DE840127C - Verfahren zur Herstellung von Elektronenroehren, die sowohl photo-elektrische als auch Sekundaerelektronen emittierende Schichten enthalten - Google Patents

Description

• Verfahren zur Herstellung von Elektronenröhren, die sowohl photoelektrische als auch Sekundärelektronen emittierende Schichten enthalten Die #,orliegende Erfindung bezieht sich auf'Verbesserungen von Elektronenentladungseinrichtungen, die eine photoelektrische Kathode und eine oder mehrere sekundäreinittierende Elektroden enthält, und sie betrifft im besonderen solche Einrichtungen, die allgemein als Elektronenvervielfacher, lkonoskope, Dissektorröhren u. ä. bekannt sind.
• Eine Vervielfacherphotozelle, die als empfindliche Bestandteile auf der Photokathode und den sekundärernittierenden Elektroden verschiedene Alkalimetalle enthält, hat Vorteile, da es bei solchen Vervielfacherphotozellen möglich ist, maximale Photoemission der Kathode mit maximaler Sekundärernission der Vervielfacherelektroden zu kombinieren. Eine Schwierigkeit beim Gebrauch verschiedener Metalle besteht darin, daß es sicher sein muß, daß das benötigte Alkalimetall entweder nur auf die Kathode oder nur auf die sekundäremittierenden Elektroden niedergeschlagen wird. Aufgabe der Erfindung ist es, diese Schwierigkeit zu überwinden.
• Die Verwendung zweier verschiedener Alkalimetalle ist alsvorteilhaft bekannt beiVervielfacherphotozellen, die eine Antimon-Caesium-Kathode und Silberoxyd-Rubidium-Sekundäremissionselektroden haben. In diesem Falle ist der Antimon- Caesium-Belag den Schichten, die Antimon' und andere Alkalimetalle enthalten, in bezug auf die photoelektrische Emission überlegen, während der Sill)eroxyd-Rubidium-Belag einem Silberoxyd-Caesium-Belag in bezug auf kleine termionische Emission überlegen ist.
• Erfindungsgemäß enthält eine Elektronenentladtiiigseinrichtung eine photoelektrische Kathode, die mit einem photoempfindlichen Alkalimetall sensibilisiert ist und mindestens eine mit einem anderen Alkalimetall geringer thermionisc'her Emission sensibilisierte Sekundäretnissionselektrode.
• Gemäß einem Merkmal der Erfindung besteht ein Verfahren zur Herstellung einer Elektronenentladungseinrichtung darin, die sekundäremittierenden Elektroden vor der Sensitivierung der photoelektrischen Kathode empfindlich zu machen.
• Gemäß einem weiteren Merkmal der Erfindung besteht ein Verfahren zur Herstellung einer Elektronenentladungseinrichtung darin, die sekundäremittierenden Elektroden vor der Sensitivierung der photoelektrischen Kathode in solch einer Weise empfindlich zu machen, daß eine darauffolgende Sensitivierung der Photokathode nicht den Wirkungsgrad der sekundäremittierenden Elektroden verringert.
• Gemäß einem weiteren Merkmal der Erfindung besteht ein Verfahren zur Herstellung einer Elektronenentladungseinrichtung darin, die sekundäremittierenden Elektroden empfindlich zu machen, bevor dieKathodenoberfläche durch Niederschlagen eines Alkalimetalls hergestellt wird.
• Die Erfindung wird im folgenden in Einzelheiten beschrieben unterBezugnahmeauf einAusführungsbeispiel. Als Anwendung der Erfindung.wurde für die detaillierte Beschreibung eine Vervielfacherphotozelle ausgewählt, die eine Antimon-Caesium-Kathode hat und sekundäremittierende Elektroden aus Silberoxyd-Rubidium.
• Zunächst werden die Silberelektroden, die zur Sekundäremission dienen sollen, in den Glaskolben montiert, der zur Aufnahme der Photozelle dient, und der Glaskolben an eine Vakuumpumpe angeschinolzen, wobei auch zweiseitige Röhren vorgesehen sind. Der Glaskolben wird evakuiert und dann die folgenden Schritte im Herstellungsverfahren nacheinander durchgefiihrt. i. Die Silberelektroden werden in bekannter Weise oxydiert, indem man sie zu negativen Elektroden einer elektrischen Entladung in einer Sauerstoffatmosphäre macht; 2. der Kolben wird wieder evakuiert; 3. Rubidium wird in einer Seitenröhre entwickelt; ,4. Rubidium wird auf den Silberoxydbelag aufdestilliert, bis letzterer gesättigt ist, wobei der Kolben mit Inhalt auf einer Temperatur von 150 bis 200' C gehalten wird; 5. die Seitenröhre, die das überschüssige Rubidium enthält, wird entfernt; 6. Antimon wird in bekannter Weise verdampft, z. B. aus einer Kugel in einer elektrisch erhitzten Spule, so daß es nur auf einen vorbestimmten Teil der Glaswand des Kolbens gerichtet ist; 7. Caesium wird in einer zweiten Seitenröhre entwickelt; 8. Caesium wird auf den Antimonbelag destilliert, während der Kolben auf einer Temperatur von 150 bis 2oo' C gehalten wird; g. die Seitenröhre, die das Überschüssige Caesium enthält, wird entfernt; io. der Kolben wird bei einer Temperatur von i5o bis 2oo' C für ro Minuten gebacken; i i. der Glaskolben wird von derVakuumpumpe abgeschmolzen.
• Es ist vorteilhaft, daß bei der Destillation des Caesiums auf den Antimonbelag zur Sensitivierung der Kathode das Caesium nicht auf die sekundäretnittierendenElektroden niedergeschlagen wird, da diese schon mit Rubidium gesättigt sind; infolgedessen wird der Wirkungsgrad der sekundäremittierenden Elektroden, der sonst durch den Niederschlag von Caesium beeinflußt würde, nicht verringert.
• Bei einer anderen Konstruktion von Vervielfacherphotozellen kann die Kathode, statt daß die Glaswand des Kolbens als Träger für sie dient, auf einen Träger montiert werden, der im Glaskolben angebracht ist und aus einem Stoff besteht, der nicht mit dem Alkalimetall reagiert. Geeignete Stoffe sind z. B. Metalle, wie Silber, oder Nichtmetalle, wie Glimmer. Das Verfahren zur Behandlung der Röhre ist genau das gleiche wie oben beschrieben; der einzige Unterschied in der Konstruktion besteht darin, daß der Kolben den Kathodenträger enthält, zusätzlich zu den Silberelektroden, die zur Sekundäremission dienen. Im Falle des silbernen Kathodenträgers wird das Rubidium beim Destillieren auf den Silberoxydbelag niedergeschlagen, der auf den Silberelektroden gebildet ist, aber es reagiert nicht mit dem silbernen Kathodenträger, da dieser nicht zu einer negativen Elektrode gemacht wurde, während der Entladung in einer Sauerstoffatmosphäre und infolgedessen nicht oxydierte.

Claims (2)

1. PATENTANSPRÜCHE: i. Elektronenentladungseinrichtung, gekennzeichnet durch einePhotokathode, die mit einem photoempfindlichen Alkalimetall sensibilisiert ist und durch mindestens eine mit einem anderen Alkalimetall geringer thermionischer Emission sensibilisierte Sekundäremissionselektrode.
2. 2. Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Entladungseinrichtung nach Anspruch i" dadurch gekennzeichnet, daß bei der Herstellung die sekundäremittierenden Elektroden früher empfinldlich gemacht werden als die Photokathode. 3. Verfahren zur Herstellung einer Elektronenentladungseinrichtung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die sekundäremittierenden Elektroden früher empfindlich gemacht werden als die Photokathode, und zwar in solcher Weise, daß eine darauffolgende Sensi,tivierung der Photokathode den Wirkungsgrad der sekundäremittierenden Elektroden nicht verringert. 4. Verfahren zur Herstellung einer Elektronenentladungseinrichtung nach Anspruch r, dadurch gekennzeichnet, daß die sekundärernittierenden Elektroden empfindlich gemacht werden, bevor die Herstellung der Kathodenoberfläche durch Niederschlagen eines Alkalinietalls erfolgt. 5. Elektronenentladungseinrichtung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Photokathode aus einer Antimon-Caesium-Schicht besteht und die sekundäremittierenden Elektrode oder Elektroden aus einer Silberoxyd,Rubidium-Schicht. 6. Elektronenentladungseinrichtung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Photokathode auf der Glaswand der Röhre oder auf einem Träger angebracht ist, der in die Röhre montiert ist und der aus einem Stoff, z. B. Silber oder Glimmer besteht, welcher nicht mit Alkalimetall reagiert. 7. Verfahren nach einem der vorigen Ansprüche 22, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein Alkalimetall zur Sensitivierung der sekundäremittierenden Elektroden verwandt wird und daß das überschüssige Alkalimetall entfernt wird, bevor die Photokathode empfindlich gemacht wird. 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das überschüssige Alkalimetall entfernt wird, bevor die Grundschicht der Photokathode gebildet wird. g. Verfahren nach einem der vorigen Ansprüche 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Kolben und sein Inhalt auf einer Temperatur zwischen i5o und 2oo' gehalten wird, während die sekundäremittierenden Elektroden und#oder die Photokathode empfindlich gemacht werden.