ES2198620T3 - Procedimientos de grabacion y reproduccion utilizando un medio de grabacion optica. - Google Patents
Procedimientos de grabacion y reproduccion utilizando un medio de grabacion optica.Info
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Abstract
SE EXPONE UN SOPORTE OPTICO DE GRABACION CAPAZ DE GRABAR Y BORRAR INFORMACION, QUE INCLUYE UNA PRIMERA CAPA DIELECTRICA, UNA CAPA DE GRABACION, UNA SEGUNDA CAPA DIELECTRICA, UNA CAPA DE REFLEXION DE LA LUZ Y DISIPACION DE CALOR, Y UNA CAPA SUPERIOR COLOCADAS SUCESIVAMENTE SOBRE UN SUBSTRATO, INCLUYENDO LA CAPA DE GRABACION UN MATERIAL DE GRABACION POR CAMBIO DE FASE, QUE INCLUYE, COMO ELEMENTOS CONSTITUYENTES AG, IN, SB, TE Y N Y/U O, SIENDO SUS PORCENTAJES DE PESO ATOMICO RESPECTIVOS AL , BE , GA , DE Y EP (EL PORCENTAJE ATOMICO TOTAL DE N Y/U O), QUE MANTIENE LA RELACION DE: 0 < AL < 6,3 < BE < 15, 50 < GA < 65, 20 < DE < 35, 0 < EP < 5, A CONDICION DE QUE AL + BE + GA + DE + EP = 100, Y (2) TENGA UNA VELOCIDAD LINEAL DE CRISTALIZACION EN EL LIMITE SUPERIOR EN UN RANGO DE 2,5 A 5,0 M/S. SE PROPONE UN PROCEDIMIENTO DE GRABACION Y UN PROCEDIMIENTO DE REPRODUCCION QUE UTILIZA ESTE SOPORTE OPTICO DE GRABACION.
Description
Procedimientos de grabación y reproducción
utilizando un medio de grabación óptica.
La presente invención se refiere un procedimiento
de grabación y de reproducción de información, que utiliza un
medio de grabación óptica de cambio de fase comprendiendo un
material de grabación capaz de causar cambios en la fase del mismo
mediante la aplicación de un rayo de luz al mismo, grabando de ese
modo, reproduciendo y volviendo a grabar información en el
mismo.
La invención es aplicable a dispositivos de
memoria ópticos, particularmente discos compactos que se pueden
volver a grabar (de aquí en adelante referidos como CD que se
pueden volver a grabar o CD-RW - rewritable).
Es convencionalmente conocido un medio de
grabación óptica de cambio de fase el cual utiliza cambios de fase
entre una fase cristalina y una fase amorfa o entre una fase
cristalina y otra fase cristalina como uno de los medios de
grabación que son capaces de grabar, reproducir y borrar la
información mediante la aplicación al mismo de ondas magnéticas,
como por ejemplo un rayo láser. Esta clase de medio de grabación
óptica de cambio de fase permite volver a grabar información
mediante la aplicación de un único rayo láser al mismo, aunque es
difícil llevar a cabo una operación de sobre grabación de este tipo
utilizando una memoria magneto-óptica. Un sistema óptico de una
unidad de accionamiento para el medio de grabación óptica de cambio
de fase es más simple en su mecanismo que aquél para un medio de
grabación magneto-óptica, de forma que la investigación y el
desarrollo de medios de grabación de esta clase ha sido activamente
llevada a cabo en los últimos años.
Como se describe en la patente americana US Nº
3,530,441 las denominadas aleaciones a partir de calcogenados,
como por ejemplo Ge-Te,
Ge-Te-Sn,
Ge-Te-S,
Ge-Se-S,
Ge-Se-Sb,
Ge-As-Se, In-Te,
Se-Te y Se-As, son utilizadas
convencionalmente como materiales de grabación para los medios de
grabación óptica de cambio de fase. Además, se propone añadir Au a
la anteriormente mencionada aleación a partir de
Ge-Te para mejorar la estabilidad del material de
grabación y también para incrementar la velocidad de cristalización
del mismo como se describe en la solicitud de patente japonesa
pendiente de decisión 61-219692. Además, la adición
de Sn y Au a la aleación a partir de Ge-Te y la
adición de Pd a la misma se proponen respectivamente en las
solicitudes de patentes japonesas pendientes de decisión
61-270190 y 62-19490 con los mismos
fines que se han mencionado antes. Además, un material de grabación
que comprende una aleación de
Ge-Te-Se-Sb con una
composición específica y un material de grabación que comprende una
aleación de Ge-Te-Sb con una
composición específica se describen respectivamente en las
solicitudes de patentes japonesas pendientes de decisión
62-73438 y 63-228433 para mejorar
las propiedades de repetición de la grabación y borrado de un medio
de grabación que comprende cada material de grabación.
Sin embargo, no todas las propiedades requeridas
para el medio de grabación óptica de cambio de fase que se puede
volver a grabar se satisfacen con los medios de grabación óptica de
cambio de fase convencionales mencionados antes. En particular, ya
que los objetivos más importantes que se tienen que alcanzar, la
mejora de la sensibilidad de grabación y de la sensibilidad de
borrado, la prevención de la reducción de la relación de borrado en
la sobre grabación y la extensión de la vida de las partes grabadas
y sin grabar todavía no se alcanzan con los medios de grabación
óptica de cambio de fase convencionales mencionados antes.
En la solicitud de patente japonesa pendiente de
decisión 63-251290, se propone un medio de
grabación óptica de información el cual está provisto de una capa
de grabación que comprende una única capa de un compuesto de un
sistema de múltiples componentes substancialmente compuesto de tres
o más componentes en estado cristalino. Se asegura que la capa
individual del compuesto de un sistema de múltiples componentes
substancialmente compuesto de tres o más componentes contiene un
compuesto de tres o más componentes con una composición
estoicométrica, por ejemplo, In_{3}SbTe_{2}, en una cantidad del
90% atómico o más en la capa de grabación. Se afirma adicionalmente
que las características de grabación y de borrado se pueden
mejorar utilizando esta clase de capa de grabación. Sin embargo,
este medio de grabación óptica de información tiene los defectos de
que la relación de borrado es pequeña y que la energía láser
requerida para grabar y borrar no es lo suficientemente
reducida.
Además, la solicitud de patente japonesa
pendiente de decisión 1-277338 describe un medio de
grabación óptica el cual comprende una capa de grabación que
comprende una aleación con una composición representada por la
fórmula de (Sb_{a}Te_{1-a})
_{1-b}M_{b}, en la que 0,4 \leq a \leq 0,7,
b \leq 0,2, y M es un elemento seleccionado del grupo que consta
de Ag, Al, As, Au, Bi, Cu, Ga, Ge, In, Pb, Pt, Se, Si, Sn y Zn. En
esta referencia se asegura que un sistema básico de la aleación
anteriormente mencionada es Sb_{2}Te_{3}, y que la adición de
Sb a esta aleación en una cantidad excesiva en términos de
porcentaje atómico hace posible conseguir una operación de borrado
a alta velocidad y mejora las propiedades de repetición y que la
adición del elemento M puede mejorar adicionalmente el
comportamiento de borrado a alta velocidad. Además de las ventajas
anteriores, esta referencia asegura que la relación de borrado
obtenida mediante la aplicación de luz de corriente continua es
grande. Sin embargo, esta referencia no muestra una relación de
borrado específica en la operación de sobre grabación y de acuerdo
con los experimentos llevados a cabo por los inventores de la
presente invención, las partes no borradas se observaron en el
curso de la operación de sobre grabación y la sensibilidad de
grabación obtenida era insuficiente para utilizarla en la
práctica.
La solicitud de patente japonesa pendiente de
decisión 60-177446 describe un medio de grabación
óptica el cual comprende una capa de grabación que comprende una
aleación con una composición representada por la fórmula de
(In_{1-x}Sb_{x})_{1-y}M_{y},
en dónde 0,55 \leq x \leq 0,80, 0 \leq y \leq 0,20 y M es
un elemento seleccionado a partir del grupo que consta de Au, Ag,
Cu, Pd, Pt, Al, Si, Ge, Ga, Sn, Te, Se y Bi. Además, la solicitud
de patente japonesa pendiente de decisión 63-228433
describe una capa de grabación de un medio de grabación óptica, el
cual comprende una aleación con una composición de
GeTe-Sb_{2}Te_{3}-Sb (exceso).
La sensibilidad de grabación y la facilidad de borrado requeridos
por el medio de grabación no se pueden satisfacer mediante ninguno
de los medios de grabación ópticas convencionales anteriormente
mencionados.
La patente europea
EP-A-735 158 y la 813 189 también
describen medios de grabación óptica provistos de una capa de
grabación la cual comprende como elementos constituyentes Ag, In,
Sb y Te.
Además, la solicitud de patente japonesa
pendiente de decisión 4-163839 describe un medio de
grabación óptica provisto de una capa de grabación que comprende
una aleación de Te-Ge-Sb, con la
adición a la misma de átomos de nitrógeno. La solicitud de patente
japonesa pendiente de decisión 4-52188 describe un
medio de grabación óptica provisto de una capa de grabación que
comprende una aleación de Te-Ge-Se,
con por lo menos un elemento de Te, Ge o Se siendo un nitruro. Y la
solicitud de patente japonesa pendiente de decisión
4-52189 describe un medio de grabación óptica
provisto de una capa de grabación que comprende una aleación de
Te-Ge-Se, con átomos de nitrógeno
absorbidos en ella.
Estos medios de grabación óptica convencionales
no tienen características suficientes para utilizarlos en la
práctica, en particular, con respecto a la mejora de la
sensibilidad de grabación y la sensibilidad de borrado, la
prevención de la reducción de la relación de borrado en la sobre
grabación y el alargamiento de la vida de las partes grabadas y sin
grabar.
Con la rápida propagación de los discos compactos
(CD), los discos compactos para grabar una sola vez
(CD-R) capaces de grabar datos en ellos sólo una
vez, se han desarrollado y colocado en el mercado. En el caso de
los discos compactos para grabar una sola vez
(CD-R), sin embargo, una vez se han grabado datos
erróneos en el CD-R, los datos grabados no se pueden
corregir, de forma que no ayuda el descargar el
CD-R. Bajo tales circunstancias, existe la demanda
de un disco compacto que se pueda grabar más de una vez que se
pueda utilizar en la práctica.
Como un ejemplo de los discos compactos que se
pueden grabar más de una vez anteriormente mencionados, ha sido
desarrollado un medio de grabación magneto-óptico, pero tiene los
defectos de que la operación de sobre grabación es difícil de
llevar a cabo y que la compatibilidad con los CD-ROM
o los CD-R es pobre. Bajo tales circunstancias, los
investigadores han trabajado activamente para desarrollar un disco
de grabación óptica de cambio de fase utilizable en la práctica el
cual pueda asegurar, en principio, la compatibilidad con los
CD-ROM o los CD-R.
Las actividades de investigación y desarrollo
sobre tales discos compactos que se pueden volver a grabar,
utilizando el medio de grabación óptica de cambio de fase, se
informan, por ejemplo, en las siguientes referencias: "Actas del
4º Simposio sobre grabación de cambio de fase", página 70
(1992), Furuya y otros; "Actas del 4º Simposio sobre grabación de
cambio de fase", página 76 (1992), Jinno y otros; "Actas del
4º Simposio sobre grabación de cambio de fase", página 82
(1992), Kawanishi y otros; Jap. J. Sol. Fís. 32 (1993) p. 5226, T.
Handa y otros; "Actas del 5º Simposio sobre grabación de cambio
de fase", página 9 (1993), Yoneda y otros; y "Actas del 5º
Simposio sobre grabación de cambio de fase", página 5 (1993),
Tominaga y otros. Sin embargo, el comportamiento global de los
discos compactos que se pueden volver a grabar informados en estas
referencias es satisfactorio, por ejemplo, en vista de las
desventajas con respecto a las compatibilidades con los
CD-ROM y los CD-R, el comportamiento
a la grabación y el borrado, la sensibilidad de grabación, el
número de repeticiones permisibles de operaciones de sobre
grabación, el número de repeticiones permisibles de las operaciones
de reproducción y de la propia estabilidad. Estas desventajas se
atribuyen principalmente a la baja facilidad de borrado causada por
la composición y la estructura del material de grabación empleado
en cada disco compacto.
Bajo tales circunstancias actuales, existe la
demanda creciente del desarrollo de un material de grabación de
cambio de fase con elevada facilidad de borrado y elevadas
sensibilidades de grabación y borrado y también del desarrollo de
discos compactos que se puedan volver a grabar de cambio de fase
con un comportamiento global excelente.
Para cubrir esta demanda, los inventores de la
presente invención han descubierto y propuesto materiales de
grabación a partir de
Ag-In-Sb-Te, por
ejemplo, como se describe en las solicitudes de patentes japonesas
pendientes de decisión 4-78031 y
4-123551; Jap. J. Sol. Fís. 31 (1992) 461, H.
Iwasaki y otros; "Actas del 3º Simposio sobre grabación de cambio
de fase", página 102 (1991), Ide y otros; y Jap. J. Sol. Fís. 32
(1993) 5241, H. Iwasaki y otros.
En octubre de 1996, se editó el documento
"Parte III Disco compacto que se puede volver a grabar:
CD-RW Versión 1.0" el cual generalmente se
denomina "Libro naranja", como las normas para los discos
compactos que se pueden volver a grabar (CD-RW).
Además, se ha prestado especial atención a los
discos de vídeo digital (DVD- Digital Video Disc) y
DVD-RAM como los medios de grabación óptica más
importantes para el próximo siglo. Automáticamente, se requiere que
el disco compacto que se puede volver a grabar anteriormente
mencionado tenga compatibilidad de reproducción con el DVD. Sin
embargo, las señales de grabación del disco convencional
CD-RW no muestran suficiente reflectancia y grado
de modulación cerca de una longitud de onda de 650 nm la cual
corresponde a la longitud de onda de reproducción del DVD, de forma
que el CD-RW convencional no tiene suficientes
características de señal para utilizarlo en la práctica.
El libro de normas anteriormente mencionado
"Parte III Disco compacto que se puede volver a grabar:
CD-RW Versión 1.0" describe las normas para el
disco compacto que se puede volver a grabar para una velocidad
nominal del CD de 2x veces (2,4 a 2,8 m/s). Sin embargo, se
requiere un tiempo de grabación más largo a una velocidad lineal
baja de ese tipo, de forma que se ha incrementado la demanda de un
disco compacto que se pueda volver a grabar capaz de llevar a cabo
una grabación a alta velocidad.
De acuerdo con el desarrollo del
CD-RW, los sistemas de accionamiento para el
CD-RW también se han desarrollado activamente y se
han realizado pruebas de acoplamiento entre el
CD-RW y los sistemas de accionamiento. Los
resultados de tales pruebas de acoplamiento indican que en algunos
sistemas de accionamiento, ocurren de forma creciente errores en la
reproducción a una velocidad de 6x veces o más la velocidad
nominal del CD (7,2 m/s o más), de forma que se ha confirmado que
una velocidad lineal de reproducción tan elevada de ese tipo es
difícil de llevar a cabo por tales sistemas de accionamiento.
Además, se confirma que en algunos sistemas de accionamiento, no se
puede determinar una energía de luz de grabación óptima para el
CD-RW mediante un "Procedimiento de control de la
energía óptima" (de aquí en adelante referido como el
procedimiento OPC - Optimum Power Control) el cual se define en el
anteriormente mencionado "Parte III Disco compacto que se puede
volver a grabar: CD-RW Versión 1.0".
El medio de grabación óptica de cambio de fase
del tipo en el que el CD-RW se inicia en el curso
de la fabricación del mismo, con una capa de grabación del medio de
grabación que se cristaliza, utilizando un aparato de iniciación.
El estado de iniciación de la capa de grabación tiene un efecto
significativamente sensible en el comportamiento a la sobre
grabación del medio de grabación. El estado de iniciación también
depende significativamente del aparato de iniciación empleado. A
fin de controlar el estado de iniciación de cada medio de
grabación, es necesario que el aparato de iniciación sea trazado e
identificado con cada medio de grabación. Sin embargo, todavía no
se ha desarrollado un sistema para llevar a cabo un control de la
traza de este tipo.
El CD-RW se maneja con la mano,
de forma que se puede depositar suciedad como aceite y polvo en la
cara y en el reverso de las superficies del disco. Si esto ocurre,
generalmente se utilizará un trapo para limpiar las superficies del
disco que estén cubiertas con suciedad como aceite y polvo. Sin
embargo, puesto que el substrato normal del disco está fabricado de
policarbonato, si la superficie de ese substrato de policarbonato
se limpia con un trapo para eliminar la suciedad del mismo, la
superficie del substrato del CD-RW se raya y existe
el riesgo de que ya no se pueda llevar a cabo la grabación y la
reproducción debido a las rayas formadas en la superficie del
substrato. Para evitar un problema de este tipo, se propone
proporcionar una capa de recubrimiento duro, como por ejemplo una
capa de resina curada mediante rayos ultravioleta, sobre una
superficie no surcada del substrato, esto es, una superficie espejo
del substrato. Una capa de resina curada con rayos ultravioleta de
este tipo ya se ha utilizado en los discos de grabación
magneto-óptica. Sin embargo, el recubrimiento de la resina curada
con rayos ultravioleta necesita una técnica de recubrimiento
extremadamente delicada, empezando desde una posición
predeterminada en un área extremadamente estrecha desde una marca
de moldeo formada en el substrato mediante moldeo por inyección,
hasta un borde del surco más interior en el substrato. Una técnica
de recubrimiento delicada de este tipo no se ha aplicado nunca a la
fabricación de un medio de grabación óptica de cambio de fase
comercialmente disponible. Esto es así porque un recubrimiento no
uniforme de la capa de recubrimiento duro, incluso aunque la falta
de uniformidad sea ligera, inevitablemente causa una iniciación
inadecuada del medio de grabación.
Generalmente, el borde del surco más interior
está concéntricamente localizado a una distancia de 22 mm desde el
centro del disco en el disco de grabación óptica como por ejemplo
un CD-RW, mientras que el disco de grabación
magneto-óptica el borde del surco más interior está
concéntricamente localizado a una distancia de 25 mm o más desde el
centro del mismo, de forma que el borde del surco más interior del
disco de grabación óptica está más cerca en unos 2 mm o más de la
marca del moldeo por inyección del substrato que del borde del
surco más interior del disco de grabación magneto-óptica. Por lo
tanto, en el caso del disco de grabación óptica de cambio de fase,
es extremadamente difícil proporcionar la capa de resina curada con
rayos ultravioleta en el substrato del mismo con una
reproducibilidad estable.
Un disco óptico de cambio de fase comprendiendo
una capa de grabación a partir de
Ag-In-Sb-Te es
convencionalmente conocido que presenta un comportamiento de
grabación excelente. Sin embargo, no se ha proporcionado todavía un
disco de grabación óptica de cambio de fase el cual pueda asegurar
con certeza la compatibilidad con el CD-R y
satisfacer el comportamiento global anteriormente mencionado
requerido para el disco compacto que se puede volver a grabar.
De acuerdo con ello, un primer objeto de la
presente invención es proporcionar un procedimiento de grabación de
información utilizando un medio de grabación óptica de cambio de
fase el cual pueda ser utilizado en ambos modos, un modo de 2x
veces la velocidad nominal del CD y un modo de 4x veces la
velocidad nominal del CD.
Un objeto adicional de la presente invención es
proporcionar un procedimiento de reproducción de la información
utilizando un medio de grabación óptica de cambio de fase de
elevada velocidad de reproducción.
Los procedimientos de grabación y reproducción de
la información de la presente invención, como se reivindica en las
reivindicaciones 1 y 2, emplean un medio de grabación óptica de
cambio de fase que comprende: un substrato, una primera capa
dieléctrica, una capa de grabación, una segunda capa dieléctrica,
una capa de reflexión de la luz y de disipación del calor y una
capa de recubrimiento exterior, la primera capa dieléctrica, la
capa de grabación, la segunda capa dieléctrica, la capa de
reflexión de la luz y de disipación del calor y la capa de
recubrimiento exterior estando sucesivamente superpuestas en el
substrato, la capa de grabación (1) comprendiendo un material de
grabación de cambio de fase el cual comprende como elementos
constituyentes Ag, In, Sb, Te y N y, o bien, O con los respectivos
porcentajes atómicos de los mismos siendo \alpha, \beta,
\gamma, \delta y \varepsilon (el porcentaje atómico total
del N y, o bien, del O), los cuales están en la relación de:
0 < \alpha \leq 6,
3 \leq \beta \leq 15,
50 \leq \gamma \leq 65,
20 \leq \delta \leq 35,
0 \leq \varepsilon \leq 5, con la condición
de que \alpha + \beta + \gamma + \delta + \varepsilon =
100 y (2) que tenga un límite superior de la velocidad lineal de
recristalización en la gama de 2,5 hasta 5,0 m/s.
En una realización específica del medio de
grabación óptica anteriormente mencionado, el medio de grabación
tiene una reflectancia del surco de 0,18 o más con respecto ambas
luces de reproducción, la que tiene una longitud de onda de 780
\pm 15 nm y la que tiene una longitud de onda de 640 \pm 15
nm.
En otra realización del medio de grabación óptica
anteriormente mencionado, el substrato soporta un tiempo absoluto
en los datos previos al surco (datos ATIP - Absolute Time in
Pre-groove data) que incluye una energía de
grabación predeterminada para el medio de grabación óptica.
En todavía otra realización del medio de
grabación óptica anteriormente mencionado, la capa de grabación
tiene una reflectancia del surco del 95% o más de la reflectancia
del surco saturado del mismo cuando el material de grabación de
cambio de fase se cristaliza para la iniciación del medio de
grabación.
En una realización adicional del medio de
grabación óptica anteriormente mencionado, la capa de grabación
transporta en ella información de identificación para identificar
el aparato de iniciación utilizado para iniciar el medio de
grabación, utilizando una luz de iniciación que tiene una energía
de iniciación predeterminada.
En una realización específica del medio de
grabación óptica anteriormente mencionado, la información de
identificación se graba en forma de una marca en una superficie no
surcada del substrato, utilizando un rayo de luz el cual se obtiene
mediante modulación de la energía de iniciación de la luz de
iniciación.
Otra realización del medio de grabación óptica
anteriormente mencionado, adicionalmente comprende una capa de
recubrimiento duro la cual está provista sobre la superficie no
surcada del substrato, opuesta a la primera superficie dieléctrica
con respecto al substrato.
En el medio de grabación óptica anteriormente
mencionado, es preferible que la capa de recubrimiento duro tenga
un grosor de 2 a 6 \mum y una dureza de lápiz de H o más.
Adicionalmente, en el medio de grabación óptica
anteriormente mencionado, es preferible que la capa de
recubrimiento duro comprenda una resina curada con rayos
ultravioleta que tenga una viscosidad de 40 cps o más a temperatura
ambiente antes del curado.
Una apreciación más completa de la invención y de
muchas de las ventajas conseguidas con la misma se obtendrá
rápidamente a medida que se haga más comprensible con referencia a
la siguiente descripción detallada cuando se la considere
conjuntamente con los dibujos que se acompañan, en los que:
La figura 1 es una vista esquemática en sección
transversal de un ejemplo de un medio de grabación óptica de cambio
de fase utilizado en la presente invención.
La figura 2 es un gráfico que muestra la relación
entre el porcentaje atómico de Te en un material de grabación de
cambio de fase de un sistema cuaternario de
Ag-In-Sb-Te en una
capa de grabación y una velocidad lineal de grabación óptima de un
medio de grabación de disco óptico de cambio de fase comprendiendo
la capa de grabación.
La figura 3 es una estrategia para una velocidad
de 2x veces la nominal de un CD en conformidad con el documento
"Parte III Disco compacto que se puede volver a grabar:
CD-RW Versión 1.0".
La figura 4 es un gráfico que muestra la relación
entre el grosor de una primera capa dieléctrica de un medio de
grabación óptica de cambio de fase adecuado en la presente
invención y la reflectancia de la parte del surco del mismo.
La figura 5 es una vista frontal esquemática de
un medio de grabación óptica de cambio de fase adecuado en la
presente invención para explicar la posición de arranque del
recubrimiento para la formación de una capa de recubrimiento
duro.
La figura 6A es un gráfico que muestra la
relación entre la energía de luz para iniciar un medio de grabación
y la reflectancia del surco del mismo.
La figura 6B es un gráfico que muestra la
relación entre la velocidad de desplazamiento de los medios de
aplicación de la luz sobre un medio de grabación durante un paso de
inicio y la reflectancia del surco del mismo.
La figura 6C es un gráfico que muestra la
relación entre la velocidad lineal de un medios de grabación
durante el paso de inicio y una reflectancia del surco del
mismo.
La figura 7 es una vista frontal esquemática de
un medio de grabación óptica de cambio de fase adecuado en la
presente invención para explicar la marca para identificar un
aparato de iniciación empleado en el paso de iniciación.
Las figuras 8A y 8B son gráficos los cuales
muestran respectivamente una estrategia de grabación para una
velocidad de 2x veces la nominal de un CD y para una velocidad de
4x veces la nominal de un CD.
La figura 9 es un gráfico que muestra la relación
entre la velocidad lineal del disco de grabación óptica de cambio
de fase en la aplicación de un rayo de luz al mismo y la
reflectancia del surco del mismo después de la aplicación del rayo
de luz.
El medio de grabación óptica utilizado en la
presente invención comprende un substrato en el cual una primera
capa dieléctrica, una capa de grabación, una segunda capa
dieléctrica, una capa de reflexión de la luz y de disipación del
calor y una capa de recubrimiento exterior se superponen
sucesivamente, con la capa de grabación (1) comprendiendo un
material de grabación de cambio de fase el cual comprende como
elementos constituyentes Ag, In, Sb, Te y átomos de nitrógeno y, o
bien, átomos de oxígeno con los respectivos porcentajes atómicos de
los mismos siendo \alpha, \beta, \gamma, \delta,
\varepsilon (el porcentaje atómico total de átomos de nitrógeno
y, o bien, de átomos de oxígeno), los cuales están en la relación
de:
0 < \alpha \leq 6,
3 \leq \beta \leq 15,
50 \leq \gamma \leq 65,
20 \leq \delta \leq 35,
0 \leq \varepsilon \leq 5, a condición de
que \alpha + \beta + \gamma + \delta + \varepsilon = 100
y (2) que tenga un límite superior de la velocidad lineal de
recristalización en la gama de 2,5 hasta 5,0 m/s.
El anteriormente mencionado "límite superior de
la velocidad lineal de recristalización" de la capa de grabación
del medio de grabación óptica significa un límite superior de la
velocidad lineal de un rayo de luz que rastrea la capa de grabación
a la cual la capa de grabación puede ser recristalizada después de
ser fundida con la aplicación del rayo de luz a la misma y entonces
enfriada y recristalizada.
En lo anterior, como rayo de luz se utiliza un
rayo láser semiconductor el cual es similar a aquel de un láser
semiconductor montado en un grabador para el medio de
grabación.
El anteriormente mencionado "límite superior de
la velocidad lineal de recristalización" de la capa de grabación
del medio de grabación óptica es un valor nuevo para caracterizar
el medio de grabación, el cual fue descubierto por los inventores
de la presente invención.
El "límite superior de la velocidad lineal de
recristalización" de la capa de grabación se puede determinar a
partir de la dependencia de la reflectancia de la parte del surco o
de una parte de la zona de la capa de grabación del medio de
grabación óptica sobre la velocidad lineal del medio de grabación
bajo la exposición al rayo de luz, o sobre la velocidad lineal del
rayo de luz que rastrea la capa de grabación.
La figura 9 es un gráfico el cual muestra la
relación entre (a) la velocidad lineal de un disco de grabación
óptica de cambio de fase en el curso de un rastreo de un rayo de
luz sobre una capa de grabación del disco de grabación óptica de
cambio de fase y (b) la reflectancia de un surco del disco de
grabación irradiado con el rayo de luz. Como se representa en la
figura 9, en el curso de incrementar la velocidad lineal del medio
de grabación óptica, la reflectancia del surco empieza a caer
repentinamente a cierta velocidad lineal. Esta velocidad lineal se
define como el anteriormente mencionado "límite superior de la
velocidad lineal de recristalización" de la capa de grabación.
En la figura 9, el "límite superior de la velocidad lineal de
recristalización" de la capa de grabación es 3,5 m/s.
Aunque la longitud de onda del rayo de luz que
rastrea el medio de grabación es la misma, el "límite superior de
la velocidad lineal de recristalización" de la capa de grabación
varía ligeramente dependiendo de la energía y del diámetro del
rayo de luz empleado. Por ejemplo, cuando se aplica un rayo láser
con una longitud de onda de 780 nm, utilizando un tubo de captación
con una abertura numérica (NA) de 0,5, a un disco de grabación
óptica de cambio de fase, la máxima variación del "límite
superior de la velocidad lineal de recristalización" de la capa
de grabación es aproximadamente \pm0,5 m/s.
El comportamiento del medio de grabación óptica
de cambio de fase depende del "límite superior de la velocidad
lineal de recristalización" de la capa de grabación.
Cuando el "límite superior de la velocidad
lineal de recristalización" de la capa de grabación es inferior
a 2,5 m/s, el medio de grabación óptica de cambio de fase no es
adecuado para utilizarlo en la práctica, puesto que la
recristalización de la capa de grabación no se puede llevar a cabo
a elevada velocidad lineal, de forma que se requiere demasiado
tiempo para iniciar el medio de grabación. Además, cuando la
grabación se lleva a cabo en un medio de grabación de este tipo a
una velocidad de 4x veces la nominal del CD, la operación de
borrado no se puede llevar a cabo perfectamente. Por otra parte,
cuando el "límite superior de la velocidad lineal de
recristalización" de la capa de grabación es superior a 5,0 m/s,
la capa de grabación no puede asumir un estado amorfo completo
cuando la información está grabada en ella. Por lo tanto, no se
pueden obtener propiedades de señal satisfactorias.
Para controlar el "límite superior de la
velocidad lineal de recristalización" de la capa de grabación
como se especifica en la presente invención, es preferible que el
medio de grabación óptica de cambio de fase sea producido de tal
manera que la temperatura del substrato se establezca a 80ºC o
menos, cuando la primera capa dieléctrica, la capa de grabación, la
segunda capa dieléctrica, la capa de reflexión de la luz y de
disipación del calor y la capa de recubrimiento exterior sean
sucesivamente superpuestas sobre el substrato en este orden. Cuando
la temperatura del substrato supere los 80ºC, la capa dieléctrica y
la capa de grabación se cristalizan parcialmente en el curso de la
formación de las mismas, de forma que el deseado "límite superior
de la velocidad lineal de recristalización" de la capa de
grabación no se puede obtener, o se hace difícil de encontrar la
velocidad lineal a la cual la reflectancia del surco cae
repentinamente, como se ilustra en la figura 9.
Además, la velocidad de formación de la película
para la capa de grabación afecta al "límite superior de la
velocidad lineal de recristalización" de la capa de grabación,
aunque su mecanismo es desconocido. A medida que decrece la
velocidad de formación de la película de la capa de grabación, el
"límite superior de la velocidad lineal de recristalización"
de la capa de grabación decrece. A fin de obtener el deseado
"límite superior de la velocidad lineal de recristalización"
de la capa de grabación, es preferible que la velocidad de
formación de la película para la capa de grabación se ajuste entre
2 hasta 30 nm/s. Cuando la velocidad de formación de la película
para la capa de grabación es inferior a 2 nm/s, el "límite
superior de la velocidad lineal de recristalización" de la capa
de grabación decrece a menos de 2 m/s, mientras que cuando la
velocidad de formación de la película para la capa de grabación es
superior a 30 nm/s, el "límite superior de la velocidad lineal de
recristalización" de la capa de grabación es superior a 5
m/s.
Cuando la capa de grabación no se calienta
suficientemente a una temperatura superior a la del punto de fusión
de la misma mediante la aplicación de un rayo de luz a la misma, o
cuando la recristalización tiene lugar demasiado rápidamente
después de que la capa de grabación se haya fundido, es el caso en
el que es difícil encontrar la velocidad lineal a la cual la
reflectancia del surco cae repentinamente, como se representa en la
figura 9, aunque la composición de la capa de grabación sea la
misma que la especificada en la presente invención.
La figura 1 muestra una vista esquemática en
sección transversal de un ejemplo del medio de grabación óptica de
cambio de fase utilizado en la presente invención. En un substrato
1 con un surco de guía 1a, se superponen sucesivamente una primera
capa dieléctrica 2, una capa de grabación 3, una segunda capa
dieléctrica 4, una capa de reflexión de la luz y de disipación del
calor 5, y una capa de recubrimiento exterior 6. Adicionalmente,
como se representa en la figura 1, una capa de impresión 7 se puede
superponer en la capa de recubrimiento exterior 6 y una capa de
recubrimiento duro 8 también puede estar provista en el lado no
surcado del substrato 1, opuesta a la primera capa dieléctrica 2
con respecto al substrato 1.
En el medio de grabación óptica de cambio de
fase, se puede utilizar como material para el substrato 1, vidrio,
materiales cerámicos y resinas. En particular, el substrato de
resina es ventajoso sobre los otros substratos desde el punto de
vista de los costes de fabricación y de facilidad de moldeo.
Ejemplos de la resina que sirve como material
para el substrato 1 incluyen la resina de policarbonato, resina
acrílica, resina epoxi, resina de poliestireno, resina de
copolímero de acrilonitrilo-estireno, resina de
polipropileno, resina de silicona, plásticos fluorados, resina ABS
y resina de uretano. De estas resinas, la resina de policarbonato y
la resina acrílica se emplean preferiblemente para el substrato 1
debido a sus propiedades de fácil procesado, propiedades ópticas y
a los costes de fabricación. El substrato 1 puede estar preparado
en forma de disco, tarjeta o lámina.
Cuando el medio de grabación óptica de cambio de
fase utilizado en la presente invención se aplica a un disco
compacto que se puede volver a grabar (CD-RW), es
deseable que el substrato 1 tenga un surco de guía con una anchura
de 0,25 a 0,65 \mum, preferiblemente 0,30 a 0,55 \mum y una
profundidad de 250 a 650 \ring{A}, preferiblemente de 300 a 550
\ring{A}.
No existe una limitación particular al grosor del
substrato 1, pero es preferible que el substrato tenga un grosor
en la gama de 1,2 mm o 0,6 mm.
Como material de grabación de cambio de fase para
la capa de grabación 3, es preferible un material de un sistema
cuaternario de
Ag-In-Sb-Te, por lo
que al medio de grabación óptica se le hace que presente una
elevada sensibilidad y velocidad de grabación, esto es, un
comportamiento excelente de cambio de fase desde una fase
cristalina hasta una fase amorfa; una elevada sensibilidad y
velocidad de borrado, esto es, un comportamiento excelente de
cambio de fase desde una fase amorfa a una fase cristalina; y una
gran facilidad de borrado.
El sistema cuaternario
Ag-In-Sb-Te tiene
una velocidad lineal de grabación óptima la cual depende de la
composición del sistema cuaternario. Por lo tanto, es necesario
ajustar adecuadamente la composición del sistema cuaternario de Ag,
In, Sb y Te de acuerdo con una velocidad lineal de grabación
deseada y una gama de velocidad lineal deseada. Se ha confirmado
que en un medio de grabación con una capa de grabación de
Ag-In-Sb-Te, la
relación de composición del Te en la capa de grabación está
mútuamente relacionada con la velocidad lineal de grabación óptima
del medio de grabación.
La figura 2 es un gráfico que muestra la relación
entre el porcentaje atómico de Te en un material de grabación de
cambio de fase de un sistema cuaternario de
Ag-In-Sb-Te en una
capa de grabación y la velocidad lineal de grabación óptima de un
medio de grabación óptica de discos de cambio de fase que comprende
la capa de grabación.
El medio de grabación óptica de discos de cambio
de fase tiene una estructura de capas similar a aquella
representada en la figura 1, con la condición de que la capa de
impresión 7 no esté provista, es decir, comprendiendo una capa de
recubrimiento duro 8 provista de un grosor en la gama de 3 a 5
\mum, un substrato 1 provisto de un grosor de 1,2 mm, una primera
capa dieléctrica 2 provista de un grosor de 100 nm, una capa de
grabación de
Ag-In-Sb-Te 2
provista de un grosor de 25 nm, una segunda capa dieléctrica 4
provista de un grosor de 30 nm, una capa de reflexión de la luz y
de disipación del calor 5 compuesta de un metal o de una aleación
provista de un grosor de 140 nm y una capa de recubrimiento
exterior 6 compuesta de una resina curada con rayos ultravioleta
provista de un grosor de 8 a 10 \mum.
La grabación se llevó a cabo aplicando un rayo de
luz con una longitud de onda (\lambda) de 780 nm al medio de
grabación, con el valor de apertura numérica (NA) del tubo de
captación estando establecido en 0,5 con un sistema de modulación
de ocho a catorce (EFM Eight to Fourteen Modulation) y el impulso
de grabación se determinó, como se representa e la figura 3, de
acuerdo con el documento "Parte III Disco compacto que se puede
volver a grabar". La energía de la luz de grabación, la energía
de la luz de borrado y la energía de polarización se establecieron,
respectivamente a 12 mW, 6 mW y 1 mW. La velocidad lineal de
grabación óptima se define como la velocidad lineal a la cual se
puede conseguir un número máximo de repeticiones permisibles de
operaciones de sobre grabación.
Como se representa en el gráfico de la figura 2,
existe una elevada correlación entre la velocidad lineal óptima de
grabación del medio de grabación y la relación de la composición
del Te (porcentaje atómico de Te) en la capa de grabación
Ag-In-Sb-Te 2, con
un coeficiente de correlación (R^{2}) de 0,9133. Cuando se tienen
en cuenta los resultados anteriores y un error experimental de
\pm1 de porcentaje atómico en vista del gráfico de la figura 2,
se considera que el porcentaje atómico de Te en la composición del
material de grabación es 35% atómico o menos, sin tener en cuanta
lo baja que sea la velocidad lineal de grabación, esto es, a 0 m/s.
Además, a fin de obtener un disco de grabación óptica de cambio de
fase el cual pueda hacer frente a una velocidad lineal de 1x, 2x,
4x y 8x veces la velocidad nominal del CD, el porcentaje atómico
preferido de Te en la composición del material de grabación se
considera que es como sigue:
Velocidad lineal deseada | Cantidad preferible |
de Te (% atómico) | |
1x velocidad nominal CD (1,2 a 1,4 m/s) | Aproximadamente 33 |
2x velocidad nominal CD (2,4 a 2,8 m/s) | Aproximadamente 30 |
4x velocidad nominal CD (4,8 a 5,6 m/s) | Aproximadamente 27 |
8x velocidad nominal CD (9,6 a 11,2 m/s) | Aproximadamente 20 |
En la capa de grabación a partir de
Ag-In-Sb-Te, la
relación de composición de cada elemento afecta a la fiabilidad de
la conservación del medio de grabación obtenido.
Para ser más explícitos, cuando el porcentaje
atómico del elemento Ag en la composición del material de grabación
es superior al 6% atómico, el deterioro de las propiedades de
sobre grabación propias se hace evidente. Es decir, no se puede
llevar a cabo una grabación de señal suficiente durante muchos años
después de la fabricación del medio de grabación.
Cuando el porcentaje atómico del elemento In es
superior al 15% atómico, se reduce la vida de archivo, mientras que
cuando el porcentaje atómico del mismo es inferior al 3% atómico,
se reduce la sensibilidad de grabación.
Con respecto al elemento Sb, cuanto mayor es el
porcentaje atómico del mismo, mejor es el comportamiento de la
repetición de la operación de sobre grabación. Sin embargo, cuando
el porcentaje atómico del Sb es superior al 65% atómico, se reduce
la vida de archivo.
A fin de evitar la reducción de la vida de
archivo, la adición de átomos de nitrógeno y de oxígeno a la
composición de la capa de grabación de cambio de fase es muy
eficaz. Mediante la adición de N y de O a la composición de la capa
de grabación, se puede estabilizar una marca amorfa. El mecanismo
de la mejora anteriormente mencionada en tales características del
disco causada por la adición de una cantidad apropiada de nitrógeno
y de oxígeno a la composición de la capa de grabación todavía no se
ha clarificado, pero se considera que cuando está contenida una
cantidad apropiada de nitrógeno y de oxígeno en la capa de
grabación, la densidad de la capa de grabación se reduce y aumentan
los vacíos minúsculos en la capa de grabación, por lo que la
irregularidad de la capa de grabación aumenta en términos de la
configuración. Como resultado, el grado de orden en la capa de
grabación es moderado en comparación con el caso en el que la capa
de grabación no contenga átomos de nitrógeno y de oxígeno. Por lo
tanto, la transición desde la fase amorfa hasta la fase cristalina
se puede limitar, de forma que la estabilidad de la marca amorfa
aumente y la propia vida de la marca amorfa se mejora.
Cuando la capa de grabación contiene nitrógeno y
oxígeno, se muestra de forma manifiesta mediante un espectro de
rayos infrarrojos del mismo que el nitrógeno y el oxígeno está
unido al Te y al Sb en la composición de la capa de grabación.
De acuerdo con la presente invención, el
porcentaje atómico total de N y de O en la composición de la capa
de grabación es un 5% atómico o menos. Cuando el porcentaje
atómico total de los mismos es superior al 5% atómico, la
nitrogenación de la capa de grabación continua excesivamente, de
forma que la cristalización de la capa de grabación se hace
difícil. Como resultado, la capa de grabación no se puede iniciar
suficientemente y la facilidad de borrado se reduce.
El nitrógeno y el oxígeno se pueden introducir
dentro de la capa de nitrógeno conteniendo gas nitrógeno y gas
oxígeno en una concentración de más de 0 a 10% en moles en la
atmósfera de argón cuando se forma la capa de grabación por
deposición electrónica. Utilizando un gas mezclado de gas N, gas O
y gas argón en el curso de la deposición electrónica, el N y el O
se pueden introducir eficazmente dentro de la capa de grabación. El
gas mezclado para utilizarlo en el paso de deposición electrónica
se puede preparar mezclando el gas nitrógeno y el gas oxígeno y el
gas argón en una relación de mezcla previamente determinada antes
de que el gas mezclado sea introducido dentro de la cámara de
deposición electrónica. Alternativamente, el gas argón y el gas
nitrógeno y el gas oxígeno se introducen dentro de la cámara de
deposición electrónica con los respectivos caudales unitarios
siendo controlados de forma que se obtenga una relación molar
deseada.
Además, una de las ventajas obtenidas mediante la
introducción de nitrógeno y de oxígeno dentro de la capa de
grabación es que la velocidad o la rapidez de recristalización de
la capa de grabación se pueden retardar, por lo que se puede
controlar la velocidad óptima de recristalización de la capa de
grabación. En otras palabras, la velocidad lineal óptima de
grabación del disco de grabación óptica de cambio de fase se puede
controlar simplemente ajustando la relación de la mezcla de gas
nitrógeno, de gas oxígeno y de gas argón en la atmósfera de
deposición electrónica para la formación de la capa de grabación
mediante deposición electrónica, incluso si se utiliza el mismo
objetivo.
Es deseable que el N y el O esté químicamente
enlazado a por lo menos un elemento del Ag, In, Sb o Te en la capa
de grabación. En particular, cuando el N o el O se enlaza al Te,
por ejemplo, con la formación de un enlace Te-N, un
enlace Te-O o un enlace
Sb-Te-N, el número de repeticiones
permisible de operaciones de sobre impresión se puede incrementar
más eficazmente que en el caso en el que el N y el O se enlazan
químicamente a cualesquiera de los otros elementos. Un enlace
químico de este tipo en la capa de grabación se puede analizar
eficazmente mediante análisis espectroscópico, como por ejemplo el
análisis espectroscópico por infrarrojos de la transformación de
Fourier (FT-IR Fourier transform infrared) o
espectroscopio de fotoelectrones por rayos X (XPS -
X-ray photoelectron spectroscope). Por ejemplo, de
acuerdo con el análisis FT-IR, el enlace
Te-N muestra picos aproximadamente de 500 hasta 600
cm^{-1}; y el enlace Sb-Te-N
muestra picos aproximadamente de 600 hasta 650 cm^{-1}.
En la presente invención, la capa de grabación
para utilizarla en el medio de grabación óptica de cambio de fase
puede comprender adicionalmente otros elementos e impurezas para
una mejora adicional del comportamiento y de la fiabilidad del
mismo. Por ejemplo, elementos del tipo del B, N, C, P y Si,
descrito en la solicitud de patente japonesa 4-1488
y otros elementos tales como O, S, Se, Al, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni,
Cr, Cu, Zn, Ga, Sn, Pd, Pt y Au pueden estar contenidos como
elementos preferibles o impurezas en la capa de grabación.
En la presente invención, la composición de la
capa de grabación para utilizarla en el medio de grabación óptica
de cambio de fase se analiza utilizando el análisis
espectroscópico de emisión. No sólo el análisis espectroscópico de
emisión, sino también microanálisis con rayos X, retrodispersión de
Rutherford, análisis espectroscópico de electrones de Auger y el
análisis por espectrometría de fluorescencia de rayos X se pueden
emplear para analizar la composición de la capa de grabación. En
tales casos, sin embargo, es necesario comparar la composición
analizada con la composición analizada mediante el análisis
espectroscópico de emisión. Generalmente se considera que existe un
error analítico de \pm5% cuando se mide la composición mediante
el análisis espectroscópico de emisión. Además de lo anterior, el
análisis espectrométrico de masa, como por ejemplo el análisis
espectrométrico de masas de iones secundarios es uno de los
procedimientos eficaces de analizar la composición de la capa de
grabación.
La difracción de rayos X o la difracción de
electrones es adecuada para analizar el estado del material en la
capa de grabación. Esto es, cuando se observa un modelo puntual o
un modelo de anillo de Debye-Scherre en la capa de
grabación mediante la difracción de electrones, el material de la
capa de grabación se considera que está en estado cristalino,
mientras que cuando se observa en el mismo un modelo de anillo o un
modelo de halo, el material en la capa de grabación se considera
que está en estado amorfo.
Se puede determinar el tamaño de las partículas
de los cristales en la capa de grabación, por ejemplo, utilizando
la ecuación de Scherrer, a partir de la mitad de la anchura del
pico del análisis de difracción por rayos X.
Además, para el análisis del estado del enlace
químico de los materiales de la capa de grabación, por ejemplo,
para el análisis del estado de enlace químico de los materiales
tales como los óxidos o los nitruros en la capa de grabación, son
efectivos procedimientos analíticos tales como el
FT-IR y el XPS.
Es preferible que el grosor de la capa de
grabación esté en la gama de 10 a 100 nm, más preferiblemente en la
gama de 15 a 50 nm. Cuando el grosor de la capa de grabación sea
inferior a 10 nm, el comportamiento a la absorción de la luz de la
capa de grabación tiende a disminuir, mientras que cuando el grosor
es superior a 100 nm, existe la tendencia a que el cambio de fase
uniforme sea difícil de ser llevado a cabo a elevada velocidad en
la capa de grabación.
Adicionalmente, cuando se tienen en cuenta las
propiedades iniciales tales como el valor de la fluctuación, las
propiedades de sobre grabación y el rendimiento de la fabricación
en serie, es preferible que el grosor de la capa de grabación esté
en la gama de 15 a 35 nm.
La capa de grabación anteriormente mencionada
puede estar formada por el procedimiento de deposición en vacío,
deposición electrónica, deposición química de plasma en fase vapor,
deposición por vapor fotoquímico, recubrimiento iónico o de
deposición de rayo de electrones. De estos procedimientos, el
procedimiento de deposición electrónica es el más ventajoso sobre
los otros métodos en términos de productividad y de la calidad de
la película de la capa de grabación obtenida.
Las capas dieléctricas primera y segunda 2 y 4
trabajan como capas protectoras.
Ejemplos específicos de material para utilizarlo
en las capas dieléctricas 2 y 4 son óxidos metálicos tales como
SiO, SiO_{2}, ZnO, SnO_{2}, Al_{2}O_{3}, TiO_{2},
In_{2}O_{3}, MgO y ZrO_{2}; nitruros tales como
Si_{3}N_{4}. AlN, TiN, BN y ZrN; sulfuros tales como ZnS,
In_{2}S_{3} y TaS_{4}; carburos tales como SiC, TaC,
B_{4}C, WC, TiC y ZrC; carbono con estructura de diamante y
mezclas de los mismos. Además, esas capas dieléctricas pueden
comprender adicionalmente impurezas cuando sea necesario, o cada
capa dieléctrica puede ser de una estructura de múltiples capas,
con la condición de que se requiere que los puntos de fusión de las
capas dieléctricas primera y segunda 2 y 4 sean más elevados que
el de la capa de grabación 3.
Las capas dieléctricas 2 y 4 para utilizarlas en
la presente invención se pueden proveer mediante el procedimiento
de deposición en vacío, deposición electrónica, deposición química
de plasma en fase vapor, deposición por vapor fotoquímico,
recubrimiento iónico o procedimiento de deposición de rayo de
electrones. De estos procedimientos, el procedimiento de deposición
electrónica es el más ventajoso sobre los otros métodos en términos
de productividad y de la calidad de la película de la capa de
grabación obtenida.
Cuando es necesario, cada una de las capas
dieléctricas primera y segunda 2 y 4 puede ser del tipo de
múltiples capas.
El grosor de la capa dieléctrica primera 2 tiene
un efecto significante en la reflectancia del surco de la luz que
tiene una longitud de onda de 650 nm, la cual sirve para reproducir
señales grabadas en el DVD.
La figura 4 es un gráfico el cual muestra que, en
un medio de grabación óptica de cambio de fase que comprende una
primera capa dieléctrica con un índice de refracción de 2,0, una
capa de grabación con un grosor de 25 nm, una segunda capa
dieléctrica con un grosor de 30 nm y un índice de refracción de
2,0, y una capa de reflexión de la luz y de disipación del calor
con un grosor de 140 nm, la reflectancia del surco del medio de
grabación depende del grosor de la primera capa dieléctrica.
Con referencia a la figura 4, a fin de obtener
una reflectancia del surco de 0,15 a 0,25 la cual está normalizada
para un CD-RW, utilizando un rayo de reproducción
con una longitud de onda de 780 nm y un rayo de reproducción con
una longitud de onda de 650 nm, se requiere que el grosor de la
primera capa dieléctrica 2 se ajuste dentro de la gama de 65 a 130
nm. Además, a fin de obtener una reflectancia del surco de 0,18 o
más la cual se considera suficiente para utilizarla en la práctica,
utilizando un rayo de reproducción con una longitud de onda de 650
nm, es deseable ajustar el grosor de la primera capa dieléctrica a
110 nm o menos. Además, a fin de obtener la suficiente reflectancia
del surco mencionada antes, utilizando el rayo de reproducción con
una longitud de onda de 780 nm, es deseable ajustar el grosor de la
primera capa dieléctrica a 80 nm o más. En vista de los resultados
analíticos anteriormente mencionados, un grosor óptimo de la
primera capa dieléctrica se considera que debe estar en la gama de
80 a 110 nm a fin de obtener suficientes características de señal,
utilizando el rayo de reproducción con una longitud de onda de 650
nm y el rayo de reproducción con una longitud de onda de 780
nm.
Es preferible que el grosor de la segunda capa
dieléctrica 4 esté en la gama de 15 a 45 nm, más preferiblemente en
la gama de 20 a 40 nm. Cuando el grosor de la segunda capa
dieléctrica 4 es inferior a 15 nm, la segunda capa dieléctrica 4 no
siempre trabaja eficazmente como una capa protectora resistente al
calor y la sensibilidad a la grabación del medio de grabación
tiende a ser inferior, mientras que cuando el grosor de la segunda
capa dieléctrica 4 es mayor que 45 nm, la segunda capa dieléctrica
4 tiende a exfoliarse cuando se utiliza a la denominada velocidad
lineal en la gama de 1,2 hasta 5,6 m/s y de acuerdo con ello, el
comportamiento a la repetición de grabación tiende a ser
inferior.
Ejemplos específicos del material para la capa de
reflexión de la luz y de disipación del calor 5 son metales tales
como Al, Au, Ag, Cu y Ta y aleaciones de los mismos. La capa de
reflexión de la luz y de disipación del calor 5 adicionalmente
puede comprender otros elementos adicionales tales como Cr, Ti, Si,
Cu, Ag, Pd y Ta.
La capa de reflexión de la luz y de disipación
del calor 5 puede estar provista por el procedimiento de deposición
en vacío, deposición electrónica, deposición química de plasma en
fase vapor, deposición por vapor fotoquímico, recubrimiento iónico
o procedimiento de deposición de rayo de electrones.
Es preferible que el grosor de la capa de
reflexión de la luz y de disipación del calor 5 esté en la gama de
70 a 180 nm, más preferiblemente en la gama de 100 a 160 nm.
Es también preferible que esté provista una capa
de recubrimiento exterior 6 para prevenir la oxidación de la capa
de reflexión de la luz y de disipación del calor 5 sobre la capa de
reflexión de la luz y de disipación del calor 5. Como capa de
recubrimiento exterior 6 se utiliza en general una capa de resina
curada con rayos ultravioleta la cual se prepara mediante
recubrimiento espín.
Es preferible que el grosor de la capa de
recubrimiento exterior 6 esté en la gama de 7 a 15 \mum. Cuando
el grosor es inferior a 7 \mum, los errores de funcionamiento
tienden a ocurrir de forma creciente cuando una capa de impresión
está superpuesta a la capa de recubrimiento exterior 6, mientras
que cuando el grosor es superior a 15 \mum, la tensión interna de
la capa de recubrimiento exterior 6 crece, de forma que la capa de
recubrimiento exterior 6 tiende a tener grandes efectos adversos en
las propiedades mecánicas del medio de grabación.
Puede estar provista una capa de recubrimiento
duro 8 en el lado no surcado del substrato 1. La capa de
recubrimiento duro 8 está generalmente formada sometiendo una
resina de curado por rayos ultravioleta al recubrimiento espín.
Es preferible que el grosor de la capa de
recubrimiento duro 8 esté en la gama de 2 a 6 \mum. Cuando el
grosor de la capa de recubrimiento duro es inferior a 2 \mum, la
resistencia al rayado de la misma tiende a reducirse, mientras que
cuando el grosor de la capa de recubrimiento duro 8 es superior a 6
\mum, la tensión interna de la capa de recubrimiento duro 8
crece, de forma que la capa de recubrimiento duro 8 tiende a tener
grandes efectos adversos en las propiedades mecánicas del medio de
grabación.
Es preferible que la capa de recubrimiento duro 8
tenga una dureza de lápiz de H o más, dureza de lápiz con la cual
la superficie de la capa de recubrimiento duro 8 se raya
seriamente incluso cuando se frota con un trapo. Cuando sea
necesario, un material electro-conductor puede estar
contenido en la capa de recubrimiento duro 8 para hacer la capa de
recubrimiento duro 8 antiestática de forma que se evite eficazmente
que la suciedad o similar se adhiera electrostáticamente a la
misma.
Es preferible que la resina de curado por rayos
ultravioleta para utilizarla en la capa de recubrimiento duro 8
tenga una viscosidad de 40 cps o más a la temperatura ambiente a
fin de controlar la posición del recubrimiento de la misma con alta
precisión y alta reproductibilidad, por lo que el borde de la capa
de recubrimiento duro 8 se puede colocar con precisión, por
ejemplo, dentro de un área de una distancia de 20 a 22 mm desde el
centro del disco como se representa en la figura 5.
La figura 5 es una vista frontal esquemática de
un disco de grabación óptica de cambio de fase, visto desde el lado
no surcado del substrato del mismo, que explica el área de
recubrimiento de la capa de recubrimiento duro 8. Como se
representa en la figura 5, en el disco de grabación óptica de
cambio de fase, está formado un anillo escalonado 12 y una marca de
moldeo por inyección 13 la cual está concéntricamente formada a una
distancia de 20 mm desde el centro del disco en el curso de
preparación del substrato mediante moldeo por inyección.
Los números de referencia 11 indican el área de
grabación. En el lado opuesto del substrato está provisto un surco
en espiral 15 en el área de grabado 11 y el borde más interior del
surco en espiral 15 está concéntricamente colocado a una distancia
de 22 mm del centro del disco. A fin de proporcionar una capa de
recubrimiento duro 8 en el lado no surcado del substrato 1, por lo
tanto, el recubrimiento espín de la resina de curado por rayos
ultravioleta en el lado no surcado del substrato 1 se requiere que
empiece desde una posición en el área entre la marca de moldeo por
inyección 13 y el borde más interior del surco 15.
Además, como se ha explicado antes, el estado
cristalino inicial de la capa de grabación depende del aparato de
iniciación empleado en el curso de la fabricación del medio de
grabación. Por lo tanto, es preferible colocar una marca para
reconocer qué aparato de iniciación se ha empleado para iniciar el
medio de grabación en el substrato en el curso del paso de
iniciación. En este caso, una marca de este tipo puede estar
formada en el lado interior del borde más interior del surco
15.
La figura 7 es una vista frontal esquemática de
un medio de grabación óptica de cambio de fase visto desde el lado
no surcado del substrato del mismo, que explica la posición de la
marca para reconocer el aparato de iniciación. Como se representa
en la figura 7, una marca 16 de este tipo está formada entre la
marca de moldeo por inyección 13 y el borde más interior del surco
15. En ese caso, la posición de arranque desde la cual se inicia el
recubrimiento espín de la resina de curado por rayos ultravioleta
para la formación de la capa de recubrimiento duro 8 se requiere
que se coloque con una precisión extremadamente elevada, porque el
espacio para establecer la posición de arranque está adicionalmente
limitado. En este sentido, la viscosidad de la resina para
utilizarla en la capa de recubrimiento duro 8, por ejemplo, la
viscosidad de la resina de curado por rayos ultravioleta, es
extremadamente importante.
Como ondas electromagnéticas para utilizarlas en
la presente invención, las cuales se utilizan para iniciar la capa
de grabación y llevar a cabo las operaciones de grabación,
reproducción y borrado, se pueden utilizar rayos láser, rayos de
electrones, rayos X, rayos ultravioleta, rayos visibles, rayos
infrarrojos y microondas. De estas ondas electromagnéticas, los
rayos láser semiconductores se consideran los más apropiados para
utilizarlos en la presente invención porque un láser semiconductor
para producir rayos láser semiconductores es de un tamaño
compacto.
Como se ha mencionado antes, los sistemas de
accionamiento para los CD-RW han sido activamente
desarrollados y se han llevado a cabo diversas pruebas de
acoplamiento para evaluar las propiedades de acoplamiento entre los
CD-WR y los sistemas de accionamiento para los
mismos. Como resultado, se ha confirmado que se causan los
siguientes problemas, dependiendo de la combinación del sistema de
accionamiento y el CD-RW:
(1) Después de que se graben los datos en un área
de programa, se graban señales de "entrada" y "salida"
respectivamente dentro y fuera del área de programa con un
dispositivo de captación del sistema de accionamiento. Sin embargo,
cuando el dispositivo de captación lleva a cabo una operación de
búsqueda cruzando el área de programa a fin de grabar señales
"entrada" y "salida", el dispositivo de captación no
puede localizar la posición de captación necesaria.
(2) La precisión para determinar una energía de
grabación óptima para el disco de grabación empleado es tan pobre
que en algunos casos, no se puede determinar la potencia de
grabación óptima.
(3) Ocurren errores de forma creciente cuando se
lleva a cabo la operación de reproducción a una velocidad lineal
tan elevada como 6x veces la velocidad nominal del CD o más (esto
es 7,2 m/s o más).
El problema (1) anteriormente mencionado se
encontró que estaba causado por una iniciación insuficiente o
inadecuada de la capa de grabación. Cuando la iniciación de la capa
de grabación es insuficiente, el R_{sup} de la misma se
incrementa a través de la repetición de la operación de sobre
grabación. Como resultado, la magnitud de contraste y el contraste
radial de la capa de grabación decrecen hasta tal extremo que la
operación de seguimiento del dispositivo de captación se hace
inestable y no se puede llevar a cabo una búsqueda precisa.
Además, cuando la iniciación de la capa de
grabación es inadecuada, las señales de contraste y las señales
R_{f} se alteran, de forma que la operación de seguimiento del
dispositivo de captación se hace inestable y no se puede llevar a
cabo una búsqueda precisa.
El problema (2) anteriormente mencionado se
determinó que estaba causado por una energía de grabación no
óptima. Esto es así porque cuando se intentó determinar la energía
de grabación óptima, utilizando un procedimiento OPC, el grado de
modulación no se saturó incluso cuando se incrementó la energía de
grabación. Se encontró que estos problemas estaban causados también
por la iniciación insuficiente y la iniciación inadecuada
anteriormente mencionadas.
Después de diversos estudios, se encontró que es
preferible que, a fin de determinar la energía de grabación óptima,
la iniciación sea tal que la reflectancia del surco del medio de
grabación óptico sea 95% o más de la reflectancia de un surco
saturado (Rs). La reflectancia de un surco saturado significa una
reflectancia de surco máxima. La reflectancia del surco del 95% o
más de la reflectancia de surco saturado se puede obtener ajustando
adecuadamente las condiciones de iniciación, como por ejemplo la
energía de iniciación, la velocidad de desplazamiento de los medios
de aplicación de la luz sobre el medio de grabación durante la
operación de iniciación y la velocidad lineal del disco durante la
operación de iniciación, como se representa en los gráficos de las
figuras 6A, 6B y 6C.
Más específicamente, las figuras 6A, 6B y 6C
muestran gráficos los cuales respectivamente indican (a) la
relación entre la reflectancia del surco y la energía de iniciación
aplicada al disco de grabación, (b) la relación entre la
reflectancia del surco y la velocidad de desplazamiento de los
medios de aplicación de la luz sobre el disco de grabación en la
operación de iniciación y (c) la relación entre la reflectancia del
surco y la velocidad lineal del disco de grabación durante la
operación de iniciación.
Como se puede ver a partir de estos gráficos
representados en las figuras 6A, 6B y 6C, la gama óptima de la
energía de iniciación, la gama óptima de la velocidad de
desplazamiento de los medios de aplicación de la luz durante la
operación de iniciación y la gama óptima de la velocidad lineal del
disco de grabación durante la operación de iniciación se pueden
determinar de forma que se obtenga una reflectancia del surco del
95% o más de la reflectancia del surco saturado.
A fin de controlar el estado inicial de cada
medio de grabación de cambio de fase iniciado, es necesario que la
trazabilidad entre un aparato de iniciación específico y un medio
de grabación de cambio de fase específico, iniciado mediante el
aparato de iniciación, esté clarificada en una pluralidad de
aparatos de iniciación y en una serie de medios de grabación de
cambio de fase iniciados.
Para la clarificación de la trazabilidad
anteriormente mencionada y desde el punto de vista del control de
tales condiciones de iniciación, es efectivo colocar en el
substrato de cada medio de grabación de cambio de fase una marca
para identificar el aparato de iniciación mediante el cual el medio
de grabación de cambio de fase ha sido iniciado en el paso de
iniciación.
Como se ha mencionado antes con referencia a la
figura 7, es preferible que la marca 16 esté colocada en una
posición dentro del borde más interior del surco 15 mediante la
modulación de la energía de iniciación. Cuando se empleen una
pluralidad de aparatos de iniciación (por ejemplo, los aparatos nº
1 a nº 6) para llevar a cabo la operación de iniciación para discos
de grabación óptica de cambio de fase, se puede poner una marca de
un punto en el disco de grabación que haya sido sometido a la
iniciación utilizando el aparato de iniciación nº 1, a una
distancia de 21 mm desde el centro del disco y se puede poner una
marca de seis puntos de forma similar en el disco de grabación que
haya sido sometido a la iniciación utilizando el aparato de
iniciación nº 6, de tal manera que el número de puntos corresponda
al número del aparato.
Alternativamente, la posición de arranque de la
iniciación en el disco de grabación se puede cambiar para cada
aparato de iniciación.
Además, es efectivo que el substrato soporte un
tiempo absoluto en los datos previos al surco (ATIP data - Absolute
Time in Pre-groove data) incluyendo una energía de
grabación óptima predeterminada para cada disco de grabación a fin
de hacer frente en el caso en el que no se pueda determinar la
energía de grabación óptima mediante el procedimiento OPC.
El problema (3) anteriormente mencionado, esto
es, el problema de que ocurran errores de forma creciente cuando se
lleva a cabo la operación de reproducción a una velocidad lineal
tan elevada como 6x veces la velocidad nominal del CD o más (esto
es 7,2 m/s o más), ocurre cuando la reflectancia del surco del
medio de grabación es inferior a 0,18. La reflectancia del medio de
grabación se puede incrementar hasta 0,18 o más, por ejemplo, (i)
incrementando el grosor de la primera capa dieléctrica hasta 80 nm
o más, (ii) incrementando el porcentaje atómico de Sb en la
composición de la capa de grabación, (iii) reduciendo el grosor de
la segunda capa dieléctrica, o (iv) haciendo un surco más ancho y
menos profundo formado en el substrato.
El mismo efecto que se obtiene incrementando la
reflectancia del surco mencionado antes también se puede obtener
incrementando la energía de la luz de reproducción a 1,2 mW, 1,4 mW
o 1,6 mW. Cuando se tienen en cuenta la variación en el
comportamiento de los sistemas de accionamiento y el de la
reflectancia del medio de grabación, es preferible emplear una luz
de reproducción con una energía de 1,2 mW o más para una operación
de reproducción a 8x veces la velocidad nominal del CD (9,6 a 11,2
m/s). Además, para una operación de reproducción a una velocidad
nominal tan elevada como de 12x veces la velocidad nominal del CD
(14,4 a 16,8 m/s) es más adecuada una luz de reproducción con una
energía de 1,4 mW o más. Sin embargo, cuando la energía de la luz
de reproducción es 1,8 mW o más, la aparición de errores aumenta
cuando la reproducción se repite 1.000.000 veces o más.
Es deseable que los discos CD-RW
tengan por lo menos un comportamiento a la grabación de tal forma
que tenga una velocidad lineal de grabación en la gama de 2x veces
la velocidad nominal del CD a 4x veces la velocidad nominal del
CD. A una velocidad nominal de 2x veces la velocidad nominal del CD
de grabación/borrado y a una velocidad nominal de 4x veces la
velocidad nominal del CD de grabación/borrado, las respectivas
velocidades de enfriamiento del medio de grabación de cambio de
fase cuando el medio se cristaliza para el borrado y las
respectivas velocidades de enfriamiento del mismo cuando el medio
se hace amorfo para la grabación son diferentes, de forma que el
control de tales velocidades de enfriamiento es de gran
importancia. Para ser más explícitos, en un modo de una velocidad
nominal de 2x veces la velocidad nominal del CD, es relativamente
fácil cristalizar la capa de grabación para el borrado, pero es
difícil hacer amorfa la capa de grabación para la grabación. En
contraste con esto, a un modo de una velocidad nominal de 4x veces
la velocidad nominal del CD, es relativamente fácil hacer amorfa la
capa de grabación para la grabación pero es difícil cristalizar la
capa de grabación para el borrado. En particular, en el modo de
grabación a una velocidad nominal de 4x veces la velocidad nominal
del CD, el problema es que R_{sup} se reduce debido al incremento
de la energía de borrado. Por lo tanto, es efectivo disminuir la
energía de borrado como se representa en la estrategia de la figura
8B. Para ser más explícitos, es preferible que la relación de la
energía de borrado (P_{2b}) a la energía de grabación (P_{2g})
sea 0,50 o 0,54 en el modo de 2x veces la velocidad nominal del CD
y que la relación de la energía de borrado (P_{4b}) a la energía
de grabación (P_{4g}) sea 0,46 o 0,50 en el modo de 4x veces la
velocidad nominal del CD.
Otras características de esta invención se harán
evidentes en el curso de la siguiente descripción de realizaciones
ejemplares, las cuales se proporcionan como ilustración de la
invención y no se pretende que sean limitativas de la misma.
Ejemplos 1 a 9 y ejemplos comparativos 1 a
4
Un disco de substrato de policarbonato con un
grosor de 1,2 mm, provisto de un surco de guía con una anchura de
aproximadamente 0,5 \mum y una profundidad de 35 nm en un lado
del substrato se enfrió por debajo de 80ºC.
Una primera capa dieléctrica, una capa de
grabación, una segunda capa dieléctrica y una capa de reflexión de
la luz y de disipación del calor se proporcionaron sucesivamente
sobre el substrato de policarbonato anteriormente mencionado,
utilizando un aparato de deposición electrónica. El material para
las capas dieléctricas primera y segunda era ZnS\cdotSiO_{2},
la composición del objetivo de deposición electrónica para la
formación de la capa de grabación en cada uno de los ejemplos 1 a 9
y los ejemplos comparativos 1 a 4 se representa en la tabla 2 y el
material para la capa de reflexión de la luz y de disipación del
calor era una aleación de aluminio.
Además, se formó una capa de recubrimiento duro
mediante recubrimiento espín de una resina de curado por rayos
ultravioleta en la superficie no surcada del substrato de
policarbonato, con el recubrimiento espín de la resina de curado
por rayos ultravioleta empezando a partir de una posición a una
distancia de 20,5 mm del centro del disco.
Una capa de recubrimiento exterior se formó
mediante recubrimiento espín de la misma resina de curado por rayos
ultravioleta al igual que para la capa de recubrimiento duro
anteriormente mencionada sobre la capa de reflexión de la luz y de
disipación del calor. De ese modo, se fabricaron discos de
grabación óptica de cambio de fase.
Utilizando una pluralidad de aparatos de
iniciación equipados con un diodo láser provisto de un tamaño
grande de impacto de haz, se inició cada disco de grabación óptica
de cambio de fase mediante cristalización de cada capa de
grabación bajo las condiciones en las que la reflectancia del surco
alcanzara con seguridad el 95% o más de la reflectancia del surco
saturado. Además, en el caso de la operación de iniciación, una
marca de puntos que identificaba el aparato de iniciación empleado
se grabó en la superficie no surcada del substrato a una distancia
de 21 mm desde el centro del disco mediante la modulación de la
energía de iniciación.
Además, se proveyó una capa de impresión sobre la
capa de recubrimiento exterior.
De ese modo se fabricaron los medios de grabación
óptica de cambio de fase en forma de disco nº 1 a 9 en los ejemplos
1 a 9 y los medios de grabación óptica de cambio de fase en forma
de disco comparativos nº 1 a 4 en los ejemplos comparativos 1 a
4.
La tabla 2 muestra el grosor de cada una de las
capas anteriormente mencionadas, la composición del objetivo de
deposición electrónica para la formación de cada capa de grabación
y el "límite superior de la velocidad lineal de
recristalización" de cada capa de grabación.
El comportamiento de los medios de grabación
óptica de cambio de fase fabricados de ese modo se evaluaron
utilizando un sistema de accionamiento CD-RW para
la evaluación equipado con un captador con un NA de 0,5, utilizando
un rayo de luz provisto de una longitud de onda de 780 nm. La
estrategia fue la siguiente:
La relación de la energía de borrado
(P_{2b})/la energía de grabación (P_{2g}): 0,50
La relación de la energía de borrado
(P_{4b})/la energía de grabación (P_{4g}): 0,46
Energía de grabación: 13 mW (en ambos modos, 2x
veces y 4x veces la velocidad nominal del CD)
Energía de polarización: 1 mW (en ambos modos, 2x
veces y 4x veces la velocidad nominal del CD)
Energía de reproducción: 1,0 mW
Se midió la velocidad de error de bloque (BLER -
Block Error Rate) después de que la operación de sobre grabación
directa se repitiera 1.000 veces.
Los resultados se presentan en la tabla 3.
Como se muestra en la tabla 3, cuando la
operación de grabación y la operación de reproducción se llevaron a
cabo a 2x veces la velocidad nominal del CD, la velocidad de error
de bloque era inferior a 100 cps, en los ejemplos 1 a 9, de forma
que no hubo problema con estos medios de grabación para utilizarlos
en la práctica.
En el caso en el que la operación de grabación se
llevó a cabo a una velocidad de 4x veces la velocidad nominal del
CD y la operación de reproducción se llevó a cabo a una velocidad
de 2x veces la velocidad nominal del CD, existía una tendencia en
la que cuanto mayor era la relación de composición del elemento In
en la composición de la capa de grabación, mayor era la velocidad
de error de bloque.
En el medio de grabación óptica de cambio de fase
en forma de disco nº 9 fabricado en el ejemplo 9, el grosor de la
primera capa dieléctrica era tan delgado como 70 nm, de forma que
la reflectancia del disco con respecto a la luz con una longitud de
onda de 780 nm era 0,18 o inferior y fue imposible llevar a cabo la
operación de reproducción a una velocidad de 6x veces la velocidad
nominal del CD debido al incremento de la velocidad de error de
bloque. Sin embargo, la velocidad de error de bloque se redujo a
250 cps cuando la energía de reproducción se cambió de 1,0 a 1,2
mW.
(Tabla 2 pasa a página
siguiente)
VEB en la operación de reproducción (2x | VEB en la operación de | Reproducción | ||
veces la velocidad nominal del CD) después | reproducción (6x veces la | mediante luz | ||
de SGD (*) | velocidad nominal del CD) | de 650nm | ||
después de SGD (*) | ||||
Grabación a 2x | Grabación a 4x | Grabación a 2x veces la | ||
veces la velocidad | veces la velocidad | velocidad nominal del CD | ||
nominal del CD | nominal del CD | (cps)** | ||
(cps)** | (cps)** | |||
Ej. 1 | 40 | 140 | 550 | 0 |
Ej. 2 | 20 | 60 | 210 | 0 |
Ej. 3 | 12 | 32 | 110 | 0 |
Ej. 4 | 12 | 36 | 130 | 0 |
Ej. 5 | 12 | 28 | 100 | 0 |
Ej. 6 | 24 | 36 | 110 | 0 |
Ej. 7 | 20 | 56 | 95 | 0 |
Ej. 8 | 32 | 52 | 330 | 0 |
Ej. 9 | 36 | 40 | -(***) | 0 |
Ej. Comp 1 | -(***) | -(***) | -(***) | 0 |
Ej. Comp 2 | 200 | 300 | -(***) | 0 |
Ej. Comp 3 | 50 | -(***) | 500 | 0 |
Ej. Comp 4 | -(***) | 200 | -(***) | 0 |
(*) VEB indica "Velocidad de error de bloque" - SGD indica "Sobre grabación directa" | ||||
(**) cps indica "ciclos por segundo" | ||||
(***) La operación de reproducción fue imposible |
Claims (10)
1. Procedimiento de grabación de información en
un medio de grabación óptica de cambio de fase capaz de grabar
información a una velocidad lineal en una gama de 2,4 a 5,6 m/s y
de borrar información grabada en el mismo, dicho medio de grabación
óptica de cambio de fase comprendiendo un substrato, una primera
capa dieléctrica, una capa de grabación, una segunda capa
dieléctrica, una capa de reflexión de la luz y de disipación del
calor y una capa de recubrimiento exterior, dicha primera capa
dieléctrica, dicha capa de grabación, dicha segunda capa
dieléctrica, dicha capa de reflexión de la luz y de disipación del
calor y dicha capa de recubrimiento exterior estando sucesivamente
superpuestas sobre dicho substrato, dicha capa de grabación (1)
comprendiendo un material de grabación de cambio de fase el cual
comprende como elementos constituyentes Ag, In, Sb, Te y N y, o
bien, O con los respectivos porcentajes atómicos de los mismos
siendo \alpha, \beta, \gamma, \delta y \varepsilon (el
porcentaje atómico total del N y, o bien, del O), los cuales están
en la relación de:
0 < \alpha \leq 6,
3 \leq \beta \leq 15,
50 \leq \gamma \leq 65,
20 \leq \delta \leq 35,
0 \leq \varepsilon \leq 5, con la condición
de que \alpha + \beta + \gamma + \delta + \varepsilon =
100 y (2) teniendo un límite superior de la velocidad lineal de
recristalización en la gama de 2,5 hasta 5,0 m/s bajo las
condiciones en las que la relación de la energía de borrado
(P_{2b})/la energía de grabación (P_{2g}) a la velocidad lineal
en una gama de 2,4 a 2,8 es mayor que la relación de la energía de
borrado (P_{4b})/la energía de grabación (P_{4g}) a una
velocidad lineal en la gama de 4,8 a 5,6 m/s.
2. Procedimiento de reproducción de información
grabada en un medio de grabación óptica de cambio de fase capaz de
reproducir información grabada del mismo mediante el control de la
energía de reproducción de una luz de reproducción para reproducir
información grabada de acuerdo con una velocidad lineal de
reproducción, dicho medio de grabación óptica de cambio de fase
comprendiendo un substrato, una primera capa dieléctrica, una capa
de grabación, una segunda capa dieléctrica, una capa de reflexión
de la luz y de disipación del calor y una capa de recubrimiento
exterior, dicha primera capa dieléctrica, dicha capa de grabación,
dicha segunda capa dieléctrica, dicha capa de reflexión de la luz y
de disipación del calor y dicha capa de recubrimiento exterior
estando sucesivamente superpuestas sobre dicho substrato, dicha
capa de grabación (1) comprendiendo un material de grabación de
cambio de fase el cual comprende como elementos constituyentes Ag,
In, Sb, Te y N y, o bien, O con los respectivos porcentajes
atómicos de los mismos siendo \alpha, \beta, \gamma, \delta,
\varepsilon (el porcentaje atómico total del N y, o bien, del
O), los cuales están en la relación de:
0 < \alpha \leq 6,
3 \leq \beta \leq 15,
50 \leq \gamma \leq 65,
20 \leq \delta \leq 35,
0 \leq \varepsilon \leq 5, con la condición
de que \alpha + \beta + \gamma + \delta + \varepsilon =
100 y (2) teniendo un límite superior de la velocidad lineal de
recristalización en la gama de 2,5 hasta 5,0 m/s bajo las
condiciones en las que la relación de la energía de borrado
(P_{2b})/la energía de grabación (P_{2g}) a la velocidad lineal
en una gama de 2,4 a 2,8 es mayor que la relación de la energía de
borrado (P_{4b})/la energía de grabación (P_{4g}) a una
velocidad lineal en la gama de 4,8 a 5,6 m/s.
3. El procedimiento como se reivindica en las
reivindicaciones 1 ó 2 en el que dicho medio de grabación tiene una
reflectancia del surco de 0,18 o más con respecto a ambas, la luz
de reproducción que tiene una longitud de onda de 780 \pm 15 nm y
la luz de reproducción que tiene una longitud de onda de 640 \pm
15 nm.
4. El procedimiento como se reivindica en
cualesquiera de las reivindicaciones 1 a 3 en el que dicho
substrato soporta un tiempo absoluto en los datos previos al surco
(ATIP data - Absolute Time in Pre-groove data) que
incluye una energía de grabación óptima predeterminada para dicho
medio de grabación óptica.
5. El procedimiento como se reivindica en
cualesquiera de las reivindicaciones 1 a 4 en el que dicha capa de
grabación tiene una reflectancia del surco del 95% o más de la
reflectancia del surco saturado del mismo cuando dicho material de
grabación de cambio de fase se cristaliza para la iniciación de
dicho medio de grabación.
6. El procedimiento como se reivindica en
cualesquiera de las reivindicaciones 1 a 5 en el que dicha capa de
grabación transporta sobre ella una información de identificación
para identificar un aparato de iniciación utilizado para iniciar
dicho medio de grabación, utilizando una luz de iniciación provista
de una energía de iniciación predeterminada.
7. El procedimiento como se reivindica en la
reivindicación 6 en el que dicha información está grabada en forma
de una marca sobre la superficie no surcada de dicho substrato,
utilizando un rayo de luz el cual se obtiene mediante la modulación
de dicha energía de iniciación de dicha luz de iniciación.
8. El procedimiento como se reivindica en
cualesquiera de las reivindicaciones 1 a 7 adicionalmente
comprendiendo una capa de recubrimiento duro la cual está provista
sobre la superficie no surcada de dicho substrato, opuesta a dicha
primera capa dieléctrica con respecto a dicho substrato.
9. El procedimiento como se reivindica en la
reivindicación 8 en el que dicha capa de recubrimiento duro tiene
un grosor de 2 a 6 \mum y una dureza de lápiz de H o más.
10. El procedimiento como se reivindica en la
reivindicación 8 o la 9 en el que dicha capa de recubrimiento duro
comprende una resina de curado por rayos ultravioleta la cual tiene
una viscosidad de 40 cps o más a temperatura ambiente antes del
curado.
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