NL173542C - Werkwijze en inrichting voor het neerslaan van een compositielaag op elk van een aantal substraten. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het neerslaan van een compositielaag op elk van een aantal substraten.

Info

Publication number
NL173542C
NL173542C NLAANVRAGE7702869,A NL7702869A NL173542C NL 173542 C NL173542 C NL 173542C NL 7702869 A NL7702869 A NL 7702869A NL 173542 C NL173542 C NL 173542C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
depositing
substrates
composition layer
composition
layer
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7702869,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7702869A (nl
NL173542B (nl
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of NL7702869A publication Critical patent/NL7702869A/nl
Publication of NL173542B publication Critical patent/NL173542B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL173542C publication Critical patent/NL173542C/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
    • C23C14/546—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using crystal oscillators

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
NLAANVRAGE7702869,A 1976-03-19 1977-03-16 Werkwijze en inrichting voor het neerslaan van een compositielaag op elk van een aantal substraten. NL173542C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2923476A JPS52113379A (en) 1976-03-19 1976-03-19 Vacuum evaporation

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7702869A NL7702869A (nl) 1977-09-21
NL173542B NL173542B (nl) 1983-09-01
NL173542C true NL173542C (nl) 1984-02-01

Family

ID=12270529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7702869,A NL173542C (nl) 1976-03-19 1977-03-16 Werkwijze en inrichting voor het neerslaan van een compositielaag op elk van een aantal substraten.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4121537A (nl)
JP (1) JPS52113379A (nl)
DE (1) DE2711714B2 (nl)
FR (1) FR2344643A1 (nl)
GB (1) GB1532183A (nl)
NL (1) NL173542C (nl)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5399762A (en) * 1977-02-12 1978-08-31 Futaba Denshi Kogyo Kk Device for producing compound semiconductor film
GB2000882B (en) * 1977-07-01 1982-04-07 Hitachi Ltd Vacuum vapour-deposition apparatus
DE3028123A1 (de) * 1980-07-24 1982-02-25 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und vorrichtung zur herstellung von schichtkondensatoren
US4348886A (en) * 1980-11-19 1982-09-14 Rca Corporation Monitor for oxygen concentration in aluminum-based films
US4681773A (en) * 1981-03-27 1987-07-21 American Telephone And Telegraph Company At&T Bell Laboratories Apparatus for simultaneous molecular beam deposition on a plurality of substrates
US4386578A (en) * 1981-05-26 1983-06-07 The Boeing Company High velocity metallic mass increment vacuum deposit gun
JPS58217673A (ja) * 1982-06-11 1983-12-17 Anelva Corp 膜厚制御方法
US4459823A (en) * 1983-03-30 1984-07-17 Sperry Corporation Rotating liquid nitrogen cooled substrate holder
DE3315666A1 (de) * 1983-04-29 1984-10-31 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur messung des auftrages und abtrages von duennen schichten
US4842893A (en) * 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US5032461A (en) * 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
US5125138A (en) * 1983-12-19 1992-06-30 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same
US5097800A (en) * 1983-12-19 1992-03-24 Spectrum Control, Inc. High speed apparatus for forming capacitors
US5018048A (en) * 1983-12-19 1991-05-21 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making
JPS6261315A (ja) * 1985-09-11 1987-03-18 Sharp Corp 分子線エピタキシ−装置
US4954371A (en) * 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
US4858556A (en) * 1986-09-15 1989-08-22 Siebert Jerome F Method and apparatus for physical vapor deposition of thin films
US5025664A (en) * 1989-11-02 1991-06-25 Leybold Inficon, Inc. Multiple crystal head for deposition thickness monitor
JP3292925B2 (ja) * 1991-03-01 2002-06-17 株式会社昭和真空 連続式スパッタ装置に於ける膜厚確認方法
SE468372B (sv) * 1991-04-24 1992-12-21 Stiftelsen Im Inst Foer Mikroe Foerfarande foer tillverkning av tunnfilmssolceller varvid deponering av skikt paa substrat sker i roterbar (cylindrisk) baeranordning
US5412180A (en) * 1993-12-02 1995-05-02 The Regents Of The University Of California Ultra high vacuum heating and rotating specimen stage
FR2719900B1 (fr) * 1994-05-11 1996-09-20 Essilor Int Procédé et dispositif pour la mesure in situ des contraintes se développant au sein d'une couche mince lors de son dépôt sur un substrat.
US5948983A (en) * 1997-07-25 1999-09-07 Leybold Inficon, Inc. Wall deposition monitoring system
US6830663B2 (en) * 1999-01-26 2004-12-14 Symyx Technologies, Inc. Method for creating radial profiles on a substrate
US6364956B1 (en) 1999-01-26 2002-04-02 Symyx Technologies, Inc. Programmable flux gradient apparatus for co-deposition of materials onto a substrate
US6090444A (en) * 1999-02-08 2000-07-18 Saunders & Associates, Inc. Base plater or vacuum deposition apparatus with individually and selectively controlled work holders and capacitively coupled crystal monitor
CN1251809C (zh) * 2000-10-17 2006-04-19 尼奥弗托尼克斯公司 通过反应沉积形成涂覆的装置及方法
US7828929B2 (en) * 2004-12-30 2010-11-09 Research Electro-Optics, Inc. Methods and devices for monitoring and controlling thin film processing
EP2113584A1 (en) * 2008-04-28 2009-11-04 LightLab Sweden AB Evaporation system
JP5513529B2 (ja) 2010-01-26 2014-06-04 キヤノンアネルバ株式会社 成膜方法、成膜装置、および該成膜装置の制御装置
EP2418545B1 (en) 2010-08-12 2018-10-10 Applied Materials, Inc. Mask handling module
KR102002849B1 (ko) * 2012-09-17 2019-07-24 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1073293A (en) * 1963-10-16 1967-06-21 Edwards High Vacuum Int Ltd Apparatus for controlling vapour deposition in a vacuum
GB1003378A (en) * 1964-03-23 1965-09-02 Standard Telephones Cables Ltd Monitoring the thickness of films being vacuum deposited
CH522570A (it) * 1970-05-06 1972-06-30 Metal Lux Spa Apparecchiatura per la colorazione sotto vuoto di lenti per occhiali
US3732846A (en) * 1972-01-07 1973-05-15 Us Army Crystal plating monitoring system
JPS5331829B2 (nl) * 1972-04-14 1978-09-05
JPS495834A (nl) * 1972-04-15 1974-01-19
US4059067A (en) * 1974-10-09 1977-11-22 Balzers Patent-Und Beteiligungs-Aktiengesellschaft Apparatus for determining the rate of flow of particles in a vacuum deposition device
US3939798A (en) * 1974-12-19 1976-02-24 Texas Instruments Incorporated Optical thin film coater
US4024291A (en) * 1975-06-17 1977-05-17 Leybold-Heraeus Gmbh & Co. Kg Control of vapor deposition

Also Published As

Publication number Publication date
JPS52113379A (en) 1977-09-22
FR2344643A1 (fr) 1977-10-14
GB1532183A (en) 1978-11-15
DE2711714B2 (de) 1980-01-31
JPS5527624B2 (nl) 1980-07-22
NL7702869A (nl) 1977-09-21
FR2344643B1 (nl) 1980-11-21
NL173542B (nl) 1983-09-01
DE2711714A1 (de) 1977-09-22
US4121537A (en) 1978-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL173542C (nl) Werkwijze en inrichting voor het neerslaan van een compositielaag op elk van een aantal substraten.
NL185511C (nl) Werkwijze voor het vormen van een deklaag van metaal of een metaalverbinding op een oppervlak van een glazen substraat en apparaat ten gebruike daarbij.
NL184368C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een antistatische laag op een substraat.
NL185510C (nl) Werkwijze en apparaat voor het vormen van een metaal- of metaalverbindingsdeklaag op een vlak van een glassubstraat.
NL185021C (nl) Bekledingsmaterialen, alsmede werkwijze voor het bekleden van een substraat en aldus beklede voorwerpen.
NL7611952A (nl) Werkwijze voor het selektief galvaniseren van een gebied van een oppervlak.
NL178088B (nl) Werkwijze voor het vormen van een hoogglanzende bekleding op een substraat.
NL163409C (nl) Beklede zaden, alsmede werkwijze voor het bekleden van zaden.
NL7608504A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verwijderen of afstropen van een laag fotoresistmateriaal van- af een substraatoppervlak van een verschillend materiaal.
JPS5298038A (en) Method and apparatus for depositing monomolecular layer of bimediophilic molecular on substrate
NL7710659A (nl) Werkwijze voor het vormen van een epitaxiale laag op het oppervlak van een substraat.
NL7703038A (nl) Werkwijze voor het afzetten van een metaal op een selectief oppervlak.
NL7712191A (nl) Werkwijze voor het harden van bekledingsmate- rialen alsmede inrichting, geschikt voor het uitvoeren van een dergelijke werkwijze.
NL7613487A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een buig- zame lamellaire tussenlaag.
NL7608300A (nl) Werkwijze en inrichting voor het op een materiaal opbrengen van een patroon.
NL7702431A (nl) Werkwijze voor het afzetten van een metaal op een oppervlak.
NL7602706A (nl) Werkwijze en inrichting voor het door kathodever- stuiving afzetten van een materiaal op een drager.
NL7602264A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een metaalbe- kleding op een metaalsubstraat.
NL169521C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een reflexie verminderend lagenstelsel op substraten uit organisch materiaal.
NL181689C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een patroonlaag voor een negatieve resist op een substraat.
NL7700641A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een bekleding voor halfgeleidersubstraten.
NL7608397A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een polyurethanlaag op een substraat.
NL172978B (nl) Afdichtende bekleding voor een ondergrond en werkwijze voor het aanbrengen van een zodanige bekleding.
NL162753C (nl) Werkwijze voor het opbrengen van een bekledingslaag op een draagband, alsmede inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL7606314A (nl) Werkwijze voor het vormen van een getextureerd oppervlak op een met polyurethaan bekleed vinyl- substraat.

Legal Events

Date Code Title Description
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Free format text: 970316