DE2711714A1

DE2711714A1 - Vakuum-aufdampfvorrichtung

Info

Publication number: DE2711714A1
Application number: DE19772711714
Authority: DE
Inventors: Tokio Hachioji; Tadaaki Hirai; Kiyohisa Inao; Sachio Ishioka; Eiichi Maruyama; Hideaki Yamamoto
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1976-03-19
Filing date: 1977-03-17
Publication date: 1977-09-22
Also published as: US4121537A; NL173542C; JPS5527624B2; GB1532183A; FR2344643A1; DE2711714B2; JPS52113379A; NL7702869A; NL173542B; FR2344643B1

Description

Beschreibung

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Die Erfindung betrifft eine Vakuum-Aufdampfvorrichtung, mit deren Hilfe Komponenten mit unterschiedlichen Dampfdrücken beliebig gesteuert werden können, so daß Filme mit gewünschtem Komponentenverhältnis oder Gradienten des Verhältnisses hergestellt werden können.

Beim Vakuumaufdampfen von Schichten, die aus zwei oder mehr unterschiedlichen Elementen bestanden, wurde bisher entspannungsaufgedampft (flashing evaporation) oder es wurden Hehrfachaufdampfverfahren benutzt mit einer Vielzahl Schiffchen, die die Abweichungen der Zusammensetzung aufgrund unter- schiedlicher Dampfdrücke der Elemente verhindern sollten. Beim Entspannungsaufdampfen wird das Ausgangsmaterial Stück für Stück in ein auf hohe Temperatur geheiztes Schiffchen eingebracht, worauf die Stückchen innerhalb kurzer Zeit verdampfen. Mit diesem Verfahren weichen die Mengen der einzelnen Bestand teile vergleichsweise wenig von den vorbestimmten Werten ab. Nachteil dieses Verfahrens ist jedoch, daß Fehler in dem aufgedampften Film auftreten können, da das Ausgangsmaterial abrupt geschmolzen und verdampft wird. Darüberhinaus kann das Komponentenverhältnis des aufgedampften Films in Richtung der

Filmdicke nur sehr schwer kontinuierlich geändert werden.

Beim gemeinsamen Aufdampfen mit Hilfe einer Vielzahl Schiffchen können die Komponenten des aufgedampften Films beliebig gewählt werden. Da jedoch die Abstände der einzelnen Schiffchen zu den verschiedenen Punkten des zu bedampfenden Substrats nicht gleich sind, wird das Komponentenverhältnis an den einzelnen Bereichen der Oberfläche des aufgedampfen Films ungleichmäßig.

In der US-Patentschrift 3 8oo 194 wird ein dem zyklischen Aufschichten einer großen Zahl dünner Schichten der

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einzelnen Komponenten gleichendes Verfahren vorgeschlagen. Nach diesem Verfahren werden die Dampfströme aus einer Vielzahl Dampfquellen mit Hilfe eines Fühlers vom Ionisationstyp oder einer Schichtdicken-Uberwachungseinrichtung gemessen und ge steuert. Ein Film mit gewünschtem Komponentenverhältnis wird durch ein Drehaufdampf-Verfahren erhalten. Nachteil des Verfahrens ist jedoch, daß der die Aufdampfgeschwindigkeit oder die Dicke des aufgedampfen Films messende Fühler nicht am gleichen Ort jangebracht ist, wie das zu bedampfende Substrat, so daß die tatsächlich auf das Substrat aufgedampfte Substanzmenge und die von dem Fühler erfaßte Dampfmenge nicht stets exakt übereinstimmen.

Aufgabe der Erfindung ist es, die vorstehend erläuterten Nachteile zu vermeiden und eine Vakuumaufdampfvor- richtung für MehrqueIlen-Aufdampfung anzugeben, mit deren Hilfe die Aufdampfmenge und die Aufdampfgeschwindigkeit jedes der Bestandteile mit Hilfe einer Schichtdicken-Uberwachungseinrichtung erfaßt und das Zusammensetzungsverhältnis in Richtung der Schichtdicke mit hoher Genauigkeit entsprechend einem ge wünschten Zusammensetzungsprofil des aufgedampften Films ge steuert werden kann.

Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 angegebenen Merkmale gelöst.

Gemäß der Erfindung ist wenigstens eine Schicht-

dicken-Uberwachungseinrlchtung vorgesehen, die an einem Drehtisch, welcher die zu bedampfenden Substrate trägt, angebracht ist. Die Überwachungseinrichtung mißt aufeinanderfolgend die Dicke dünner Schichten, die der Reihe nach von den einzelnen Abdampfschiffchen aufgebracht werden und führt sie in Form eines elektrischen Signals einer Steuereinrichtung zu. Die Steuereinrichtung unterteilt und umverteilt die auf diese Weise erhaltene Schichtdicken-Information zeitlich aufeinanderfolgend

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in Schichtdicken-Informationen/ die den von den einzelnen Schiffchen aufgedampften Substanzen zugeordnet sind. Sie ermittelt wenigstens eine der Aufdampfgeschwindigkeiten sowie die Aufdampfmenge jedes der Schiffchen und steuert die Dampfmengen, die von den einzelnen Schiffchen auf das Substrat auf treffen, indem sie die ermittelten Werte mit entsprechenden Werten eines vorgegebenen Aufdampfprogramms vergleicht.

In einem erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, daß die auf die Substrate auftreffenden Dampf mengen der einzelnen Schiffchen in der Weise gesteuert werden, daß die Steuereinrichtung wenigstens einen der Heizströme der Schiffchen sowie die Größe von öffnungen steuert, die zwischen Blenden und Schlitzen von Schirmen festgelegt sind, welche zwischen den Schiffchen und den zu bedampfenden Substraten an geordnet sind.

In einer anderen Ausführungsform der Erfindung sind den Schiffchen Schichtdicken-Uberwachungseinrichtungen zugeordnet, von denen wenigstens eine überwachungseinrichtung am Drehtisch zwischen den Schiffchen und den Blenden angebracht ist und die Verdampfungsmengen der zugeordneten Schiffchen unmittelbar erfaßt. Die.Signale der Schichtdicken-Überwachungseinrichtungen werden auf die Energiequellen der Schiffchen zurückgekoppelt und halten die Verdampfungsmengen der Schiffchen konstant. Die auf die zu bedampfenden Substrate auf- treffenden Dampfmengen werden in der Weise gesteuert, daß die Steuereinrichtung die Größe der Offnungen zwischen den Blenden und den Schlitzen in den Schirmen zwischen den Schiffchen und den zu bedampfenden Substraten steuert.

Im folgenden soll die Erfindung anhand von Zeichnungeη näher erläutert werden, und zwar zeigt:

Fig. 1a eine Prinzipdarstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung;

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Fig. 1b eine Draufsicht auf einen in der Vorrichtung nach Fig. 1a benutzten Drehtisch;

Fig. 2 ein Diagramm zur Erläuterung eines bei der erfindungs-

gemäßen Vorrichtung angewandten Unterteilungsverfahrens für die Zeitfolge;

Fig. 3 ein prinzipielles Blockschaltbild einer im Rahmen der Erfindung benutzten Steuereinrichtung; und

Fig. 4 einen Teilschnitt durch die Vorrichtung nach Fig. 1b entlang der Linie IV-IV.

Beispiel 1

Fig. 1a zeigt eine prinzipielle Darstellung einer erfindungsgemä&en Vorrichtung. Die Vorrichtung weist ein Unterteil 1 sowie eine glockenförmige Haube 2 auf, die zusammen eine Vakuumkammer bilden. Die Kammer ist über ein Ventil 3 mit einer Vakuumpumpe 4 verbunden. Zu bedampfende Substrate 5 sind auf einem*Drehtisch 6 angeordnet* der über eine drehbare Helle 7 von einem Antriebsmotor 8 gedreht wird. Bei Drehung des Drehtische 6 werden die darauf angeordneten, zu bedampfenden Substrate 5 über Abdampfschiffchen 9 und 1o hinwegbewegt, so daß sich die Dämpfe der Schiffchen zyklisch darauf niederschlagen können. Die Dämpfe der Abdampfschiffchen 9 und Io werden bis auf Teile» die sich in speziellen Richtungen ausbreiten, von Schirmen 11 und 12 zurückgehalten. Auf diese Heise kann die Verunreinigung der Vakuumkammer 1,2 verhindert werden. Die Menge der zum Drehtisch 6 gerichteten Dämpfe, die auf die Substrate 5 pro Zeiteinheit niedergeschlagen werden soll, kann durch Steuern der Öffnungsgröße von Schlitzen 13 und 14 in den Schirmen 11 bzw. 12 sowie durch von außen antreibbare Blenden 15 und 16 gesteuert werden. Zum Messen der

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auf die Substrate 5 aufgedampften Mengen ist eine Kristall-Schichtdicken-Überwachungseinrichtung 17 in gleicher Stellung wie die Substrate 5 auf dem Drehtisch 6 angeordnet. Auf diese Heise kann über eine durch die Welle 7 tretende Leitung die Dicke der aufgedampften Schicht von außen gemessen werden. Das Signal der Schichtdicken-Uberwachungseinrichtung 17 wird einer Steuereinrichtung 18 zugeführt. In der Steuereinrichtung 18 wird überprüft,ob ein momentan durchgeführtes Aufdampfprogramm mit der tatsächlichen Schichtdicken-Information übereinstimmt.

Das Ergebnis der Überprüfung wird in eine Steuerinfirmation umgewandelt, mit deren Hilfe Energiequellen 19 und 2o der Abdampfschiffchen 9 bzw. 1o sowie Blendenantriebe 21 und 22 gesteuert werden.Auf diese Weise können die von den einzelnen Abdampfschiffchen auf den Substraten 5 aufgedampften Mengen gesteuert werden. In Fig. 1b ist eine Draufsicht auf den Drehtisch 6 dargestellt, die den örtlichen Zusammenhang zwischen den zu bedampfenden Substraten 5 und der Schichtdicken-Überwachungseinrichtung 17 zeigt. In der Figur ist mit 3o ein Vorsprung bezeichnet, der als Markierungspunkt der Drehung dient.

Fig. 2 zeigt die Dickenänderung des mit Hilfe der Drehaufdampfvorrichtung aufgebrachten Mehrschichtfilms in Abhängigkeit von der Zeit. Es soll angenommen werden, daß von den Abdampfschiffchen 9 und 1o gleichzeitig die Substanzen A bzw. B abgedampft werden, wenn sich der Drehtisch 6 mit gleichbleibender Drehzahl dreht. Die Dicke des auf das Substrat 5 aufgebrachten Films ändert sich damit entsprechend Fig. 2. Wenn sich das Substrat 5 über dem Abdampfschiffchen 9 befindet, so nimmt die Filmdicke durch Aufdampfen der Substanz A zu; wenn es sich über dem Abdampfschiffchen 1o befindet, so wird die Filmdicke durch Aufdampfen der Substanz B erhöht. Befindet sich das Substrat 5 über keinem der beiden Abdampfschiffchen, so bleibt die Filmdicke konstant. Werden, wie im vorliegenden Beispiel, zwei Sorten von Abdampfschiffchen benutzt,

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so erhält man durch das zyklische Aufbringen der beiden Schichtsorten einen Mehrschichtfilm der Art A, B, A, B ... . Die Dicke der von den einzelnen Abdaxupfschif fchen während jeder Drehung des Drehtischs 6 abgeschiedenen Schichten kann nach Fig. 2 durch Teilen der über die einzige Schichtdicke-Uberwachungseinrichtung 17 erhaltenen, zeitlich aufeinanderfolgenden Filmdicke-Information ermittelt werden. Beispielsweise Können zu den Zeitpunkten t-, t./ t. ... die Meßwerte TCt₁), T(t₂)/T(t₃) ... ermittelt worden sein. Die einzelnen

Schichtdicken werden dann wie folgt gemessen:

T(t₂) - T(t-) « A-; dies entspricht der Dicke der ersten Schicht der Substanz A.

T(t-) - T(t₂) ^B B-; dies entspricht der Dicke der ersten Schicht der Substanz B.

T(t.) - T(t₃) » A,; dies entspricht der Dicke der

zweiten Schicht der Substanz A.

T(te) - T(t₄) « B₂; dies entspricht der Dicke der zweiten Schicht der Substanz B, und so weiter ... .

Dementsprechend kann die gesamte Schichtdicke und

die Aufdampfgeschwindigkeit ebenfalls ermittelt werden. A = A₁ + A₂ + ... gibt die gesamte Schichtdicke der Substanz A allein an, während B » B- + B₂ + ... die gesamte Schichtdicke der Substanz B allein angibt. Die Aufdampfgeschwindigkeit der Substanz A um den Zeitpunkt t- herum ist A-/(t₂ - t-), während B-/(t₃ - t-) die Aufdampfgeschwindigkeit der Substanz B um den Zeitpunkt t₂ herum bezeichnet. Der Einfachheit halber wurden bei den vorstehenden Erläuterungen lediglich zwei Abdampfschiffchen erwähnt. Mit Hilfe der Erfindung läßt sich aber grundsätzlich auch von einer großen Anzahl Abdampfschiffchen

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gleichzeitig aufdampfen,wenn die Schiffchen entlang dem Umfang des Drehtische angeordnet sind. Weiterhin wurde lediglich eine einzige Kristall-Schichtdicken-Überwachungseinrichtung 17 erläutert. Eine weitere Kristall-Schichtdicken-Überwachungseinrichtung 31 kann zwischen den Abdampfschiffchen 9 und 1o und den Blenden 15 und 16 in der Weise am Drehtisch 6 angebracht sein, daß die von den letzteren nicht abgehaltenen Dampfströme ständig überwacht werden. Auf diese Weisekönnen die von den einzelnen Abdampfschiffchen abgegebenen Dampfmen-Ιο gen auf ähnliche Weise wie vorstehend beschrieben unabhängig von der Stellung der Blenden überwacht werden. Alternativ können die Abdampfmengen dadurch konstant gehalten werden, daß den einzelnen Abdampfschiffchen feststehende Schichtdicken-Überwachungseinrichtungen 32 bzw. 33 zugeordnet sind. Die überwachungseinrichtungen sind in der Vakuumkammer angeordnet und ermöglichen die Steuerung der Ströme der Abdampfschiffchen bei kontinuierlicher überwachung der Aufdaxipfgeschwindigkeit unabhängig von der Drehung des Drehtische 6.

3 zeigt zur Erläuterung des Konstruktionsprinzips ein Beispiel eines Blockdiagramms der Steuereinrichtung Die Schichtdicke wird als Änderung der Schwingfrequenz eines Quarzoszillators mittels eines Detektors 23 erfaßt. Der Detektor 23 mißt die Schichtdicke auf ein Signal eines Triggergenerators 24 hin, der die Zeitlage der Ermittlung, beispielsweise für den Zeitpunkt t~ einen Anfangszeitpunkt t₂₁ und einen Endzeitpunkt t,,! synchron zur Drehung des Drehtische 6 bestimmt. Mit 29 ist ein Detektor für den Markierungspunkt 3o bezeichnet. Die Schichtdicken-Information wird einem Rechner 25 zugeführt, der die Aufdampfmenge jedes AbdampfSchiffchens berech net. Die Aufdampfmenge wird mit einem aus einer Programmierstufe 26 zugeführten Programm verglichen und das Ergebnis wird einer Blendensteuerstufe 27 sowie einer Schiffchenstrom-Steuerstufe 28 zur Steuerung des öffnungswinkels der Blende bzw. zur Steuerung des Schiffchenstrome zugeführt.

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Die Erfindung betrifft dem Grunde nach ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtfilms. Insbesondere bei der Herstellung eines dünnen Films, welcher mehrere Elemente mit unterschiedlichen Dampfdrücken bei willkürlichen Komponenten* Verhältnissen enthält, kann die Erfindung vorteilhaft angewandt werden. Sofern die Komponenten so gleichförmig wie möglich vermischt sein sollen, soll die Dicke jeder Schicht der einzelnen Komponenten vorzugsweise dünner als 1o nm sein. Ein aufgedampfter Film mit einer großen Anzahl dünner Schich ten derartiger Dicke kann bei einer Gesarotdicke des Films von 1 ,um und mehr sowohl elektrisch als auch optisch als gleichförmiges Material angesehen werden.

Nachfolgend soll ein Anwendungsbeispiel der erfindungsgemäßen Einrichtung erläutert werden. Hierbei wurde ein dünner Film aus 9o Atom-% Se und 1o Atom-% As hergestellt. Als Abdampfschiffchen 9 nach Fig. 1a wurde ein mit Se gefülltes Tantalschiffchen benutzt; als Abdampf schiffchen 1o wurde ein mit As gefülltes Tantalschiffchen verwendet. Die Vakuumkammer 1«2 wurde auf einen Druck von 1 χ Ιο" Torr evakuiert. Der Drehtisch 6 wurde mit einer Drehzahl von 1oo U/min, gedreht. Die Schiffchen 9 und 1o wurden mit Strom beaufschlagt und die Blenden 15 und 16 wurden nachdem die Verdampfung mit im wesentlichen konstanter Geschwindigkeit begonnen hatte, zum Freigeben der Ablagerung geöffnet. Auf der Grundlage der aus dem Signal der Schichtdicken-Überwachungseinrichtung abgetrenntem Aufdampfgeschwindigkeits-Information steuerte die Steuereinrichtung 18 den öffnungswinkel der Blenden 15 und 16 derart, daß das Gewichtsverhältnis des aufgedampften Se zum aufgedampften As einem Atomverhältnis von 9:1 entsprach. Sofern die Auf dampfmengen nicht Innerhalb des Steuerbereichs der Blenden ge steuert werden können, werden zusätzlich die Ströme der Abdampf schiffchen gesteuert. Auf diese Weise wurden Schichten aufgedampft, von denen jede Schicht der einzelnen Elemente •twa 1 nm dick war und die zyklisch aufgebracht wurden, bis ein

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Film der gewünschten Dicke vorlag.

Beispiel 2

Es wurde ein dünner Film mit einer Gesamtdicke von

4 »um hergestellt, bei dem Se, As und Te in Richtung der Filmdicke ein spezielles Zusammensetzungsprofil hatten. Drei Tantalschiffchen wurden mit Se, As₂Se- bzw. Te gefüllt und in die Aufdarapfvorrichtung eingebracht. An den einzelnen Schiffchen wurden Schichtdicke-Ubsrwachungseinrichtungen angebracht und es wurden die Schiffchenströme so gesteuert, daß die einzelnen Komponenten mit vorbestimmten Geschwindigkeiten von den Schiffchen während des Aufdampfbetriebs abgedampft wurden. Hie in Beispiel 1 wurde der Drehtisch mit einer Drehzahl von 1oo U/min, gedreht und die von den Blenden und den Schlitzen bestimmten Öffnungsgrößen wurden derart programmgesteuert, daß die von den einzelnen Komponenten aufgedampften Mengen das gewünschte Zusammensetzungsprofil ergaben. Die von den einzelnen Schiffchen auch tatsächlich aufgedampften Mengen wurden dadurch ermittelt, daß ein Signal der am Drehtisch befestigten Schichtdicken-Uberwachungseinrichtung zeitlich aufeinanderfolgend ge~ teilt und in dem Rechner umgerechnet wurde. Die auf diese Weise erhaltenen Vierte wurden zur Kompensation der öffnungswinkel der Blenden mit einem Programm verglichen. Die Aufdampfmengen wurden in der Weise gesteuert, daß die Dicke der Einzelschichten jeder Komponente 5 nm oder weniger betrug. Der Aufdampfbetrieb wurde abgeschlossen, als die Gesamtdicke 4 ,um erreicht hatte.

Wie die vorstehenden Beispiele zeigen, kann mit Hilfe der Erfindung ein dünner Film auf einer Vielzahl Elemente mit unterschiedlichen Dampfdrücken bei beliebigen und genau gesteuerten Zusammensetzungsprofilen innerhalb des dünnen Films hergestellt werden. Wenn die Dicke der Einzelschich-

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ten jedes der Abdampfschiffchen, wie vorstehend erläutert wurde, kleiner als Io mn ist, so kann der auf diese Weise erhaltene dünne Film einem Film gleichgesetzt werden, der aus einem Material besteht, dessen Komponenten im wesentlichen gleich förmig vermischt sind. Wenn die Dicke der Einzelschichten größer als einige 1o mn ist, so entspricht der Aufbau des dünnen Films einem aufgedampften Mehrschichtfilm aus Substanzen mit unterschiedlichen Eigenschaften, wie sie beispielsweise in einem Interferenzfilter gefordert werden. Der durch ein derartiges Verfahren hergestellte dünne Film ist in Abhängigkeit von den verwendeten Bestandteilenvlelseitig anwandbar, beispielsweise als Aufnahmeelektrode von einer Bildaufnahmeröhre, als Lichtempfänger etwa in einem Festkörperfühler und als optischer Bestandteil etwa in einem Inter- ferenzfilter. Die erfindungsgemäße Vorrichtung ermöglicht bei guter Reproduzierbarkeit außerordentlich gleichförmige Filme.

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Claims

PATENTANWÄLTE
SCHIFF ν. FÜNER STREHL SCHÜBEL-HOPF EBBINGHAUS

MARIAHILFPLATZ 2*3, MÖNCHEN ΘΟ POSTADRESSE: POSTFACH 95 O1 6O, D-8OOO MÖNCHEN 95

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HITACHI, LTD. 17, März 1977

DA-5427

Vakuum-Aufdampfvorrichtung

Patentansprüche

11. Vakuum-Aufdampfvorrichtung, gekennzeichnet durch eine mit einer Vakuumpumpe (4) verbundene Vakuumkammer (1, 2), durch einen in der Vakuumkammer (1, 2Jangeord neten, mittels eines Antriebsmotors (6) drehbaren Drehtisch (6), der zumindest auf einem Teil seines Umfangs zu bedampfende Substrate (5) trägt, durch eine Vielzahl den Substraten (5) gegenüberliegend angeordnete Abdampfschiffchen (9, 1o), durch Heizeinrichtungen (19, 2o, 28) für die Abdarapfschiffchen (9, 1o), durch wenigstens eine an dem Drehtisch (6) angebrachte Schichtdicken-Oberwachungseinrichtung (17), die bei jedem

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an jedem der Abdampfschiffchen (9, 1o) vorbeigeführten Durchlauf der Substrate (5) von den einzelnen Abdampfschiffchen (9/ 1o) auf ihr aufgedampfte Substanzmengen erfaßt und durch eine Steuereinrichtung (18), die ein Signal der Schichtdicken-Überwachungseinrichtung (17) aufnimmt, in zeitlicher Reihenfolge unterteilt und wenigstens eine der Aufdampfgeschwindigkeiten und die Gesamtdampfmenge jedes der Abdampfschiffchen (9, 1o) ermittelt und die auf die Substrate (5) auftreffende Dampfmenge jeder der Abdampfschiffchen durch Vergleich des ermittelten Werts mit einem durch ein vorgegebenes Aufdampfprogramm vorbestimmten Wert steuert.
2. Vakuum-Aufdampfvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß zwischen den Abdampfschiffchen (9, 1o) und den Substraten (5) mit Öffnungen, insbesondere Schlitze (13, 14) versehene Schirme (11, 12) sowie Blenden (15, 16) angeordnet sind und daß die Steuereinrichtung (18) zur Steuerung der von den einzelnen Abdampfschiffchen (9, 1o) auf die Substrate (5) aufgedampften Daropfmengen die Größe der durch die Schirme (11, 12) und Blenden (15, 16) bestimmten Öffnungen steuert.
3. Auf dampf vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Steuereinrichtung (18) zur Steuerung der von jedem der Abdampfschiffchen (9, 1o)

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auf die Substrate (5) aufgedampften Dampfmenge die Heizeinrichtungen (19, 2o, 28) der Abdampfschiffchen (9, 1o) steuert.
4. Aufdampfvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß jedem der Abdampfschiffchen (9, 1o) eine Schichtdicken-Uberwachungseinrichtung (32, 33) zugeordnet ist, die die vom zugeordneten Abdampfschiffchen (9, 1o) abgegebene Dampfmenge unmittelbar erfaßt und daß die Signale der Schichtdickenüberwachungseinrichtungen (32, 33) auf die Heizeinrichtungen (19, 2o, 28) der Abdampfschiffchen (9, 1o) zurück gekoppelt sind und die Abdampfmengen der Abdampfschiffchen (9, 1o) konstant halten.
5. Aufdampfvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß wenigstens eine Schichtdicken-Überwachungseinrichtung (31) zwischen den Abdampfschiffchen (9, 1o) und den Blenden (15, 16) derart am Dreh- tisch (6) angebracht ist, daß sie die Abdampfmengen der Abdampfschiffchen (9, 1o) direkt erfaßt und daß die Signale dieser Schichtdicken-Überwachungseinrichtung (31) bzw. Einrichtungen auf die Heizeinrichtungen (19, 2o, 28) der Abdampfschiffchen (9, 1o) zurück gekoppelt sind und die

Abdampfmengen der Abdampfschiffchen (9, 1o) konstant halten.

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