DE69027702D1 - Elektronenstrahllithographiemaschine und Bildwiedergabeapparat - Google Patents

Elektronenstrahllithographiemaschine und Bildwiedergabeapparat

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Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2060809A1 (en) * 1991-03-01 1992-09-02 Raytheon Company Electron emitting structure and manufacturing method
JP3126158B2 (ja) * 1991-04-10 2001-01-22 日本放送協会 薄膜冷陰極
US5841219A (en) * 1993-09-22 1998-11-24 University Of Utah Research Foundation Microminiature thermionic vacuum tube
US5838097A (en) * 1993-11-09 1998-11-17 Canon Kabushiki Kaisha Image display apparatus
ATE191296T1 (de) * 1993-12-22 2000-04-15 Canon Kk Bilderzeugungsgerät
US5442193A (en) * 1994-02-22 1995-08-15 Motorola Microelectronic field emission device with breakdown inhibiting insulated gate electrode
JP3311201B2 (ja) 1994-06-08 2002-08-05 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP3251466B2 (ja) 1994-06-13 2002-01-28 キヤノン株式会社 複数の冷陰極素子を備えた電子線発生装置、並びにその駆動方法、並びにそれを応用した画像形成装置
CN1271675C (zh) * 1994-06-27 2006-08-23 佳能株式会社 电子束设备
USRE40103E1 (en) * 1994-06-27 2008-02-26 Canon Kabushiki Kaisha Electron beam apparatus and image forming apparatus
JP3241251B2 (ja) 1994-12-16 2001-12-25 キヤノン株式会社 電子放出素子の製造方法及び電子源基板の製造方法
JP3083076B2 (ja) 1995-04-21 2000-09-04 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP3311246B2 (ja) 1995-08-23 2002-08-05 キヤノン株式会社 電子発生装置、画像表示装置およびそれらの駆動回路、駆動方法
JP3658110B2 (ja) * 1995-11-27 2005-06-08 キヤノン株式会社 画像表示装置のための製造方法及び製造装置
JPH09190783A (ja) 1996-01-11 1997-07-22 Canon Inc 画像形成装置
JP3618948B2 (ja) * 1996-03-11 2005-02-09 キヤノン株式会社 画像表示装置とその駆動方法
JP3278375B2 (ja) 1996-03-28 2002-04-30 キヤノン株式会社 電子線発生装置、それを備える画像表示装置、およびそれらの駆動方法
US5955828A (en) * 1996-10-16 1999-09-21 University Of Utah Research Foundation Thermionic optical emission device
DE69730195T2 (de) 1996-12-25 2005-07-28 Canon K.K. Bilderzeugungsgerät
JPH10326579A (ja) 1997-03-28 1998-12-08 Canon Inc 画像形成装置とその製造方法
JP3195290B2 (ja) * 1997-03-31 2001-08-06 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP3187367B2 (ja) 1997-03-31 2001-07-11 キヤノン株式会社 電子装置及びそれを用いた画像形成装置
JP3234188B2 (ja) * 1997-03-31 2001-12-04 キヤノン株式会社 画像形成装置とその製造方法
JP3703287B2 (ja) 1997-03-31 2005-10-05 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP3305252B2 (ja) 1997-04-11 2002-07-22 キヤノン株式会社 画像形成装置
JPH1116521A (ja) 1997-04-28 1999-01-22 Canon Inc 電子装置及びそれを用いた画像形成装置
US6366014B1 (en) 1997-08-01 2002-04-02 Canon Kabushiki Kaisha Charge-up suppressing member, charge-up suppressing film, electron beam apparatus, and image forming apparatus
EP0896358B1 (de) 1997-08-01 2008-09-10 Canon Kabushiki Kaisha Elektronenstrahlgerät, Bilderzeugungsgerät unter Verwendung diesem Elektronenstrahlgerät, Bauteile für Elektronenstrahlgerät und Verfahren zur Herstellung von diesen Geräten und Bauteilen
JP3049061B1 (ja) 1999-02-26 2000-06-05 キヤノン株式会社 画像表示装置及び画像表示方法
JP3025251B2 (ja) 1997-12-27 2000-03-27 キヤノン株式会社 画像表示装置及び画像表示装置の駆動方法
JP3305283B2 (ja) 1998-05-01 2002-07-22 キヤノン株式会社 画像表示装置及び前記装置の制御方法
US6506087B1 (en) 1998-05-01 2003-01-14 Canon Kabushiki Kaisha Method and manufacturing an image forming apparatus having improved spacers
JP2000056730A (ja) 1998-06-05 2000-02-25 Canon Inc 画像形成装置及び画像形成方法
JP3073491B2 (ja) 1998-06-24 2000-08-07 キヤノン株式会社 電子線装置とこれを用いた画像形成装置及び電子線装置で用いる部材の製造方法
JP3765671B2 (ja) * 1998-08-10 2006-04-12 パイオニア株式会社 電子放出素子及びこれを用いた電子放出表示装置
JP2000148081A (ja) 1998-09-04 2000-05-26 Canon Inc 電子源と前記電子源を用いた画像形成装置
WO2000014764A1 (fr) 1998-09-08 2000-03-16 Canon Kabushiki Kaisha Dispositif a faisceau electronique, procede permettant de produire un element suppresseur de charge dans ledit dispositif, et dispositif d'imagerie
JP3428931B2 (ja) 1998-09-09 2003-07-22 キヤノン株式会社 フラットパネルディスプレイの解体処理方法
JP3689598B2 (ja) 1998-09-21 2005-08-31 キヤノン株式会社 スペーサの製造方法および前記スペーサを用いた画像形成装置の製造方法
US6972741B1 (en) 1998-10-06 2005-12-06 Canon Kabushiki Kaisha Method of controlling image display
JP4115050B2 (ja) 1998-10-07 2008-07-09 キヤノン株式会社 電子線装置およびスペーサの製造方法
JP4115051B2 (ja) 1998-10-07 2008-07-09 キヤノン株式会社 電子線装置
WO2000044022A1 (fr) 1999-01-19 2000-07-27 Canon Kabushiki Kaisha Canon d'électrons et imageur et procédé de fabrication, procédé et dispositif de fabrication de source d'électrons, et appareil de fabrication d'imageur
JP3466981B2 (ja) 1999-02-17 2003-11-17 キヤノン株式会社 電子線装置およびスペーサの製造方法
JP3611293B2 (ja) 1999-02-24 2005-01-19 キヤノン株式会社 電子線装置及び画像形成装置
JP3747142B2 (ja) 1999-02-24 2006-02-22 キヤノン株式会社 画像表示装置
KR100396304B1 (ko) 1999-02-24 2003-09-03 캐논 가부시끼가이샤 전자선 장치 및 화상 형성 장치
JP3501709B2 (ja) 1999-02-25 2004-03-02 キヤノン株式会社 電子線装置用支持部材の製造方法および画像表示装置の製造方法
JP2000310969A (ja) 1999-02-25 2000-11-07 Canon Inc 画像表示装置及び画像表示装置の駆動方法
JP3507393B2 (ja) 1999-02-25 2004-03-15 キヤノン株式会社 スペーサの製造方法および電子源装置の製造方法
JP3840027B2 (ja) 1999-02-26 2006-11-01 キヤノン株式会社 画像表示装置及び表示制御方法
WO2000060568A1 (fr) 1999-04-05 2000-10-12 Canon Kabushiki Kaisha Source d'électrons et dispositif de formation d'images
JP2000352952A (ja) 1999-04-05 2000-12-19 Canon Inc 画像形成装置
WO2000060569A1 (fr) 1999-04-05 2000-10-12 Canon Kabushiki Kaisha Source d'electrons et dispositif de formation d'images
JP3874396B2 (ja) * 2000-01-13 2007-01-31 パイオニア株式会社 電子放出素子及びその製造方法並びに電子放出素子を用いた表示装置
JP3688970B2 (ja) 2000-02-29 2005-08-31 株式会社日立製作所 薄膜型電子源を用いた表示装置及びその製造方法
US7068628B2 (en) 2000-05-22 2006-06-27 At&T Corp. MIMO OFDM system
JP3658342B2 (ja) * 2000-05-30 2005-06-08 キヤノン株式会社 電子放出素子、電子源及び画像形成装置、並びにテレビジョン放送表示装置
JP3684173B2 (ja) 2000-06-30 2005-08-17 キヤノン株式会社 画像表示装置の製造方法
JP3639808B2 (ja) 2000-09-01 2005-04-20 キヤノン株式会社 電子放出素子及び電子源及び画像形成装置及び電子放出素子の製造方法
JP3610325B2 (ja) 2000-09-01 2005-01-12 キヤノン株式会社 電子放出素子、電子源及び画像形成装置の製造方法
JP3658346B2 (ja) 2000-09-01 2005-06-08 キヤノン株式会社 電子放出素子、電子源および画像形成装置、並びに電子放出素子の製造方法
JP3639809B2 (ja) 2000-09-01 2005-04-20 キヤノン株式会社 電子放出素子，電子放出装置，発光装置及び画像表示装置
JP4046959B2 (ja) 2000-09-04 2008-02-13 キヤノン株式会社 電子線発生装置及び画像形成装置
JP2002157959A (ja) 2000-09-08 2002-05-31 Canon Inc スペーサの製造法およびこのスペーサを用いた画像形成装置の製造方法
JP4865169B2 (ja) 2000-09-19 2012-02-01 キヤノン株式会社 スペーサの製造方法
JP3634781B2 (ja) 2000-09-22 2005-03-30 キヤノン株式会社 電子放出装置、電子源、画像形成装置及びテレビジョン放送表示装置
JP2002156938A (ja) 2000-11-21 2002-05-31 Canon Inc 画像表示装置およびその駆動方法
JP3768908B2 (ja) 2001-03-27 2006-04-19 キヤノン株式会社 電子放出素子、電子源、画像形成装置
JP3681121B2 (ja) 2001-06-15 2005-08-10 キヤノン株式会社 駆動回路及び表示装置
JP3647426B2 (ja) 2001-07-31 2005-05-11 キヤノン株式会社 走査回路及び画像表示装置
JP3703415B2 (ja) 2001-09-07 2005-10-05 キヤノン株式会社 電子放出素子、電子源及び画像形成装置、並びに電子放出素子及び電子源の製造方法
JP3605105B2 (ja) 2001-09-10 2004-12-22 キヤノン株式会社 電子放出素子、電子源、発光装置、画像形成装置および基板の各製造方法
JP3715967B2 (ja) 2002-06-26 2005-11-16 キヤノン株式会社 駆動装置及び駆動回路及び画像表示装置
JP2006065172A (ja) * 2004-08-30 2006-03-09 Hitachi Ltd 表示基板
US7799999B2 (en) * 2007-08-20 2010-09-21 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Insulated conducting device with multiple insulation segments
JP5994271B2 (ja) * 2012-02-10 2016-09-21 国立大学法人東北大学 電子ビーム発生装置、電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置、および製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR854321A (fr) * 1938-05-09 1940-04-10 Fides Cathode froide
US3755704A (en) * 1970-02-06 1973-08-28 Stanford Research Inst Field emission cathode structures and devices utilizing such structures
JPS5698827A (en) * 1979-01-04 1981-08-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Electron beam exposure device
DE3033621A1 (de) * 1980-09-06 1982-04-29 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Steuerventil fuer druckluftbremsanlagen
DE3036219A1 (de) * 1980-09-25 1982-05-06 Siemens Ag Flachbildschirm
JPS60175352A (ja) * 1984-01-30 1985-09-09 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 複数電子ビ−ム銃
FR2580848B1 (fr) * 1985-04-17 1987-05-15 Menn Roger Ecran matriciel, son procede de fabrication et dispositif d'affichage matriciel a plusieurs nuances de couleurs, commande en tout ou rien, comportant cet ecran
US4742234A (en) * 1985-09-27 1988-05-03 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Charged-particle-beam lithography
JPS6391925A (ja) * 1986-10-03 1988-04-22 Canon Inc 電子放出素子
EP0289278B1 (de) * 1987-04-28 1994-08-17 Canon Kabushiki Kaisha Musteraufzeichnungsgerät mit Mehrfach-Elektronenstrahl
DE3741124C2 (de) * 1987-12-04 1997-02-06 Nmi Univ Tuebingen Elektronenstrahl-Nanolithographiesystem mit multiplexansteuerbarer Vielstrahlelektronenquelle aus MIM (Metall-Isolator-Metall)-Dünnschichtkathoden
EP0367195A3 (de) * 1988-10-31 1991-10-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Elektronen-Emissionselemente mit MIM-Kaltkathode und dessen Herstellungsverfahren

Also Published As

Publication number Publication date
CA2013233C (en) 1996-01-16
CA2013233A1 (en) 1990-09-30
JP3044382B2 (ja) 2000-05-22
EP0394698B1 (de) 1996-07-10
EP0394698A3 (de) 1991-10-02
DE69027702T2 (de) 1996-12-19
EP0394698A2 (de) 1990-10-31
JPH0355738A (ja) 1991-03-11
US5569974A (en) 1996-10-29

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