tales métodos consiste en una recristalización en el que se disuelve una mezcla física de los componentes deseados, con o sin calentamiento, en un disolvente o en una mezcla de disolventes. Los disolventes idóneos incluyen, pero no se limitan a: tolueno, benceno, xileno, diclorobenceno, clorobenceno, 1,2-dicloroetano, metanol, etanol, isopropanol, n-butanol, acetonitrilo, dimetilformamida o mezclas de estos disolventes entre sí o con agua. A continuación se aísla la solución sólida monofase por cristalización en el disolvente o mezcla de disolventes. Esto puede realizarse por enfriamiento, reposo, adición de otro disolvente para impulsar la cristalización o por concentración por medios estándar, tales como destilación, destilación con arrastre de vapor y destilación con vacío. Cuando se aísla la solución sólida monofase por concentración, puede ser ventajoso hacerlo en presencia de una pequeña cantidad de una base con el fin de mejorar el aspecto visual del producto aislado.
Como alternativa, las soluciones sólidas monofases pueden prepararse a partir de mezclas de materiales de partida idóneos. Esta técnica puede utilizarse para obtener mezclas de dos o más fluoranos o ftalidas. Por ejemplo, se obtienen mezclas de dos fluoranos sustituyendo un material de partida individual por dos materiales similares conservando la misma proporción molar total dentro de la mezcla reaccionante. En el caso de los fluoranos, estos materiales de partida son derivados de aminofenoles, anhídridos ftálicos, cetoácidos y difenilaminas.
Además, el material de grabación sensible al calor puede contener un revelador ya conocido anteriormente, a menos que los resultados de formación de calor de material sensible al calor resultante resulten influidos negativamente por ello. Son ejemplos de tales reveladores los siguientes, pero no se limitan a ellos:
4,4'-isopropilidenobisfenol, 4,4'-sec-butilidenobisfenol, 4,4'-ciclohexilidenobisfenol, 2,2-bis-(4-hidroxifenil)-4-metilpentano, 2,2-dimetil-3,3-di(4-hidroxifenil)butano, 2,2'-dihidroxidifenilo, 1-fenil-1,1-bis(4-hidroxifenil)butano, 4-fenil-2,2-bis(4-hidroxifenil)butano, 1-fenil-2,2-bis(4-hidroxifenil)butano, 2,2-bis(4'-hidroxi-3'-metilfenil)-4-metilpentano, 2,2-bis(4'-hidroxi-3'-tert-butilfenil)-4-metilpentano, 4,4'-sec-butilideno-bis(2-metilfenol), 4,4'-isopropilideno-bis(2-tert-butilfenol), 2,2-bis(4'-hidroxi-3'-isopropilfenil)-4-metilpentano, 4,4'-bis(4'-hidroxifenil)pentanoato de alilo, 4,4'-bis(4'-hidroxifenil)pentanoato de propargilo, 4,4'-bis(4'-hidroxifenil)pentanoato de n-propilo, 2,4-bis(fenilsulfonil)fenol, 2-(4-metilsulfonil)-4-(fenilsulfonil)fenol, 2-(fenilsulfonil)-4-(4-metilsulfonil)fenol, 2,4-bis(4-metilfenilsulfonil)fenol, bis(4-hidroxibenzoato) de pentametileno, 2,2-dimetil-3,3-di(4-hidroxifenil)pentano, 2,2-di(4-hidroxifenil)hexano, 4,4'-dihidroxifenil-tioéter, 1,7-di(4-hidroxifeniltio)-3,5-dioxaheptano, 2,2'-bis(4-hidroxifeniltio)-dietiléter, 4,4'-dihidroxi-3,3'-dimetilfenil-tioéter, 4-hidroxibenzoato de bencilo, 4-hidroxibenzoato de etilo, 4-hidroxibenzoato de propilo, 4-hidroxibenzoato de isopropilo, 4-hidroxibenzoato de butilo, 4-hidroxibenzoato de isobutilo, 4,4'-dihidroxidifenilsulfona, 2,4'-dihidroxidifenilsulfona, 4-hidroxi-4'-metildifenilsulfona, 4-hidroxi-4'-isopropoxidifenilsulfona, 4-hidroxi-4'-butoxidifenilsulfona, 4,4'-dihidroxi-3,3'-dialildifenilsulfona, 3,4-dihidroxi-4'-metildifenilsulfona, 4,4'-dihidroxi-3,3',5,5'-tetrabromodifenilsulfona, 4,4'-bis(p-toluenosulfonilaminocarbonilamino)difenilmetano, N-o-toluenosulfonil-N'-fenilurea, 4-hidroxiftalato de dimetilo, 4-hidroxiftalato de diciclohexilo, 4-hidroxiftalato de difenilo, 4-[2-(4-metoxifeniloxi)etiloxi]salicilato, ácido 3,5-di-tert-butilsalicílico, ácido 3-bencil-salicílico, ácido 3-(\alpha-metilbencil)salicílico, ácido 3-fenil-5-(\alpha,\alpha-dimetilbencil)salicílico, ácido 3,5-di-\alpha-metilbencilsalicílico, sales metálicas del ácido salicílico, ácido 2-bencilsulfonilbenzoico, ácido 3-ciclohexil-4-hidroxibenzoico, benzoato de cinc, 4-nitrobenzoato de cinc, ácido 4-(4'-fenoxibutoxi)ftálico, ácido 4-(2'-fenoxietoxi)ftálico, ácido 4-(3'-fenilpropiloxi)ftálico, ácido mono(2-hidroxietil)-5-nitro-isoftálico, ácido 5-benciloxicarbonil-isoftálico, ácido 5-(1'-feniletanosulfonil)isoftálico, bis(1,2-dihidro-1,5-dimetil-2-fenil-3H-pirazol-3-ona-O)bis(tiocianato-N) de cinc y mezclas de los mismos.
El material de grabación sensible al calor de la presente invención puede contener además un sensibilizador.
Son ejemplos representativos de sensibilizadores las estearamidas, las metilolestearamidas, p-bencildifenilo, m-terfenilo, 2-benciloxinaftaleno, 4-metoxibifenilo, oxalato de dibencilo, oxalato de di(4-metilbencilo), oxalato de di(4-clorobencilo), ftalato de dimetilo, tereftalato de dibencilo, isoftalato de dibencilo, 1,2-difenoxietano, 1,2-bis(4-metilfenoxi)etano, 1,2-bis(3-metilfenoxi)etano, 4,4'-dimetilbifenilo, 1-hidroxi-2-naftoato de fenilo, 4-metilfenilbifeniléter, 1,2-bis(3,4-dimetilfenil)etano, 2,3,5,6-4'-metildifenilmetano, 1,4-dietoxinaftaleno, 1,4-diacetoxibenceno, 1,4-dipropionoxibenceno, o-xilileno-bis(feniléter), 4-(m-metilfenoximetil)bifenilo, p-hidroxiacetanilida, p-hidroxibutiranilida, p-hidroxinonananilida, p-hidroxilauranilida, p-hidroxioctadenanilida, N-fenil-fenilsulfonamida y sensibilizadores de la fórmula
6
en la que R y R' son idénticos o diferentes entre sí y cada uno significa alquilo C_{1}-C_{6}.
Son ejemplos de R y R' el metilo, etilo, n- o isopropilo y n-, sec- o tert-butilo.
Los sustituyentes R y R' son idénticos o diferentes entre sí y cada uno significa alquilo C_{1}-C_{4}, en especial metilo o etilo y en particular etilo.
Los sensibilizadores anteriores son conocidos o pueden obtenerse con arreglo a métodos conocidos.
El material de grabación sensible al calor de la invención puede contener además un estabilizante.
Los estabilizantes representativos que pueden utilizarse en los materiales de grabación sensibles al calor incluyen el 2,2'-metileno-bis(4-metil-6-tert-butilfenol), 2,2'-metileno-bis(4-etil-6-tert-butilfenol), 4,4'-butilideno-bis(3-metil-6-tert-butilfenol), 4,4'-tio-bis(2-tert-butil-5-metilfenol), 1,1,3-tris(2-metil-4-hidroxi-5-tert-butilfenil)butano, 1,1,3-tris(2-metil-4-hidroxi-5-ciclohexilfenil)butano, bis(3-tert-butil-4-hidroxi-6-metilfenil)sulfona, bis(3,5-dibromo-4-hidroxifenil)sulfona, 4,4'-sulfinil-bis(2-tert-butil-5-metilfenol), fosfato de 2,2'-metilenobis(4,6-di-tert-butilfenilo) y las sales de metales alcalinos, amónicas y de metales polivalentes del mismo, 4-benciloxi-4'-(2-metilglicidiloxi)difenilsulfona, 4,4'-diglicidiloxidifenilsulfona, 1,4-diglicidiloxibenceno, 4-[\alpha-(hidroximetil)benciloxi]-4-hidroxidifenilsulfona, sales metálicas del ácido p-nitrobenzoico, sales metálicas del monobenciléster del ácido ftálico, sales metálicas del ácido cinámico y mezclas de los anteriores.
Los estabilizantes preferidos son el 4,4'-butilideno-bis(3-metil-6-tert-butilfenol), 4,4'-tio-bis(2-tert-butil-5-metilfenol), 1,1,3-tris(2-metil-4-hidroxi-5-tert-butilfenil)butano, 1,1,3-tris(2-metil-4-hidroxi-5-ciclohexilfenil)butano, 4-benciloxi-4'-(2-metilglicidiloxi)difenilsulfona y mezclas de los mismos.
El material de grabación sensible al calor de la invención puede fabricarse con arreglo a métodos convencionales. Por ejemplo, se pulverizan por separado en agua o en otro medio dispersante idóneo, por ejemplo un alcohol polivinílico acuoso, por lo menos un compuesto cromógeno, por lo menos un revelador y, si se desea, por lo menos un sensibilizador con el fin de obtener una suspensión acuosa o de otro tipo. Si se desea se trata el estabilizante del mismo modo. Las dispersiones de partículas finas así obtenidas se reúnen y después se les añaden las cantidades convencionales de ligante, cargas de relleno y lubricante.
Los ligantes representativos empleados en el material de grabación sensible al calor incluyen el alcohol polivinílico (total o parcialmente hidrolizado), alcoholes polivinílicos modificados con grupos carboxi, amida, ácido sulfónico o butiral; derivados de celulosa, por ejemplo la hidroxietilcelulosa, metilcelulosa, etilcelulosa, carboximetilcelulosa y acetilcelulosa, los copolímeros de estireno-anhídrido maleico, los copolímeros de estireno-butadieno, el poli(cloruro de vinilo), el poli(acetato de vinilo), las poliacrilamidas, las resinas de poliamida y las mezclas de los mismos.
Los ejemplos de cargas de relleno incluyen el carbonato cálcico, el caolín, el caolín calcinado, el hidróxido de aluminio, el talco, el dióxido de titanio, el óxido de cinc, la sílice, las resinas de poliestireno, las resinas de urea-formaldehído, los pigmentos plásticos huecos y las mezclas de los mismos.
Son lubricantes representativos para usar en los materiales de grabación sensibles al calor las dispersiones o emulsiones de estearamida, metilenobisestearamida, polietileno, cera carnauba, cera de parafina, estearato de cinc o estearato de calcio y mezclas de los mismos.
Si fuera necesario pueden emplearse además otros aditivos. Tales aditivos son por ejemplo los agentes blanqueantes ópticos y los absorbentes ultravioletas.
La composición de recubrimiento así obtenida puede aplicarse sobre un sustrato idóneo, por ejemplo papel, lámina de plástico o papel recubierto con resina, y utilizarse en calidad de material de grabación sensible al calor. El sistema de la invención puede emplearse para otras aplicaciones de uso final empleando materiales cromógenos, por ejemplo un material indicador de la temperatura.
La cantidad de recubrimiento se sitúa por lo general dentro del intervalo comprendido entre 2 y 10 g/m^{2}, con mayor frecuencia en el intervalo de 4 a 8 g/m^{2}.
El material de grabación que contiene dicha capa coloreada termosensible puede contener además una capa protectora y, si se desea, una capa subyacente. La capa subyacente puede interponerse entre el sustrato y la capa coloreada termosensible.
La capa protectora contiene por lo general una resina soluble en agua con el fin de proteger la capa coloreada termosensible. Si se desea, la capa protectora puede contener resinas solubles en agua combinadas con resinas insolubles en agua.
Como tales pueden utilizarse resinas convencionales. Son ejemplos específicos los siguientes: alcohol polivinílico; almidón y derivados de almidón; derivados de celulosa, por ejemplo la metoxicelulosa, la hidroxietilcelulosa, la carboximetilcelulosa, la metilcelulosa y la etilcelulosa; el poliacrilato sódico; la polivinilpirrolidona; los copolímeros de poliacrilamida/ácido acrílico; los copolímeros de acrilamida/acrilato/ácido metacrílico; las sales alcalinas de copolímeros de estireno/anhídrido maleico; las sales alcalinas de copolímeros de isobutileno/anhídrido maleico; las poliacrilamidas; el alginato sódico; la gelatina; la caseína; los poliésteres solubles en agua y los polivinilalcoholes modificados con grupos carboxilo.
La capa protectora puede contener además un agente resistente al agua, por ejemplo una resina de poliamida, una resina de melamina, formaldehído, glioxal o alumbre de cromo.
La capa protectora puede contener además cargas de relleno, por ejemplo polvos inorgánicos finamente divididos, p.ej. de carbonato cálcico, de sílice, de óxido de cinc, de óxido de titanio, de hidróxido de aluminio, de hidróxido de cinc, de sulfato de bario, de arcilla, de talco, de calcio o sílice tratados superficialmente, o un polvo orgánico finamente dividido, p.ej. de una resina de urea-formaldehído, de un copolímero de estireno/ácido metacrílico o de poliestireno.
La capa subyacente contiene por lo general como componentes principales una resina ligante y una carga de relleno.
Son ejemplos específicos de resinas ligantes para utilizar en la capa subyacente los siguientes:
alcohol polivinílico; almidón y derivados de almidón; derivados de celulosa, por ejemplo la metoxicelulosa, la hidroxietilcelulosa, la carboximetilcelulosa, la metilcelulosa y la etilcelulosa; el poliacrilato sódico; la polivinilpirrolidona; los copolímeros de poliacrilamida/ácido acrílico; los copolímeros de acrilamida/acrilato/ácido metacrílico; las sales alcalinas de copolímeros de estireno/anhídrido maleico; las sales alcalinas de copolímeros de isobutileno/anhídrido maleico; las poliacrilamidas; el alginato sódico; la gelatina; la caseína; los polímeros solubles en agua, por ejemplo los poliésteres solubles en agua y los polivinilalcoholes modificados con grupos carboxilo; el poli(acetato de vinilo); los poliuretanos; los copolímeros de estireno/butadieno; el ácido poliacrílico; los ésteres de ácido poliacrílico; los copolímeros de cloruro de vinilo/acetato de vinilo; el poli(metacrilato de butilo); los copolímeros de etileno/acetato de vinilo y los copolímeros derivados acrílicos de estireno/butadieno.
Son ejemplos específicos de cargas de relleno que pueden utilizarse en la capa subyacente los siguientes:
polvos inorgánicos finamente divididos, p.ej. de carbonato cálcico, de sílice, de óxido de cinc, de óxido de titanio, de hidróxido de aluminio, de hidróxido de cinc, de sulfato de bario, de arcilla, de talco, de calcio tratado superficialmente, de sílice o de arcilla calcinada (p.ej. Ansilex, de la empresa Engelhard Corp.), y polvos orgánicos finamente divididos, p.ej. de resinas de urea-formaldehído, de copolímeros de estireno/ácido metacrílico y de poliestireno.
La capa subyacente puede contener además un agente resistente al agua. Son ejemplos de tales agentes los mencionados anteriormente.
La invención proporciona en especial una resistencia excepcional a los plastificantes, a los aceites y al envejecimiento térmico, al tiempo que presenta una mejor blancura de fondo.
Los siguientes ejemplos no limitantes ilustran los nuevos materiales de la presente invención.
Ejemplo de síntesis 1
Obtención de la N-(p-toluenosulfonil)-N'-(3-n-butilaminosulfonilfenil)urea
A una solución agitada de 4,6 g de aminobutilbencenosulfonamida en 10 g de dimetilformamida se le añaden a temperatura ambiente 4,14 g de isocianato de toluenosulfonilo. Pasadas tres horas a temperatura ambiente se añaden 0,65 g de isocianato de toluenosulfonilo y se prosigue la agitación durante una hora. A la mezcla reaccionante se le añade agua y metanol para precipitar el producto en forma de sólido blanco que puede aislarse por filtración y se lava con metanol. Se seca a 80ºC con vacío, obteniéndose el producto en un rendimiento de 8,1 g, de punto de fusión: 153-153,3ºC.
Ejemplo de síntesis 2
Obtención de la N-(p-toluenosulfonil)-N'-(4-trimetilacetofenil)urea
En un hidrogenador catalítico Buchi se introduce una mezcla de 22,3 g de trimetilacetato de 4-nitrofenilo y 300 g de isopropanol y se añaden 2 g de Pd al 5% en C. A continuación se hidrogena la mezcla a 60ºC y 10 bar hasta que cesa el consumo de hidrógeno. Se enfría la mezcla reaccionante, se filtra y se elimina el disolvente, obteniéndose 18,7 g del trimetilacetato de 4-aminofenilo en forma de sólido blanco, de punto de fusión: 56,2-56,5ºC.
Seguidamente se convierten 15,4 g del trimetilacetato de 4-aminofenilo en el producto deseado aplicando el método descrito en el ejemplo 1, de este modo se obtienen 27 g de un sólido blanco que se aísla por filtración y se lava con isopropanol, de punto de fusión: 177,8-178,3ºC.
Ejemplo de síntesis 3
Obtención de la N-(bencenosulfonil)-N'-(3-p-toluenosulfoniloxifenil)urea
A una solución agitada de 5,65 g de m-aminofenol en 45 ml de acetonitrilo se le añaden por goteo 9,5 g de isocianato de bencenosulfonilo de modo que la temperatura se mantenga a <40ºC. Se agita la mezcla a temperatura ambiente durante una hora y después se mantiene en reposo durante una noche. Se añaden a la mezcla reaccionante 25 ml de agua y 5,35 g de una solución de sosa cáustica del 47% y se calienta la mezcla a 55-60ºC. Durante dos horas se añaden 9,95 g de cloruro de p-toluenosulfonilo junto con sosa cáustica del 47% para mantener el pH entre 10 y 11. Pasadas dos horas a 60ºC se neutraliza la masa reaccionante con ácido clorhídrico para obtener un precipitado blanco denso del producto deseado. Este se aísla por filtración, se lava con agua y se seca, obteniéndose 21,1 g de producto de punto de fusión 162-170ºC.
Ejemplo de síntesis 4
Obtención de la N-(p-toluenosulfonil)-N'-(3-p-toluenosulfoniloxifenil)urea
A una solución de 81,75 g de m-aminofenol en 77,4 g de una solución de sosa cáustica del 47% y 44,3 g de agua se le añaden por goteo durante tres horas a 65ºC 143,7 g de cloruro de p-toluenosulfonilo. En el curso de la adición precipita la m-toluenosulfoniloxianilina que se aísla por filtración y se lava hasta quedar exenta de basicidad con agua, obteniéndose 101,4 g de sólido.
Seguidamente se convierte la m-toluenosulfoniloxianilina en el producto deseado aplicando el método descrito en el ejemplo 1, obteniéndose un sólido blanco de punto de fusión: 155-159ºC.
Ejemplo de síntesis 5
Obtención de la N-(p-toluenosulfonil)-N'-(3-fenilsulfoniloxifenil)urea
Se calienta a reflujo durante 22 horas una solución agitada de etilcarbamato de N-toluenosulfonilo (1,21 g), 3-fenilsulfoniloxianilina (1,24 g) y trietilamina (0,55 g) en acetonitrilo (25 ml). Se deja enfriar la masa reaccionante y se diluye con agua, precipitando el producto en forma de sólido blanco.
Ejemplos de síntesis de 5a a 44
Con arreglo a los métodos de síntesis recién descritos pueden obtener las ureas N,N'-disustituidas que se recogen en la siguiente tabla 1.
TABLA 1
7
8
9
Ejemplo de síntesis 45
Preparación de una solución sólida monofase a partir de 2'-carboxi-4-dibutilamino-2-hidroxibenzofenona (90% molar) y 2'-carboxi-4-dietilamino-2-hidroxibenzofenona (10% molar)
A 249,5 g de ácido sulfúrico del 98% y 61,2 g de ácido sulfúrico fumante se les añaden en un período de 2 h 78,97 g de 2'-carboxi-4-dibutilamino-2-hidroxibenzofenona y 7,44 g de 2'-carboxi-4-dietilamino-2-hidroxibenzofenona manteniendo la temperatura por debajo de 25ºC mediante un baño de hielo. Una vez en solución se añaden 50,7 g de 4-metoxi-2-metildifenilamina y la mezcla se agita a 30ºC durante 3 h. A continuación se añade la mezcla reaccionante con agitación durante 30 minutos a una mezcla de 135 g de tolueno y 45 g de agua a 85ºC. A continuación se añaden durante 30 minutos 135,7 g de agua. Se interrumpe la agitación y se quita la fase acuosa que se ha separado. A la fase orgánica restante se le añaden 244 g de hidróxido sódico 100ºTW, 199 g de tolueno y 387 g de agua y se agita la mezcla reaccionante a 85ºC durante 2 h. Se enfría la mezcla reaccionante a 25ºC y se aísla el producto precipitado por filtración. Se lava el producto con agua caliente (de 60ºC) y después con metanol y se seca, obteniéndose 106,2 g de una solución sólida monofase (punto de fusión: 179,9-181,4ºC).
Ejemplo 1 Preparación de formulaciones de recubrimiento sensibles al calor que contienen N-(p-toluenosulfonil)-N'-(3-p-toluenosulfoniloxifenil)urea
Las dispersiones de A a C se preparan moliendo las composiciones que se indican a continuación en un molino triturador (attritor), hasta lograr un tamaño medio de partícula de 1-1,5 \mum.
Dispersión A (cromógeno)
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano 3,01 partes
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 10,50 partes
agua 6,49 partes
Dispersión B (revelador)
N-(p-toluenosulfonil)-N'-(3-p-toluenosulfo-niloxifenil)urea 7,5 partes
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 7,5 partes
agua 22,5 partes
Dispersión C (sensibilizador)
parabencildifenilo 10,0 partes
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 10,0 partes
agua 20,0 partes
A continuación se prepara una mezcla de recubrimiento térmico combinando los componentes siguientes:
partes en peso
dispersión A 6,6
dispersión B 10,0
dispersión C 6,0
carbonato cálcico (dispersión acuosa al 25%) 12,0
estearato de cinc (dispersión acuosa al 33%) 0,9
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 4,5
Tinopal® ABP-X (agente blanqueante óptico) 0,12
agua 2,48
Se aplica la mezcla sobre una cara de un papel de base que pesa 50 g/m^{2} con un peso de recubrimiento de 5,0 g/m^{2} y después se seca. A continuación se calandra la lámina resultante mediante una calandra de laboratorio, obteniéndose una lámina de grabación que posee una excelente blancura de fondo.
El papel de grabación sensible al calor que se obtiene presenta una excelente blancura de fondo del papel después de la aplicación del líquido de recubrimiento y estabilidad al almacenaje, es decir, resistencia a la luz, al calor y a la humedad, de la porción no coloreada del papel recubierto y excelente resistencia de la imagen al aceite de algodón, a los plastificantes, al calor, al calor y humedad, al agua. Además, el papel de grabación obtenido presenta una gran sensibilidad dinámica.
Descripción de los métodos de ensayo Blancura de fondo antes y después del envejecimiento
Este ensayo permite evaluar los efectos del calor y la humedad sobre papel término no impreso.
La blancura del papel no impreso se mide con una densitómetro Macbeth modelo 1200, antes y después del envejecimiento acelerado de una hora a 60ºC y un 50% de humedad relativa (HR).
Sensibilidad dinámica en varias anchuras de impulso
Este ensayo permite evaluar la sensibilidad y la intensidad de la imagen producida sobre un papel térmico.
Se imprimen diez zonas individuales con cantidades crecientes de energía empleando un aparato comprobador (tester) de respuesta térmica del tipo Atlantek modelo 200. Se mide la densidad óptica de cada imagen empleando un densitómetro Macbeth modelo 1200.
Ensayos de solidez a la luz (120 horas de exposición)
Este ensayo permite evaluar la estabilidad del papel término, incluida la imagen, después de exponerlo a la luz solar.
Se produce una imagen mediante un comprobador de respuesta térmica del tipo Atlantek modelo 200. Se sitúa la imagen, incluido el fondo, a una distancia de 8 cm por debajo de tubos fluorescentes de 40 W que emiten luz solar artificial (aprox. 1200 lux) durante 120 horas. Se miden la densidad óptica de la imagen y la blancura del fondo del papel antes y después de la exposición con un densitómetro Macbeth modelo 1200.
Resistencia de la imagen al aceite de algodón
Este ensayo permite evaluar la estabilidad de la imagen cuando se expone a la acción del aceite de algodón.
Se produce una imagen mediante un comprobador de respuesta térmica del tipo Atlantek modelo 200. A continuación se imprime por huecograbado el aceite de algodón sobre la imagen y se almacena a 40ºC durante 24 horas. Se mide la densidad óptica de la imagen con un densitómetro Macbeth modelo 1200 antes y después de la exposición.
Resistencia de la imagen y del fondo a los plastificantes
Este ensayo permite evaluar la estabilidad de la imagen y del fondo cuando se expone a un PVC que contiene del 20 al 25% de un plastificante del tipo ftalato.
Se produce una imagen empleando un comprobador de respuesta térmica Atlantek modelo 200. Se pone en contacto la imagen con el PVC aplicando una presión de 107 g\cdotcm^{-2} a 50ºC durante 24 h. Se mide la densidad óptica de la imagen y del fondo empleando un densitómetro Macbeth modelo 1200 antes y después de la exposición.
Solidez de la imagen al agua
Este ensayo permite evaluar la estabilidad de la imagen después de su inmersión en agua.
Se produce una imagen empleando un comprobador de respuesta térmica Atlantek modelo 200. Se sumerge la imagen en agua desionizada a temperatura ambiente durante 24 horas. Se mide la densidad óptica de la imagen empleando un densitómetro Macbeth modelo 1200 antes y después de la inmersión.
Resistencia de la imagen al calor y a la humedad
Este ensayo permite evaluar los efectos del calor y de la humedad en la imagen.
Se produce una imagen empleando un comprobador de respuesta térmica Atlantek modelo 200. Se somete la imagen a un envejecimiento de 60ºC y 70% de HR durante 24 horas. Se mide la densidad óptica de la imagen empleando un densitómetro Macbeth modelo 1200 antes y después de la exposición.
Resistencia térmica de la imagen y del fondo a 80ºC
Este ensayo permite evaluar el efecto del calor tanto en la imagen como en el fondo del papel térmico.
Se produce una imagen empleando un comprobador de respuesta térmica Atlantek modelo 200. Se somete la imagen a un envejecimiento de 80ºC durante 24 horas. Se mide la densidad óptica de la imagen y del fondo empleando un densitómetro Macbeth modelo 1200 antes y después de la exposición.
Sensibilidad estática y estabilidad del fondo al almacenaje
Este ensayo determina la sensibilidad térmica del papel térmico.
Se expone el papel térmico a un intervalo de temperaturas durante un período fijo de 1 segundo. Para producir la imagen se aplican al papel doce bloques calentados por separado a 50º, 60º, 70º, 75º, 80º, 85º, 90º, 95º, 100º, 110º, 120º y 150ºC. Se mide la densidad óptica de cada imagen empleando un densitómetro Macbeth modelo 1200.
A partir de la sensibilidad estática se puede calcular la temperatura a la cual se obtiene una densidad de 0,2. Esta temperatura es un indicativo de la estabilidad del fondo del papel al almacenaje.
Ejemplos de 2 a 48
La siguiente tabla 2 presenta combinaciones de cromógenos/sensibilizadores que se emplean en cada ejemplo. El material de grabación sensible al calor se fabrica por el método descrito en el ejemplo 1. En todos los casos, el papel de grabación sensible al calor así obtenido presenta una excelente blancura de fondo de papel después de la aplicación del líquido de recubrimiento y estabilidad al almacenaje, es decir, resistencia a la luz, al calor y la humedad, de la porción no coloreada del papel recubierto y una excelente resistencia de la imagen al aceite de algodón, a los plastificantes, al calor, al calor y humedad, al agua.
TABLA 2
10
11
12
13
Ejemplo 49 Preparación de formulaciones de recubrimiento sensibles al calor que contienen N-(p-toluenosulfonil)-N'-(3-p-toluenosulfoniloxifenil)urea y un estabilizador
Las dispersiones de A a D se preparan moliendo las composiciones que se indican a continuación en un molino triturador (attritor), hasta lograr un tamaño medio de partícula de 1-1,5 \mum.
Dispersión A (cromógeno)
3-dibutilamino-6-metil-7-anilinofluorano 3,01 partes
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 10,50 partes
agua 6,49 partes
Dispersión B (revelador de color)
N-(p-toluenosulfonil)-N'-(3-p-toluenosulfo-niloxifenil)urea 7,5 partes
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 7,5 partes
agua 22,5 partes
Dispersión C (sensibilizador)
parabencildifenilo 10,0 partes
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 10,0 partes
agua 20,0 partes
Dispersión D (estabilizador)
1,1,3-tris(3'-ciclohexil-4'-hidroxi-6'-metilfenil)butano 7,5 partes
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 7,5 partes
agua 22,5 partes
A continuación se prepara una mezcla de recubrimiento térmico combinando los componentes siguientes:
partes en peso
dispersión A 6,6
dispersión B 10,0
dispersión C 6,0
dispersión D 2,5
carbonato cálcico (dispersión acuosa al 25%) 12,0
estearato de cinc (dispersión acuosa al 33%) 0,9
alcohol polivinílico (solución acuosa al 10%) 4,5
Tinopal® ABP-X (agente blanqueante óptico) 0,12
agua 2,48
Se aplica la mezcla sobre una cara de un papel de base que pesa 50 g/m^{2} con un peso de recubrimiento de 5,0 g/m^{2} y después se seca. A continuación se calandra la lámina resultante mediante una calandra de laboratorio, obteniéndose una lámina de grabación que posee una excelente blancura de fondo.

Claims (22)

1. Un material de grabación sensible al calor, que consta de:
a) por lo menos un compuesto cromógeno y
b) por lo menos un revelador de la fórmula
(1)R_{1}-
\melm{\delm{\dpara}{O}}{S}{\uelm{\dpara}{O}}
-
\delm{N}{\delm{\para}{H}}
-X-
\delm{N}{\delm{\para}{H}}
-A-B-R_{2}
en la que
R_{1} es fenilo o naftilo que puede estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno; o alquilo C_{1}-C_{20} que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno;
X es un grupo de la fórmula
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{NH}}
-,
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{S}}
-
\hskip0,5cm
o
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-,
A es fenileno, naftileno o alquileno C_{1}-C_{12} sin sustituir o sustituidos o es un grupo heterocíclico sin sustituir o sustituido,
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, -SO_{2}-O-, -NH-SO_{2}-, -SO_{2}-NH-, -S-SO_{2}-, -O-CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -S-CO-NH-, -S-CS-NH-, -CO-NH-SO_{2}-, -O-CO-NH-SO_{2}-, -NH=CH-, -CO-NH-CO-, -S-, -CO-, -O-, -SO_{2}-NH-CO-, -O-CO-O- y -O-PO-(OR_{2})_{2} y
R_{2} es arilo, con preferencia fenilo o naftilo, que puede estar sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido halógeno o halógeno; o
bencilo que puede estar sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno o halógeno;
o alquilo C_{1}-C_{20} que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, halógeno, fenilo o naftilo;
con la condición de que si B no es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, entonces R_{2} es fenilo, naftilo o alquilo C_{1}-C_{8} sin sustituir o sustituidos y que si B es -O-, entonces R_{2} no es alquilo y con la condición siguiente: si B significa -OSO_{2}- o -SO_{2}O-, entonces R_{2} no es alquilo C_{1}-C_{20}.
2. Un material de grabación según la reivindicación 1, en el que R_{1} es fenilo que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno.
3. Un material de grabación según la reivindicación 1 ó 2, en el que R_{1} es fenilo que está sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno.
4. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 3, en el que R_{1} es fenilo que está sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}, con preferencia por metilo.
5. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 4, en el que X es un grupo de la fórmula
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-
6. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 5, en el que
A es fenileno que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo, halógeno, fenilo, fenoxi o fenoxicarbonilo; o es naftileno; o alquileno C_{1}-C_{12}; o pirimidileno que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}.
7. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 6, en el que
A es fenileno que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo, halógeno, fenilo, fenoxi o fenoxicarbonilo.
8. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 7, en el que
A es fenileno que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo o halógeno.
9. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 8, en el que
A es fenileno que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno.
10. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 9, en el que
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, -SO_{2}-O-, -SO_{2}-NH-, -S-SO_{2}-, -O-, -O-CO-NH-, -SO_{2}-NH-CO-, -O-CO-O- o -O-PO-(OR_{2})_{2} y con preferencia un grupo eslabón de la fórmula -O-, -O-SO_{2}-, -SO_{2}-O- o -SO_{2}-NH-.
11. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 10, en el que
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-.
12. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 11, en el que
B es un grupo eslabón de la fórmula -O- y R_{2} es arilo sin sustituir o sustituido o bencilo.
13. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 12, en el que
R_{2} es alquilo C_{1}-C_{6}, alquilo C_{1}-C_{6} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{6} sustituido por fenilo, alquilo C_{1}-C_{6} sustituido por naftilo; fenilo que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno o halógeno; naftilo y bencilo que está sustituido por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno.
14. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 12, en el que
R_{2} es alquilo C_{1}-C_{4}, alquilo C_{1}-C_{4} sustituido por halógeno; fenilo que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno; naftilo y bencilo que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno.
15. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 12, en el que
R_{2} es fenilo que está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}.
16. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 15, en el que
R_{1} es fenilo que está sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}, con preferencia por metilo y
X es un grupo de la fórmula
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-
17. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 16, dicho material de grabación contiene por lo menos un sensibilizador.
18. Un material de grabación según la reivindicación 17, en el que el material de grabación contiene por lo menos un sensibilizador elegido entre el grupo formado por las estearamidas, las metilolestearamidas, p-bencildifenilo, m-terfenilo, 2-benciloxinaftaleno, 4-metoxibifenilo, oxalato de dibencilo, oxalato de di(4-metilbencilo), oxalato de di(4-clorobencilo), ftalato de dimetilo, tereftalato de dibencilo, isoftalato de dibencilo, 1,2-difenoxietano, 1,2-bis(4-metilfenoxi)etano, 1,2-bis(3-metilfenoxi)etano, 4,4'-dimetilbifenilo, 1-hidroxi-2-naftoato de fenilo, 4-metilfenilbifeniléter, 1,2-bis(3,4-dimetilfenil)etano, 2,3,5,6-4'-metildifenilmetano, 1,4-dietoxinaftaleno, 1,4-diacetoxibenceno, 1,4-dipropionoxibenceno, o-xilileno-bis(feniléter), 4-(m-metilfenoximetil)bifenilo, p-hidroxiacetanilida, p-hidroxibutiranilida, p-hidroxinonananilida, p-hidroxilauranilida, p-hidroxioctadenanilida, N-fenil-fenilsulfonamida y sensibilizadores de la fórmula
14
en la que R y R' son idénticos o diferentes entre sí y cada uno significa alquilo C_{1}-C_{6}.
19. Un material de grabación según una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 18, dicho material de grabación contiene por lo menos un estabilizante.
20. Un material de grabación según la reivindicación 18, dicho material de grabación contiene por lo menos un estabilizante elegido entre el grupo formado por el 2,2'-metileno-bis(4-metil-6-tert-butilfenol), 2,2'-metileno-bis(4-etil-6-tert-butilfenol), 4,4'-butilideno-bis(3-metil-6-tert-butilfenol), 4,4'-tio-bis(2-tert-butil-5-metilfenol), 1,1,3-tris(2-metil-4-hidroxi-5-tert-butilfenil)butano, 1,1,3-tris(2-metil-4-hidroxi-5-ciclohexilfenil)butano, bis(3-tert-butil-4-hidroxi-6-metilfenil)sulfona, bis(3,5-dibromo-4-hidroxifenil)sulfona, 4,4'-sulfinil-bis(2-tert-butil-5-metilfenol), fosfato de 2,2'-metilenobis(4,6-di-tert-butilfenilo) y las sales de metales alcalinos, amónicas y de metales polivalentes del mismo, 4-benciloxi-4'-(2-metilglicidiloxi)difenilsulfona, 4,4'-diglicidiloxidifenilsulfona, 1,4-diglicidiloxibenceno, 4-[\alpha-(hidroximetil)benciloxi]-4-hidroxidifenilsulfona, sales metálicas del ácido p-nitrobenzoico, sales metálicas del monobenciléster del ácido ftálico, sales metálicas del ácido cinámico y mezclas de los anteriores.
21. Un compuesto de la fórmula
15
en la que
R_{1} es fenilo o naftilo que pueden estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno; o alquilo C_{1}-C_{20}, que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8} o halógeno;
R_{3} y R_{4} con independencia entre sí son hidrógeno, alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, (alquil C_{1}-C_{8})sulfonilo, halógeno, fenilo, fenoxi o fenoxicarbonilo,
X es un grupo de la fórmula
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{NH}}
-,
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{S}}
-
\hskip0,5cm
o
\hskip0,5cm
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-,
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, -SO_{2}-O-, -SO_{2}-NH- o -CO-NH-SO_{2}-, y
R_{2} es fenilo o naftilo que pueden estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C_{1}-C_{8}, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno, alquilo C_{1}-C_{8} sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8}, alcoxi C_{1}-C_{8} sustituido por halógeno o halógeno; o alquilo C_{1}-C_{20} que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C_{1}-C_{8}, halógeno, fenilo o naftilo;
con la condición de que si B no es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}-, entonces R_{2} es fenilo sin sustituir o sustituido, naftilo o alquilo C_{1}-C_{8} y con la condición adicional de que si B significa -OSO_{2}- o -SO_{2}O-, entonces R_{2} no es alquilo C_{1}-C_{20}.
22. Un compuesto según la reivindicación 21, en el que
R_{1} es fenilo que está sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}, con preferencia por metilo,
X es un grupo de la fórmula
-
\uelm{C}{\uelm{\dpara}{O}}
-
R_{3} y R_{4} con independencia entre sí son hidrógeno, alquilo C_{1}-C_{4} o halógeno, con preferencia hidrógeno,
B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO_{2}- y
R_{2} es fenilo está sin sustituir o sustituido por alquilo C_{1}-C_{4}.
ES99965436T 1998-12-16 1999-12-03 Matgerial de grabacion sensible al calor. Expired - Lifetime ES2228155T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB9827569.6A GB9827569D0 (en) 1998-12-16 1998-12-16 Heat sensitive recording material
GB9827569 1998-12-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2228155T3 true ES2228155T3 (es) 2005-04-01

Family

ID=10844238

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES99965436T Expired - Lifetime ES2228155T3 (es) 1998-12-16 1999-12-03 Matgerial de grabacion sensible al calor.

Country Status (14)

Country Link
US (1) US6624117B1 (es)
EP (1) EP1140515B1 (es)
JP (1) JP4601174B2 (es)
KR (1) KR100640676B1 (es)
CN (1) CN1185108C (es)
AT (1) ATE276111T1 (es)
AU (1) AU769040B2 (es)
BR (1) BR9916316B1 (es)
DE (1) DE69920265T2 (es)
ES (1) ES2228155T3 (es)
GB (1) GB9827569D0 (es)
ID (1) ID30230A (es)
WO (1) WO2000035679A1 (es)
ZA (1) ZA200104863B (es)

Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BR0109540A (pt) * 2000-03-27 2003-06-10 Ciba Sc Holding Ag Material para registro sensìvel ao calor
EP1160094B1 (en) 2000-06-01 2003-09-03 Oji Paper Co., Ltd. Heat-sensitive recording material
DE10196603B3 (de) * 2000-09-08 2015-07-23 Mitsubishi Paper Mills Ltd. Thermisches Aufzeichnungsmaterial
DE60102055T3 (de) * 2000-11-24 2012-03-29 Oji Paper Co., Ltd. Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
JP2005518966A (ja) 2002-03-06 2005-06-30 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 顕色剤の混合物
AU2003208757A1 (en) 2002-03-06 2003-09-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Heat sensitive recording material
MY141478A (en) * 2002-06-04 2010-04-30 Ciba Sc Holding Ag Heat sensitive recording material
CN100446990C (zh) * 2003-06-25 2008-12-31 Chemipro化成株式会社 记录材料用显色剂
ATE342808T1 (de) 2003-10-28 2006-11-15 Mitsubishi Hitec Paper Flensbu Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial, seine verwendung und verfahren zu seiner herstellung
US20070015092A1 (en) * 2005-07-13 2007-01-18 Gore Makarand P Color forming compositions
EP1910281B1 (en) * 2005-07-28 2013-07-03 Basf Se Stable aqueous dispersions of colour developer
US20070087292A1 (en) * 2005-10-13 2007-04-19 Day Michael J Color forming compositions
CN100411516C (zh) * 2006-07-18 2008-08-20 西安近代化学研究所 氨基甲酸酯类除草剂
MX2009009394A (es) 2007-03-15 2009-09-11 Basf Se Composiciones de revestimiento sensibles al calor a base de derivados de resorcinil triazina.
WO2009024497A1 (en) 2007-08-22 2009-02-26 Basf Se Laser-sensitive coating composition
CA2702732A1 (en) 2007-11-07 2009-05-14 Basf Se New fiber products
US20120045624A1 (en) 2008-10-27 2012-02-23 Basf Se Aqueous laser-sensitive composition for marking substrates
EP2289896A1 (en) 2009-08-20 2011-03-02 Basf Se Process for the manufacture of 3-dibutylamino-6-methyl-7-anilinofluoran
EP2325018A1 (de) 2009-11-24 2011-05-25 Mondi Uncoated Fine & Kraft Paper GmbH Thermisch sensibles Aufzeichnungsmaterial
BR112013006359B1 (pt) 2010-09-16 2018-11-13 Mitsubishi Chemical Corporation derivado de ácido fenolsulfônico aril éster, e material de registro sensível ao calor usando o mesmo
CN102433798A (zh) * 2011-09-29 2012-05-02 河南省江河纸业有限责任公司 能够防止含机浆/化机浆热敏纸褪色的热敏纸的制造方法
TWI568715B (zh) 2011-10-31 2017-02-01 日本製紙股份有限公司 酚磺酸芳基酯、顯色劑及感熱記錄材料
WO2013093755A1 (en) * 2011-12-20 2013-06-27 Basf Se Heat sensitive coating composition
WO2014080615A1 (ja) 2012-11-21 2014-05-30 日本曹達株式会社 非フェノール系化合物を用いた記録材料
WO2015111518A1 (ja) 2014-01-27 2015-07-30 三菱製紙株式会社 感熱記録材料
DE102014107567B3 (de) 2014-05-28 2015-11-05 Papierfabrik August Koehler Se Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE102015104306B4 (de) 2015-03-23 2018-05-03 Papierfabrik August Koehler Se Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP3109059B1 (de) 2015-06-24 2018-06-27 Mitsubishi HiTec Paper Europe GmbH Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial
KR102493552B1 (ko) 2015-12-25 2023-01-30 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 감열 기록 재료
DE102016113203B4 (de) 2016-07-18 2018-05-30 Papierfabrik August Koehler Se Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial
US10882348B2 (en) 2016-10-07 2021-01-05 Mitsubishi Hitec Paper Europe Gmbh Heat-sensitive recording material
DE102016219569A1 (de) 2016-10-07 2018-04-12 Mitsubishi Hitec Paper Europe Gmbh Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP3305538A1 (de) 2016-10-07 2018-04-11 Mitsubishi HiTec Paper Europe GmbH Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE102016219567A1 (de) 2016-10-07 2018-04-12 Mitsubishi Hitec Paper Europe Gmbh Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP3505358A1 (en) * 2017-01-10 2019-07-03 Mitsubishi HiTec Paper Europe GmbH Novel colour developer for a thermo-sensitive recording medium
EP3482963A1 (de) 2017-11-13 2019-05-15 Mitsubishi HiTec Paper Europe GmbH Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial auf basis von pla
WO2018139484A1 (ja) 2017-01-30 2018-08-02 日本曹達株式会社 記録材料及び記録シート
DE102017102702B4 (de) 2017-02-10 2019-09-12 Papierfabrik August Koehler Se Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
CN106866471B (zh) * 2017-03-23 2019-08-20 康爱特维迅(蓬莱)化学有限公司 一种含磺酰脲结构的热敏显色剂的制备方法
DE102017111439B4 (de) 2017-05-24 2019-08-22 Papierfabrik August Koehler Se Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial
CN107311893B (zh) * 2017-07-13 2018-11-09 耿潇 热敏增感剂n-对甲苯磺酰-n’-(3-对甲苯磺酰氧基苯基)脲的合成方法
JP7067559B2 (ja) 2017-08-09 2022-05-16 三菱ケミカル株式会社 感熱記録材料及び積層体
KR20200035968A (ko) 2017-08-09 2020-04-06 미쯔비시 케미컬 주식회사 감열 기록 재료 및 적층체
JP6751479B2 (ja) 2017-08-31 2020-09-02 三光株式会社 N,n’−ジアリール尿素誘導体、その製造方法及びそれを用いた感熱記録材料
EP3482964A1 (de) 2017-11-13 2019-05-15 Mitsubishi HiTec Paper Europe GmbH Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial auf basis von pla
DE102018102177A1 (de) 2018-01-31 2019-08-01 Mitsubishi Hitec Paper Europe Gmbh Beschichtungszusammensetzung, wärmeempfindliche Aufzeichnungsschicht, wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial sowie entsprechende Verwendungen und Verfahren
DE102018102180A1 (de) 2018-01-31 2019-08-01 Mitsubishi Hitec Paper Europe Gmbh Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP3533619A1 (en) 2018-03-02 2019-09-04 Basf Se Heat sensitive recording material and color developer
DE102018111224B4 (de) 2018-05-09 2020-12-10 Papierfabrik August Koehler Se Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE102018133168B4 (de) 2018-12-20 2021-02-18 Papierfabrik August Koehler Se Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
WO2021041600A2 (en) * 2019-08-30 2021-03-04 Solenis Technologies Cayman, L.P. Heat sensitive recording material with non-phenolic color developers
DE102019126220A1 (de) 2019-09-27 2021-04-01 Mitsubishi Hitec Paper Europe Gmbh Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial, umfassend phenolfreie organische Farbentwickler
WO2021107037A1 (ja) 2019-11-28 2021-06-03 三菱ケミカル株式会社 顕色剤及び感熱記録材料
ES2926007T3 (es) 2020-03-23 2022-10-21 Koehler Innovation & Tech Gmbh Uso de N-(p-toluensulfonil)-N¿-(3-p-toluensulfoniloxifenil)urea como revelador cromático en un material de registro sensible al calor
DE102020112411B3 (de) 2020-05-07 2021-05-27 Papierfabrik August Koehler Se Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
WO2022176964A1 (ja) 2021-02-18 2022-08-25 三菱ケミカル株式会社 積層体、カード、パスポート、これらの製造方法、及びレーザーマーキング方法
EP4349609A1 (en) 2021-05-31 2024-04-10 Mitsubishi Chemical Corporation Reversibly thermochromic composition, writing utensil using said reversibly thermochromic composition, and toy
KR20240027041A (ko) 2021-06-30 2024-02-29 닛카카가쿠가부시키가이샤 감열 기록 재료 및 이의 제조방법
WO2023100900A1 (ja) * 2021-11-30 2023-06-08 日本化薬株式会社 感熱記録組成物
JP7286053B1 (ja) * 2021-11-30 2023-06-02 日本化薬株式会社 感熱記録組成物
WO2023100902A1 (ja) * 2021-12-02 2023-06-08 日本化薬株式会社 感熱記録用組成物
CN114105833B (zh) * 2021-12-07 2023-09-05 河北建新化工股份有限公司 一种高白度的含磺酰脲结构的热敏显色剂的制备方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6447757A (en) * 1987-08-17 1989-02-22 Meiji Seika Kaisha Novel 2-methylbenzenesulfonylurea derivative, its production and herbicide containing same
US5246906A (en) 1991-08-02 1993-09-21 Oji Paper Co., Ltd. Thermosensitive recording material
EP0535887B1 (en) 1991-10-04 1995-07-19 New Oji Paper Co., Ltd. Thermosensitive recording material
US5612280A (en) 1992-12-18 1997-03-18 New Oji Paper Co., Ltd. Thermosensitive recording material
JP2819543B2 (ja) * 1994-08-25 1998-10-30 日本製紙株式会社 記録体
DE69506814T2 (de) 1994-09-14 1999-08-19 Oji Paper Co Wärmeempfindliches Mittel zum reversiblen Entwickeln und Verschwinden einer Farbe
JP3063070B2 (ja) * 1995-04-21 2000-07-12 日本製紙株式会社 記録体
US5605425A (en) * 1995-04-27 1997-02-25 Xerox Corporation Three piece tape bound hard cover books
JP3453925B2 (ja) * 1995-04-27 2003-10-06 王子製紙株式会社 感熱記録体
JP3063072B2 (ja) * 1995-05-31 2000-07-12 日本製紙株式会社 感熱記録体
JP2967708B2 (ja) * 1995-09-28 1999-10-25 日本製紙株式会社 感熱記録体
EP0832757B1 (en) 1996-04-04 2001-08-22 Oji Paper Co., Ltd. Reversible thermal recording medium
JPH1058836A (ja) * 1996-08-27 1998-03-03 Oji Paper Co Ltd 可逆性感熱記録体
JP3632346B2 (ja) * 1997-01-29 2005-03-23 王子製紙株式会社 感熱記録体
US5972577A (en) 1997-02-25 1999-10-26 Konica Corporation Processing method of silver halide photographic light-sensitive material
JPH10264534A (ja) * 1997-03-26 1998-10-06 Nippon Paper Ind Co Ltd 感熱記録体
JPH11208123A (ja) * 1998-01-26 1999-08-03 Nippon Paper Industries Co Ltd 感熱記録体
JP3611079B2 (ja) * 1998-01-30 2005-01-19 日本製紙株式会社 新規な尿素(チオ尿素)誘導体並びにそれを使用した感熱記録体
JPH11216957A (ja) * 1998-02-04 1999-08-10 Nippon Paper Industries Co Ltd 感熱記録体
JPH11315060A (ja) * 1998-02-20 1999-11-16 Mitsubishi Paper Mills Ltd 電子受容性化合物および感熱記録材料

Also Published As

Publication number Publication date
US6624117B1 (en) 2003-09-23
JP4601174B2 (ja) 2010-12-22
AU769040B2 (en) 2004-01-15
ZA200104863B (en) 2002-06-14
BR9916316B1 (pt) 2011-02-08
EP1140515A1 (en) 2001-10-10
CN1330593A (zh) 2002-01-09
WO2000035679A1 (en) 2000-06-22
EP1140515B1 (en) 2004-09-15
AU2095200A (en) 2000-07-03
KR20010101232A (ko) 2001-11-14
DE69920265T2 (de) 2005-12-22
ID30230A (id) 2001-11-15
GB9827569D0 (en) 1999-02-10
BR9916316A (pt) 2001-08-14
KR100640676B1 (ko) 2006-11-02
DE69920265D1 (de) 2004-10-21
JP2002532441A (ja) 2002-10-02
CN1185108C (zh) 2005-01-19
ATE276111T1 (de) 2004-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2228155T3 (es) Matgerial de grabacion sensible al calor.
ES2728260T3 (es) Material de impresión producido utilizando un compuesto no fenólico
EP1375182B1 (en) Composition, recording material, and recording sheet
CN112601668B (zh) 热敏记录材料和显色剂
EP4022391A2 (en) Heat sensitive recording material with non-phenolic color developers
US20050255998A1 (en) Mixture of colour developers
US20050221982A1 (en) Heat sensitive recording material
US6071853A (en) Crystalline fluoran compound
ES2635123T3 (es) Composición de recubrimiento termosensible
US20050106491A1 (en) Heat sensitive recording material
MXPA01006072A (es) Material de grabacion sensible al calor
GB2396704A (en) Heat sensitive recording material
JPH11321114A (ja) 感熱記録体
JPH11321115A (ja) 感熱記録体