NL181689C - Werkwijze voor het aanbrengen van een patroonlaag voor een negatieve resist op een substraat. - Google Patents

Werkwijze voor het aanbrengen van een patroonlaag voor een negatieve resist op een substraat.

Info

Publication number
NL181689C
NL181689C NLAANVRAGE7905364,A NL7905364A NL181689C NL 181689 C NL181689 C NL 181689C NL 7905364 A NL7905364 A NL 7905364A NL 181689 C NL181689 C NL 181689C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
applying
substrate
negative resist
pattern coat
coat
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7905364,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7905364A (nl
NL181689B (nl
Original Assignee
Nippon Telegraph & Telephone
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph & Telephone filed Critical Nippon Telegraph & Telephone
Publication of NL7905364A publication Critical patent/NL7905364A/nl
Publication of NL181689B publication Critical patent/NL181689B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL181689C publication Critical patent/NL181689C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NLAANVRAGE7905364,A 1978-07-10 1979-07-09 Werkwijze voor het aanbrengen van een patroonlaag voor een negatieve resist op een substraat. NL181689C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8384278 1978-07-10
JP8384278A JPS5511217A (en) 1978-07-10 1978-07-10 Pattern forming method using radiation sensitive high polymer

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7905364A NL7905364A (nl) 1980-01-14
NL181689B NL181689B (nl) 1987-05-04
NL181689C true NL181689C (nl) 1987-10-01

Family

ID=13813953

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7905364,A NL181689C (nl) 1978-07-10 1979-07-09 Werkwijze voor het aanbrengen van een patroonlaag voor een negatieve resist op een substraat.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4286049A (nl)
JP (1) JPS5511217A (nl)
CA (1) CA1166061A (nl)
DE (1) DE2927838C2 (nl)
FR (1) FR2430965A1 (nl)
GB (1) GB2022855B (nl)
NL (1) NL181689C (nl)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56165141A (en) * 1980-05-26 1981-12-18 Univ Tohoku Resist material composition for working integrated circuit
JPS5799639A (en) 1980-12-12 1982-06-21 Fujitsu Ltd Treatment of negative type resist
JPS57109943A (en) * 1980-12-26 1982-07-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Formation of submicron pattern using radiation sensitive resist
US4367281A (en) * 1981-01-12 1983-01-04 Toyo Soda Manufacturing Co., Ltd. Fine fabrication process using radiation sensitive resist
JPS589141A (ja) * 1981-07-10 1983-01-19 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 放射線感応性ネガ形レジストの感度向上方法
US4623609A (en) * 1981-07-24 1986-11-18 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Process for forming patterns using ionizing radiation sensitive resist
JPS5979247A (ja) * 1982-10-29 1984-05-08 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 遠紫外線または電子線感応用レジスト
JPS58187926A (ja) * 1982-04-28 1983-11-02 Toyo Soda Mfg Co Ltd 放射線ネガ型レジストの現像方法
DE3248601A1 (de) * 1982-12-30 1984-07-12 Röhm GmbH, 6100 Darmstadt Polymerisate mit geringer wasseraufnahme
US4515886A (en) * 1983-02-16 1985-05-07 Toyo Soda Manufacturing Co., Ltd. Photosensitive compositions
US4535054A (en) * 1983-05-05 1985-08-13 Hughes Aircraft Company Wet process for developing styrene polymer resists for submicron lithography
JPS60102628A (ja) * 1983-11-10 1985-06-06 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Ｘ線レジスト
JPS60129741A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Ｘ線レジスト組成物
US4892617A (en) * 1984-08-22 1990-01-09 American Telephone & Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Processes involving lithographic materials
EP0232167B1 (en) * 1986-02-07 1988-12-28 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Photosensitive and high energy beam sensitive resin composition containing substituted polysiloxane
US4931379A (en) * 1986-10-23 1990-06-05 International Business Machines Corporation High sensitivity resists having autodecomposition temperatures greater than about 160° C.
JPS63187852U (nl) * 1987-05-27 1988-12-01
US4876167A (en) * 1987-08-20 1989-10-24 Eastman Kodak Company Color filter array containing a photocrosslinked polymeric mordant
US5739254A (en) * 1996-08-29 1998-04-14 Xerox Corporation Process for haloalkylation of high performance polymers
US6989227B2 (en) * 2002-06-07 2006-01-24 Applied Materials Inc. E-beam curable resist and process for e-beam curing the resist

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1042231B (de) * 1951-09-13 1958-10-30 Eastman Kodak Co Verfahren zur Herstellung von Polymerisationsprodukten der Styrolreihe
GB1129907A (en) * 1965-10-11 1968-10-09 Agfa Gevaert Nv Photochemically cross-linkable polymers and compositions containing thiadiazole groups
US3535137A (en) * 1967-01-13 1970-10-20 Ibm Method of fabricating etch resistant masks
US3556793A (en) * 1968-05-22 1971-01-19 Gaf Corp Novel substituted allyl polymer derivatives useful as photoresists
GB1278780A (en) * 1968-12-24 1972-06-21 Agfa Gevaert Photodimerisation and photopolymerisation of bis-maleimides
US3740376A (en) * 1970-10-27 1973-06-19 Agfa Gevaert Ag Photosensitive polymer layers of vinyl alcohol polymers
BE794343A (fr) * 1972-01-21 1973-07-19 Westinghouse Electric Corp Methode de protection d'une partie d'un substrat soumis a l'action d'1n faisceau electronique
US3996393A (en) * 1974-03-25 1976-12-07 International Business Machines Corporation Positive polymeric electron beam resists of very great sensitivity
JPS5376825A (en) * 1976-12-20 1978-07-07 Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Radiation sensitive positive regist material
US4208211A (en) * 1978-05-23 1980-06-17 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Fabrication based on radiation sensitive resists and related products

Also Published As

Publication number Publication date
NL7905364A (nl) 1980-01-14
CA1166061A (en) 1984-04-24
JPS5511217A (en) 1980-01-26
DE2927838A1 (de) 1980-01-24
DE2927838C2 (de) 1983-10-27
US4286049A (en) 1981-08-25
GB2022855A (en) 1979-12-19
FR2430965A1 (fr) 1980-02-08
GB2022855B (en) 1982-07-28
JPS5650263B2 (nl) 1981-11-27
NL181689B (nl) 1987-05-04
FR2430965B1 (nl) 1983-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL181689C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een patroonlaag voor een negatieve resist op een substraat.
NL7705460A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van patronen met behulp van een computer-gestuurde patroonverf- inrichting.
NL184136C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geleiderpatroon op een halfgeleiderlichaam.
NL7603100A (nl) Vel voorzien van een laag voor opbrengen van een op het vel aangebracht teken op een copie- vel.
NL178088B (nl) Werkwijze voor het vormen van een hoogglanzende bekleding op een substraat.
NL184368C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een antistatische laag op een substraat.
NL7900906A (nl) Werkwijze voor het metalliseren van een substraat.
NL185021C (nl) Bekledingsmaterialen, alsmede werkwijze voor het bekleden van een substraat en aldus beklede voorwerpen.
NL170775C (nl) Werkwijze voor het aftekenen van een patroon op een substraat onder toepassing van een negatief resistmateriaal alsmede voorwerp dat een substraat met daarop een negatief resistmateriaal omvat.
NL7511714A (nl) Werkwijze voor het op een oppervlak met verhoogde gebieden opbrengen van een fotoresist vormende laag.
NL189820C (nl) Werkwijze voor het verwijderen van afzetting van een oppervlak.
NL7702431A (nl) Werkwijze voor het afzetten van een metaal op een oppervlak.
NL187231C (nl) Inrichting voor het op onderdelen aanbrengen van een verflaag.
NL7602264A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een metaalbe- kleding op een metaalsubstraat.
NL189909C (nl) Werkwijze voor het bekleden van een glassubstraat met een tinoxidelaag.
NL7810933A (nl) Werkwijze voor het op een oppervlak afzetten van een metaal.
NL7903137A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lithografische drukplaat.
NL7700641A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een bekleding voor halfgeleidersubstraten.
NL7702923A (nl) Werkwijze voor het vormen van een polyfenyleen- sulfideharsbekleding op het oppervlak van een metaalsubstraat.
NL186660C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een magnetisch bekledingsmateriaal voor magnetische registratiemedia.
NL7900497A (nl) Werkwijze voor het positioneren van een substraat.
NL184543C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een drukplaat.
NL7606314A (nl) Werkwijze voor het vormen van een getextureerd oppervlak op een met polyurethaan bekleed vinyl- substraat.
NL7704092A (nl) Werkwijze voor het afzetten van een metaal op een oppervlak.
NL186119C (nl) Werkwijze voor het vormen van een patroon voor een positieve resist.

Legal Events

Date Code Title Description
A1A A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION

V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Free format text: 19990709