DE861297C - Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten - Google Patents

Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten

Info

Publication number
DE861297C
DE861297C DEP5844A DEP0005844A DE861297C DE 861297 C DE861297 C DE 861297C DE P5844 A DEP5844 A DE P5844A DE P0005844 A DEP0005844 A DE P0005844A DE 861297 C DE861297 C DE 861297C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
alloy
photosensitive layers
production
antimony
cesium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEP5844A
Other languages
English (en)
Inventor
Walter Dr-Ing Heimann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
PYCHLAU KG DR
Original Assignee
PYCHLAU KG DR
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by PYCHLAU KG DR filed Critical PYCHLAU KG DR
Priority to DEP5844A priority Critical patent/DE861297C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE861297C publication Critical patent/DE861297C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J40/00Photoelectric discharge tubes not involving the ionisation of a gas
    • H01J40/02Details
    • H01J40/04Electrodes
    • H01J40/06Photo-emissive cathodes

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten Die Erfindung betrifft die Herstellung lichtempfindlicher Schichten für Fernsehröhren, Photozellen, Bildwandler u. a. m.
  • Diese Schichten wurden bisher so hergestellt, daßi zunächst eine dünne Schicht aus Antimon oder ähnlichem auf den Träger aufgedampft wurde, von der man Sauerstoff absorbieren ließ. Sodann wurde auf die erste Schicht eine zweite aus Caesium aufgedampft. Alsdann ließ' man die beiden Schichten durch eine entsprechende Wärmebehandlung miteinander legieren.
  • Abgesehen -davon, daß dieses Verfahren sehr kompliziert und langwierig ist, ist es nicht möglich, auf diese Art die Anteile der gewünschten Legierung willkürlich fest in der Hand zu haben. Außerdem kann bei diesem Verfahren nur von einer mutmaßlichen Legierung gesprochen werden, -da keine Sicherheit dafür besteht, daß die Schichten sich vollständig zu einer neuen Legierung verbunden haben.
  • Man hat daher versucht, die so hergestellten lichtempfindlichen Schichten durch verschiedenartige zusätzliche und Nachbehandlungen zu vergüten.
  • Bei Schichten, die über den Gesamtbereich des sichtbaren Spektrums ansprechen sollen, ist eine außerordentlich hohe Empfindlichkeit erforderlich, außerdem müssen sie so dünn sein, daß sie für Tageslicht durchlässig sind. Diese Forderungen lassen sich durch die bekannten Verfahren nicht erfüllen.
  • Nach der Erfindung wird nun ein neuer Weg beschritten, indem zunächst in einem geeigneten Behälter aus genau bestimmten Anteilen z. B,. von Antimon und Caesium unter Vakuum eine Legierung erschmolzen wird. Dieses wird vorteilhaft dadurch erreicht, daß' durch eine bestimmte, in gasförmigen Zustand gebrachte Menge Caesium eine ebenfalls vorbestimmte Menge Antimon hindurchgeschossen wird. Hierbei verbinden sich die beiden Metalle zu einer eindeutig bestimmtenLegierung. DerBehälter ist'naturgemäß vorher evakuiert, bei weiterlaufender Vakuumpumpe eventuell auch gekühlt, und besteht aus einem temperatur- und druckfesten Werkstoff, z. B. Hartglas, Quarz oder Platin.
  • Aus diesem Behälter wird die fertige Legierung durch entsprechende Erhitzung in die eigentliche Zelle übergedampft, wobei die Zellen gegebenenfalls auf die erforderliche Kondenstemperatur gekühlt werden. Ein besonderer Vorteil dieses Verfahrens besteht außer der einwandfreien Legierung darin, daß eine größere Menge Zellen gleichzeitig an den Legierungsbehälter angesetzt werden und die Legierung zu gleicher Zeit übergedampft werden kann, wodurch eitle außerordentlich gleichmäßige und billige Herstellung erzielt wird.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten von Fernsehrohren, Photozellen, Bildwandlern u. a. m., dadurch gekennzeichnet, daß die Photoschicht aus einer im Vakuum erschmolzenen Legierung z. B.. aus Antimon, Caesium bzw. und/oder sonstigen geeigneten Stoffen durch Erhitzen in die Photozelle eingedampft wird. a. Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Legierung in einem evakuierten temperatur- und druckfesten Behälter z. B. aus Hartglas, Quarz, Platin oder ähnlichen geeigneten Stoffen hergestellt und aus diesem gegebenenfalls gleichzeitig in eine Mehrzahl von Zellen übergedampft wird, wobei gegebenenfalls die Zellen selbst gekühlt bzw. tiefgekühlt werden. 3. Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten nach Anspruch i und a, dadurch gekennzeichnet, daß die zum Eindampfen bestimmte Legierung dadurch hergestellt wird, daß'Antimon durch gasförmiges Caesium durchgeschossen wird.
DEP5844A 1951-07-08 1951-07-08 Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten Expired DE861297C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEP5844A DE861297C (de) 1951-07-08 1951-07-08 Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEP5844A DE861297C (de) 1951-07-08 1951-07-08 Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE861297C true DE861297C (de) 1952-12-29

Family

ID=7360253

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEP5844A Expired DE861297C (de) 1951-07-08 1951-07-08 Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE861297C (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2146985A1 (de) Anordnung zur Herstellung von elektronischen Bauelementen
DE2624781C3 (de) Elektronenemittierende Elektrode und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2113336A1 (de) Vorrichtung zum Aufbringen von duennen Werkstoffschichten
DE861297C (de) Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten
DE1444521B2 (de) Verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung
DE1521950B2 (de) Verfahren zur herstellung eines oxydbelages auf einem vor zugsweise einkristallinen halbleiterkoerper und anwendung des verfahrens zum vergleichmaessigen der oberflaeche und zum dotieren
DE2450834C3 (de) Verfahren zum Aluminisieren der Innenseite der Schirmwanne einer Fernsehbildröhre
DE2252197A1 (de) Duennschicht-halbleitervorrichtung und verfahren zu ihrer herstellung
DE1937954C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen durch Niederschlagen der Legierungsbestandteile aus deren Dampfphasen
DE803919C (de) Verfahren zur Herstellung einer Kathode einer elektrischen Entladungsroehre
DE1254428B (de) Verfahren zum Herstellen lichtempfindlicher Bleiselenidschichten durch Aufdampfen imVakuum
DE744768C (de) Verfahren zum Aufdampfen von Metallen auf mehrere im gleichen Gefaess befindliche, verschieden zu behandelnde Photo- und/oder Sekundaeremissionselektroden und Anordnung zu seiner Durchfuehrung
DE840127C (de) Verfahren zur Herstellung von Elektronenroehren, die sowohl photo-elektrische als auch Sekundaerelektronen emittierende Schichten enthalten
DE1060053B (de) Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern mit einem mehrschichtigen Halbleiter mit verschiedenem Gehalt an Halogen und elektropositiven Zusaetzen in den einzelnen Schichten
DE1204494B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Aufdampfen von Schichten aus einer bei Aufdampftemperatur nicht bestaendigen, als Halbleiter-Grundstoff verwendbaren Stoechiometrisch genaubestimmten Mehrstoffverbindung
DE967684C (de) Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Schicht aus einem Alkalimetall und einem mit diesem eine Legierung bildenden Metall
DE899694C (de) Verfahren zur Herstellung von photoelektrisch wirksamen Kathoden bzw. Kathoden fuer Vervielfacherroehren
DE1295725B (de) Verfahren zur Herstellung einer Elektronenroehre mit einer photoempfindlichen Schicht in einem Vakuumraum
AT156752B (de) Verfahren zur Herstellung durchscheinender bzw. durchsichtiger Photokathoden.
DE1446232C (de) Verfahren zum Aufdampfen einer dünnen Halbleiterschicht
DE875698C (de) Verfahren zur Herstellung einer Photokathode
DE972320C (de) Verfahren zur Herstellung eines Films aus einer organischen Substanz auf der koernigen oder Unregelmaessigkeiten enthaltenden Oberflaeche der Leuchtsubstanz eines Fluoreszenzschirmes einer Kathodenstrahlroehre
DE1933236B2 (de) Verfahren zur herstellung von roehren fuer rohrfoermige elektronenvervielfacher
DE656524C (de) Photoelektrische Zelle mit aeusserem lichtelektrischem Effekt
DE904445C (de) Verfahren und Anordnung zum Schutze von Sekundaeremissionsschichten