DE1937954C3 - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen durch Niederschlagen der Legierungsbestandteile aus deren Dampfphasen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen durch Niederschlagen der Legierungsbestandteile aus deren DampfphasenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Legierungen duii.-h Niederschlagen der Legierungsbestandteile aus deren Dampfphasen, wobei die
Legierungsbestanc^etle aus mehreren Verdampfungsquellen gleichzeitig im Vakuum auf einen Kollektor
aufgedampft werden.
Aus der AT-PS 2 36 185 ist es hekannt, ein als
quasi-stillstehend zu betrachtendes Sujslratmetallband
mit einem aufgedampften Legierungsüberzug zu versehen, indem aus mehreren Tiegeln, welche die einzelnen
Legierungsbestandteile enthalten, die Legierungsbestandteile quasi-gleichzeitig auf das den Kollektor
bildende Subslratmetall aufgedampft werden. Das Verdampfen der einzelnen Legierungsbestandteile
erfolgt mit Hilfe von Elektronenslrahlbündeln, von denen jedem Tiegel ein Elektronenstrahlbündel zugeordnet
ist, das hinsichtlich Intensität und Verweilzeit
entsprechend dem gewünschten Mengenanteil der betreffenden Legierungskomponente in der aufgedampften
Legierung gesteuert wird.
Außerdem ist es aus der GB-PS 8 13251 bekannt, eine
Mehrzahl von mit einem aufgedampften Metallüberzug zu versehenden Platten am Umfang eines mit geringer
Geschwindigkeit um eine horizontale Achse umlaufenden Halterahmens anzubringen und durch Drehsn
dieses Rahmens die jeweils einen Kollektor darstelleiden Platten langsam mehrmals über eine stillstehende
Verdampfungsquelle hinwegzubewegen, bis die gewünschte Überzugsdicke erreicht ist. Hierbei wird
allerdings keine Legierung, sondern nur ein einziges Metall aufgedampft.
Während die beiden eben erörterten bekannten Verfahren ebenso wie andere allgemein bekannte
Metallaufdampfverfahren zur Herstellung einer dünnen Überzugsschicht auf einem Substratmetall, im allgemeinen
zur Erzeugung einer edleren Deckschicht auf einem unedlen Sübstfätrrietäll, Anwendung finden, liegt disr
Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren di:r eingangs genannten Art zur Herstellung dicker, nä.mliiüh
eine Dicke von mehr als etwa 0,25 mm aufweisende^ Legierungsschichten zu entwickeln, die nach Ablösung
vom Kollektor als technische Werkstoffe, d. h. Halbzeug, verwendbar und selbständig durch spanlose oder
spangebende Formung weiterverarbeitbar sind.
Hierbei tritt aber eine Reihe von Problemen auf. Es ist
nämlich nicht möglich, derartige dicke, vom Kollektor ablösbare und selbständig weiterverarbeitbare Legierungsschichten einfach dadurch herzustellen, daß bei
Anwendung bekannter Aufdampfverfahren der Aufdampfvorgang zeitlich bis zum Erreichen der gewä :sch-
m ten großen Schichtdicke verlängert wird. Es hat sich
nämlich gezeigt, daß bei einfacher Verlängerung der Aufdampfzeit bei herkömmlichen Aufdampfverfahren
bis zum Erreichen einer großen Schichtdicke ein stetiges Kornwachstum in der sich auf dem Kollektor
niederschlagenden Legierungsschicht auftritt, wodurch ein grobkörniges Gefüge mit von der Kollektoroberfläche
aus sich in Richtung zur Verdampfungsquelle hin über die gesamte Dicke der aufgedampften Legierungsschicht
erstreckenden säulenförmigen Kristallen ent-
ZO steht Ein solches grobkörniges Gefüge würde aber das
Produkt für eine Weiterverarbeitung völlig ungeeignet machen. Außerdem weist das entstehende grobkörnige
Gefüge, das man beim Herstellen einer großen Schichtdicke durch lediglich entsprechend langes
Aufdampfen erhält, interkristalline Poren auf, in weiche n.ich Beendigung der im Hochvakuum stattfindenden
Aufdampfung Sauerste<f aus der Luft eindringt, was zu
interkristalliner Korrosion führen kann.
Es kommt deshalb bei der Herstellung einer dicken, als selbständiger Werkstoff verwendbaren und bearbeitbaren
Legierungsschicht durch Niederschlagen der Legierungsbestandteile aus deren Dampfphasen daruaf
an, in der niedergeschlagenen and erstarrenden Legierungsschicht ein feinkörniges Gefüge zu erreichen,
das der fertigen, vom Kollektor abgelösten Legierungsschicht eine ausreichende mechanische Eigenfestigkeit
und die im Hinblick auf eine Weiterverarbeitbarkeit durch spanlose oder spangebende Formung wünschenswerten
metallurgischen Eigenschaften "erleiht.
Ein weiteres Problem bei der Herstellung einer dicken Legierungsschicht durch Niederschlagen der
Legierungsbestandteile aus deren Dampfphasen auf einem Kollektor liegt darin, eine innige Durchmischung
und gleichmäßige Verteilung der Legierungsbestandtei-Ie
in der niedergeschlagenen Legierungsschicht innerhalb deren gesamter Schichtdicke und somit ein
homogenes Produkt zu erzielen.
Die eben erläuterte Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß die Legierungsbestand·
teile, während der temperaturgeregelte Kollektor mit 50 U/min bis 1500 U/min gedreht wird, aus den um die
Kollektordrehachse herum verteilt angeordneten Verdampfungsquellen zu einer Legierungsschichl von mehr
als 0,25 mm Dicke auf den Kollektor aufgedampft werden.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren läuft jede Stelle des Kollektors ständig nacheinander über alle
Verdampfungsquellen hinweg, und /war aufgrund der hohen Kollektordrehzahl in schneller Folge, so daß die
herzustellende dicke Legierungsschicht praktisch aus einer Vielzahl hauchdünner aufeinanderfolgender
Schichtelemente aus den einzelnen Legierungskomponenten aufgebaut wird- Dadurch wird einerseits eine
innige und gleichmäßige Verteilung der Legierungsbe-
standteile in dem entstehenden Legierungsschichlkörper erreicht, und andererseits erhält man, da die
einzelnen Legierungsbestandteile, wozu auch die Temperatursteuerung des Kollektors beiträgt, in jedem
Schichtelement Kristallisationskerne bilden und mit dem Niederschlag jedes weiteren Schichtelements
jeweils ein neues Kristallwachstum beginnt, ein sehr feinkörniges Gefüge, das praktisch frei von jeglicher
interkristalliner Porosität ist
Eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach der Erfindung weist als Kollektor eine um eine
vertikale Achse umlaufende Kreisscheibe und als Verdampfungsquellen unterhalb des Kollektors mit
gleichmäßigen "Wmkelabständen um die Kollektordrehachse
herum radial angeordnete Tröge auf.
Die Erfindung wird nachstehend beispielsweise mit Bezug auf die Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 einen Schnitt durch eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach der Erfindung,
F i g. 2 einen Schnitt durch eine Verdampfungsquelle
der Vorrichtung, und
Fig.3 eine schematische Draufsicht auf eine abgewandelte
Verdampfungsquellenanordnung.
Die in F i g. 1 gezeigte Vorrichtung weist ein Vakuumgefäß 10 auf, das mittels einer Ö'diffusionspumpe
11 evakuiert werden kann. Zur Beobachtung des Druckes im Vakuumgefäß 10 dient ein Ionisationsmanometer
IZ
Im Vakuumgefäß 10 befinden sich zwei Verdampfungstiegel
13 und 14 mit zugehörigen elektrischen Heizeinrichtungen 15 und 16, die über durch Dichtungen
19 und 20 in das Vakuumgefäß eingeführte elektrische Leitungen 17 und 18 gespeist werden. Die Verdampfungstiegel
13 und 14 sind mit beweglichen Abdeckungen 21 und 22 versehen, die über durch Dichtungen 25
und 26 der Vakuumgefäßwand hindurch nach außen verlaufende Gestänge mit äußeren Betätigungsorganen
23 und 24 verbunden sind.
An einer vertikalen Welle 28 ist ein drehbarer Kollektor 27 angeordnet, der aus einer Kollektorplatte
29 und einem diese tragenden Temperatursteuerrohr 30 besteht Die Welle 28 ist in Lagern 31 und 32 drehbar
gelagert die in einem abnehmbar am Vakuumgefäß befestigten lagergehäuse angeordnet sind. Zur
vakuumdichten Abdichtung ist das Lagergehäuse mit Dichtungsringen 34, 35 und 36 versehen, die an der
Welle 28 anliegen. Der Raum 37 zwischen deii beiden Lagern 31 und 32 wird über eine Hilfsvakuumpumpe 38
evakuiert
Der Kollektor 27 wird über einen mit der Welle 28
verbundenen Riementrieb mittels eines Motors 39 in Umlauf versetzt
An einer Platte 41 ist eine die Welle 28 umschließende Wasserkammer 40 befestigt, in welche durch Einlaßleitungen
42 und 43 Wasser eintritt, das zur Temperatursteuerung des Kollektors durch innerhalb der Welle 28
gebildete Kanäle in den Kollektor hinein und über Rückleitungskanäle innerhalb der Welle und Abflußleitungen
44 und 45 wieder abfließt. Das Maß des Wärmeaustausche des Wassers mit dem Kollektor 27 ist
durch ein nicht dargestelltes Regelsystem mit innerhalb des Kollektors angeordneten verstellbaren Organen
regelbar. Ein mit der Welle 28 über einen Riementrieb 47, 48 verbundener Drehzahlmesser 46 dient zur
Überwachung der Kollektordrehzahl.
F i g. 2 zeigt einen Schnitt durch eine der in F i g. 1 nur schematisch angedeuteten Verdampfungsquellen, die
einen Glaskohletiegel 13 aufweist, der auf drei hohlen Molybdänbeinen 100 ruht, von denen eines ein
Thermoelement 1Oi im Anzeige der Verdampfungsquellentemperatur
beherbergt. Die Wärme wird durch eine Tantalblech-Heizeinrkhtung 15 erzeugt, die sich
innerhalb eines Strahlungsschirmes 102 befindet. Für jede zu verdampfende Legierungskomponente 103 ist
ein derartiger gesonderter Tiegel vorgesehen.
Fig.3 zeigt in schematischer Draufsicht eine
abgewandelte Verdampfungsquellenanordnung mit drei Tragen 110, die jeweils einen Legierungsbestandteil
enthalten und mit gleichen Winkelabständen von jeweils 120° um die Kollektordrehachse herum radial
angeordnet sind. Die in den Tragen 110 enthaltenen Legierungsbestandteile werden jeweils mit Elektronenstrahlen
aus Elektronenstrahlquellen 112 erhitzt, wobei Verdampfungstemperatur und -intensität der einzelnen
Legierungsbestandteile unabhängig voneinander gesteuert werden können.
Die Legierungsbestandteile werden verdampft, während
der temperaturgesteuerte Kollektor sich mit der gewünschten Drehzahl über den Verdampfungstiegeln
bzw. -trögen in Umlauf befindet Nacn Erreichen der gewünschten Schichtdicke wird die hergestellte Legierungsschicht
vom Kollektor abgelöst Gewünschtenfalls kann die Legierungsschicht vorher η :.Α mittels einer
nicht gezeigten, innerhalb des Kollektors abgeordneten Heizeinrichtung einer Wärmebehandlung unterzogen
werden.
Nachstehend werden einige Ausführungsbeispiele des Verfahren angegeben:
Eine Aluminium-Nickel-Legierung wurde aus zwei
Verdampfungstiegeln auf einen mit etwa 2 cm Abstand oberhalb derselben befindlichen Kollektor mit einem
Durchmesser von 16 cm aufgedampft, wobei der Kollektor mit einer Drehzahl von 400 U/min gedreht
und auf einer Temperatur von 300° C gehalten wurde.
Es wurde eine Legierungsschicht von etwa 3,5 mm Dicke hergestellt, die ein Gewicht von 139 g und einen
Nickelgehalt von etwa 7% hatte. Ein 25 mm χ 80 mm großer Abschnitt dieser Legierungsschicht wurde in
sechs Durchgängen mit jeweils dazwischenliegen iem Anlassen bis auf eine Restdicke von 0,8 mm warmgewalzt.
Die Zugfestigkeit der gewalzten Probe betrug 340 N/mm2 und ihre Bruchdehnung 5,5%.
Eine Aluminium-Eisen-Legierung mit 5,2% Eisen wurde bei einer Kollektortemperatur von 1500C und
einer Kollektordrehzahl von 85 U/min hergestellt. Ein Probestück der erzeugten Legierungsschicht wurde bei
einer Temperatur von 320°C in zwei Stufen von einer Dicke von 3 mm auf 15 mm heruntergepreßt und
anschließend bei einer Temperatur von 250"C in vier Durchgängen auf eine Dicke von 0,6 mm gewalzt. Bei
einem anschließenden Zugversuch ergab sich eine Zupfes'igleit von 480 N/mm2 und eine Bruchdehnung
von 8%.
Eine aus einer Aluminium-Eisen-Legierungsschicht, die bei einer Kollektortemperatur von 150°C und einer
Kollektordrehzahl von 170 U/min hergestellt wurde, herausgeschnittene Probe wurde zunächst bei einer
Temperatur von 300°C von einer Dicke von 43 n-m auf
eine Dicke von 1,6 mm heruntergepreßt und anschließend
in vier Durchgängen bei einer Temperatur von 3000C auf eine Restdicke von 0,6 mm heruntergewalzt.
Ein Zugversuch ergab eine Zugfestigkeit von 450 N/mm2 und eine Bruchdehnung von 4%.
Eine Mikroprobenanalyse des Probenlängsquer-
Schnitts ergab, daß der Eisengehalt nicht gleichmäßig war und und zwischen 1,0% und 3,4% lag.
Eine Aluminium-Titan-Legierung wurde bei einer Kollektortemperatur von 380°C und einer Kollektordrehzahl
von 400 U/min niedergeschlagen und hatte einen Titangehalt von 6,5%. Das Erzeugnis würde bei
einer Temperatur von 3000C von einer Dicke von
2,8 mm in zwei Stufen auf eine Dicke von U2mrri |o
gepreßt. Eine sodann herausgeschnittene Probe ergab beim Zugversuch eine Zugfestigkeit von 450 N/mm2 und
eine Bruchdehnung von 5%, während eine weitere Probe, die jedoch während 1000 h auf einer Temperatur
von 2000C gehalten worden war, beim Zugversuch eine
Zugfestigkeit von 610 N/mm'·1 und eine Bruchdehnung
Eine Aluminium-Chrom-Legierungsschicht mit etwa 5,5% Chrom wurde bei einer Kollektortemperatur von
300° C und einer Kollektordrehzahi von 400 U/min niedergeschlagen. Eine Probe dieses Niederschlags
wurde bei einer Temperatur von 350° C in zwei Stufen von einer Dicke von 3,5 mm auf eine Dicke von 1,2 mm 2s
heruntergepreßt und anschließend in vier Durchgängen auf eine Restdicke von 0,7 mm warmgewalzt und
schließlich während 1000 h auf 200°C gehalten. Der Zugversuch ergab eine Zugfestigkeit von 360 N/mm2.
Eine weitere Probe, die lediglich bei einer Temperatur von 34O0C auf eine Restdicke von 1,4 mm gepreßt
wurde, zeigte beim Zugversuch eine Zugfestigkeit von 410 N/mm2. Die Bruchdehnung betrug in beiden Fällen
4%.
Eine Aluminiuni-Mangan-Legierung wurde durch Aufdampfen der Legierungsbestandteile bei einer
Kollektortemperatur von 300°C und einer Kollektordrehzahi von 400 U/min hergestellt. Die Maximaldicke
des Niederschlags betrug 4 mm und der Mangangehalt 5,0%.
Eine Alu!ninii!ni-NiGkc!-L;ecri€runticci?^'G^' ^1'* 4-^%
Nickel und einer Maximaldicke von 3,3 mm wurde hergestellt, wobei nach einer anfänglichen Anlaufphase
mit höherer Kollektortemperatur Und gefingerer Kollektordrehzahl eine Kollektortemperatur von 177° C
und eine Kollektordrehzahl von 1000 U/min eingestellt wurde. Eine Probe des Niederschlags, die zunächst auf
eine Dicke von 2,5 mm heruntergepreßt und anschließend auf eine Resitdicke von 0,6 mm gewalzt wurde,
zeigte 'Seim Zugversuch eine Zugfestigkeit von 500 N/mm2 und eine Bruchdehnung von 6%.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1. Verfahren zur Herstellung von Legierungen durch Niederschlagen der Legierungsbestandteile
aus deren Dampfphasen, wobei die Legierungsbestandteile
aus mehreren Verdampfungsquellen
gleichzeitig im Vakuum auf einen Kollektor aufgedampft werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Legierungsbestandteile, während
der temperaturgeregelte Kollektor mit 50 U/min bis 1500 U/min gedreht wird, aus den um
die Kollektordrehachse herum verteilt angeordneten Verdampfungsquellen zu einer Legierungsschicht
von mehr als 0,25 mm Dicke auf den Kollektor aufgedampft werden.
Z Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Kollektor (29) eine um eine vertikale Achse umlaufende Kreisscheibe ist und daß die Verdam|jfungsquellen
di: Form von unterhalb des Kollektors
mit gleichmäßigen Winke'.abständen um die Kollektordrehachse
herum radial angeordneten Trögen (110) haben.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB3573068 | 1968-07-26 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1937954A1 DE1937954A1 (de) | 1970-01-29 |
DE1937954B2 DE1937954B2 (de) | 1979-03-29 |
DE1937954C3 true DE1937954C3 (de) | 1979-11-22 |
Family
ID=10380956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19691937954 Expired DE1937954C3 (de) | 1968-07-26 | 1969-07-25 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen durch Niederschlagen der Legierungsbestandteile aus deren Dampfphasen |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
AT (1) | AT297352B (de) |
BE (1) | BE736672A (de) |
CA (1) | CA920006A (de) |
CH (1) | CH543598A (de) |
CS (1) | CS184305B2 (de) |
DE (1) | DE1937954C3 (de) |
FR (1) | FR2014745A1 (de) |
GB (1) | GB1265965A (de) |
NL (1) | NL168562C (de) |
NO (1) | NO129055B (de) |
SE (1) | SE362446B (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1433753A (en) * | 1972-07-14 | 1976-04-28 | Secr Defence | Temperature control |
EP0091734A1 (de) * | 1982-04-06 | 1983-10-19 | The Secretary of State for Defence in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and | Massenproduktion von Legierungen durch Abscheidung aus der Dampfphase und Vorrichtung hierfür |
GB8430509D0 (en) * | 1984-12-04 | 1985-01-09 | Secr Defence | Alloy production |
JP2593319B2 (ja) * | 1987-10-09 | 1997-03-26 | 株式会社アサヒ電子研究所 | ファイル等被検索物の個別検索装置 |
GB2248852A (en) * | 1990-10-16 | 1992-04-22 | Secr Defence | Vapour deposition |
-
1968
- 1968-07-26 GB GB1265965D patent/GB1265965A/en not_active Expired
-
1969
- 1969-07-25 CS CS523369A patent/CS184305B2/cs unknown
- 1969-07-25 CA CA057946A patent/CA920006A/en not_active Expired
- 1969-07-25 SE SE1051169D patent/SE362446B/xx unknown
- 1969-07-25 FR FR6925625A patent/FR2014745A1/fr not_active Withdrawn
- 1969-07-25 NO NO308569A patent/NO129055B/no unknown
- 1969-07-25 DE DE19691937954 patent/DE1937954C3/de not_active Expired
- 1969-07-25 NL NL6911507A patent/NL168562C/xx not_active IP Right Cessation
- 1969-07-28 BE BE736672D patent/BE736672A/xx not_active IP Right Cessation
- 1969-07-28 CH CH1148669A patent/CH543598A/de not_active IP Right Cessation
- 1969-07-28 AT AT728269A patent/AT297352B/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6911507A (de) | 1970-01-28 |
NO129055B (de) | 1974-02-18 |
CS184305B2 (en) | 1978-08-31 |
GB1265965A (de) | 1972-03-08 |
AT297352B (de) | 1972-03-27 |
CH543598A (de) | 1973-10-31 |
SE362446B (de) | 1973-12-10 |
BE736672A (de) | 1969-12-31 |
FR2014745A1 (de) | 1970-04-17 |
DE1937954A1 (de) | 1970-01-29 |
DE1937954B2 (de) | 1979-03-29 |
NL168562B (nl) | 1981-11-16 |
NL168562C (nl) | 1982-04-16 |
CA920006A (en) | 1973-01-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |