DE60302897D1 - Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung - Google Patents
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer VorrichtungInfo
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP03256096A EP1519231B1 (de) | 2003-09-29 | 2003-09-29 | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE60302897D1 true DE60302897D1 (de) | 2006-01-26 |
DE60302897T2 DE60302897T2 (de) | 2006-08-03 |
Family
ID=34178628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE60302897T Expired - Lifetime DE60302897T2 (de) | 2003-09-29 | 2003-09-29 | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20050094114A1 (de) |
EP (1) | EP1519231B1 (de) |
JP (1) | JP4342412B2 (de) |
DE (1) | DE60302897T2 (de) |
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US7006209B2 (en) * | 2003-07-25 | 2006-02-28 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for monitoring and controlling imaging in immersion lithography systems |
EP1519231B1 (de) * | 2003-09-29 | 2005-12-21 | ASML Netherlands B.V. | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
-
2003
- 2003-09-29 EP EP03256096A patent/EP1519231B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-29 DE DE60302897T patent/DE60302897T2/de not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-09-28 US US10/951,029 patent/US20050094114A1/en not_active Abandoned
- 2004-09-28 JP JP2004281188A patent/JP4342412B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-11-13 US US11/984,060 patent/US7817245B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-09-14 US US12/881,960 patent/US8400615B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7817245B2 (en) | 2010-10-19 |
US8400615B2 (en) | 2013-03-19 |
EP1519231A1 (de) | 2005-03-30 |
US20110019168A1 (en) | 2011-01-27 |
JP2005175433A (ja) | 2005-06-30 |
EP1519231B1 (de) | 2005-12-21 |
US20080068577A1 (en) | 2008-03-20 |
JP4342412B2 (ja) | 2009-10-14 |
US20050094114A1 (en) | 2005-05-05 |
DE60302897T2 (de) | 2006-08-03 |
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Date | Code | Title | Description |
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