DE875698C - Verfahren zur Herstellung einer Photokathode - Google Patents

Description

• Die Erfindung bezieiht_ sich auf Verbesserungen von photoempfindlichen Schichten und -betrifft speziell solche Oberflächen, die eine spektrale Empfindlichkeit haben, welche annähernd gleich der des menschhahen Auges ist und: .auf ein Verfahren zur Herstellung solcher Oberflächen. In :der Patentschrift 546 75,2- wird ein Verfahren zur Herstellung photoempfindlicher Schichten beschrieben, welches im wesentlichen .darin besteht, daß Silber auf einen Wismutbelag niedergeschlagen und darauf oxydiert wird und schlieIßlich ein Alkalimetall, z. B. Caesium, auf die zusammengesetzte Schicht niedergeschlagen wird, während letztere erhitzt wird.
• Gemäß der Erfindung wird dieses Verfahren dahingehend abgeändert, daß an Stelle des Silberbelags die Wismutschicht oxydiert wird. Die Herstellung einer photoempfindlichen Oberfläche gemäß der Erfindung wird im folgenden an Hand der Figur erläutert.
• Der erste Schritt des Verfahrens besteht darin, metallisches Wismut auf einen Träger u aufzudampfen, der aus der Glaswand eines evakuierten Behälters besteht. Diese Wismutschicht 2 wird oxydiert, entweder durch Erhitzen .der Schicht in einer Sauerstoffatmosphäre oder durch Entladung in Sauerstoff bei einer geeigneten Temperatur. Silber 3 wird als nächstes auf die Wismutox'ydschicht aufgedampft und anschließend ein AlkaIimetall, z. B. Caesium 4, auf die zusammengesetzte Wismutoxyd-Silberschicht, während die zusammengesetzte Schicht auf einer Temperatur von ir5o bis 2io:o° C gehalten wird. Vorzugsweise soll Alkalimetall nur in solchem Maße auf die zusammengesetzte Schicht aufgedampft werden, bis alles Wismutöxyd reduziert ist, .denn wenn ein Überschuß an Caesium aufgedampft wird, so bildet dies eine Verbindung mit dem metallischen Wismut, was einen zerstörender' Effekt auf die Photoempfindlichkeit der Schicht im roten Licht awsübt. Nachdem das Caesium auf die zusammengesetzte Schicht aufgedampft ist, wird letztere gebacken und die Oberfläche oxydiert, bis .die höchste Empfindlichkeit -oder die gewünschte spektrale Empfindlichkeit 'erreicht ist. Es zeigt sich. daß es durch geeigneten Abgleich der Materialmengen, welche die nach oben beschriebenem Verfahren erzeugte zusammengesetzte Schicht bilden, möglich ist; eine photoempfindliche Oberfläche zu schaffen, die eine spektrale Empfin@dliehkeit hat, welche annähernd gleich der des menschlichen Auges ist, obgleich sie innerhalb eines gewissen Bereiches durch Veränderung der in der Schicht vorhandenen Mengen der verschiedenen Substanzen verändert werden scann.

Claims (1)

1. PATENTANSPRÜCHE: r. Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Oberfläche gemäß Patent 846 752, dahingehend abgeändert, .daß an Stelle des Silberbelags die Wismutschicht oxydiert wird. Verfahren nach Anspruch a zur Herstellung einer photoempfindlichen Oberfläche, insbesondere mit einer spektralen Empfindlichkeit, die derjenigen des menschlichen Auges annähernd entspricht, dadurch gekennzeichnet, daß auf einen Träger ein Wnsrnutbelag niedergeschlagen wird, dieser Wismutbelag oxydiert wird, Silber auf .die Wsmutoxydschicht niedergeschlagen wird und daß schließlich ein Alkaiimetall, z. B. Caesium, auf die zusammengesetzte Wismutoxyd-Silberschicht niedergeschlagen wird, während letztere erhitzt wird. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkalimetall auf die zusammengesetzte Wismütoxyd-Silberschicht bei einer Temperatur von 15o bis 9-oo° niedergeschlagen wird. q.. Verfahren nach einem der obigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die zusammengesetzte Schicht nach dem Niederschlag des Alkalfxnetalls und dem Erhitzen der Schicht oberflächenoxydiert wird, bis eine maximale Photoempfindlichkeit erreicht ist.