DE2109903A1 - Verfahren zum Herstellen einer Multi alkali Photokathode - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Multi alkali Photokathode

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Description

RCA 62.624
U.S. Serial No.ι 15.7^2
Filed: March 2, 1970
RCA - Corporation, New York, N.Y., USA
Verfahren zum Herstellen einer Multialkali-Photokathode
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Multialkali-Photokathode aus Antimon, Natrium, Kalium und Cäsium.
Eine Photoemissionsfläche in Form einer halbtransparenten Multialkali-Photokathode ist bereits in den USA-Patentschriften 2.77O.561 und 3.372.967 beschrieben worden. Multialkali-Photokathoden dieser Art zeichnen sich durch eine relativ hohe Empfindlichkeit und durch eine spektrale Ansprechkurve aus, die sich über den gesamten sichtbaren Bereich des Spektrums erstreckt.
Die in den genannten Patentschriften beschriebenen Multialkali Photokathoden sind jedoch wenig empfindlich im Infrarotbereich des Spektrums, also bei Wellenlängen um und oberhalb 7OO tun. Die Empfindlichkeit für rotes und infrarotes Licht wird aber beispielsweise für die Verwendung mit Lasern gewünscht, wie
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sie gewöhnlich zur Nachrichtenübertragung eingesetzt werden. Solche Laser emittieren nämlich rotes oder infrarotes Licht.
Ein Verfahren gemäß der Erfindung besteht darin, daß
.a) auf einem Substrat eine Antimon und Kalium enthaltende Grundschicht gebildet wird;
b) auf die Grundschicht Natrium aufgedampft wird, bis eine Lichtempfindlichkeit zwischen 15 und 80 Mikroampere pro Lumen erreicht ist;
c) während einer weiteren Aufdampfung von Natrium gleichzeitig Antimon auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis die Lichtempfindlichkeit der Schicht ein Maximum überschreitet und bis zu einem Wert abfällt, der zwischen 5 % und 15 # dieses Maximums beträgt;
d) Kalium auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis eine praktisch maximale Lichtempfindlichkeit erreichtΛist;
e) während einer weiteren Aufdampfung von Kalium gleichzeitig Antimon auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis die Lichtempfindlichkeit ein anderes Maximum überschreitet und bis zu einem Wert abfällt, der zwischen 5 % und 15 % dieses Maximums beträgt}
f) der Reihe nach die Schritte (b) bis (e) wiederholt werden, bis die Lichtempfindlichkeit zwischen 25 % und 35 % der zuvor während einem der Schritte (b) bis (e) erreichten höchsten Lichtempfindlichkeit beträgt; und daß dann
g) die Grundschicht durch Aufdampfen von Cäsium auf die Schicht sensibilisiert wird;
h) das beschichtete Substrat erhitzt wird, bis ein neues Maximum der Lichtempfindlichkeit erreicht ist;
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i) Antimon auf die Grundschicht aufgedampft wird;
j) die Schicht erhitzt wird, bis ein anderes Maximum der Lichtempfindlichkeit erreicht ist; und
k) die Schritte (i) und (j) wiederholt werden, bis die Lichtempfindlichkeit der Schicht sich bei einem Maximalwert stabilisiert.
Ein bevorzugtes Merkmal der Erfindung besteht darin, daß zum Bilden der Grundschicht ein transparentes Substrat im Vakuum zwischen 3 und 6 Stunden lang auf etwa 400 C erhitzt und dadurch gereinigt und entgast wirdj metallisches Antimon auf eine Fläche des Substrates aufgedampft wird, bis die Lichtdurchlässigkeit durch das Substrat etwa 60 % der Durchlässigkeit vor Aufbringen des Antimons beträgt; die Substratfläche auf etwa 190° C erhitzt wird; und Kalium auf die Substratfläche aufgedampft wird, bis die Photoemission vom aufgebrachten Antimon und Kalium praktisch ein Maximalwert ist.
Ein weiteres Merkmal der Erfindung besteht darin, daß zum Sensibilisieren der Grundschicht
1) die Temperatur des Substrates von der Temperatur, bei welcher das Kalium aufgedampft wird, während einer Zeitdauer zwischen 5 und 10 Minuten auf einen Wert zwischen 155° C und 1650 C gesenkt wird;
2) Cäsium auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis die Lichtempfindlichkeit der Schicht ein Maximum überschreitet und auf einen Wert abfällt, der zwischen 70 % und 90 % dieses Maximums beträgt;
3) das Substrat bei einer Temperatur zwischen 155° C und 165 C erhitzt wird, bis ein neues Maximum der Empfindlichkeit ungefähr erreicht ist;
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4) Antimon auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis die Empfindlichkeit auf einen Wert abfällt, der zwischen 5 % und 15 % des genannten letzten Maximums beträgt;
5) das Erhitzen des Substrates bei einer Temperatur zwischen 155° C und I650 C fortgesetzt wird, bis ein neues Maximum der Empfindlichkeit ungefähr erreicht ist;
6) die Schritte (4) und (5) der Reihe nach wiederholt werden, bis die maximale Empfindlichkeit gemäß Schritt (5) sich auf einen Wert zwischen 0.5 und l6 Mikroampere pro Lumen für Infrarotlicht stabilisiert.
An einem bevorzugten Ausführungsbexspxel soll die Erfindung nun näher erläutert werden. In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 einen Schnitt durch eine Photoröhre mit einer erfindungsgemäß hergestellten Photokathode; und
Fig. 2 einen Vergleich zwischen der spektralen Ansprechkurve einer Photokathode gemäß Fig. 1 und derjenigen einer nach bekannten Verfahren hergestellten MuItialkali-Photokathode.
Durch das Verfahren gemäß der Erfindung wird eine Photoröhre 26, wie sie in Fig. 1 dargestellt ist, mit einer flächenförmxgen Photokathode 28 versehen, die eine bessere Empfindlichkeit für Infrarotlicht aufweist als bekannte Photokathoden. Die Röhre 26 besitzt eine rohrförmige Glaswand 3O, die etwa I27 mm lang und 29.5 mm dick ist und einen Außendurchmesser von etwa 51 mm besitzt. Das eine Ende der Wand 30 ist von einer Frontplatte 32 aus Glas verschlossen, die an der Außenseite eben und an der Innenseite mit einem Krümmungsradius von etwa
48.3 mm konkav gewölbt ist. Das andere Ende der Wand 30 ist durch einen Röhrenfuß 34 mit einer Anzahl elektrischer Durchführungsstifte 35 geschlossen. Längs des Innenraums der Röhre sind im Abstand eine Reihe von Dynoden 36 angeordnet. In der Nähe der Dynoden 36 befinden sich im Abstand drei Kanäle 38, 40 und 42 aus Tantalfolie, die Substanzen zum Aufdampfen von Kalium, Natrium bzw. Cäsium enthalten. Der Kaliumkanal 38 enthält Kaliumchromat, Aluminium und Wolfram. Der Natriumkanal
ehromat
40 enthält Natrium- Aluminium und Wolfram. Der Cäsiumkanal 42 enthält Cäsiumchromat, Zirkonium und Wolfram. An einem in der Nähe der Frontplatte befindlichen Widerstandsheizfaden 44 sind zwei Antimonlegierungsperlen 45 befestigt, die zum Verdampfen von Antimon dienen. Die Kanäle 38, 40 und 42 und der Heizfaden 44 sind in geeigneter Weise durch innere Leiter und über die Stifte 35 so mit elektrischen Stromquellen verbunden, daß sie durch elektrische Widerstandserhitzung separat aktiviert werden können.
Die Lichtdurchlässigkeit durch die Frontplatte wird dadurch überwacht, daß das Licht eines Wolframglühfadens mit einem Winkel durch die Frontplatte und durch die Wand zu einer lichtempfindlichen Röhre geleitet wird. Zum Überwachen der Photoemissionsempfindlichkeit der schichtförmigen Photokathode 28 auf der Innenfläche der Frontplatte werden mit einer oder mehreren inneren Elektroden wie beispielsweise einer Elektrode 46 die emittierten Elektroden gesammelt. Für diese Sammelwirkung wird der Elektrode 46 eine Spannung aufgeprägt, die einen positiven Wert zwischen 50 und I50 V bezüglich der Photokathode 28 hat. Zu diesem Zweck führen ein Leiter 48 von einem der Durchführungsstifte 35 zu einer Aluminiumschicht auf der Wand 30, die in Kontakt mit der Photokathode 28 steht, und ein weiterer Leiter 50 ebenfalls von einem Durchführungsstift 35 zur
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Elektrode 46. Die Empfindlichkeit wird ausgedrückt in Mikroampere des emittierten Elektronenstroms pro Lumen des auf die Photokathode 28 auffallenden Lichtes.
Während der Behandlung wird die Röhre kontinuierlich durch einen Pumpstutzen 47 im Röhrenfuß evakuiert. Der Pumpstutzen hat einen Innendurchmesser von etwa 6.4 mm und ist etwa 51 mm lang. Er führt unmittelbar zu einer Titanverdampfungs-Vakuumpumpe, die eine Pumprate von ungefähr 250 Liter/see hat.
Nachfolgend sind die einzelnen Verfahrensschritte zur Bereitung der Photokathode 28 gemäß dem Ausführungsbexspxel der Erfindung zusammengestellt. Hinter den bevorzugten Werten der einzelnen Parameter sind mögliche Bereiche für die Werte dieser Parameter in Klammern angegeben.
1) Die in Fig. 1 dargestellte Röhrenkonstruktion wird, während sie evakuiert wird, ungefähr 5 (3 bis 6) Stunden lang bei etwa 400 C erhitzt, um den Innenraum und auch die Substratfläche der Frontplatte 32 zu reinigen und zu entgasen.
2) Nach dem Erhitzen wird die Röhre auf Raumtemperatur abgekühlt. Der Heizfaden 44 wird erhitzt, und vom Heizfaden verdampftes Antimonmetall schlägt sich auf der Substratfläche der Frontplatte nieder. Die Aufdampfung wird fortgesetzt, bis die Lichtdurchlässigkeit der Frontplatte etwa 60 % beträgt, wobei der Wert der Durchlässigkeit der Frontplatte vor der Aufdampfung mit 100 % angesetzt ist.
3) Die Röhre 26 wird in einen Ofen gebracht, der auf etwa 190° C vorgeheizt worden ist.
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4) Während die Röhre auf Ofentemperatur erhitzt wird, werden die Kanäle 38, kO und 42 vorgeheizt, damit sie gereinigt und entgast werden. Dann wird der Strom des Kaliumkanales 38 so eingestellt, daß der Kanal Kaliumdampf abgeben wird, wenn die Temperatur der Frontplatte 32 etwa l8p° C erreicht.
5) Das verdampfte Kalium schlägt sich auf der Antimonschicht auf der Frontplattenfläche nieder. Die Kaiiumaufdampf ung wird aufrechterhalten, bis eine maximale Empfindlichkeit erreicht ist. Das Maximum beträgt allgemein etwa 1.5 (l.O bis 5.O) Mikroampere pro Lumen. Das Antimon und Kalium auf dem aus der Frontplatte bestehenden Substrat bilden eine Grundschicht.
6) Die Ofentemperatur wird auf etwa 215° C (200° C bis 250° C) gesteigert. Während der folgenden Schritte (7) bis (ll) bleibt die Röhre bei dieser Temperatur im Ofen. Der durch den Natriumkanal 40 fließende Strom wird so eingestellt, daß Natriumdampf freigegeben wird, wenn das Substrat, also die Frontplatte 32 etwa 210° C (205° C bis 220° C) erreicht.
7) Natrium wird verdampft und schlägt sich auf der Grundschicht nieder. Die Natriumaufdampfung wird aufrechterhalten, bis eine maximale Lichtempfindlichkeit erreicht ist. Das Maximum beträgt allgemein etwa 20 (15 bis 80) Mikroampere pro Lumen.
8) Die Natriumaufdampfung wird fortgesetzt, und gleichzeitig wird Antimon verdampft und auf der Grundschicht niedergeschlagen, bis eine maximale Empfindlichkeit von etwa 50 (45 bis 120) Mikroampere pro Lumen überschritten worden ist und die Empfindlichkeit auf etwa 10 % (5 % bis 15 %)
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des Maximums gesunken ist. Dann wird die Aufdampfung dieser beiden Materialien unterbrochen.
9) Auf die Grundschicht wird Kalium aufgedampft, bis ein anderes Maximum der Empfindlichkeit erreicht ist.
10) Die Kaliumaufdampfung wird fortgesetzt, und gleichzeitig wird Antimon auf die Grundschicht aufgedampft, bis die
Empfindlichkeit auf etwa 10 % (5 % bis 15 %) des während des Schrittes (9) erreichten Maximums der Empfindlichkeit absinkt.
11) Die Schritte 7 bis einschließlich 10 werden wenigstens einige Male wiederholt, bis die beim Schritt (lO) erreichte Maximalempfindlichkeit etwa 30 % (25 % bis 35 %) des in irgendeinem der vorhergehenden Schritte (5) bis einschließlich (lO) erreichten höchsten Maximums der Empfindlichkeit beträgt.
Wenn die richtige Empfindlichkeit für diesen Schritt erreicht ist, wird die Photokathode eine schwach-blaue Färbung annehmen.
12) Die Röhre 26 wird allmählich auf etwa l60° C (155° C bis 165 C) abgekühlt, und zwar über eine Zeitdauer von etwa 5 (5 bis 10) Minuten.
13) Wenn die Temperatur etwa l60° C erreicht, wird Cäsium verdampft, das sich auf der Grundschicht niederschlägt. Die Aufdampfung wird fortgesetzt, bis die Photo- oder Lichtempfindlichkeit der Grundschicht ein Maximum überschreitet und auf etwa 90 % (70 % bis 90 %) des Maximums abfällt.
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14) Die Röhre 26 wird bei l6O° C (155° C bis I650 C) erhitzt, bis ein neues Maximum der Empfindlichkeit erreicht ist.
15) Auf die Grundschicht wird Antimon aufgedampft, bis die Empfindlichkeit auf etwa IO % (5 % h±a 15 %) des beim Schritt (l4) erreichten Maxiraums abfällt.
16) Die Röhre wird bei l6O° C (155° C bis 1650 C) erhitzt, bis ein neues Maximum der Empfindlichkeit erreicht ist.
17) Die Schritte (15) und (l6) werden wiederholt, bis die Maximalempfindlichkeit gemäß Schritt (l6) sich stabilisiert und die Infrarotempfindlichkeit zwischen O.5 und l6 Mikroampere pro Lumen beträgt·
18) Die Photokathode 28 ist nun fertig. Die Röhre 26 wird langsam mit einer Rate von etwa 10 C pro Minute auf Raumtemperatur abgekühlt und aus dem Ofen herausgenommen. Nach dem Abschmelzen des Pumpstutzens 47 ist die Röhre 26 betriebsbereit.
Methoden zum Überwachen der Empfindlichkeit und der Lichttransmission während der Verfahrenssehritte und auch zum Aufdampfen der Materialien der Photokathode sind mit weiteren Einzelheiten beispielsweise in den eingangs erwähnten USA-Patentschriften 2.77O.56I und 3.372.967 sowie in den USA-Patentschriften 2.914.69O und 2.676.282 beschrieben.
Die Messung der Lichtdurchlässigkeit der Frontplatte zum Zwecke der Überwachung der Dicke der Antimonschicht erfolgt mit einer konventionellen Einrichtung. Ihre Messung ist nicht kritisch.
Die Empfindlichkeit der aufgedampften Schichten wird für sichtbares Licht und für Infrarotlicht gesondert gemessen. Es ist wünschenswert, daß man die Empfindlichkeit für sichtbares Licht und für Infrarotlicht fast gleichzeitig messen kann, so daß
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die Photokathode während des Verfahrens einen günstigen Relativwert bei der Empfindlichkeit erhalten kann. Zu diesem Zweck werden zwei separate Wolfram-Glühlampen verwendet, jede mit einer Lichtabgabe von etwa 0.1 Lumen. Diese Glühlampen werden in einem kurven Abstand von der Prontplatte angeordnet. Zwischen die eine Glühlampe und die Frontplatte wird ein Lichtfilter aus Glas gesetzt, das kein sichtbares Licht, sondern nur Infrarotlicht durchläßt.Hierfür eignet sich beispielsweise ein Filter, das weniger als 0.025 % bei einer Wellenlänge von 750 mn, 20 % bei 900 mn und ungefähr 90 % bei etwa 1250 nm durchläßt. Die Empfindlichkeit der Photokathode für sichtbares Licht und für Infrarotlicht kann separat und fast gleichzeitig gemessen werden, wenn man von Hand von der einen zur anderen Glühlampe umschaltet.
Die Aufdampfungsraten der aufgedampften Elemente sind durch die Schnelligkeit und Genauigkeit beschränkt, mit der die Empfindlichkeit überwacht werden kann. Bei einer relativ langsamen Aufdampfung ist die Überwachung weniger kritisch.
Die Maximalempfindlichkeit wird aus der zweiten Ableitung der die zunehmende Empfindlichkeit beschreibenden Funktion bestimmt. Die zweite Ableitung hat am Scheitelpunkt eine Empfindlichkeitskurve den Wert Null. Die Ableitung der Empfindlichkeitsfunktion kann mit einem Computer kontinuierlich berechnet werden. Eine Bedienungsperson kann aber auch einfach das Auftragen einer Kurve der Empfindlichkeit beobachten und einen Scheitelwert feststellen, wenn ihre Tangente horizontal ist. Im Laufe einer Alkalimetallaufdampfung gibt es allerdings häufig eine Anzahl unechter Empfindlichkeitsspitzen, deren Wert geringer ist als ein späteres höchstes Maximum. Um diese falschen Spitzen vom eigentlichen Maximum zu unterscheiden,
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ist es notwendig, mit der Aufdampfung fortzufahren, bis die Empfindlichkeit auf einen Wert von etwa 80 % der Empfindlichkeit bei der fraglichen Spitze gefallen ist. Man kann dann annehmen, daß die Spitze der für diese Aufdampfung erreichbare Höchstwert war und daher ein Maximum ist. Wenn vorstehend und im folgenden von der Aufdampfung eines Alkalimetalls bis zu einer "praktisch maximalen Lichtempfindlichkeit" die Rede ist, so ist damit eine Aufdampfung über das Maximum hinaus bis mindestens 15 % der Empfindlichkeit beim Maximum gemeint. Das nach Erreichen eines Maximums aufgedampfte überschüssige Alkalimetall verdampft im allgemeinen wieder während der nachfolgenden Erhitzung.
Beim bevorzugten Ausführungsbeispxel der Erfindung erfolgt die Aufdampfung durch erhitzte Kanäle innerhalb der Röhre. Zum Realisieren des Verfahrens ist aber auch eine äußere Behandlung möglich, wie sie in den oben erwähnten USA-Patentschriften beschrieben ist. Das Verfahren kann daher auch zum Bilden von Photokathoden mit verbesserter Rotempfindlichkeit in Röhren wie z.B. Bildröhren angewandt werden, für welche eine innere Behandlung wegen einer möglichen Verunreinigung von Elektroden weniger zweckmäßig sein mag als eine äußere Behandlung.
Das Ergebnis des Verfahrens ist eine Photokathode hoher Reproduzierbarkeit, die sich somit besonders gut für eine vollautomatische Fertigung eignet. Mit bisher bekannten Verfahren war eine völlige Automatisierung nicht möglich, weil beim Fehlen einer hochqualifizierten Bedienungsperson die Reproduzierbarkeit relativ gering war. Die Erfindung hat außerdem den Vorteil, daß zum Herstellen einer Multialkali-Photokathode eine wesentlich, nämlich um 50 % geringere Zeit erforderlich ist als mit bekannten Verfahren.
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Die Dicke bekannter Multialkali-Photokathoden liegt in der Größenordnung von 30 mn, während eine erfindungsgemäß hergestellte Photokathode eine Dicke von etwa 150 nm haben kann. Die größere Dicke erklärt teilweise eine höhere Empfindlichkeit der Photokathode für Rotlicht, wie in Fig. 2 gezeigt ist. Die Kurve 52 stellt das ungefähre Ansprechverhalten einer durch bekannte Verfahren hergestellten gewöhnlichen Multialkali-Photokathode dar. Offensichtlich ist die Ansprechempfindlichkeit im Wellenlängenbereich von 700 nm sehr gering. Die Kurve 3k repräsentiert das ungefähre Ansprechverhalten einer nach dem Verfahren gemäß der Erfindung hergestellten Photokathode. Man sieht, daß die Empfindlichkeit im Bereich von 700 nm wesentlich höher ist und sich weit über diesen Bereich hinaus bis zu 950 nm im Infrarotbereich erstreckt. Die hohe Empfindlichkeit im Infrarotbereich rührt vermutlich von anderen Faktoren als der Dicke der Fotokathode her. Zusätzlich zur besseren Ansprechempfindlichkeit für Infrarotlicht weist eine solche erfindungsgemäß hergestellte Fotokathode auch eine konstantere und höhere Empfindlichkeit im sichtbaren Spektrum auf als bekannte Multialkali-Photokathoden.
Obwohl die beschriebene Photokathode durch eine Folge von Aufdampfungsschritten hergestellt wird, ist es derzeit nicht möglich, die fertige Struktur genau zu definieren, da eine Legierung der aufgedampften Substanzen stattfindet. Die chemischen Zusammensetzungen der verschiedenen Schichten der Photokathode sind nicht bekannt. Die Photokathode kann daher zur Zeit am besten als Ergebnis des oben angegebenen Verfahrens beschrieben werden.
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Die Photokathode kann auch als Photoemitter auf einem lichtundurchlässigen Substrat oder als Sekundärelektronen-Emissionsfläche Verwendung finden.
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Claims (5)

  1. Patentansprüche
    Verfahren zum Herstellen einer Multiälkali-Photokathode aus Antimon, Natrium, Kalium und Cäsium, dadurch gekennzeichnet, daß
    a) auf einem Substrat (32) eine Antimon und Kalium enthaltende Grundschicht gebildet wird;
    b) auf die Grundschicht Natrium aufgedampft wird, bis eine Lichtempfindlichkeit zwischen 15 und 80 Mikroampere pro Lumen erreicht ist;
    c) während einer weiteren Aufdampfung von Natrium gleichzeitig Antimon auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis die Lichtempfindlichkeit der Schicht ein Maximum überschreitet und bis zu einem Wert abfällt, der zwischen 5 % und 15 % dieses Maximums beträgt;
    d) Kalium auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis eine praktisch maximale Lichtempfindlichkeit erreicht ist;
    e) während einer weiteren Aufdampfung von Kalium gleichzeitig Antimon auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis die Lichtempfindlichkeit ein anderes Maximum überschreitet und bis zu einem Wert abfällt, der zwischen 5 % und J,5 % dieses Maximums beträgt;
    f) der Reihe nach die Schritte (b) bis (e) wiederholt werden, bis die Lichtempfindlichkeit zwischen 25 % und 35 % der zuvor während einem der Schritte (b) bis (e) erreichten höchsten Lichtempfindlichkeit beträgt; und daß dann
    : I Ci P
    g) die Grundschicht durch Aufdampfen von Cäsium auf die Schicht sensibilisiert wird;
    h) das beschichtete Substrat erhitzt wird, bis ein neues Maximum der Lichtempfindlichkeit erreicht ist j
    i) Antimon auf die Grundschicht aufgedampft wird;
    j) die Schicht erhitzt wird, bis ein anderes Maximum der Lichtempfindlichkext erreicht ist; und
    k) die Schritte (i) und (j) wiederholt werden, bis die Lichtempfindlichkeit der Schicht sich bei einem Maximalwert stabilisiert.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennz e χ chne t, daß ein transparentes Substrat verwendet wird, und daß zum Bilden der Grundschicht das Substrat im Vakuum zwischen 3 und 6 Stunden lang auf etwa 400 C erhitzt und dadurch gereinigt und entgast wird; metallisches Antimon auf eine Fläche des Substrates aufgedampft wird, bis die Lichtdurchlässigkeit durch das Substrat etwa 60 % der Durchlässigkeit vor Aufbringen des Antimons beträgt; die Substratfläche auf etwa 190° C erhitzt wird} und Kalium auf die Substratfläche aufgedampft wird, bis die Photoemission vom aufgebrachten Antimon und Kalium praktisch ein Maximalwert ist.
  3. 3· Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß während der Schritte (b) bis (f) das Substrat auf einer Temperatur zwischen 200° C und 250° C gehalten wird.
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  4. 4. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zum Sensibilisieren der Grundschicht
    (1) die Temperatur des Substrates von der Temperatur, bei welcher das Kalium aufgedampft wird, während einer Zeitdauer zwischen 5 und 10 Minuten auf einen Wert zwischen 155° C und 1650 C gesenkt wird;
    (2) Cäsium auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis die Lichtempfindlichkeit der Schicht ein Maximum überschreitet und bis zu einem Wert abfällt, der zwischen 70 % und 90 % dieses Maximums beträgt;
    (3) das Substrat bei einer Temperatur zwischen 155 C und I650 C erhitzt wird, bis ein neues Maximum der Empfindlichkeit annähernd erreicht ist;
    (4) Antimon auf die Grundschicht aufgedampft wird, bis die Empfindlichkeit bis zu einem Wert abfällt, der zwischen 5 % und 15 % des genannten letzten Maximums beträgt;
    (5) das Erhitzen des Substrates bei einer Temperatur zwischen 155 C und 165 C fortgesetzt wird, bis ein neues Maximum der Empfindlichkeit annähernd erreicht ist;
    (6) die Schritte (4) und (5) der Reihe nach wiederholt werden, bis die maximale Empfindlichkeit gemäß Schritt (5) sich auf einen Wert zwischen O.5 und l6 Mikroampere pro Lumen für Infrarotlicht stabilisiert.
  5. 5. Elektronenemissionsfläche, dadurch gekennzeichnet, daß sie entsprechend dem Verfahren gemäß einem der vorangehenden Ansprüche ausgebildet ist.
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