DE837904C - Verfahren zur Herstellung photoelektrischer Elektroden - Google Patents

Verfahren zur Herstellung photoelektrischer Elektroden

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DE837904C
DE837904C DEC3097A DEC0003097A DE837904C DE 837904 C DE837904 C DE 837904C DE C3097 A DEC3097 A DE C3097A DE C0003097 A DEC0003097 A DE C0003097A DE 837904 C DE837904 C DE 837904C
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DE
Germany
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fluoride
metal
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silver
alkali metal
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Expired
Application number
DEC3097A
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English (en)
Inventor
Alfred Sommer
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Cinema Television Ltd
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Cinema Television Ltd
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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J40/00—Photoelectric discharge tubes not involving the ionisation of a gas
    • H01J40/02—Details
    • H01J40/04—Electrodes
    • H01J40/06—Photo-emissive cathodes

Landscapes

  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

  • Die Erfindung bezieht. sich auf Verbesserungen l)ei photoempfindlichen Schichten und auf Verfahren zur Herstellung solcher Schichten, insbesondere solcher, die ein Alkalinietall enthalten.
  • Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Her-@tellung einer photoempfindlichen Schicht besteht darin, eine Schicht aus einem Fluorid eines Metalls, das kein Alkalimetall oder Erdalkalimetall ist, auf einen metallischen Träger, z. B. Silber, niederzuschlagen und ein Alkalimetall, vorzugsweise Caesium, auf die Fluoridschicht aufzudampfen.
  • Gemäß einem Merkmal der Erfindung wird zunächst das Metallfluorid auf einen metallischen Träger, vorzugsweise Silber, aufgedampft und anschließend auf die Fluoridschicht ein Alkalimetall.
  • Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird an Hand der Zeichnung beschrieben. Silberfluorid wird auf eine Silbergrundschicht i, die sich auf der \`'ailc15 eines evakuierten Kolbens befindet, aufgedampft, bis eine Fluoridschicht 2 von geeigneter Dicke erreicht ist. Caesium wird dann auf die Fluoridschicht aufdestilliert, während diese auf einer Temperatur von etwa 150 bis 200° C gehalten wird. Nach dem Aufbringen der Caesiumschicht 3 wird die zusammengesetzte Schicht einem Erwärmungsprozeß unterworfen, bis sie eine maximale Photoempfindlichkeit besitzt. Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, nach dem Aufdampfen des Caesiums und vor oder anschließend an den Erwärmungsprozeß zusätzlich Silber oder Silberfluorid 4 auf die Schicht aufzudampfen oder eine Oberflächenoxydation der Schicht um eine Änderung der spektralen Empfindlichkeit zu erzielen.

Claims (7)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst eine Schicht aus einem Fluorid eines Metalls, das kein Alkali- oder Erdalkalimetall ist, auf einen metallischen Träger, z. B. Silber, aufgebracht wird und daß anschließend ein Alkalimetall, vorzugsweise Caesium, auf die Fluoridschicht aufgedampft wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch t, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst ein Fluorid eines Metalls auf einen metallischen Träger, z. B. Silber, aufgebracht wird und anschließend ein Alkalimetall auf die Fluoridschicht aufgedampft wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch'i oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Metall, welches mit dem Fluor in dem niedergeschlagenen Fluorid verbunden ist, das gleiche ist wie das Metall des Trägers.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das aufg=edampfte Metallfluorid Silberfluorid ist.
  5. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein zusätzliches Metall, z. B. Silber, oder ein. zusätzliches Metallfluorid, z. B. Silberfluorid, nach dem Niederschlagen des Alkalimetalls auf die Schicht aufgedampft wird.
  6. 6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche i bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht nach dem Niederschlagen von Alkalimetall oberflächenoxydiert wird.
  7. 7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Fluoridschicht während des Niederschlagens von Alkahmetall erhitzt wird, z. B. auf eine Temperatur zwischen 150 und 200° C. B. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht anschließend an das Niederschlagen von Alkalimetall erhitzt wird.
DEC3097A 1941-03-10 1950-10-03 Verfahren zur Herstellung photoelektrischer Elektroden Expired DE837904C (de)

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