DE4014228A1 - Schreib-lese-speicher - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft allgemein Speicher, insbesondere
einen statischen Schreib-Lese-Speicher mit wahlfreiem Zu
griff (statischer RAM).
Einer der Grundbausteine eines Mikroprozessors oder ähn
lichen datenverarbeitenden Rechners ist der Schreib-Lese-
Speicher mit wahlfreiem Zugriff (RAM). In einem RAM werden
Daten in einer Vielzahl von Adreßplätzen als einer von zwei
gesonderten logischen Pegeln, nämlich als logische 1 oder
logische 0, gespeichert. Ein logisches Signal kann aus
jedem Adreßplatz ausgelesen werden, indem der Platz, aus
dem das gespeicherte Signal ausgelesen wird, adressiert
wird. Auch kann ein neues logisches Signal in jeden ausge
wählten Adreßplatz eingeschrieben werden durch Anwendung
eines ähnlichen Adressiervorgangs, bei dem der gewünschte
Adreßplatz ausgewählt wird, in den das neue logische Signal
einzuschreiben ist, um das vorher an diesem Platz gespei
cherte logische Signal zu ersetzen.
Zwei Arten von RAM werden allgemein verwendet. Die eine Art
ist der dynamische RAM. Bei einem typischen dynamischen RAM
umfaßt jeder Adreßplatz eine Speicherzelle, die aus einem
einzelnen MOS-Transistor und einem damit gekoppelten Kon
densator besteht. Die Ab- oder Anwesenheit einer Ladung am
Kondensator bezeichnet eine gespeicherte logische 0 bzw.
logische 1. Während eines Lesevorgangs wird die Ladung am
Kondensator durch den Transistor, auf den zugegriffen wird,
durch die Spaltenleitung verteilt, an die die Zelle ange
schlossen ist. Die Spaltenleitung ist mit einem Lesever
stärker gekoppelt, der typischerweise außerdem an eine
Blindzelle gekoppelt ist und ein verstärktes Signal auf der
Grundlage des Datensignals auf der Spaltenleitung erzeugt.
Da die Ladung am Kondensator im Lauf der Zeit abklingt,
müssen die Oaten in Speicherzellen des dynamischen RAM
periodisch aufgefrischt werden. Dazu verwenden dynamische
RAMs relativ komplexe Auffrischungs-und zugehörige Takt
schaltkreise.
Der andere konventionelle RAM-Typ ist der statische RAM, in
dem die Information durch die Spannungspegel an zwei Daten
knoten in einem Flipflop oder Signalspeicher dargestellt
ist. Der Signalspeicher ist über Zugriffstransistoren mit
den Spalten- oder Bitleitungen gekoppelt, die ihrerseits
mit einem Leseverstärker gekoppelt sind. Da die in einem
Signalspeicher gespeicherte Information nicht abklingt,
wird bei einem statischen RAM keine gesonderte Auffri
schungsschaltung benötigt. Typischerweise benötigt die kon
ventionelle statische RAM-Speicherzelle wenigstens sechs
MOS-Transistoren gegenüber dem einen MOS-Transistor und
Kondensator, die normalerweise in der Speicherzelle eines
dynamischen RAMs verwendet werden.
Wegen ihrer oben beschriebenen jeweiligen Speicherzellen
auslegungen haben statische und dynamische RAMs diverse
wesentliche Vorteile und Nachteile relativ zueinander.
Dynamische RAMs, die nur einen einzigen MOS-Transistor und
Kondensator zur Bildung einer Speicherzelle benötigen,
bieten eine höhere Dichte, da sie gegenüber statischen RAMs
weniger Platz, typischerweise 1/10, zur Herstellung brau
chen und auch pro gespeichertem Informationsbit weniger
kosten. Da sie aufgefrischt werden müssen, müssen dynami
sche RAMs jedoch einen externen Takt- und Auffrischungsbe
trieb anwenden. Somit brauchen dynamische RAMs relativ
komplexe periphere Schaltkreise und komplexe Taktschalt
kreise und arbeiten daher typischerweise mit einer niedri
geren Zugriffszeit als statische RAMs. Dagegen sind stati
sche RAMs leichter zu verwenden, da sie keinen externen
Takt- und Auffrischungsbetrieb benötigen und schnellere
Zugriffszeiten haben. Ihre Nachteile gegenüber dynamischen
RAMs sind die geringere Dichte und die höheren Kosten pro
Bit.
Diese Situation besteht seit vielen Jahren. Trotz ihrer
niedrigeren Betriebsgeschwindigkeiten werden dynamische
RAMs wegen ihrer höheren Dichte und niedrigeren Kosten
häufiger eingesetzt als statische RAMs. In den meisten
Fällen, in denen ein Schreib-Lese-Speicher benötigt wird,
werden daher statische RAMs trotz ihrer inhärenten höheren
Betriebsgeschwindigkeit von Mikroprozessor-Designern nicht
gewählt, und zwar wegen ihrer relativ niedrigeren Dichte
und der höheren Kosten.
Viele Fachleute auf dem Gebiet der Speicherkonstruktion
haben bereits versucht, einige der Vorteile von dynamischen
RAMs in einem statischen RAM zu realisieren. Beispiele
dieser Anstrengungen sind in den folgenden Veröffentlichun
gen beschrieben: "A 256K CMOS SRAM with Internal Refresh"
von S. Hanamura et al; Proceedings of the 1987 IEEE Inter
national Solid-State Circuits Conference, S.250; "Static
RAMs" von Schuster et al, Proceedings of the 1984 IEEE
International Solid-State Circuits Conference, S. 226; "A
30-µA Data Retention Pseudostatic RAM with Virtually Static
RAM Mode" von Sawada et al, IEEE Journal of Solid State
Circuits, vol.23, Nr. 1, Feb. 1988; "1-Mbit Virtually
Static RAM", Nogami et al, IEEE Journal of Solid-State
Circuits, vol. sc-21, Nr. 5, Okt. 1988; und "A 288K CMOS
Pseudostatic RAM" von Kawamoto et al, IEEE Journal of
Solid-State Circuits, vol. sc-18, Nr. 5, Okt. 1984.
Diese Situation wurde allgemein akzeptiert, solange der
Mikroprozessor mit relativ niedrigen Geschwindigkeiten
arbeitete. Neue Mikroprozessor-Konstruktionen wie etwa der
Intel 80386 haben jedoch zu einem Bedarf für Speicher mit
höheren Geschwindigkeiten, insbesonders als Cache-Speicher,
geführt. Bei einem Versuch, diese Forderung für Speicher
mit höherer Geschwindigkeit zu erfüllen, wurde ein stati
scher RAM mit einem Mikroprozessor als Cache-Speicher in
Verbindung mit einem dynamischen RAM verwendet. Der Zweck
dieser Konstruktion war es, die höhere Betriebsgeschwindig
keit des statischen RAMs zu nutzen und gleichzeitig den
dynamischen RAM wegen seiner höheren Dichte und der niedri
geren Kosten zu verwenden. Dieser kombinierte Einsatz eines
statischen und eines dynamischen RAMs erhöht jedoch die
Komplexität des Gesamtsystems in bezug auf die Adressierung
und Steuerung der beiden verwendeten RAM-Typen.
Aufgabe der Erfindung ist daher die Bereitstellung einer
statischen RAM-Speicherzelle, die weniger Transistoren be
nötigt und daher auf einer kleineren Fläche herstellbar
ist. Dabei soll allgemein eine Speicherzelle für einen
statischen RAM angegeben werden, der im Hinblick auf Dichte
und Kosten besser mit bestehenden dynamischen RAMs ver
gleichbar ist, jedoch mit höherer Geschwindigkeit als be
stehende dynamische RAMs arbeitet, so daß der Einsatz des
schnelleren statischen RAMs in Anwendungsfällen ermöglicht
wird, in denen bisher billigere dynamische RAMs mit höherer
Dichte verwendet wurden.
Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung eine Spei
cherzelle für einen statischen RAM vor, die nur vier MOS
Transistoren gegenüber den bisher typischerweise sechs MOS-
Transistoren in bekannten statischen RAM-Speicherzellen
benötigt. Zwei Transistoren sind dabei als kreuzweise ge
koppelte Flipflops geschaltet und wirken als Stromsenke-
Transistoren. Die beiden anderen Transistoren wirken als
Lastwiderstände im Informationsauffrischungsbetrieb und als
Durchlaßtransistoren im Lese- oder Schreibbetrieb. Die Ver
stärkung der beiden letztgenannten Transistoren ist niedri
ger als die der Stromsenke-Transistoren. Der Betrieb der
Zelle im Auffrischungs- und im Schreib-Lese-Modus wird von
einem jeweils verschiedenen Pegel einer Steuer- oder Wort
leitungsspannung gesteuert, die an die Steueranschlüsse der
beiden Transistoren mit niedrigerer Verstärkung angelegt
wird.
Im Lesebetrieb sind die Stromsenke-Transistoren über die
Durchlaßtransistoren mit den Daten- oder Bitleitungen ge
koppelt. Je nach der in der Zelle gespeicherten Information
wird die Spannung auf einer der Bitleitungen in bezug auf
die Spannung auf der anderen Bitleitung niedrig. Diese
Spannungsdifferenz wird in einem Leseverstärker erfaßt und
bezeichnet die Information an der Zelle, auf die zugegrif
fen wird.
Im Schreibbetrieb werden zusätzlich zu der Anhebung der
Wortleitung auf ihren höheren Pegel die an die Bitleitungen
gekoppelten Transistoren so betrieben, daß sie die Spannung
auf der einen Bitleitung in Abhängigkeit davon, ob eine
logische 1 oder 0 in die Speicherzelle eingeschrieben wird,
nach unten ziehen.
Im Auffrischungsbetrieb hat die an die Wortleitung angeleg
te Spannung ihren niedrigeren Pegel, so daß die oberen
Transistoren in der Speicherzelle als Lastwiderstände für
die Zelle anstatt als Durchlaßtransistoren wie im Schreib
oder Lesebetrieb wirken. Wenn nach einer früheren Auffri
schung ein gewisses Abklingen der Spannung der Datenknoten
der Speicherzelle infolge von Leckströmen aufgetreten ist,
erfolgt eine Regenerierung oder Auffrischung der Datenkno
tenspannungen auf die gewünschten Pegel für die beiden lo
gischen Pegel 1 und 0. Die Größe der mit den Bitleitungen
gekoppelten Transistoren ist so gewählt, daß ein Schreib
betrieb nicht ungewollt in einer Zelle stattfinden kann,
die gerade aufgefrischt wird.
Die Erfindung ist im folgenden anhand von Ausführungsbei
spielen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 ein schematisches Blockdiagramm einer bei
spielsweisen Speicherchip-Organisation;
Fig. 2 ein schematisches Schaltbild einer konventio
nellen statischen RAM-Speicherzelle;
Fig. 3 ein schematisches Schaltbild einer statischen
RAM-Speicherzelle gemäß einem Ausführungsbei
spiel der Erfindung;
Fig. 4 Signalverläufe von bei Auffrischungs- und
Leseoperationen in der Speicherzelle von Fig.
3 verwendeten Signalen;
Fig. 5 Signalverläufe von bei einer Schreiboperation
in der Speicherzelle von Fig. 3 verwendeten
Signalen;
Fig. 6a bis 6c schematische Darstellungen von Wortleitungs
adreß- und Auffrischungsdecodern und eines
Wortleitungstreiberkreises, die für die Reali
sierung der Schreib-Lese- und Auffrischungs
operationen in der statischen RAM-Speicher
zelle nach der Erfindung verwendet werden
können;
Fig. 7 eine schematische Darstellung eines Wortlei
tungs-Bezugsgebers, der bei der Implementie
rung der statischen RAM-Speicherzelle nach der
Erfindung Anwendung finden kann;
Fig. 8 eine schematische Darstellung eines Ausfüh
rungsbeispiels eines Datenleitungstreibers,
der für die Implementierung der statischen
RAM-Speicherzelle nach der Erfindung anwendbar
ist; und
Fig. 9 eine schematische Darstellung eines Ausfüh
rungsbeispiels eines Datenleitungs-Bezugsge
bers, der für die Implementierung der stati
schen RAM-Speicherzelle nach der Erfindung
anwendbar ist.
Fig. 1 zeigt einen repräsentativen 16K-RAM des Typs, bei
dem die Speicherzelle nach der Erfindung vorteilhaft an
wendbar ist. Die gezeigte Speicherkonfiguration ist zum
Zweck der einfacheren Erläuterung als mit jeweils einem Bit
zu einem Zeitpunkt erreichbar dargestellt. Der Speicher
könnte beispielsweise eine andere Anzahl Speicherzellen,
typischerweise 32K, 64K oder mehr, aufweisen und kann an
stelle der gezeigten quadratischen Form Rechteckform haben.
Ferner ist zu beachten, daß der Speicher von Fig. 1 sowohl
mit dynamischen RAMs als auch mit EPROMs verwendbar ist,
daß er aber hier in bezug auf einen verbesserten statischen
RAM dargestellt ist, der den Gegenstand der Erfindung bil
det.
Der Speicher von Fig. 1 hat eine Vielzahl Bits, die in
einer Matrix aus 128 Zeilen mal 128 Spalten angeordnet
sind, wobei jedes Bit ein gespeichertes Bit einer binären
Information entweder als logische 1 oder logische 0 dar
stellt. Die Wortleitungsadreßsignale, die den 128 Wortlei
tungen Wn (W1-W128) zugeführt werden, die die vertikalen
Spalten oder Bits adressieren, werden in einem Wortlei
tungsdecoder- und -treiberkreis 10 erzeugt. Letzterer ar
beitet aufgrund der logischen Pegel einer 7-Bit-Wortlei
tungsadresse, die seinem Eingang zugeführt wird, und er
zeugt eines von 128 positiv werdenden Wortleitungssignalen,
die der Spalte der ausgewählten Bitadresse entsprechen.
Ebenso wird eine von 128 horizontalen Datenleitungen Dn
(D1-D128) durch das positiv werdende Ausgangssignal der 128
Ausgangssignale Sn (S1-S128) ausgewählt, die von einem Da
tenleitungsdecoder-und -auswahlkreis 20 erzeugt werden.
Datenanauswahltransistoren Qn (Q1-Q128) sind jeweils zwi
schen eine gemeinsame Datenleitung D und die 128 Zeilenlei
tungen des Speichers geschaltet. Die Gates der Transistoren
Q1-Q128 sind jeweils mit den Ausgängen des Datenleitungs
auswahlkreises 20 gekoppelt. Das positiv werdende Sn-Signal
schaltet seinen zugeordneten NMOS-Datenauswahltransistor Qn
ein. Nur eine der Datenleitungen D1-D128 wird ausgewählt;
d.h. zu einem Zeitpunkt wird jeweils nur ein ausgegebenes
Decodersignal Sn positiv entsprechend der 7-Bit-Datenlei
tungsadresse, die dem Eingang des Decoderkreises 20 zuge
führt ist.
Die ausgewählten oder positiven Wortleitungs-Wn- und Daten
leitungs-Dn-Signale bilden die Adresse, d.h. Reihe und
Spalte des ausgewählten Bits, das am Schnittpunkt der aus
gewählten vertikalen Wortleitung und horizontalen Daten- -
leitung liegt. Die Datenleitungen Dn von Fig. 1 sind zwar
der Einfachheit halber als Einzelleitungen dargestellt, es
ist aber üblich, ein Paar von komplementären Datenleitungen
zu jedem Bit zu haben. Bei einer solchen Konfiguration ist
für jede Datenleitung anstelle des einzigen Datentransi
stors, der im Speicher von Fig. 1 gezeigt ist, ein Paar von
NMOS-Datenauswahltransistoren vorgesehen.
Das adressierte Datenbit ist mit der gemeinsamen Leitung D
gekoppelt, die mit dem Eingang eines Leseverstärkers 12
verbunden ist. Der Ausgang des Leseverstärkers wird dem
Eingang eines Ausgabepuffers 14 zugeführt, dessen Ausgang
mit einem Datenausgabe-Dämpfungsglied 16 gekoppelt ist. Die
gemeinsame Datenleitung D ist ferner mit der Source eines
NMOS-Schreibtransistors N5 verbunden, dessen Drain mit dem
Ausgang eines Dateneingabepuffers 18 gekoppelt ist. Der
Eingang des Puffers 18 ist mit einem Dateneingabe-Dämp
fungsglied 22 gekoppelt. Das Gate des Transistors N5 emp
fängt das Schreibsignal.
Während der Durchführung eines Schreibvorgangs im Speicher
von Fig. 1 wird eine Wortleitung Wn auf den Hochpegel ge
trieben, einer der NMOS-Datenauswahltransistoren Qn wird
ausgewählt, d.h. eingeschaltet, und die im ausgewählten
Bit gespeicherte Information wird dem Leseverstärker 12
zugeführt, von dem die ausgelesene Information durch den
Ausgabepuffer 14 geleitet wird und eine typischerweise
große externe Kapazität ansteuert.
Während eines Schreibvorgangs wird eine Wortleitung Wn, die
der Spalte oder dem Bit entspricht, in das die neue Infor
mation einzuschreiben ist, auf den Hochpegel getrieben, der
Transistor N5 wird durch ein Schreibsignal eingeschaltet,
das den Hochpegel annimmt, und einer der ausgewählten
Durchlaßtransistoren Qn für die Reihe des Bits, in das die
neue Information einzuschreiben ist, wird eingeschaltet.
Die Information vom Eingabepuffer 18 wird dann durch den
Transistor N5 und den ausgewählten Durchlaßtransistor Qn
zum ausgewählten Bit durchgelassen, wodurch das ausgewählte
Bit mit einem starken logischen 1-oder 0-Signal angesteuert
wird.
Wie erwähnt, kann jedes Bit im Speicher von Fig. 1 ein sta
tischer oder ein dynamischer RAM sein. Ein typischer be
kannter statischer RAM, wie er in Fig. 2 gezeigt ist, um
faßt sechs MOS-Transistoren, zwei NMOS-Pull-down-Transi
storen Tr1 und Tr3, zwei PMOS-Pull-up-Transistoren T2 und
T4 und zwei NMOS-Zugriffstransistoren T5 und T6. Wie Fig. 2
zeigt, sind die Gates der Transistoren T1 und T2 ebenso wie
die Gates der Transistoren T3 und T4 zusammengeschaltet.
Die Sources der Transistoren T2 und T4 sind mit einer posi
tiven Spannungsquelle von z.B. +5 V gekoppelt, und ihre
Drains sind jeweils mit den Sources der Transistoren T1 und
T3 und mit dem Gate des anderen PMOS-Transistors gekoppelt.
Die Sources der Transistoren T1 und T3 sind mit Erde ver
bunden.
Komplementäre Datenspeicher-Knotenpunkte d und d sind an
den gemeinsamen Verbindungsstellen der Drains des NMOS-
Transistors T3 und des PMOS-Transistors T4 sowie des NMOS-
Transistors T1 und des PMOS-Transistors T2 ausgebildet.
Diese Datenknotenpunkte sind außerdem jeweils mit den
Drains der beiden NMOS-Zugriffstransistoren T5 und T6 ge
koppelt. Die Gates der Transistoren T5 und T6 sind mit
einer Wortleitung Wn und ihre Sources sind jeweils mit den
abgeglichenen Daten- oder Bitleitungen D und D verbunden,
die über Datenauswahltransistoren mit den Eingängen eines
Leseverstärkers (in Fig. 2 nicht gezeigt) gekoppelt sind.
Wegen der Notwendigkeit für die sechs MOS-Elemente und
einen Kondensator benötigt der konventionelle statische RAM
gemäß Fig. 2 mehr Fläche und kann daher nicht annähernd die
Dichte eines dynamischen RAMs haben. Zweck der vorliegenden
Erfindung ist die Schaffung einer statischen RAM-Speicher
zelle, die weniger MOS-Elemente benötigt und daher mit grö
ßerer Dichte herstellbar ist, die besser mit derjenigen
eines dynamischen RAMs vergleichbar ist.
Wie Fig. 3 zeigt, ist daher die statische RAM-Zelle 30 des
Ausführungsbeispiels als kreuzweise gekoppeltes Flipflop
oder Signalspeicher ausgebildet und aus vier NMOS-Transi
storen N1, N2, N3 und N4 aufgebaut. Insbesondere sind
dabei, wie Fig. 3 zeigt, die Drains der Transistoren N1 und
N2 jeweils mit den Gates der Transistoren N4 und N3 gekop
pelt, und ihre Sources sind jeweils mit den komplementären
Datenleitungen Dn und Dn verbunden. Die Drains der Transi
storen N3 und N4 sind ferner jeweils mit den Sources der
Transistoren N1 und N2 gekoppelt, und die Sources der Tran
sistoren N3 und N4 sind beide mit Erde verbunden. Die Gates
der Transistoren N1 und N2 sind jeweils mit der Wortleitung
W gekoppelt, die das Wortleitungssignal Wn vom Wortlei
tungsdecoder- und -treiberkreis (10 in Fig. 1) empfängt.
Die in der Zelle gespeicherte Information ist durch das
Signal am Knotenpunkt d und dessen logisches Komplement am
Knotenpunkt d dargestellt.
Die Datenleitungen Dn und Dn sind jeweils durch die Source-
Drain-Strecken von Signaldurchlaß-NMOS-Elementen N5 und N6
mit Datenleitungen D und D verbunden. Die Gates der Ele
mente N5 und N6 empfangen jeweils das Datenleitungs-Aus
wahlsignal Sn vom Datenleitungsauswahlkreis (20 in Fig. 1).
Die Spaltenleitungen Dn und Dn sind ferner mit den Drains
von PMOS-Transistoren P1 bzw. P2 gekoppelt. Die Sources der
Transistoren P1 und P2 sind jeweils mit einer Spannungsver
sorgung von +5 V verbunden, und ihre Gates sind jeweils
geerdet, so daß sie immer eingeschaltet sind.
Das Verhältnis Breite/Länge (W/L) der Transistoren N1 und
N2 in der statischen RAM-Speicherzelle von Fig. 3 ist be
vorzugt das gleiche und bevorzugt in der Größenordnung von
einem fünftel des Verhältnisses der Transistoren N3 und N4,
die ebenfalls bevorzugt gleich sind. Infolge dieser relati
ven Dimension dieser Transistoren ist der Einschaltwider
stand der Transistoren N1 und N2 bevorzugt fünfmal größer
als der der Transistoren N3 und N4. Wenn also das Wortlei
tungssignal hoch ist, werden die Transistoren N1 und N2
eingeschaltet, so daß das Bit oder die Zelle 30 als ein
kreuzweise gekoppelte Flipflop anzusehen ist, wobei die
Transistoren N1 und N2 Lastwiderstände für die positiven
Potentiale auf den Datenleitungen Dn und Dn sind.
Die Datenleitungen D und D sind mit dem Ausgang eines Da
tenleitungstreibers 40 und auch mit dem Eingang eines Dif
ferenz-Leseverstärkers 50 gekoppelt. Der Datenleitungstrei
ber 40 empfängt ein Eingangssignal von einem Dateneingabe
puffer (18 in Fig. 1) und das Schreibsignal. Das Ausgangs
signal des Leseverstärkers 50 wird einem Datenausgabepuffer
(14 in Fig. 1) zugeführt.
Vorteilhaft ist das W/L-Verhältnis der Transistoren P1 und
P2 so gewählt, daß der Widerstand jedes Transistors im Ein
schaltzustand niedriger als der Einschaltwiderstand der
reihengeschalteten Transistoren N1 und N3 und der Transi
storen N2 und N4 ist. Selbst wenn also ein Bit eingeschal
tet wird, wenn seine Wortleitung Wn positiv (hoch) wird,
können die Datenleitungen Dn und Dn nicht sehr weit herun
tergezogen werden, bevorzugt um nicht mehr als 2 V unter
5 V, und zwar wegen ihrer Verbindung durch die Transistoren
P1 und P2 mit der Spannungsquelle von +5 V. Die PMOS-Tran
sistoren P1 und P2 sind ständig eingeschaltet und haben die
Funktion, die Datenleitungen Dn und Dn auf +5 V zu ziehen,
wenn kein Zugriff oder keine Adressierung des Bits durch
das Positivwerden seiner Wortleitung Wn stattfindet.
Wenn kein Zugriff auf die Zelle 30 stattfindet (im tatsäch
lichen Speicherbetrieb befindet sich eine Zelle normaler
weise nicht im Zugriffszustand), hat die Wortleitung Wn
0 V, und die Transistoren N1 und N2 sind ausgeschaltet. Ob
eine logische 0 oder eine logische 1 in der Zelle gespei
chert ist, ist durch die Spannungswerte an den Knotenpunk
ten d und d bestimmt. Es sei beispielsweise angenommen, daß
eine 1 gespeichert ist, wenn der Knotenpunkt d eine hohe
Spannung über einer Schwellenspannung Vtn eines NMOS-Tran
sistors und der Knotenpunkt d 0 V hat; und daß 0 gespei
chert ist, wenn d hoch und d bei 0 V ist. Bei niedriger
Wortleitung Wn wäre jeder dieser beiden Zustände mit Aus
nahme von Leckströmen stabil, denn wenn der eine Knoten
punkt d oder d hoch und der jeweils andere niedrig ist,
kann der die hohe Spannung aufweisende Knotenpunkt nur
durch Drainleckstrom entladen werden, und der die niedri
gere Spannung aufweisende Knotenpunkt ist bereits vollstän
dig auf 0 V entladen. Wegen der durch diesen Leckstrom be
wirkten Verluste muß die statische RAM-Zelle 30 periodisch
aufgefrischt werden, damit die gespeicherte Information
erhalten bleibt. Die gemäß der Erfindung vorgesehene Auf
frischung der Speicherzelle wird später noch erläutert.
Der Betrieb der statischen RAM-Speicherzelle gemäß dem Aus
führungsbeispiel von Fig. 3 wird nachstehend unter Bezug
nahme auf die Signalverlaufsdiagramme der Fig. 4 und 5 be
schrieben, wobei die Durchführung einer Lese-, einer Auf
frischungs- und einer Schreiboperation erläutert wird.
Im Lesebetrieb erhält die Wortleitung Wn (Fig. 4) einen
Impuls von 0 V auf +5 V. Wenn z.B. am Datenknotenpunkt d
eine 1 gespeichert ist (eine positive Spannung, die höher
als die Schwellenspannung Vtn des NMOS-Elements N3 ist) und
am Datenknotenpunkt d eine 0 gespeichert ist (0 V), dann
trachtet die Spannung auf der Datenleitung Dn danach (Fig.
4), niedrig zu werden, und die Datenleitung Dn bleibt auf
+5 V (Fig. 4). Die Signale auf den Datenleitungen Dn und Dn
einer Reihe werden von dem Datenleitungswähler 20 ausge
wählt und zum Differenz-Leseverstärker 50 weitergeleitet,
der die Differenz zwischen den Datenleitungen Dn und Dn auf
einen vollen Logikhub verstärkt. Wenn beispielsweise die
Spannung auf der Datenleitung Dn niedriger als diejenige
auf der Datenleitung Dn ist, ist das Ausgangssignal des
Leseverstärkers 50 0 V, und wenn die Spannung auf der Da
tenleitung Dn niedriger als diejenige auf der Datenleitung
Dn wäre, wäre das Ausgangssignal des Leseverstärkers +5 V.
Die Knotenpunkte d und d sind zwar in Fig. 4 als sich wäh
rend des Lesevorgangs ändernd gezeigt, aber das Signal am
Knotenpunkt d ist gleich 0 V vor und nach dem Lesevorgang,
obwohl es während des Lesevorgangs eine gewisse Störung
enthält, und das Signal am Knotenpunkt d positiver als Vtn
vor und nach dem Lesevorgang, obwohl in der Amplitude des
Signals am Knotenpunkt d eine permanente Anhebung vorhanden
ist.
Bei einem Auffrischungsvorgang erhält, wie Fig. 4 zeigt,
die Wortleitung Wn einen Impuls von nur ca. +2,5 V anstatt
+5 V. Der Schaltkreis zur Lieferung der verschiedenen Wort
leitungspegel zum Lesen und Auffrischen wird später noch
unter Bezugnahme auf Fig. 6 erläutert. Vor dem Auftreten
dieses Auffrischungsimpulses liegt der Knotenpunkt d bei
0 V, und der Knotenpunkt d ist durch Leckstrom auf etwas
über 1 V abgefallen. Der Auffrischungsimpuls auf der Wort
leitung Wn schaltet die Transistoren N1 und N2 als Last
transistoren ein und macht die Speicherzelle zu einem
kreuzweise gekoppelten Flipflop, das den Knotenpunkt d
höher auf nahezu 2 V zieht. Wegen der verringerten Ampli
tude der Wortleitung Wn schalten die Transistoren N1 und N2
nicht bei einem so niedrigen Widerstand ein, wie dies beim
Lesen der Fall war, und die Spannung auf der Datenleitung
Dn wird nicht so weit heruntergezogen. Wenn, wie Fig. 3
zeigt, eine statische RAM-Speicherzelle auf derselben Bit
leitung ausgelesen wird, während eine andere statische RAM-
Speicherzelle gerade aufgefrischt wird, werden die gleichen
Datenleitungen Dn und Dn wie bei einem Lesevorgang genützt.
Fig. 4 zeigt die Signalverläufe, die beim Betrieb der Spei
cherzelle von Fig. 3 und ihrer zugehörigen Schaltkreise zur
Anwendung kommen, wenn die Information, die in der gerade
in Auffrischung befindlichen Speicherzelle gespeichert ist,
derjenigen in der Speicherzelle, aus der Daten gerade aus
gelesen werden, entgegengesetzt ist, was der ungünstigste
Fall ist. Wie aus der rechten Seite von Fig. 4 zu sehen
ist, ist in diesem Fall das Signal auf der Datenleitung Dn
immer noch kleiner als dasjenige auf der Datenleitung Dn,
so daß die richtige Differenz zwischen diesen Datenleitun
gen dem Eingang des Leseverstärkers zugeführt wird, so daß
am Ausgang desselben das richtige Signal erzeugt wird.
Es ist somit ersichtlich, daß ein Auffrischungsvorgang kei
ne merkliche Auswirkung auf einen Lesevorgang hat, oder mit
anderen Worten, daß bei der statischen RAM-Speicherzelle
nach der Erfindung die Datenauffrischung in bezug auf das
Lesen deutlich erkennbar ist. Ferner ist zu beachten, daß
zu jedem gegebenen Zeitpunkt jeweils nur eine andere Zelle
aufgefrischt wird unter Nutzung derselben Datenleitungen Dn
und Dn wie eine gerade im Lesezustand befindliche Speicher
zelle. Infolgedessen ist die Auswirkung der Auffrischung
auf einen Lesevorgang niemals größer, als oben beschrieben
wurde und aus den Signalverläufen von Fig. 4 ersichtlich
ist.
Bei einem Schreibvorgang erhält, wie Fig. 5 zeigt, die
Wortleitung Wn einen Impuls von vollen +5 V. Gleichzeitig
macht der Datenleitungstreiberkreis 40 die gemeinsame Da
tenleitung D oder D niedrig. Beispielsweise ist die Daten
leitung D niedrig, wenn eine 0 einzuschreiben ist, und die
Datenleitung D ist niedrig, wenn eine 1 einzuschreiben ist.
Die auf Niedrigpegel getriebene Datenleitung D oder D ist
mit einer ausgewählten Datenleitung Dn oder Dn über Ele
mente N5 bzw. N6 verbunden, die die Datenleitung Dn oder Dn
herunterziehen. Der Reihenwiderstand der Transistoren N5
oder N6 und der Datenleitungstreiber-Ausgangswiderstand
müssen hinreichend niedrig sein, um die Datenleitungen Dn
oder Dn gegen die Transistoren P1 und P2, die danach trach
ten, die Datenleitungen auf Hochpegel zu halten, herunter
zuziehen. Fig. 5 zeigt den Zustand des verwendeten Signals,
wobei der Knotenpunkt d anfangs 0 V und der Knotenpunkt d
Hochpegel hat, wobei das Auslesesignal von Fig. 5 erzeugt
wird. Während eines Schreibvorgangs wird die Datenleitung
Dn heruntergezogen zum Schreiben einer 0 in den Knotenpunkt
d, und die Datenleitung Dn wird hoch gelassen zum Schreiben
einer 1 in den Knotenpunkt d, wodurch der Zustand des Bits
geändert wird. Nachdem der Zustand des Bits so geändert
wurde, bezeichnet ein anschließender Lesevorgang in der
Speicherzelle eine Umkehrung der Signale auf den Datenlei
tungen Dn und Dn.
Wie Fig. 5 zeigt, wird die Datenleitung Dn auf nur ca. 2 V
und nicht auf 0 V heruntergezogen, was bedeutet, daß bei
gleichzeitigem Auffrischen einer anderen Zelle auf densel
ben Datenleitungen Dn und Dn die Gate-Source-Spannungen der
Transistoren N1 und N2 nicht ausreichend hoch sind, um
diese Transistoren einzuschalten und einen Schreibvorgang
in dieser Speicherzelle zu ermöglichen. Die Gate-Source-
Spannung ist dabei 2,5 V minus 2,0 V oder 0,5 V. Somit ist
ersichtlich, daß eine Auffrischung auch in bezug auf das
Einschreiben deutlich erkennbar ist; d.h. das Schreiben
eines neuen Datenpegels in die Speicherzelle kann während
der Auffrischung dieser Zelle nicht stattfinden; die Auf
frischung wird also nicht nachteilig beeinflußt.
Nachdem vorstehend die Organisation und die Funktionsweise
der neuen statischen RAM-Speicherzelle erläutert wurden,
werden unter Bezugnahme auf die Fig. 6-9 bevorzugte Ausfüh
rungsformen von Schaltkreisen erläutert, die vorteilhaft
bei der Implementierung des Betriebs der Speicherzelle ein
setzbar sind.
Fig. 6 zeigt die Wortleitungsdecoder (Fig. 6a und 6b), die
jeweils Adreß- und Auffrischungssteuersignale an einen
Wortleitungstreiber 10 (Fig. 6c) liefern. Bei einem stati
schen 16K-RAM, wie er hier beispielsweise erläutert wird,
werden die sieben Adreßbits auf sieben Adreßleitungen einem
Adreßdecoder 100 zugeführt, der je nach den logischen Pe
geln der sieben Adreßbits eine seiner Ausgangsadreßleitun
gen An (A1-A128) auswählt, so daß diese niedrig wird (z.B.
0 V) während die übrigen 127 Adreßleitungen hoch (z.B.
+5 V) bleiben.
Für einen Auffrischungsvorgang durchlaufen sieben Auffri
schungsbits einen 7-Bit-Auffrischungszähler 110, der nach
einander ein 7-Bit-Ausgangssignal durch sämtliche 128 mög
lichen logischen Kombinationen erzeugt. Das 7-Bit-Ausgangs
signal des Auffrischungszählers 110 wird einem 128-Bit-De
coder 120 zugeführt, der je nach den logischen Pegeln der
seinem Eingang vom Auffrischungszähler 110 zugeführten
sieben Auffrischungsbits eines seiner 128 Bits Rn (R1-R128)
auswählt und niedrig macht, z.B. auf 0 V, während die
übrigen nichtausgewählten Bits hoch bleiben (z.B. auf
+5 V).
Die ausgewählten Adreß- und Auffrischungssignale An und Rn
werden beide einem Wortleitungstreiberkreis, etwa dem Trei
berkreis 10 von Fig. 6c, zugeführt, wobei natürlich ein
derartiger Kreis für jede der 128 Spalten eines statischen
16K-RAM vorgesehen ist. Wie Fig. 6c zeigt, hat der Wort
leitungstreiberkreis zwei PMOS-Transistoren P3 und P3,
deren Sources gemeinsam an eine +5 V-Spannungsquelle ange
schlossen sind. Das Gate des Transistors P3 empfängt das
Adreßsignal An vom Decoder von Fig. 6a, und das Gate des
Transistors P4 empfängt das Auffrischungssignal Rn vom De
coder von Fig. 6b.
Die Drains der Transistoren P3 und P4 sind ebenfalls ge
meinsam an einen Ausgangsknotenpunkt 130 angeschlossen, an
dem das Wortleitungssignal Wn erzeugt wird. Der Knotenpunkt
130 ist ferner mit der Source eines NMOS-Transistors N7
gekoppelt, dessen Gate ebenfalls das Adreßsignal An emp
fängt. Der Drain des NMOS-Transistors N7 ist mit der Source
eines weiteren NMOS-Transistors N8 verbunden, dessen Drain
mit Erde verbunden ist. Das Gate des Transistors N8 emp
fängt eine Bezugs-Gleichspannung RW von ca. 2,5 V, die je
dem der 128 Wortleitungstreiberkreise von einem Bezugsgeber
zugeführt wird, der unter Bezugnahme auf Fig. 7 noch erläu
tert wird.
Wenn ein Wortleitungstreiberkreis ein ausgewähltes Adreß
signal An (niedrig oder 0 V) und ein hohes (+5 V) Bezugs
signal RW empfängt, ist der Transistor P3 eingeschaltet,
die Transistoren P4 und N7 sind ausgeschaltet, und der
Transistor N8 ist eingeschaltet. Das Signal Wn am Knoten
punkt 130 ist somit durch die Source-Drain-Strecke des
Transistors P3 durchgeschaltet und steigt auf +5 V. Dieser
Vorgang findet für einen Lese- und für einen Schreibvorgang
statt.
Für einen Auffrischungsvorgang ist das ausgewählts Auffri
schungssignal Rn, wie oben erläutert, niedrig oder auf 0 V.
Das niedrige Signal Rn schaltet den Transistor P4 ein, wo
gegen das nichtausgewählte hohe Signal An (+5 V) am Gate
des Transistors N7 diesen einschaltet. In diesem Zustand
bildet der Widerstand der eingeschalteten Elemente, der
Transistoren P4 sowie N7 und N8 in Reihe zwischen der +5-V-
Spannungsquelle und Erde einen Spannungsteiler Infolgedes
sen steigt bei einem Auffrischungsvorgang das Wortleitungs
signal Wn am Knotenpunkt 130 nicht auf +5 V, sondern steigt
nur auf ca. 2-2,5 V aufgrund des Betriebs dieses Spannungs
teilers.
Der in Fig. 7 gezeigte Bezugssignalgeber erzeugt das Be
zugssignal RW, das im 8etrieb des Wortleitungstreiberkrei
ses von Fig. 6c verwendet wird. Wie Fig. 7 zeigt, ist in
dem Strichlinienblock ein CMOS-Differenzverstärker 140 vor
gesehen. Der Differenzverstärker 140 hat zwei Zweige, deren
einer den PMOS-Transistor P7 und den NMOS-Transistor N13
umfaßt, während der andere den PMOS-Transistor P8 und den
NMOS-Transistdor N14 umfaßt. Die Gates der Transistoren P7
und P8 sind zusammengeschaltet und mit der Source des Tran
sistors N13 verbunden. Die Drains der Transistoren N13 und
N14 sind mit Erde verbunden, und die Sources der Transi
storen P7 und P8 sind mit einer +V-Spannungsquelle verbun
den. Die Source des Transistors N14 ist mit dem Drain des
Transistors P8 und einem Ausgangsknotenpunkt 150 verbunden.
Der Differenzverstärker 140 empfängt komplementäre Eingänge
In und In und erzeugt das Bezugssignal RW an seinem Aus
gangsknotenpunkt 150, der die gleiche Phase wie der Eingang
In hat und zum Eingang In phasenverschoben ist. Der Eingang
In wird an einem Knotenpunkt 160 erhalten, der am gemein
samen Verbindungspunkt des Drains des PMOS-Transistors P5
und des Drains des NMOS-Transistors N10 gebildet ist. Die
Source des Transistors P5 ist mit einer +V-Versorgungslei
tung gekoppelt. Das Gate des Transistors P5 ist mit Erde
verbunden, das Gate des Transistors N10 empfängt die posi
tive Speisespannung +V, und seine Source ist mit der Source
des NMOS-Transistors N9 gekoppelt. Der Drain des Transi
stors N9 ist mit Erde verbunden, und sein Gate ist mit dem
Ausgangsknotenpunkt 150 gekoppelt.
Ebenso wird der komplementäre Eingang In an einem Knoten
punkt 170 erzeugt, der am gemeinsamen Verbindungspunkt zwi
schen den Drains eines PMOS-Transistors P6 und eines NMOS-
Transistors N12 gebildet ist. Die Source des Transistors P6
ist mit der +V-Leitung und sein Gate mit Erde verbunden.
Die Source des Transistors N12 ist sowohl mit dem Drain als
auch mit dem Gate eines NMOS-Transistors N11 verbunden,
dessen Source mit Erde verbunden ist. Der Eingang In am
Knotenpunkt 170 ist mit einer Bezugsspannung gekoppelt, die
von dem aus den Transistoren P6, N12 und N11 bestehenden
Spannungsteiler abgeleitet ist. Die W/L-Verhältnisse der
Transistoren N11 und N12 sind gegenüber demjenigen des
Transistors P6 groß, so daß der Spannungspegel des Eingangs
In höher als zwei NMOS-Schwellenspannungen oder typischer
weise zwischen 2,0 und 2,5 V ist.
Der Eingang In wird am Knotenpunkt 150 vom Spannungsteiler
abgeleitet, der aus dem PMOS-Transistor P5 und den NMOS-
Transistoren N10 und N9 besteht. Dieser Spannungsteiler ist
vorteilhaft eng an den Teil des Wortleitungstreibers (Fig.
6c) aus den Transistoren P4, N7 und N8 angepaßt. In dem
Schaltkreis von Fig. 7 ist der Transistor P5 vorteilhaft
identisch mit dem Transistor P4 im Schaltkreis von Fig. 6c
und ist ständig eingeschaltet. Ebenso ist der Transistor N9
in Fig. 9 vorteilhaft mit dem Transistor N8 der Schaltung
von Fig. 6c identisch, und der Transistor N10 in Fig. 3 ist
vorteilhaft mit dem Transistor N7 der Schaltung von Fig. 6c
identisch. Der Transistor N10 ist ständig leitfähig, d. h.,
eingeschaltet, da sein Gate mit der positiven Spannungs
quelle +V gekoppelt ist.
Im Betrieb des Schaltkreises von Fig. 7 wird das Ausgangs
signal des Differenzverstärkers 140, das Bezugssignal RW am
Ausgangsknotenpunkt 150, durch eine Rückkopplungsstrecke
(Transistoren N9, N10 und P5) zum Eingangsknotenpunkt 160
gezogen, dem das Eingangssignal In zugeführt wird. Der Dif
ferenzverstärker 140 versucht, sein Ausgangssignal zu
ändern, um seine beiden Eingänge In und In gleich zu ma
chen, aber da der Verstärkungsfaktor des Differenzverstär
kers 140 nicht sehr hoch ist, sind die Pegel der Eingänge
In und In nicht vollkommen gleich, sie sind allerdings aus
reichend weit aneinander angenähert.
Diese Ausgangsspannung, die das dem Gate des Transistors N8
im Wortleitungstreiberkreis von Fig. 6c zugeführte Bezugs
signal RW ist, hat einen geeigneten Pegel, um sicherzustel
len, daß beim Anlegen des Bezugssignals RW an das Gate des
Transistors P4 in dem Schaltkreis von Fig. 6c der Ausgang
dieses Schaltkreises, die Wortleitung Wn, in der gewünsch
ten Weise zwischen 2 und 2,5 V liegt. Der Schaltkreis von
Fig. 7, der die Bezugsspannung RW erzeugt, folgt daher Än
derungen in jedem NMOS- oder PMOS-Transistor der Schaltung,
die z.B. aufgrund von Prozeßänderungen oder Änderungen der
Speisespannung oder Temperatur auftreten können, und ist
von diesen Änderungen unabhängig. Der Effekt dieser Schal
tungsanordnung ist, daß der Pegel der Wortleitung Wn wäh
rend des Auffrischens (wenn Rn niedrig ist) immer in der
gewünschten Weise geringfügig höher als zwei NMOS-Schwel
lenspannungen ist.
Der Datenleitungstreiberkreis 40 (Fig. 1), der die beiden
komplementären Signale auf den komplementären Datenleitun
gen D und D erzeugt und für den Betrieb der statischen RAM-
Speicherzelle von Fig. 3 verwendet wird, ist in Fig. 8 ge
zeigt. Dort empfängt der Schaltkreis eine Bezugs-Eingangs
spannung RD, die den gemeinsamen Source-Drain-Kreisen der
Transistoren P9, N17 und P10, N19 zugeführt wird. Ein wei
terer Eingang zum Schaltkreis, nämlich das Dateneingangs
signal I, wird einem Eingang eines NAND-Glieds 172 und
durch ein Nichtglied 174 einem Eingang eines zweiten NAND-
Glieds 176 zugeführt. Das Schreibsignal wird den anderen
Eingängen der NAND-Glieder 172 und 176 zugeführt.
Das Ausgangssignal des NAND-Glieds 172 wird den Gates des
PMOS-Transistors P9 und eines NMOS-Transistors N18 und über
ein Nichtglied 178 dem Gate des NMOS-Transistors N17 zuge
führt. Das Ausgangssignal des NAND-Gliedd 176 wird den
Gates des PMOS-Transistors P10 und eines NMOS-Transistors
N20 und durch ein Nichtglied 180 dem Gate des NMOS-Transi
stors N19 zugeführt.
Die Source des Transistors N18 ist mit dem gemeinsamen
Source-Drain-Anschluß der Transistoren P9, N17 und mit dem
Gate eines Endstufentransistors N15 verbunden. Der Drain
des Transistors N18 ist mit Erde verbunden. Ebenso ist der
Drain des Transistors N20 mit dem Source-Drain-Anschluß der
Transistoren P10, N19 und dem Gate eines Endstufen-NMOS-
Transistors N16 verbunden. Die Sources der Transistoren N15
und N16 sind mit Erde verbunden, und ihre Drains liefern
jeweils die Datenleitungsausgangssignale D und D.
Wenn im Betrieb der Schaltung von Fig. 8 das Schreibsignal
niedrig ist, sind beide Signale an den Gates der Transi
storen N15 und N16 niedrig (0 V). Wenn das Schreib-und das
I-Signal beide hoch sind, wird die Bezugsspannung RD an das
Gate des Transistors N15 angelegt, während 0 V dem Gate des
Transistors N16 zugeführt wird. Wenn das Schreibsignal hoch
und das I-Signal niedrig ist, wird die Bezugsspannung RD
dem Gate des Transistors N16 zugeführt, und dem Gate des
Transistors N15 wird 0 V zugeführt. Wenn einer der Transi
storen N15 oder N16 durch das Anlegen des Bezugssignals RD
an sein Gate leitfähig gemacht wird, wird er mit einem ge
regelten Widerstand eingeschaltet, der ausreicht, um
sicherzustellen, daß die Datenleitungen D und D und damit
die Datenleitungen Dn und Dn (Fig. 3), je nach Fall, nicht
auf 0 V, sondern nur auf ca. 1,5-2,0 V heruntergezogen wer
den.
Fig. 9 zeigt einen Schaltkreis zur Erzeugung der Bezugs
spannung RD, die im Datenleitungstreiberkreis von Fig. 8
verwendet wird. Der Schaltkreis von Fig. 9 hat einen Dif
ferenzverstärker 190 innerhalb des in Strichlinien bezeich
neten Blocks. Der Verstärker 190 hat einen Zweig mit einem
PMOS-Transistor P13 und einem NMOS-Transistor N24 und einen
zweiten Zweig mit einem PMOS-Transistor P14 und einem NMOS-
Transistor N25. Die Bezugsspannung RD wird an einem Aus
gangsknotenpunkt 200 des gemeinsamen Verbindungspunkts der
Drains der Transistoren P14 und N25 erzeugt.
Ein In-Signal wird an einem Knotenpunkt 210 von einem Span
nungsteiler abgeleitet, der einen PMOS-Transistor P11 und
NMOS-Transistoren N21 und N22 umfaßt, die in Reihe zwischen
die +V-Spannungsquelle und Erde geschaltet sind. Das Gate
des Transistors P11 ist geerdet, das Gate des Transistors
21 empfängt die +V-Speisespannung und ist somit immer ein
geschaltet, und das Gate des Transistors N22 ist mit dem
Knotenpunkt 200 gekoppelt und empfängt das Ausgangssignal
RD des Differenzverstärkers. Ebenso wird das In-Signal an
einem Knotenpunkt 220 eines Spannungsteilers abgeleitet,
der einen PMOS-Transistor P12 und einen NMOS-Transistor N23
aufweist, die zwischen die +V-Speiseleitung und Erde ge
schaltet sind.
Die Größe des Transistors P11 ist gleich derjenigen der
Transistoren P1 und P2 (Fig. 3), die Größe des Transistors
N21 ist gleich derjenigen der Transistoren N5 und N6 (Fig.
3), und die Größe des Transistors N22 ist gleich derjenigen
der Transistoren N15 und N16 (Fig. 8). Ferner ist das W/L-
Verhältnis des Transistors N23 größer als das des Transi
stors P12, so daß das In-Signal typischerweise 1,5 V hat
und damit geringfügig über einer NMOS-Schwellenspannung
liegt.
Im Betrieb des Schaltkreises von Fig. 9 trachtet der Dif
ferenzverstärker 190 danach, sein Ausgangssignal, nämlich
das Bezugs-Treibersignal RD, so einzustellen, daß die Pegel
der Signale In und In gleich werden. Infolgedessen folgt
der Pegel des Bezugs-Treibersignals RD sämtlichen Änderun
gen von Verarbeitungs- und Betriebsparametern, so daß auto
matisch ein Bezugssignal von ca. 1,5 V erzeugt wird.
Es ist zu beachten, daß eine statische RAM-Speicherzelle,
die nur vier MOS-Transistoren gegenüber den sechs MOS-Ele
menten einer typischen statischen RAM-Speicherzelle benö
tigt, als nur NMOS-Transistoren aufweisend beschrieben wur
de; dies ist für die Implementierung der Erfindung jedoch
nicht notwendig, obwohl die vier MOS-Transistoren, die die
neue statische RAM-Speicherzelle bilden, bevorzugt vom
gleichen Leitfähigkeitstyp sind. Ferner ist es selbstver
ständlich, daß die zum Betrieb der statischen RAM-Speicher
zelle beschriebenen Ansteuer- und Adreßschaltkreise sowie
Schaltungseinzelheiten der statischen RAM-Speicherzelle
ebenfalls modifizierbar sind.
Claims (14)
1. Schreib-Lese-Speicher mit einer Wortleitung (Wn) und
komplementären Datenleitungen (Dn, Dn) sowie einer Spei
cherzelle (30), wobei die Speicherzelle (30) komplementäre
Datenknotenpunkte zur Speicherung von Datensignalen mit
einem von zwei Pegeln aufweist und die Datensignale an den
Datenknotenpunkten periodisch aufzufrischen sind, so daß
sie ihre gewünschten Werte behalten,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Speicherzelle (30) umfaßt:
einen ersten und einen zweiten MOS-Transistor (N1, N2) deren jeweils einer Ausgang mit einer der Datenleitungen und deren jeweils anderer Ausgang mit einem Datenknoten punkt (d, d) und deren Steueranschluß mit der Wortleitung (Wn) verbunden ist,
einen dritten und einen vierten MOS-Transistor (N3, N4), deren jeweils einer Ausgang mit einem der Datenknotenpunkte (d, d) und deren Steueranschluß mit dem jeweils anderen Datenknotenpunkt verbunden ist,
wobei ferner Einrichtungen (10) vorgesehen sind zum Anlegen eines einen ersten Pegel aufweisenden ersten Steuersignals an die Wortleitung während eines Lese- oder Schreibvorgangs und zum Anlegen eines zweiten Steuersignals mit einem niedrigeren Pegel als das erste Steuersignals während eines Auffrischungsvorgangs, wobei das Signal mit niedrigerem Pegel den ersten und den zweiten Transistor (N1, N2) auf einen höheren Einschaltwiderstand als das erste Steuersi gnal mit höherem Pegel einschaltet.
einen ersten und einen zweiten MOS-Transistor (N1, N2) deren jeweils einer Ausgang mit einer der Datenleitungen und deren jeweils anderer Ausgang mit einem Datenknoten punkt (d, d) und deren Steueranschluß mit der Wortleitung (Wn) verbunden ist,
einen dritten und einen vierten MOS-Transistor (N3, N4), deren jeweils einer Ausgang mit einem der Datenknotenpunkte (d, d) und deren Steueranschluß mit dem jeweils anderen Datenknotenpunkt verbunden ist,
wobei ferner Einrichtungen (10) vorgesehen sind zum Anlegen eines einen ersten Pegel aufweisenden ersten Steuersignals an die Wortleitung während eines Lese- oder Schreibvorgangs und zum Anlegen eines zweiten Steuersignals mit einem niedrigeren Pegel als das erste Steuersignals während eines Auffrischungsvorgangs, wobei das Signal mit niedrigerem Pegel den ersten und den zweiten Transistor (N1, N2) auf einen höheren Einschaltwiderstand als das erste Steuersi gnal mit höherem Pegel einschaltet.
2. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Widerstände des ersten und des zweiten Transistors
(N1, N2) im wesentlichen gleich und die Widerstände des
dritten und des vierten Transistors (N3, N4) im wesentli
chen gleich sind.
3. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Widerstände des ersten und des zweiten Transistors
(N1, N2) größer als diejenigen des dritten und des vierten
Transistors (N3, N4) sind.
4. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Widerstand des ersten und des zweiten Transistors
(N1, N2) fünfmal größer als derjenige des dritten und des
vierten Transistors (N3, N4) ist.
5. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 4,
gekennzeichnet durch
einen fünften und einen sechsten Transistor (N5, N6), die
jeweils einen mit einer Datenleitung (Dn, Dn) gekoppelten
Ausgangsanschluß haben.
6. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Widerstände des fünften und des sechsten Transi
stors (N5, N6) jeweils kleiner als die kombinierten Reihen
widerstände des ersten und dritten (N1, N3) bzw. des zwei
ten und vierten (N2, N4) Transistors sind.
7. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß der erste bis vierte Transistor (N1-N4) sämtlich vom
ersten Leitfähigkeitstyp sind.
8. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß der fünfte und der sechste Transistor (N5, N6) jeweils
vom zweiten Leitfähigkeitstyp sind.
9. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß der erste bis vierte Transistor (N1-N4) NMOS-Transi
storen und der fünfte und sechste Transistor (N5, N6)
PMOS-Transistoren sind.
10. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 1,
gekennzeichnet durch
einen fünften und einen sechsten Transistor (N5, N6), die
jeweils einen mit einer Datenleitung (Dn, Dn) gekoppelten
Ausgangsanschluß haben.
11. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Widerstände des fünften und des sechsten Transi
stors (N5, N6) jeweils kleiner als die kombinierten Rei
henwiderstände des ersten und dritten Transistors (N1, N3)
bzw. des zweiten und vierten Transistors (N2, N4) sind.
12. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß der erste bis vierte Transistor (N1-N4) samtlich vom
ersten Leitfähigkeitstyp sind.
13. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß der fünfte und der sechste Transistor (N5, N6) jeweils
vom zweiten Leitfähigkeitstyp sind.
14. Schreib-Lese-Speicher nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß der erste bis vierte Transistor (N1-N4) NMOS-Transi
storen und der fünfte und sechste Transistor (N5, N6)
PMOS-Transistoren sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/390,086 US5020028A (en) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | Four transistor static RAM cell |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4014228A1 true DE4014228A1 (de) | 1991-02-14 |
Family
ID=23540990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4014228A Withdrawn DE4014228A1 (de) | 1989-08-07 | 1990-05-03 | Schreib-lese-speicher |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5020028A (de) |
JP (1) | JPH0482080A (de) |
CA (1) | CA2012668C (de) |
DE (1) | DE4014228A1 (de) |
FR (1) | FR2650694B3 (de) |
GB (1) | GB2234873B (de) |
IT (1) | IT1245983B (de) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5264741A (en) * | 1992-06-19 | 1993-11-23 | Aptix Corporation | Low current, fast, CMOS static pullup circuit for static random-access memories |
KR0121992B1 (ko) * | 1993-03-03 | 1997-11-12 | 모리시다 요이치 | 반도체장치 및 그 제조방법 |
US5475633A (en) * | 1994-06-01 | 1995-12-12 | Intel Corporation | Cache memory utilizing pseudo static four transistor memory cell |
US5793671A (en) * | 1997-01-21 | 1998-08-11 | Advanced Micro Devices, Inc. | Static random access memory cell utilizing enhancement mode N-channel transistors as load elements |
US5881010A (en) * | 1997-05-15 | 1999-03-09 | Stmicroelectronics, Inc. | Multiple transistor dynamic random access memory array architecture with simultaneous refresh of multiple memory cells during a read operation |
GB9721654D0 (en) * | 1997-10-14 | 1997-12-10 | Willey Robinson Ltd | Gas heating apparatus |
FR2769746B1 (fr) * | 1997-10-14 | 2000-01-28 | St Microelectronics Sa | Dispositif de memoire vive dynamique a duree de rafraichissement reduite, et procede correspondant de rafraichissement |
US6040991A (en) * | 1999-01-04 | 2000-03-21 | International Business Machines Corporation | SRAM memory cell having reduced surface area |
US6442060B1 (en) * | 2000-05-09 | 2002-08-27 | Monolithic System Technology, Inc. | High-density ratio-independent four-transistor RAM cell fabricated with a conventional logic process |
US6370052B1 (en) | 2000-07-19 | 2002-04-09 | Monolithic System Technology, Inc. | Method and structure of ternary CAM cell in logic process |
US6614124B1 (en) | 2000-11-28 | 2003-09-02 | International Business Machines Corporation | Simple 4T static ram cell for low power CMOS applications |
JP4219663B2 (ja) * | 2002-11-29 | 2009-02-04 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体記憶装置及び半導体集積回路 |
US7403426B2 (en) * | 2005-05-25 | 2008-07-22 | Intel Corporation | Memory with dynamically adjustable supply |
JP5415672B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2014-02-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US8213257B2 (en) * | 2010-08-09 | 2012-07-03 | Faraday Technology Corp. | Variation-tolerant word-line under-drive scheme for random access memory |
KR102003930B1 (ko) * | 2012-07-31 | 2019-07-25 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치의 데이터 라이팅 제어방법 및 웨어레벨링 제어 기능을 가지는 메모리 콘트롤러 |
US10614877B1 (en) | 2019-01-10 | 2020-04-07 | International Business Machines Corporation | 4T static random access memory bitcell retention |
US10885967B2 (en) * | 2019-01-14 | 2021-01-05 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for improving power efficiency in refreshing memory banks |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3541530A (en) * | 1968-01-15 | 1970-11-17 | Ibm | Pulsed power four device memory cell |
US3836892A (en) * | 1972-06-29 | 1974-09-17 | Ibm | D.c. stable electronic storage utilizing a.c. stable storage cell |
JPS5415736B2 (de) * | 1972-11-24 | 1979-06-16 | ||
JPS5615073B2 (de) * | 1973-10-11 | 1981-04-08 | ||
JPS5140830A (de) * | 1974-10-04 | 1976-04-06 | Nippon Electric Co | |
US3949383A (en) * | 1974-12-23 | 1976-04-06 | Ibm Corporation | D. C. Stable semiconductor memory cell |
US4023149A (en) * | 1975-10-28 | 1977-05-10 | Motorola, Inc. | Static storage technique for four transistor IGFET memory cell |
US4334293A (en) * | 1978-07-19 | 1982-06-08 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor memory cell with clocked voltage supply from data lines |
JPS62273694A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-27 | Sony Corp | センスアンプ |
JPS6381694A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-12 | Sony Corp | メモリセル回路 |
US4796227A (en) * | 1987-03-17 | 1989-01-03 | Schlumberger Systems And Services, Inc. | Computer memory system |
-
1989
- 1989-08-07 US US07/390,086 patent/US5020028A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-03-21 CA CA002012668A patent/CA2012668C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-20 GB GB9008961A patent/GB2234873B/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-05-03 DE DE4014228A patent/DE4014228A1/de not_active Withdrawn
- 1990-05-03 FR FR909005570A patent/FR2650694B3/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-11 JP JP2181705A patent/JPH0482080A/ja active Pending
- 1990-08-03 IT IT00945490A patent/IT1245983B/it active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2650694B3 (fr) | 1991-11-29 |
CA2012668C (en) | 2000-08-01 |
JPH0482080A (ja) | 1992-03-16 |
GB2234873B (en) | 1994-07-27 |
FR2650694A1 (fr) | 1991-02-08 |
US5020028A (en) | 1991-05-28 |
IT9009454A1 (it) | 1991-02-08 |
CA2012668A1 (en) | 1991-02-07 |
IT9009454A0 (it) | 1990-08-03 |
GB9008961D0 (en) | 1990-06-20 |
IT1245983B (it) | 1994-11-07 |
GB2234873A (en) | 1991-02-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |