DE713401C - Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht fuer Photozellen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht fuer PhotozellenInfo
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- DE713401C DE713401C DEZ22670D DEZ0022670D DE713401C DE 713401 C DE713401 C DE 713401C DE Z22670 D DEZ22670 D DE Z22670D DE Z0022670 D DEZ0022670 D DE Z0022670D DE 713401 C DE713401 C DE 713401C
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Classifications
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/12—Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes
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Description
- Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht für Photozellen Die Erfindung betrifft, eine neue lichtempfindliche Schicht für Photozellen, die im sichtbaren Splektralgebiet sehr große Empfindlichkeit besitzt. Da man die neue licht-@empfindliche Schicht auch dünn genug herstellen kann, daß sie lichtdurchlässig wird, ist leine mit dieser Schicht hergestellte Photozelle besonders vorteilhaft brauchbar für Fannsehzwecke, da man mit ihr ein Fernsehaufnahmerohr bauen kann, welches sich für Tageslichtaufnahmen :eignet.
- Das Verfahren für die Herstellung der Schicht ist folgendes: Auf einem geeigneten Träger wird Beine dünne Schicht von Antimon oder Wismut aufgedampft. Vorteilhaft führt man dann dieser Schicht Sauerstoff oder seine Homologen zu, der von ihr. adsorbiert wird. Alsdann wird auf die so vorgearbeitete Antimon- oder Wismutschicht Caesium oder Ruhidium aufgedampft. Durch eine weitere besondere Behandlung der Schicht, beispielsweise durch @#@'ärmeb,ehandlung, dringt das Caesium bziv. Rubidiu:m in die Antimon- bzw. Wismutschicht ein und bildet eine Legierung. Diese so hergestellte Schicht ist sehr lichtempfindlich und besitzt diese Empfindlichkeit über das ganze siehtbare Sp:ektralgehiet.
- Benötigt man keine lichtdurchlässigq Schicht, so wird man die öbenerwähnten Schichten stärker auftragen. Stets m-uß man aber dafür sorgen, daß sich die Legierung bilden kann. Verwendet man statt des Caesiums das oben bereits erwähnte 'Rubidium, so verhält man eine Zelle, deren höchste Licht-,empfindlichkeit mehr nach dem Ultraviolett verschoben ist.
Claims (1)
- # PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung einerlicht-,empfindlichen Schicht für Photozellen, dadurch gekennzeichnet, daß auf .eine Antimon- oder Wismutschicht eine Schicht von Caesium oder Rubidium aufgedampft wird und danach diese Schichten einer besonderen Behandlung, z. B. einer Wärmebehandlung, so lange unterworfen werden, bis sich die beiden genannten metallschichten miteinander legiert haben. a. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Antimon- oder Wismutschicht mit Sauerstoff . oder seinen Homologen behandelt wird und danach erst die Caesium bzw. Rubidiumschicht aufgedampft wird. 3. Lichtempfindliche Schicht, dadurch gekennzeichnet, d:aß diese aus einer gegebenenfalls mit Sauerstoff oder seinen Homologen vorbehandelten Antimon- oder Wismutschicht und .einer mit dieser legierten Schicht aus Caesium oder Rubidium besteht.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEZ22670D DE713401C (de) | 1935-08-09 | 1935-08-09 | Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht fuer Photozellen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEZ22670D DE713401C (de) | 1935-08-09 | 1935-08-09 | Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht fuer Photozellen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE713401C true DE713401C (de) | 1941-11-06 |
Family
ID=7625703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEZ22670D Expired DE713401C (de) | 1935-08-09 | 1935-08-09 | Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht fuer Photozellen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE713401C (de) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE967684C (de) * | 1938-12-15 | 1957-12-05 | Cinema Television Ltd | Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Schicht aus einem Alkalimetall und einem mit diesem eine Legierung bildenden Metall |
| DE973156C (de) * | 1948-03-25 | 1959-12-10 | Hilger & Watts Ltd | Verfahren zur Herstellung lichtelektrisch leitender Schichten fuer Photowiderstaende |
| DE973817C (de) * | 1951-03-05 | 1960-06-15 | Licentia Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Trockengleichrichters |
| DE1148442B (de) * | 1956-08-11 | 1963-05-09 | Kurt Bertrams | Fotoelektrisches Lichtmessorgan fuer fotografische Kameras |
-
1935
- 1935-08-09 DE DEZ22670D patent/DE713401C/de not_active Expired
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|---|---|---|---|---|
| DE967684C (de) * | 1938-12-15 | 1957-12-05 | Cinema Television Ltd | Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Schicht aus einem Alkalimetall und einem mit diesem eine Legierung bildenden Metall |
| DE973156C (de) * | 1948-03-25 | 1959-12-10 | Hilger & Watts Ltd | Verfahren zur Herstellung lichtelektrisch leitender Schichten fuer Photowiderstaende |
| DE973817C (de) * | 1951-03-05 | 1960-06-15 | Licentia Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Trockengleichrichters |
| DE1148442B (de) * | 1956-08-11 | 1963-05-09 | Kurt Bertrams | Fotoelektrisches Lichtmessorgan fuer fotografische Kameras |
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