DE3044977C2 - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Magnetbeschichtungen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von MagnetbeschichtungenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer beidseitigen Magnetbeschichtung einer Platte gcmaß
dem Oberbegriff des Patentanspruches 1, sowie eine entsprechende Vorrichtung zur Durchführung des
Verfahrens.
Aus der gattungsgemäßen DE-OS 23 57 517 ist ein
Verfahren zur Herstellung von Magnetschichten von Magnetspeicherplatten bekannt, bei dem auf beide Seiten
einer horizontal angeordneten Platte eine flüssige Dispersion aus magnetischem Material aufgespritzt
wird, wobei die Platte sich mit einer Geschwindigkeit von etwa 100 bis 500 U/min dreht, und anschließend
wird die gewünschte Schichtdicke durch Rotation der Scheibe bei höherer Geschwindigkeit, insbesondere bei
bis 3000 U/min eingestellt. Bei diesem Verfahren ist nachteilig, daß das abgeschleuderte Magnetbeschichtungsmaterial
sich auf der Bodenplatte sammelt und daher auf der Unterseite der Platte ein höherer Dampfdruck
des Lösungsmittels des Beschichtungsmatcrials vorhanden ist als auf der Oberseite der Platte. Dem
zufolge trocknet die Oberseite schneller, das auf der Oberseite befindliche Beschichtungsmaterial erhält bei
einem Trockenvorgang schneller eine höhere Viskosität als das auf der Unterseite befindliche Beschichlungsmaterial,
und infolge dessen bildet sich auf der oberen Oberfläche eine dickere Beschichtung aus als auf der
unteren Seite der Platle. Im Falle von Beschichtungen,
deren Dicken im inneren Bereich der Platte etwa ein 1 μηι beträgt, wird die Differenz zwischen den Dicken
der Beschichtungen der beiden Seiten recht hoch- und
erreicht einen Wert von 40% und mehr. Solche Dickenunterschiede führen aber zu unterschiedlichen Aufzcichnungseigenschaften
der beiden Plattenseiten.
Bei der US-PS 31 98 657 wird die zu beschichtende Platte in Drehung versetzt, und während der Drehung
wird Magnetbeschichtungsmaterial mit darin verteiltem Magnetpulver von oben auf die obere Seite der Platte
fallen gelassen oder auch aufgesprüht; anschließend wird die Umlauffrequenz der Platte erhöht, so daß
durch Zentrifugalwirkung das überschüssige Beschichtungsmaterial entfernt und die Beschichtung hergestellt
wird, die dann getrocknet und thermisch zu einer Magnetschicht ausgehärtet wird. Zum Aufbringen der Magnetschicht
auf der anderen Seite der Platte wird diese umgedreht, und der gleiche Vorgang wird wiederholt
Wenn das Magnetschichtungsmaterial auf die zweite Seite aufgebracht wird, bevor die Beschichtung der ersten
Seite vollständig getrocknet ist, wird die Beschichtung der ersten Seite aufgrund der erneuten Rotation
der Platte dünner, und man erhält keine Magnetschicht mit der gewünschten Dicke. Auch dann, wenn die zweite
Seite nach dem Trocknen, auch noch vor der Härtung der Beschichtung der ersten Seite beschichtet wird, wird
die Beschichtung der ersten Seite nachteilig beeinflußt, da die Umgebungsatmosphäre mit dem Lösungsmitteldampf
des Beschichtungsmaterials angereichen ist Daher kann die Beschichtung der zweiten Seite erst erfolgen,
nachdem die Beschichtung der ersten Seite ausgehärtet ist Infolge dessen wird die Beschichtung der ersten
Seite zweimal der zur Aushärtung dienenden Aufheizung unterzogen. Die dabei absorbierte Strahlungswärme
hängt aber davon ab, ob eine Seite der Platte eine bianke, unbeschichtete Metalloberfläche oder eine
bereits beschichtete Oberfläche ist Daher ergibt sich bei Magnetplatten, die mit diesem Verfahren hergestellt
werden, ein k'einer Unterschied zwischen den Magnetschichten
der beiden Plattenseiten. Ein solcher Unterschied ist fast vernachlässigbar, wenn die Dicke der Magnetschicht
groß ist Soll eine Magnetplatte eine hohe Aufzeichnungsdicke besitzen, so muß jedoch die Dicke
der Magnetschicht einen Wert von ungefähr 1 bis 3 μπι oder weniger haben. In einem solchen Falle führt der
Unterschied in den Magnetschichten der beiden Plattensciten
zu Schwierigkeiten.
Aus der DE-PS 21 57 650 ist bekannt, daß Beschichtungsmaterial
gleichzeitig auf beide Seiten aufzubringen, wobei die Platte vertikal oder in einem Winkel von
10" bis 30° gehalten wird, und anschließend erfolgt die
Trocknung und Härtung. Bei Anwendung dieses Verfahrens tritt jedoch das Problem auf, das dann, wenn das
überschüssige Beschichtungsmaterial durch Zentrifugalkraft entfernt oder weggeschleudert wird, das nach
oben abgeschleuderte Beschichtungsmaterial wegen eines Rückstromes oder aufgrund von Schwerkraft wieder
auf die Platte fällt.
Um das Spritzen des Beschichtungsmaterials zu verhindern, ist aus der DE-AS 25 54 692 bekannt, Abdeckclcmente
in der Nähe der Platte anzuordnen, um damit zurückfallendes oder zurückspritzendes Beschichtungsmaterial
aufzufangen. Die Richtung, in der das Beschichtungsmaterial weggeschleudert wird, ändert sich jedoch
im komplizierter Weise in Abhängigkeit von verschiedenen Faktoren wie zuir Beispiel der Umlauffrequenz
der Platte, der Menge an überschüssigem Beschichtungsmaterial, dessen Viskosität, Temperatur usw. Weiterhin
wird, wenn ein Spritzertropfen gegen eine Stelle des Gehäuses fliegt und dann aufgrund Rückreflektion
wieder auf die Platte fällt, der entsprechende Teil der Platte fehlerhaft.
Aufgabe der Erfindung ist es ein Verfahren und eine
zugehörige Vorrichtung zur Herstellung von beidseitigen Magnetbeschichtungen anzugeben, bei dem sich auf
der Ober- und Unterseite der Platte gleiche Schichtdikken ergeben.
Diese Aufgabe wird mit einem Verfahren nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 gelöst das die im
kennzeichnenden Teil des Anspruches angegebene Merkmale umfaßt.
Weitere, vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens und eine Vorrichtung zu seiner
Ausführung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispitlen
und den Figuren näher erläutert Es zeigt
F i g. I eine schematische Darstellung e^ner Beschichtungsvorrichtung
gemäß eines ersten Ausführungsbeispiels.
F i g. 2 einen Teil der Beschickungsvorrichtung
F i g. 2 einen Teil der Beschickungsvorrichtung
F i g. 2 bis 5 schematische Darstellung der Beschichtungsvorrichtung
gemäß weiteren Ausführungsbeispielen.
F i g. 1 zeigt im Schnitt eine Vorderansicht der Be-Schichtungsvorrichtung
zur Durchführung des Verfahrens. Eine Platte 2, zum Beispiel eine Aluminiumplatte
mit einem Innendurchmesser von 170 mm, einem Außendurchmesser von 365 mm und einer Dicke von
2 mm, wird auf einem drehbaren Träger 1 befestigt. Die Befestigung erfolgt beispielsweise, indem man eine Abdeckung
11 mit Schrauben befestigt Das Beschichlungsmateriai wird aus den Düsen an den Enden der
Versorgungsleitungen 4a und 4b auf die Platte 2 gesprüht Das Bezugszeichen 12 bezeichnet eine Abschirmplatte,
das Bezugszeichen 13 eine Seitenplatte und das Bezugszeichen 14 eine Bodenplatte. In der dargestellten
Weise kann die Abschirmplatte auch als Abdeckung für die Vorrichtung dienen.
F i g. 2 zeigt eine perspektivischen Darstellung eines Teils der Beschichtungsvorrichtung. Die Düsen 3a..3b an
den Enden der Versorgungsleitungen 4a, 4b werden so eingestellt, daß das Beschichtungsmaterial unter einem
Winkel von 45 bis 90° vorzugsweise 60 bis 80° gegenüber der Platte ausgespritzt oder aufgesprüht wird. Mit
5a, 5b sind Einstellventile bezeichnet, mit 7 eine Antriebswelle zum Verschwenken der Düsen über die Platte
2 hinweg, mit 8 eine Trageinrichtung und mit 9 eine Antriebseinrichtung für den Träger 1.
Die Beschichtung wird in der nachstehend beschriebenen
Weise durchgeführt. Zuerst wird die Platte 2 am Träger 2 befestigt, und vorzugsweise werden dann beide
Seiten der Platte mit einem Lösungsmittel gereinigt. Zur Reinigung der Platte wird ein Satz von Leitungen,
die im wesentlichen die gleichen wie die Versorgungsleitungen zum Aufbringen des Beschichtungsmaterials
sind, separat vorgesehen, wobei sie in Positionen angeordnet werden, in denen sie die Bewegungen der Versorgungsleitungen
zum Aufbringen des Beschichtungsmaterials nicht beeinträchtigen. Sie werden zum Aufsprühen
des Lösungsmittels auf beide Seiten der Platte verwendet, während die Platte sich dreht, um das Lösungsmittel
wieder abzuschleudern bzw. zu entfernen. Falls erforderlich, wird diese Rotation weiter fortge-
setzt, bis das auf der Platte verbleibende Lösungsmittel verdampft. Anschließend wird das Beschichtungsmaterial
aus den Düsen ausgesprüht, während sich die Platte mit einer Umlauffrequenz von 5 bis 700 min -', vorzugsweise
30 bis 300 min-' oder noch besser 30 bis 150 min-' dreht (Primärdrehung), wobei man die Versorgungsleitungen
horizontal und auf Halbkreisbögen einmal oder mehrmals über bzw. unter der Platte bewegt.
Das Beschichtungsmaterial wird durch die Drehung im wesentlichen über die ganze Platte verteilt, und
das überschüssige Beschichtungsmaterial wird durch die von der Plattendrehung hervorgerufenen Zentrifugalkräfte
abgeschleudert. Beim nächsten Schritt wird zur Einstellung der Bsschichtungsdicken auf einem vorgegebenen
Wert die Platte mit einer auf 200 bis 3000 min-' (Sekundärdrehung) erhöhten Umlauffrequenz
gedreht, um weiteres überschüssiges Beschichtungsmaterial von der Platte abzuschleudern. Die Um-
!aufirequcüzcr. der Primürdrchijng und der Sekundärdrchung
können gleich groß sein. Auch wenn die Beschichtungszusammensetzung bei der Primärdrehung
nicht auf einen Teil oder Teile der Platte verteilt wird, wird sie in zufriedenstellendem Maße über die gesamten
Flächen bei der Sekundärdrehung verteilt.
Magnetbeschichtungsmaterialien mit darin verteiltem Magnetpulver sind aus den oben genannten Druckschriften
sowie weiteren Literaturstellen bekannt, wobei diese bekannten Beschichtungszusammensetzungen
verwendet werden können. Beispielsweise wird das Magnetbeschichtungsmaterial in der Weise hergestellt, daß
ein Bindemittel aus Epoxyharz, Phenolharz oder Polyvinylbutyral in einem organischen Lösungsmittel gelöst,
das Magnetpulver in der entstehenden Lösung verteilt und erforderlichenfalls ein Verstärkungsmittel, wie z. B.
Aluminiumoxid, außerdem darin verteilt wird. Andere als Bindemittel zu verwendende Polymere sind Polyesterharz.
VinylchJoridharZ; Polyurethan oder eine Polyurethan bildende Substanz, Akrylatcopolymere, Methakrylatcopolymere
usw. oder Mischungen davon.
Falls erforderlich, wird zur Einstellung des Magnetbeschichtungsmaterials
auf eine gewünschte Viskosität eine weitere Verdünnung mit einem organischen Lösungsmittel
vorgenommen, z. B. mit Tetrahydrofuran, Toluol, Methyläthylketon, Cyclohexanon oder Dioxan
oder irgendwelchen Mischungen dieser Substanzen. Eine bevorzugte Viskosität beträgt ungefähr 50 bis 480 cP
bei 20° C, während eine bevorzugtere Viskosität Werte von 100 bis 35OcP hat.
Nachdem die Beschichtungen auf beiden Seiten der Platte hergestellt worden sind, wird eine Magnetfeldorientierung
durchgeführt, wenn dies erforderlich ist Die Magnetfeldorientierung oder -ausrichtung kann in
der Position vorgenommen werden, in der die Platte auf dem Träger montiert ist, kann aber auch in einer anderen
Position durchgeführt werden, in die die Platte gebracht worden ist.
Außerdem wird die Platte in üblicher Weise getrocknet und thermisch ausgehärtet. Das Trocknen und/oder
thermische Aushärten kann auch während der Magnetfeldorientierung durchgeführt werden.
Fig.3 zeigt einen Schnitt einer anderen Ausführungsform.
Dabei sind Löcher in oder in der Nähe der mittleren Bereiche der Abschirmungsplatte 12 sowie
der Bodenplatte 14 vorgesehen, damit von außen Luft in die Vorrichtung eintreten kann. In diesem Falle müssen
beide Löcher von der Größe sein, daß ungefähr gleich große Luftmengen eintreten können. Die Luft kann dabei
von der Art sein, daß sie Dampf eines Lösungsmittels derselben Art enthält wie das Lösungsmittel des
Beschichtungsmaterials. In diesem Falle kann die Gasmischung,
bestehend aus dem Dampf eines solchen Lösungsmittels und der Luft durch Rohre oder Leitungen
in die beiden Löcher eingeführt werden. Auf diese Weise können sowohl die Abschirmplatte als auch die Bodenplatte
über und unter mindestens denjenigen Bereichen der Platte vorhanden sein, auf welche Beschichtungsmaterial
aufzubringen ist.
ίο Nachdem das Magnetbeschichtungsmaterial im wesentlichen
gleichzeitig auf beide Seiten der Platten aufgebracht worden ist, wird die Rotation der Platte zur
Einstellung der Dicken der Beschichtungen durchgeführt, wobei Abschirmplatten über und unter zumindest
denjenigen Teilen der Platte angeordnet sind, auf welchen die jeweiligen Beschichtungen ausgebildet worden
sind.
F i g. 4 zeigt im Schnitt eine Vorderansicht eine weitere A.üSiÜhruügsiQnn einer derartig?" Vorrichtung. Rinc
untere Abschirmungsplatte 15 ist unter der Platte 2 angeordnet. Somit wird der Dampf des Lösungsmittels,
der aus dem Beschichtungsmaterial auf der Bodenplatte 14 ausgetreten ist, daran gehindert, die Platte 2 zu beeinflussen.
Der Abstand zwischen der Bodenplatte 14 und der unteren Abschirmungsplatte 15 ist auf den Wert V3
eingestellt. Der Abstand von der Platte 2 zur oberen Abschirmungsplatte 12, der in F i g. 4 mit V2 bezeichnet
ist, uni der Abstand zwischen der Platte 2 und der unteren
Abschirmungsplatte 15, der in Fig.4 mit V4 bczeichnet
ist, brauchen nicht völlig gleich zu sein, sondern sie können sich in einem bestimmten Wertebereich unterscheiden.
Hinsichtlich des Verhältnisses V4/ V2 zwischen den beiden Abständen V4 und V2 ist ein Bereich
von 0,25 bis 6,0, vorzugsweise 0,5 bis 4,0 oder noch vorteilhafter 1,0 bis 2,6 vorzusehen. Da der Raum unterhalb
der Platte und der Raum oberhalb der Bodenplatte nicht vollständig voneinander getrennt sind, tritt der Dampf
des Lösungsmittels, der sich aus dem Beschichtungsmaterial auf der Bodenplatte entwickelt hat, auch in den
Raum unterhalb der Platte mehr oder weniger ein. Somit ergeben sich die günstigen Werte des Verhältnisses
V4/ V2 nicht um 1,0, sondern bei größeren Werten.
Die Plattenrotation zur Einstellung der Dicken der Beschichtungen (Sekundärrotation) wird somit durchgeführt,
indem man die Abschirmungsplatten über und unter der Platte so anordnet, daß das oben erläuterte
Problem gelöst werden kann. Es ist vorzuziehen, wenn die Abschirmungsplatten auch während der Plattenrotation
zum Aufbringen des Beschichtungsmaterials (Primärrotation) vorhanden sind. In diesem Falle können
die Abschirmungsplatten allerdings auch wcggtlassen werden.
Beim Aufbringen des Materials sollte das auf die untere Oberfläche der Platte aufgebrachte Beschichtungsmaterial
daran gehindert werden, daß es auf die untere Abschirmungsplatte fällt Zu diesem Zweck sollte der
Beschichtungsvorgang durchgeführt werden, während die Platte sich bei der Primärrotation mit einer Umlauffrequenz
von 5 bis 700 min-', vorzugsweise 30 bis 300 min-' und am besten mit 30 bis 150 min-' dreht Da
das anhaftende Beschichtungsmaterial aufgrund der Zentrifugalkräfte wegen der Rotation der Platte zum
Außenumfang auf der Platte fließt, wird das Beschichtungsmaterial daran gehindert, sich an einer Stelle air/.usammeln
und dann herunterzufallen. Wenn man die Platte zu schnell rotieren läßt, so ist dies ungünstig, da
das auf die untere Oberfläche gesprühte Beschichtungsmaterial spritzt.
Wenn die Austragsmenge der Beschichtungszusammcnsct/ung uus den Versorgungsleitungen zu groß ist,
fällt das Beschichtungsmaterial auf die untere Abschirmungsplatte.
De.· Austragdruck sollte daher so eingestellt sein, daß das überschüssige Beschichtungsmaterial
zentrifugal zum Außenumfang wegtransportiert werden und die Sammelplatte erreichen kann, daß aber das
Matf-v'al daran gehindert ist, auf die untere Abschirmungsplattc
zu fallen.
F i g. 5 zeigt eine Darstellung im Schnitt einer weiteren Ausführungsform. Löcher, durch die ungefähr gleiche
Luftmengen von außen in die Vorrichtung eintreten können, sind in oder in der Nähe der mittleren Bereiche
der oberen und unteren Abschirmungsplatten und Bodenplatten vorgesehen. Die von außen einzuführende
Luft kann ohne weiteres Dampf eines Lösungsmittels der gleichen Art enthalten wie das Lösungsmittel des
Bcschichlungsrnaterials. Auf diese Weise können sich
dir nhrrnn unrj nntpren Abschirmüngsplaüen ühpr nnH
unter zumindest denjenigen Teilen der Platte erstrekkcn, auf welche das Beschichtungsmaterial aufzubringen
ist.
Ausführungsbeispiele 1 bis 9
Indem man den Abstand Kl in der Beschickungsvorrichtung
gemäß F i g. 1 auf 130 mm einstellt und die Höhe der Abschirmungsplatte 12 variiert, werden die Verhältnisse
VM V2 wie in der unten angegebenen Tabelle bestimmt. Die Düsen der Versorgungsleitungen waren
in di ■ Drehrichtung unter Winkel von 75° gegenüber der horizontalen Ebene geneigt. Die Platte wurde mit
einem Lösungsmittel der oben angegebenen Art gereinigt. Dann wurde das Beschichtungsmaterial mit einem
Wert von 250 cP, während sich die Platte mit einer Umlauffrcquenz von 100 min-' drehte, mit einem Druchsatz
von 50 cmVmin pro Versorgungsleitung ausgespritzt und auf die Platte aufgebracht. Die Versorgungsleitungen
wurden halbkreisförmig vom Außenumfang zum Innenumfang und dann zum Außenumfang in etwa
25 bis 30 Sekunden bewegt. Anschließend wurde die Platte für eine Dauer von 20 Sekunden mit 1200 min-'
gedreht, um die Dicken der Beschichtungen auf ungefähr 1 μιτι beim Innenumfang zu bringen, wobei dies die
Dicken der Beschichtungen nach dem Aushärten sind. Die Unterschiede der Dicken der Beschichtungen auf
beiden Seiten beim Innenumfang nach dem Trocknen und Aushärten hatten die in der Tabelle angegebenen
Werte. Gute Ergebnisse wurden in einem Bereich von 1,1 bis 4,0 für das Verhältnis VMVl erzielt, während
günstigere Resultate in einem Bereich von 1,2 bis 2,6 erhallen wurden.
Es empfiehlt sich, den Abstand zwischen dem Außenumfangsende
der Platte 2 und der Sammelplatte 13 mit mindestens 30 mm, noch besser mit mindestens 50 mm
/u wählen. Anderenfalls erzeugt das Beschichtungsmaterial, die auf die Sammelplatte getroffen ist, zur Platte
zurückkehrende Spritzer, mit dem Ergebnis, daß die Beschichtungsoberflächen
nicht gleichmäßig werden.
Tabelle 1 (Fortsetzung)
Beispiel
Nr.
Nr.
Verhältnis
VV Vl
VV Vl
Dickendifferenz der
Beschichtungen in μΐη
Beschichtungen in μΐη
Tabelle 1 | Verhältnis VMVl |
Dickendifferenz der Beschichtungen in μπι |
Beispiel Nr. |
0,50 1,00 1.10 |
0,50 035 027 |
1 2 3 |
||
1,18
1.53
2.00
2,60
3,95
4.33
1.53
2.00
2,60
3,95
4.33
0,22
0,15
0,12
0,20
0,25
0,31
0,15
0,12
0,20
0,25
0,31
Wenn die Dickendifferem: der Beschichtungen
0,15 μΐη beim Innenumfang beträgt, macht sie 0,08 μιτι in
einer Zwischenposition bei einem Radius von 135 mm und 0,06 μπι beim Außenumfang mit einem Radius von
170 mm aus.
Die Dicken der Beschichtung wurden unter Verwendung eines handelsüblichen Röntgenstrahlen Fümdikkenmeßgeräte:.
gemessen.
Beispiele lObis 17
Bei diesen Beispielen wurde die Beschichtungsvorrichtung gemäß Fig.4 verwendet. Die Verhältnisse
V4/V2 wurden in der in Tabelle 2 angegebenen Weise eingestellt, indem man die Höhen der Abschirmungsplatten
variierte und den nachstehenden Versuch für jedes Verhältnis durchführte. Der Abstand von V3 wurde
konstant gehalten.
Die Düsen der Versorgungsleitungen waren unter Winkeln von 75° gegenüber der horizontalen Ebene
geneigt, so daß das Beschichtungsmaterial im wesentlichen in Rotationsrichtung ausgespritzt werden konnte.
Das verwendete Beschichtungsmaterial bestand aus 700 Gewichtsteilen Magnetpulver, 70 Gewichtsteilen Polyvinylbutyral,
120 Gewichtsteilen Phenolharz. 120 Gewichtsteilen Epoxyharz und einer Lösungsmittelmischung,
die Cyclohexanon, Isophoron und Dioxan enthielt sowie eine Viskosität von 200 cP aufwies.
Während sich die Platte mii 100 min-' drehte und das
Beschichtungsmaterial aus den Versorgungsleitungen mit einem Durchsatz von 50 cmVmin pro Versorgungsleitung
ausgesprüht wurde, wurden beide Seiten der Platte beschichtet. Danach wurde die Platte mit einer
Frequenz von 1200 min-' für die Dauer von 20 Sekunden gedreht, um die Dicken der Beschichtungen auf
einen Wert von ungefähr 1 μπι beim Innenumfang zu
bringen, wobei es sich um Dicken der Beschichtungen nach der Aushärtung handelt. Die Dickendifferenzen
der Beschichtungen auf beiden Seiten beim Innenumfang nach dem Trocknen und Aushärten hatten die in
Tabelle 2 aufgelisteten Werte. Bei einem Beispiel, bei dem die Dickendifferenz der Beschichtungen am innenumfang
z. B. 0,15 μηι ausmacht, beträgt die Differenz
beim Außenumfang 0,06 μπι, was der Position eines Radius
von 170 mm entspricht. Es darf hinzugefügt werden, daß die Dickendifferenzen der Beschichtungen
Werte von 0,5 μιτι oder mehr annahmen, wenn die Abschirmungsplatten
nicht vorhanden waren.
Verhältnis V4/V2
Dickendifferenz der
Beschichtungen in μιτι
10 | 0.25 | 0,34 |
11 | 0,5 | 0,25 |
12 | 1,0 | 0,15 |
13 | 1,2 | 0,12 |
14 | 2,0 | 0,12 |
15 | 2.6 | 0,15 |
16 | 4,0 | 0,26 |
17 | 6,0 | 0,37 |
Beispiele 18 bis 25
15
Unter Verwendung der Beschichtungsvorrichtung nach F i g. 5 wurden dieselben Versuche bei den Beispielen
10 bis 17 durchgeführt. Die Resultate sind in Tabelle
3 aufgelistet.
Beispiel | Verhältnis | Dickendifferenz der |
Nr. | V4/V2 | Beschichtungen in μΐπ |
18 | 0,25 | 0,25 |
19 | 0,5 | 0,15 |
20 | 1,0 | 0,03 |
21 | 1,2 | 0,02 |
22 | 2,0 | 0,02 |
23 | 2,6 | 0,04 |
24 | 4,0 | 0,18 |
25 | 6,0 | 0,27 |
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen |
30
35
40
45
50
55
60
Claims (16)
1. Verfahren zur beidseitigen Magnetbeschichtung einer Platte (2), bei dem auf beide Seiten der
horizontal angeordneten Platte (2) gleichzeitig ein flüssiges Magnetbeschichtungsmaterial mit darin
verteiltem Magnetpulver aufgesprüht wird, die Platte (2) während des Aufsprühens zum Verteilen des
Magnetbeschichtungsmaterial mit einer ersten Drehgeschwindigkeit und danach zum Einstellen der
Beschichtungsdicke mit einer zweiten höheren Drehgeschwindigkeit, die bis zu 300 U/min beträgt,
gedreht wird, dadurch gekennzeichnet, daß während der Drehung zum Einstellen der Beschichtungsdicke
über der zu beschichtenden Platte (2) eine obere Abschirmplatte (12) und unter der
Platte (2) eine Bodenplatte (14) so angeordnet sind, daß der Abstand der Platte (2) zu der oberen Abschirmplatie
(12) kleiner ist als der Abstand der Platte (2) zu der Bodenplatte (14).
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Abstand zwischen der Platte (2) und der Bodenplatte (14) um einen Faktor 1,1 bis 4,0
größer ist als der Abstand der Platte (2) zur oberen Abschirmplatte (12).
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen der Bodenplatte
(14) und der Platte (2) um einen Faktor 1,2 bis 2,6 größer ist als der Abstand zwischen der oberen
Abschirnplatte (12) und der Platte (2).
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dal) während der Drehung
zum Einstellen der Beschichiungsdicke ungefähr gleiche Luftmengen aus den ifiittleren Teilen oder
der Nähe der mittleren Teile der oberen Abschirmplatte (12) und der Bodenplatte (14) einströmen.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die einströmenden Luftmengen Dampf
eines Lösungsmittels der gleichen Art wie das Lösungsmittel des Magnetbeschichtungsmaterials enthalten.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Bodenplatte (14) und der
Platte (2) eine untere Abschirmplatte (15) angeordnet wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des Abstands der unteren
Abschirmplatte (15) von der Platte (2) zum Abstand zwischen der Platte (2) und der oberen Abschirmplatie
(12) 1,0 bis 2,6 beträgt.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Magnetbeschichtungsmaterial
unter einem Winkel von 90° bis 45° auf die Platte (2) aufgebracht wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Drehung zum Einstellen
der Beschichtungsdicke der Platte (2) bei einer Frequenz von 200 bis 3000 U/min durchgeführt
wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche I bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß ein Magnetbeschichtungsmaterial
verwendet wird, dessen Viskosität zwischen 0.05 und 0,35 kg/sec ■ m (50 und 350 cP)
beträgt.
11. Verfahren zur Durchführung des Verfahrens
nach einem der Ansprüche 1 bis 10 mit einem Träger (1) zum horizontalen Halten der mit einem Magnetbeschichtungsmaterial
zu versehenden Platte (2), mit einer Einrichtung zum Drehen des Trägers (t), mil
Virsorgungsleitungen (4a, 4b) zum Zuführen des
Magnetbeschichtungsmateria's zu Düsen (3a, Zb).
welche nahe der oberen und ut.'eren Oberfläche der
Platte (2) beweglich angeordne. sind, um das Magnetbeschichtungsmaterial auf dit platte (2) aufzusprühen,
dadurch gekennzeichnet, daP- der Absland
(V2) einer über der Platte (2) angeordneten oberen Abschirmplatie (12) kleiner ist als der Abstand (Vl)
der Platte (2) zu einer unter ihr angeordneten Bodenplatte (14).
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß der Abstand (Vl) zwischen der
if Bodenplatte (14) und der Platte (2) um einen Faktor
1,1 bis 4,0 größer ist als der Abstand (V2) zwischen der oberen Abschirmplatte (12) und der Platte (2).
13. Vorrichtung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch
gekennzeichnet, daß zwischen der Bodenplalte (14) und der Platte (2) eine untere Abschirmplatie
i
eordnet ist.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des Abstands (V4)
von der unteren Abschirmplatte (15) zu der Platte (2) zum Abstand (V2) zwischen der oberen Abschirmplatte
(12) und der Platte (2) 1,0 bis 2,6 beträgt.
15. Vorrichtuag nach einem der Ansprüche 11 bis
14, dadurch gekennzeichnet, daß die Düsen (3a, 3b)
der Versorgungsleitung (4a, 4b) so angeordnet sind, daß die Aufsprührichtung des Magnetbeschichtungsmaterials
einen Winkel zwischen 45° und 90c zu der Platte (2) bildet
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis
15, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschirmplatte (12) und die Bodenplatte (14) in ihren mittleren Bereichen
oder deren Nähe Löcher aufweisen die so bemessen sind, daß sie ungefähr gleich große Gasmengen
einströmen lassen.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15437979A JPS5678653A (en) | 1979-11-30 | 1979-11-30 | Method and device for coating |
JP9392280A JPS591384B2 (ja) | 1980-07-11 | 1980-07-11 | 塗布方法及び塗布装置 |
JP9874280A JPS5724668A (en) | 1980-07-21 | 1980-07-21 | Method and device for coating |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3044977A1 DE3044977A1 (de) | 1981-09-17 |
DE3044977C2 true DE3044977C2 (de) | 1986-11-06 |
Family
ID=27307426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3044977A Expired DE3044977C2 (de) | 1979-11-30 | 1980-11-28 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Magnetbeschichtungen |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4353937A (de) |
DE (1) | DE3044977C2 (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4588611A (en) * | 1984-03-02 | 1986-05-13 | Magnetic Peripherals Inc. | Disk stripping and coating process |
EP0222459A3 (de) * | 1985-11-15 | 1989-08-23 | Komag, Inc. | Roboterartiges Plattenhandhabungssystem und Methode |
JP2547296B2 (ja) * | 1992-03-18 | 1996-10-23 | 公利 間藤 | ディスクの表面被膜形成方法および装置 |
JPH07108616A (ja) * | 1993-10-15 | 1995-04-25 | Fuji Electric Co Ltd | 動力伝達用摩擦板の樹脂含浸方法およびその装置 |
EP0718048A1 (de) * | 1994-12-20 | 1996-06-26 | Eastman Kodak Company | Zentrifugalverfahren für äusserst gleichförmige Beschichtungen |
DE19619678C1 (de) | 1996-05-15 | 1997-11-20 | Steag Hamatech Gmbh Machines | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von scheibenförmigen Informationsspeichermedien |
US20080226817A1 (en) * | 2003-05-30 | 2008-09-18 | Seagate Technology Llc | Tilted perpendicular magnetic recording media and method and apparatus therefor |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3198657A (en) * | 1964-09-17 | 1965-08-03 | Ibm | Process for spin coating objects |
DE2157650C3 (de) * | 1971-11-20 | 1975-02-13 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zum Herstellen der Magnetschichten von Magnetplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE2357517C3 (de) * | 1973-11-17 | 1981-05-27 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsträgern in Form flacher Scheiben |
DE2459541C3 (de) * | 1974-12-17 | 1978-08-31 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zum Herstellen von Magnetschichten von Magnetspeicherplatten |
DE2554692C2 (de) * | 1975-12-05 | 1977-11-17 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Vorrichtung zur Herstellung der Magnetschichten von Magnetspeicherplatten |
-
1980
- 1980-11-28 US US06/211,120 patent/US4353937A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-11-28 DE DE3044977A patent/DE3044977C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4353937A (en) | 1982-10-12 |
DE3044977A1 (de) | 1981-09-17 |
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Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: STREHL, P., DIPL.-ING. DIPL.-WIRTSCH.-ING. SCHUEBE |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |