DE763223C

DE763223C - Verfahren zur Herstellung gleichmaessiger Unterlage-Schichten fuer Kathoden von Photozellen

Info

Publication number: DE763223C
Application number: DEZ25127D
Authority: DE
Inventors: Wilhelm Lang
Original assignee: Zeiss Ikon AG
Current assignee: Zeiss Ikon AG
Priority date: 1939-03-07
Filing date: 1939-03-07
Publication date: 1953-08-03

Description

Verfahren zur Herstellung gleichmäßiger Unterlage-Schichten für Kathoden von Photozellen Bei der Herstellung von Photozellen ist es oft wegen der Form der Zelle nicht möglich, gleichmäßige Schichten zu bekommen. Dies trifft sowohl für Photozellen mit metallischer Unterlage zu* als auch für solche, deren aktive Schicht irgendeine Legierungskomponente eines anderen Metalls enthält. Wenn z. B. die Dicke der Zelle sehr klein, die, Kathodenfläche im Durchmesser aber sehr groß ist; so ist es nicht möglich, die Glühspirale od. dgl., in der sich das zu verdampfende Metall befindet, weit genug von der Kathode entfernt aufzustellen. Ungleichmäßigkeiten der entstehenden Metallschicht bzw: Ungleichmäßigkeiten in der Verteilung der Legierungskomponente sind dann die Folge.
Dieser Übelstand wird nicht durch ein bekanntes Verfahren zur Herstellung von lichtelektrischen Zellen beseitigt, bei dem das Caesium in die Zelle eindestilliert wird, ''während diese sich einschließlich der Kathode auf einer Temperatur von etwa zoo° C befindet, zumal sich bei der Beschreibung des bekannten Verfahrens kein Hinweis befindet, daß eine gleichmäßige Schicht erzielt werden soll.
Die Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst; daß das Unterlagematerial, insbesondere die Unterlagemetallschicht, und bziv. oder dessen Legierungskomponenten unter gleichzeitiger Erhitzung des ganzen Photozellengefäßes, für das eine Glassorte mit einem dem Verdampfungspunkt deb.
-entsprechenden jeweils benutgen-Schmelzgunlt ---wählt «ird, zur Verdampfung gebracht werden und @da& Stunde Gefäß alsdann gleschnläßig inry@Aalb i Stunde abgekühlt wird. .-f-' Die Men14,e '-d19 man von dem zu verdamp4edA tall in die Zelle einführt, wird so bemessen, daß die geforderte Schichtdicke. entsteht. Die Höhe der Erhitzung der Zelle richtet sich nach dem jeweils verwendeten Metall selbst. Sie beträgt beispielsweise bei Verdampfung von Antimon und Wismut zwecks Herstellung einer Legierungskathode etwa i5o' C. Nach der Verdampfung wird das Gefäß langsam etwa i Stunde abgekühlt.

Claims

PATENü::NSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung gleichmäßiger Unterlage-Schichten für Kathoden von Photozellen, dadurch gekennzeichnet, daß das Unterlagematerial, insbesondere die Unterlagemetallschicht, und bzw. oder dessen Legierungskomponenten unter gleichzeitiger Erhitzung des ganzen Photozellengefäßes, für das eine Glassorte mit einem dem Verdampfungspunkt des jeweils benutzten Materials entsprechenden Schmelzpunkt gewählt wird, zur Verdampfung gebracht werden und daß das Gefäß alsdann gleichmäßig innerhalb etwa i Stunde abgekühlt wird.
2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß eine derartige Menge des Unterlagqmaterials bzw. der Legierungskomponenten in das Zellengefäß. eingebracht wird, daß die geforderte Schichtdicke entsteht.
3. Verfahren nach den Ansprüchen i und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gefäß bei Verwendung der Legierungskomponenten Antimon und Wismut während der Verdampfung auf einer Temperatur von 15o° C gehalten und alsdann langsam abgekühlt wird. Zur Abgrenzung des Erfindungsgegenstands vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden: Deutsche Patentschrift Nr. 634 o26; , österreichische-Patentschrift Nr. 146124; britische Patentschrift Nr. 4.6a o12.