DE3231054C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein wäßriges Bad zur galvanischen Ab
scheidung von glänzenden Zink-Nickel-Legierungen und ein Ver
fahren zur galvanischen Abscheidung von Zink-Nickel-Legierungen,
die glänzend und gleichmäßig sind und verbesserte Korro
sionsbeständigkeit zeigen.
Für den Ausdruck "galvanische Abscheidungen" wird nachstehend
der Ausdruck "kathodische Abscheidungen" verwendet, weil die
Abscheidung an der Kathode stattfindet.
Es ist bekannt, daß kathodische Abscheidungen von Zink-
Nickel-Legierungen Grundwerkstoffen, wie Stahl, eine aus
gezeichnete Korrosionsbeständigkeit verleihen können. In
zahlreichen Fällen ist die Korrosionsbeständigkeit derar
tiger Abscheidungen besser als die einer kathodischen Ab
scheidung von Zink oder Nickel. Es ist jedoch sehr schwie
rig, gleichmäßige, glänzende kathodische Abscheidungen von
Zink-Nickel-Legierungen zu erhalten. In der Regel werden
matte kathodische Abscheidungen erhalten, die von grauer
bis schwarzer Farbe sind. Der Zusatz von bekannten Glanz
bildnern, wie sie für die kathodische Abscheidung von
Zink oder Nickel wirksam sind, ergibt keine glänzenden,
gleichmäßigen Zink-Nickel-Legierungsabscheidungen. Dement
sprechend wurden derartige Legierungsabscheidungen
in großem Umfang nur bei kontinuierlichen Elektro
plattierverfahren verwendet, insbesondere bei Stahlband
oder -draht, bei denen es auf Glanz und Gleichmäßigkeit
der kathodischen Metallabscheidung nicht ankommt.
Typische bekannte Verfahren zur kathodischen Abscheidung
von Zink-Nickel-Legierungen auf Stahlbändern sind in den
US-PSen 42 82 073, 43 13 802, 35 58 442, 34 20 754 und
24 19 231, der GB-PS 5 48 184 und der JP-AS 28 533/1976 be
schrieben. Bei diesen Verfahren werden keine glänzenden,
gleichmäßigen kathodischen Abscheidungen der Legierungen
erhalten, und sie werden im allgemeinen bei verhältnismäßig
saurem pH-Wert, z. B. in einem pH-Bereich von 1 bis 4 durch
geführt. Diese sauren Bäder wirken nicht nur stärker korrodie
rend gegenüber der Abscheidungsvorrichtung und der Umwelt,
sondern sie sind auch schwieriger stabil zu halten. Dies be
ruht auf dem Anstieg des pH-Werts während der Abscheidung, was
die kontinuierliche Zugabe von Säure zum Bad erfordert, um den
pH-Wert im gewünschten Bereich zu halten.
Die bekannten Verfahren zum kathodischen Abscheiden von Zink-
Nickel-Legierungen auf Stahlband verwenden ein Bad auf Sulfat
basis oder auf Sulfat-Chlorid-Basis oder bei dem Verfahren der
JP-AS Cyanidbasis. Derartiger Bäder sind nicht nur giftig und
werfen erhebliche ökologische Probleme auf, sondern sie erfor
dern auch teure Vorrichtungen zur Aufarbeitung der verbrauch
ten Elektrolyse. Bäder auf Sulfatbasis zeigen niedrige Strom
ausbeuten aufgrund der schlechten Leitfähigkeit der Sulfat
ionen. Deshalb ist zur Abscheidung mehr Energie erforderlich.
Dies ist zwar kein ernstliches Problem beim kontinuierlichen
Elektroplattieren von Werkstücken einfacher geometrischer Form,
wie Bandmaterial oder Draht, doch wird es ein ernstliches Pro
blem bei der Herstellung von glänzenden, gleichmäßigen Ab
scheidungen auf Werkstücken komplizierter Geometrie.
Ein Versuch zur Überwindung dieser Schwierigkeiten ist in der
US-PS 42 85 802 beschrieben. Hier wird beschrieben, daß glän
zende kathodische Abscheidungen von Zink-Nickel-Legierungen
mit bis zu 5% Nickel aus einem Bad auf Chloridbasis herge
stellt werden können, das 10 bis 100 g/l Zink und 0,01 bis
10 g/l Nickel enthält. Als Glanzmittel werden ein nichtionoge
nes polyoxyalkyliertes Netzmittel und ein aromatischer Alde
hyd verwendet. In der Patentschrift ist zwar ein pH-Bereich
von 3,0 bis 6,9 für die Abscheidung angegeben, doch wurde
festgestellt, daß glänzende kathodische Abscheidungen von
Zink-Nickel-Legierungen bei diesem Verfahren nicht erhalten
werden, wenn der pH-Wert oberhalb 4,5 liegt. Außerdem liefert
ein maximaler Nickelgehalt in der Legierungsabscheidung von
5% keinen ausreichenden Korrosionsschutz für das Werkstück.
Dementsprechend stellt das in dieser Patentschrift beschriebe
ne Verfahren bestenfalls nur eine teilweise Lösung der bekann
ten Schwierigkeiten dar.
Aus der DE-OS 30 11 991 ist ein Verfahren zur Elektroplattie
rung eines Stahlbandes mit einer Zn-Ni-Legierung bekannt. Das
Verfahren ist u. a. dadurch gekennzeichnet, daß das verwende
te Elektrolytbad einen pH-Wert von 1,0 bis 4,5 aufweist. Der
artig saure Bäder bringen zahlreiche Schwierigkeiten mit sich,
insbesondere wegen ihrer korrodierenden Wirkung auf die Ab
scheidungsvorrichtungen und die Umwelt und in bezug auf ihre
mangelnde Stabilität.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes
wäßriges Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von
Zink-Nickel-Legierungen zu schaffen, mit dem sich glänzende,
gleichmäßige Zink-Nickel-Legierungsabscheidungen herstellen
lassen, die sich durch verbesserte Korrosionsbeständigkeit
auszeichnen. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein
verbessertes wäßriges Bad und Verfahren zur galvanischen Ab
scheidung von Zink-Nickel-Legierungen zur Verfügung zu stel
len, das bei weniger saurem pH-Wert betrieben werden kann und
glänzende, gleichmäßige Zink-Nickel-Legierungsabscheidungen
mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit liefert. Diese Auf
gaben werden durch die Erfindung gelöst. Die Erfindung be
trifft somit die in den Patentansprüchen 1 bis 10 gekennzeich
neten Gegenstände.
In Fig. 1 ist graphisch die Schichtdickenverteilung für sol
cherart erhaltene kathodische Abscheidungen und mit bekann
ten Bädern erhaltene Abscheidungen von Zink-Nickel-Legierungen
wiedergegeben.
Ein solches Bad ergibt eine gleichmäßige, feinkörnige katho
dische Abscheidung einer Zink-Nickel-Legierung, die mindestens
halbglänzend aussieht und mindestens 5 Gewichtsprozent Nickel
enthält. Diese Abscheidung verleiht dem Werkstück, z. B. aus
Stahl, eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit.
Zink und Nickel werden in der Regel dem Bad zumindest zur Her
stellung dessen in Form der Chloride zugesetzt, und zwar
in der Regel als Zinkchlorid (ZnCl₂) und als Nickelchlorid
hexahydrat (NiCl₂ · 6 H₂O). Während der Abscheidung wird die
Zink- und Nickelkonzentration im Bad in der Regel durch Verwen
dung von Zink- und Nickelanoden oder Zink-Nickel-Legierungs
anoden aufrechterhalten. Sofern jedoch die durch Auflösen der
Anode im Bad erforderliche Menge an Zink und Nickel nicht aus
reicht, die erforderliche Konzentration an Zink und Nickel
aufrechtzuerhalten, kann dies durch Zusatz von Zink- und
Nickelchlorid zum Bad erreicht werden.
Die Ammoniumionen werden dem Bad in Form eines löslichen Chlo
rids, günstigerweise in Form von Ammoniumchlorid zugegeben.
Annehmbare Abscheidungen und Abscheidungsbedingungen können
nicht erhalten werden, wenn die Zink-, Nickel- und Ammonium
komponenten dem Bad in Form der Sulfate einverleibt werden.
Wenn der Gesamtchloridgehalt der Bäder durch Zusatz von Zink-,
Nickel- und Ammoniumchlorid nicht eingestellt werden kann,
müssen andere Chloride zugegeben werden, um den Gesamtchlorid
gehalt auf den erforderlichen Mindestgehalt einzustellen.
Im allgemeinen werden als derartige Chloride Kaliumchlorid
oder Natriumchlorid, insbesondere Kaliumchlorid, verwendet.
Als nichtionogene polyoxyalkylierte Netzmittel eignen sich
Kondensationscopoly
mere aus einem oder mehreren Alkylenoxiden und einer anderen
Verbindung, wobei das Alkylenoxid 1 bis 4 Kohlen
stoffatome und das erhaltene Copolymer 10 bis
70 Mol Alkylenoxid pro Mol der anderen Verbindung enhält.
Beispiele für diese anderen alkoxylierbaren Verbindungen
sind Alkohole, einschließlich unverzweigter Alkohole, ali
phatische einwertige Alkohole, aliphatische mehrwertige
Alkohole und Phenole, Fettsäuren, Fettsäureamide, Alkyl
phenole, Alkylnaphthole, aliphatische Amine, einschließ
lich Mono- und Polyamine.
Nachstehend werden Beispiele typischer geeigneter Netzmittel
gegeben.
A. Nichtionogene Copolymerisate von Äthylenoxid und line
aren Alkoholen haben folgende Strukturformel:
x hat einen Wert von 9 bis 15 und n einen Wert von 10 bis
50. Netzmittel dieser Struktur sind unter dem Handelsnamen
Tergitol® S bekannt. Spezielle Beispiele für derartige
Netzmittel sind Tergitol® Nonionic 15-S-3, Tergitol® Nonionic
15-S-5, Tergitol® Nonionic 15-S-7, Tergitol® Nonionic 15-S-9
und Tergitol® Nonionic 15-S-12.
B. Nichtionogene Copolymerisate von Äthylenoxid und Alkyl
phenolen der Formel
H-(CH₂) x -Ar-O-(CH₂CH₂O) n -CH₂-CH₂-OH
in der Ar einen Benzolring bedeutet, x einen Wert von 6
bis 15 und n einen Wert von 10 bis 50 hat. Netzmittel die
ser Art werden unter der Handelbezeichnung Igepal® CO
verkauft.
C. Nichtionogene Copolymerisate von Äthylenoxid und Kokos
nußfettsäuren oder Alkanolaminkokosnußfettsäuren. Die Ko
kosnußfettsäuren werden durch Hydrolyse von Kokosnußöl er
halten und sie haben die allgemeine Formel
C n H2n+1-COOH
n hat einen Wert von 5 bis 17.
D. Andere spezielle Beispiele für nichtionogene polyoxy
alkylierte Netzmittel sind
alkoxylierte Alkylphenole, wie Nonylphenol, Alkylnaphthole,
aliphatische einwertige Alkohole, aliphatische mehrwertige
Alkohole, wie Polyoxypropylenglykol, Äthylendiamin, Fett
säuren, Fettsäureamide, z. B. das Kokosnußfettsäureamid,
oder Ester, wie Sorbitanmonopalmitat. Als Beispiele für
alkoxylierte Verbindungen der vorstehend aufgeführten Klas
sen, können folgende Handelsprodukte erwähnt werden:
Igepal® CA 630, ein äthoxyliertes Octylphenol, Brÿ® 98,
ein äthoxylierter Oleylalkohol, Pluronic® F68, ein Polyoxy
äthylen-Polyoxypropylenglykol, Surfynol® 485, ein äthoxy
liertes 2,4,7,9-Tetramethyl-5-decin-4,7-diol, Tetronic® 504,
ein äthoxyliertes propoxyliertes Äthylendiamin,
Myrj® 525, eine äthoxylierte Stearinsäure, Amidoa® C-5,
ein polyäthoxyliertes Kokosnußsäuremonoäthanolamid,
Tween® 40, ein äthoxyliertes Sorbitanpalmitat, Liponox® NCT
und OCS, ein Polyoxyäthylenalkylphenoläther bzw. ein
Polyoxyäthylenalkyläther, Pluronic® L64, ein Polyoxyäthy
len-Polyoxypropylenglykol, Tetronic® 704, ein Polyoxy
äthylen-Polyoxypropylenäthylendiamin, Ethomeen® C/25,
ein äthoxyliertes Amin, und Ethomid® O/15, ein äthoxylier
tes Amid.
Mit Bädern des genannten Typs werden gleichmäßige, feinkörnige
Zink-Nickel-Legierungsabscheidungen erhalten, die min
destens halbglänzend aussehen. Diese Abscheidungen sind im
allgemeinen nicht hochglänzend, doch haben sie eine weit bes
sere mikrokristalline Struktur und weit besseres gleichmäßi
ges Aussehen als die bekannten Zink-Nickel-Legierungsabscheidungen.
Diese Abscheidungen verleihen den Werkstücken, wie
solchen aus Stahl, ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit. Sie
eignen sich daher für solche Zwecke, bei denen es auf
hochglänzende Abscheidungen nicht ankommt.
Zur Herstellung von hochglänzenden Zink-Nickel-Legierungs
abscheidungen wird den genannten Bädern als sekundärer Glanz
bildner ein aromatischer Aldehyd oder ein aromatisches Keton
einverleibt. Der sekundäre Glanzbildner wird in einer Menge
von 0,01 bis 2 g/l zugegeben, die ausreicht, der Legierungsab
scheidung den gewünschten Hochglanz zu verleihen.
Typische Beispiele für aromatische Aldehyde
und aromatische Ketone sind Arylaldehyde und -ketone,
im Ring halogenierte Arylaldehyde und -ketone sowie hete
rocyclische Aldehyde und Ketone. Spezielle Beispiele für
diese Verbindungen sind o-Chlorbenzaldehyd, p-Chlorbenz
aldehyd, Benzylmethylketon, Phenyläthylketon, Zimtalde
hyd, Benzalaceton, Thiophenaldehyd, Furfurol, 5-Hydroxy
methylfurfurol, Furfurylidenaceton, Furfuraldehyd und
4-(2-Furyl)-3-buten-2-on.
Als Hilfsglanzbildner sind niedere aliphatische Carbonsäuren
und ihre Salze geeignet. Der Alkylrest der Carbonsäuren kann
1 bis 6 Kohlenstoffatome enthalten. In zahlreichen Fällen sind
als Salze die Natrium-, Kalium- und Ammoniumsalze gut geeignet. Ein
besonders günstiger Hilfsglanzbildner ist Natriumacetat. Diese
Verbindungen werden günstigerweise in Mengen von 1 bis 10 g/l
verwendet.
Die Einstellung des pH-Werts des Bades auf einen Wert inner
halb des erforderlichen Bereiches kann je nachdem entweder
durch Zugabe wäßriger Ammoniaklösung oder von Salzsäure erfol
gen.
Sofern das Bad im oberen pH-Bereich z. B. bei pH 7 betrieben
wird, kann es erforderlich sein, dem Bad noch einen Komplex
bildner zuzusetzen, um eine Ausfällung von Zink und/oder Nickel
zu vermeiden. Es kann jeder geeignete Komplexbildner für Zink
und/oder Nickel verwendet werden. Typische Beispiele für sol
che Komplexbildner sind Äthylendiamintetraessigsäure, Diäthy
lentetraminpentaessigsäure und N,N,N′,N′-Tetrakis-(2-hydroxy
propyl)-äthylendiamin.
Die Bäder können in üblichen Anlagen zum Galvanisieren von
Einzelteilen oder Massenteilen verwendet werden. Die Badtemperatur
wird günstigerweise bei 30 bis 40°C gehalten. Als Anoden
können solche aus Zink und Nickel verwendet werden, jedoch
können auch Zink-Nickel-Legierungsanoden verwendet werden.
In zahlreichen Fällen wurde ein Zink zu Nickel-Anodenverhält
nis von 9 : 1 als günstig befunden.
Die Beispiele erläutern die Erfindung. Die Abscheidung wird
5 Minuten bei einem Zellenstrom von 2 A und einer Badtempera
tur von 35°C in einer 267 mm Hullzelle durchgeführt. Es wird
eine Zinkanode sowie eine Hochglanz-Stahlplatte als Kathode
verwendet.
Es wird ein Bad hergestellt, das 100 g/l ZnCl₂, 120 g/l
NiCl₂ · 6 H₂O, 240 g/l NH₄Cl und 3 g/l äthoxyliertes 2,4,7,9-
Tetramethyl-5-decin-4,7-diol (Surfynol® 485) enthält. Der pH-
Wert des Bades beträgt 5,5 und das Gewichtsverhältnis von
Nickel zu Zink 0,6 : 1. Es wird eine Zink-Nickel-Legierungsab
scheidung erhalten, die von halbglänzendem und gleichmäßigem
Aussehen ist.
Zum Vergleich wird ein Bad hergestellt, das 100 g/l ZnCl₂,
120 g/l NiCl₂ · 6 H₂O und 240 g/l NH₄Cl enthält. Das Gewichtsver
hältnis von Nickel zu Zink 0,6 : 1 und der pH-Wert 5,5.
Die erhaltene Zink-Nickel-Legierungsabscheidung ist von asch
grauem Aussehen in den Bereichen hoher und mittlerer Strom
dichte und von schwarzem Aussehen im Bereich niedriger Strom
dichte. Es gibt keine Anzeichen von Glanz.
Es wird ein Bad mit 120 g/l ZnCl₂, 160 g/l NiCl₂ · 6 H₂O,
250 g/l NH₄Cl und 5 g/l äthoxyliertem 2,4,7,9-Tetramethyl-5-decin-
4,7-diol (Surfynol® 485) und 0,05 g/l Benzalaceton herge
stellt. Das Gewichtsverhältnis von Nickel zu Zink beträgt
0,7 : 1 und der pH-Wert 6,8. Die erhaltene Zink-Nickel-Legie
rungsabscheidung ist von gleichmäßigem Aussehen und hoch
glänzend im Bereich mittlerer und niedriger Stromdichte. Im
Bereich hoher Stromdichte zeigen sich nur schwache Streifen.
Es wird ein Bad mit 20 g/l ZnCl₂, 150 g/l NiCl₂ · 6 H₂O, 86 g/l
NH₄Cl, 80 g/l KCl, 2 g/l Polyoxyäthylenalkylphenoläther
(Liponox® NCT) und 0,04 g/l Benzalaceton hergestellt. Das Ge
wichtsverhältnis von Nickel zu Zink im Bad beträgt 3,8 : 1 und
der pH-Wert 5,0. Die erhaltene Zink-Nickel-Legierungsabschei
dung ist von gleichmäßigem Aussehen und hochglänzend im Be
reich mittlerer und niedriger Stromdichte. Im Bereich hoher
Stromdichte zeigen sich nur schwache Streifen.
Es wird ein Bad mit 80 g/l ZnCl₂, 80 g/l NiCl₂ · 6 H₂O, 180 g/l
NH₄Cl, 1 g/l Polyoxyäthylenpolyoxypropylenglykol
(Pluronic® L64) und 0,02 g/l Zimtaldehyd hergestellt. Das Ge
wichtsverhältnis von Nickel zu Zink beträgt 0,5 : 1 und der
pH-Wert 5,5. Die erhaltene Zink-Nickel-Legierungsabscheidung
ist von gleichmäßigem Aussehen und nahezu hochglänzend, wobei
lediglich einige schwache Trübungen festgestellt werden.
Es wird ein Bad mit 20 g/l ZnCl₂, 240 g/l NiCl₂ · 6 H₂O, 103 g/l
NH₄Cl, 1 g/l Polyoxyäthylenalkylamin (Ethomeen® C/25) und
0,02 g/l o-Chlorbenzaldehyd hergestellt. Das Gewichtsverhältnis
von Nickel zu Zink beträgt 6,2 : 1 und der pH-Wert 5,3. Die
erhaltene Zink-Nickel-Legierungsabscheidung ist von gleich
mäßigem Aussehen und nahezu hochglänzend mit nur schwacher
Trübung.
Es wird ein Bad mit 120 g/l ZnCl₂, 120 g/l NiCl₂ · 6 H₂O,
240 g/l NH₄Cl, 10 g/l äthoxyliertem 2,4,7,9-Tetramethyl-5-
decin-4,7-diol (Surfynol® 485) und 0,3 g/l Benzalaceton her
gestellt. Das Gewichtsverhältnis von Nickel zu Zink beträgt
0,5 : 1 und der pH-Wert 5,6. Die erhaltene Zink-Nickel-Legie
rungsabscheidung ist von gleichmäßigem Aussehen und über die
gesamte Oberfläche hochglänzend. Der Nickelgehalt der Ab
scheidung in den Bereichen, die 2 cm, 5 cm bzw. 8 cm von der
Seite hoher Stromdichte der Hull-Zell-Platte entfernt ist,
beträgt 7,6 bzw. 7,9 bzw. 10,7 Gewichtsprozent.
Es wird ein Bad mit 20 g/l ZnCl₂, 240 g/l NiCl₂ · 6 H₂O,
150 g/l NH₄Cl, 2,0 g/l Polyoxyäthylenalkylamid (Ethomid® O/15)
und 0,1 g/l Phenyläthylketon hergestellt. Das Gewichtsverhältnis
von Nickel zu Zink beträgt 6,2 : 1 und der pH-Wert 6,8. Die
erhaltene Zink-Nickel-Legierungsabscheidung ist gleichmäßig
und hochglänzend, wobei in den Bereichen hoher Stromdichte
nur schwache Streifen beobachtet werden können.
Es werden drei Bäder hergestellt, die 120 g/l ZnCl₂, 140 g/l
NiCl₂ · 6 H₂O, 240 g/l NH₄Cl, 1,0 g/l Benzalaceton und 5,0 g/l
eines nichtionogenen polyoxyalkylierten Netzmittels enthalten.
Im ersten Bad ist das Netzmittel ein Polyoxyäthylenalkyläther
(Liponox® OCS), im zweiten Bad Polyoxyäthylensorbitanpalmitat
(Tween® 40) und im dritten Bad äthoxyliertes propoxyliertes
Äthylendiamin (Tetronic® 704). In jedem Bad beträgt das Ge
wichtsverhältnis von Nickel zu Zink 0,72 : 1 und der pH-Wert
5,5. Die erhaltenen Zink-Nickel-Legierungsabscheidungen sind
jeweils gleichmäßig und insgesamt hochglänzend
Es wird ein Bad mit 100 g/l ZnCl₂, 130 g/l NiCl₂ · 6 H₂O,
200 g/l NH₄Cl, 2,0 g/l Natriumacetat, 5,0 g/l äthoxyliertem
2,4,7,9-Tetramethyl-5-decin-4,7-diol (Surfynol® 485) und
0,1 g/l Benzalaceton hergestellt. Das Gewichtsverhältnis von
Nickel zu Zink beträgt 0,67 : 1 und der pH-Wert 5,6. Die erhal
tene Zink-Nickel-Legierungsabscheidung ist gleichmäßig und
über die gesamte Oberfläche vollständig hochglänzend.
Mit den Bädern der Beispiele 1 und 3 bis 10 werden Stahlplat
ten bei einer Badtemperatur von 35°C und einer Kathodenstrom
dichte von etwa 3,2 A/dm² in einer Dicke von 3 µm mit einer
Zink-Nickel-Legierung kathodisch beschichtet. Sodann werden
die erhaltenen Platten dem Salzsprühtest nach der ASTM-
Prüfnorm B-117 unterworfen. In
jedem Fall sind 160 Stunden erforderlich, bevor sich
an der Zink-Nickel-Legierungsoberfläche Rotrost entwickelt.
In gleicher Weise werden Stahlplatten in gleicher Dicke mit
einer handelsüblichen, hochglänzenden Nickelschicht bzw.
mit einer hochglänzenden Zinkschicht beschichtet. Die
nickelbeschichteten Platten und die mit Zink beschichteten
Platten werden sodann dem Salzsprühtest unterworfen.
Bereits nach 8 Stunden bzw. 40 Stunden entwickelt sich auf
der Nickeloberfläche bzw. der Zinkoberfläche Rotrost.
Die Dicke der Zink-Nickel-Legierungabscheidung, die gemäß
Beispiel 1, 2 und 7 hergestellt worden ist, wird in ver
schiedenen Abständen von der Seite hoher Stromdichte der
Hull-Zell-Platte bestimmt. Diese Dicken werden sodann ge
gen den Abstand von der Seite hoher Stromdichte der Hull-
Zellplatte aufgetragen. Dies ist in Fig. 1 wiedergegeben.
Die Ergebnisse zeigen, daß der Zusatz der Glanzbildner
keine signifikante abträgliche Wirkung auf die Dicke der
erhaltenen Abscheidung über einen weiten Bereich von Strom
dichten ergibt im Vergleich zu Abscheidungen, die aus
einem ähnlichen Bad erhalten werden, das keine
derartigen Zusätze enthält.
Claims (10)
1. Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden
Zink-Nickel-Legierungen, enthaltend Zink, Nickel, Ammonium
ionen und einen Glanzzusatz, dadurch gekenn
zeichnet, daß es 10 bis 90 g/l Zink, 15 bis 60 g/l
Nickel, 20 bis 120 g/l Ammoniumionen, 150 bis 300 g/l
Chloridionen und als Glanzzusatz 0,1 bis 200 g/l eines
nicht-ionogenen polyoxyalkylierten Netzmittels enthält,
wobei das Bad ein Gewichtsverhältnis von Nickel zu Zink
von 0,5 : 1 bis 10 : 1 und einen pH-Wert von 5,0 bis 7,0
aufweist.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es zu
sätzlich einen sekundären Glanzbildner aus der Gruppe der
aromatischen Aldehyde und aromatischen Ketone enthält.
3. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es den
sekundären Glanzbildner in einer Menge von 0,01 bis 2 g/l
enthält.
4. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß es Hilfsglanzbildner aus der Gruppe der niederen ali
phatischen Carbonsäuren und ihrer Salze in einer Menge von
0,5 bis 25 g/l enthält.
5. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß es als nicht-ionogenes Netzmittel ein äthoxyliertes
2,4,7,9-Tetramethyl-5-decin-4,7-diol enthält.
6. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß es als nicht-ionogenes Netzmittel ein äthoxyliertes
2,4,7,9-Tetramethyl-5-decin-4,7-diol und als sekundären
Glanzbildner Benzalaceton enthält.
7. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß es als nicht-ionogenes Netzmittel ein äthoxyliertes
2,4,7,9-Tetramethyl-5-decin-4,7-diol und als Hilfsglanz
bildner Natriumacetat enthält.
8. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß es als nicht-ionogenes Netzmittel ein äthoxyliertes 2,4,7,9-Tetramethyl-
5-decin-4,7-diol, als sekundären Glanzbildner Benzalaceton
und als Hilfsglanzbildner Natriumacetat enthält.
9. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
daß es zusätzlich Komplexbildner enthält.
10. Verfahren zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und
gleichmäßigen Überzügen aus Zink-Nickel-Legierungen unter
Verwendung eines Bads nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß das Bad mit Stromdichten im Bereich von
0,44 bis 8,60 A/dm² und Badtemperaturen im Bereich von
25 bis 50°C betrieben wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56130341A JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3231054A1 DE3231054A1 (de) | 1983-03-03 |
DE3231054C2 true DE3231054C2 (de) | 1989-04-27 |
Family
ID=15032062
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3231054A Granted DE3231054A1 (de) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Waessriges elektrolytbad zur kathodischen abscheidung von zink-nickel-legierungen und seine verwendung |
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Country | Link |
---|---|
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MX (1) | MX158623A (de) |
NL (1) | NL184070C (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4578158A (en) * | 1983-11-01 | 1986-03-25 | Nippon Steel Corporation | Process for electroplating a metallic material with an iron-zinc alloy |
JPS60228693A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-13 | Kawasaki Steel Corp | Zn−Ni合金めつき鋼板の製造方法 |
JPS61110794A (ja) * | 1984-11-06 | 1986-05-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 銅箔の表面処理方法 |
JPS622776U (de) * | 1985-06-21 | 1987-01-09 | ||
JPS6236178U (de) * | 1985-08-21 | 1987-03-03 | ||
US4666791A (en) * | 1985-12-06 | 1987-05-19 | Bethlehem Steel Corporation Of Delaware | Ni-Zn electroplated product resistant to paint delamination |
US4772362A (en) * | 1985-12-09 | 1988-09-20 | Omi International Corporation | Zinc alloy electrolyte and process |
JPS62113272U (de) * | 1985-12-31 | 1987-07-18 | ||
JPS6353285A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-07 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | 亜鉛−ニツケル合金めつき液 |
KR100417930B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-31 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
KR100417931B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-30 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
KR100368221B1 (ko) * | 1998-09-01 | 2003-04-21 | 주식회사 포스코 | 염화물욕가용성양극을사용한아연-니켈합금전기도금용액및이용액을이용한아연-니켈합금전기도금강판의제조방법 |
KR20020010046A (ko) * | 2000-07-28 | 2002-02-02 | 이구택 | 아연-니켈 도금강판의 오염 방지제 |
US7442286B2 (en) | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
CN103451693B (zh) * | 2013-07-29 | 2015-08-26 | 山东建筑大学 | 一种镍含量稳定的碱性锌镍合金脉冲电镀方法 |
CN105002532A (zh) * | 2015-08-21 | 2015-10-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种低泡型弱酸性氯化物锌镍合金电镀液 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB548184A (en) * | 1940-12-21 | 1942-09-29 | Standard Steel Spring Co | Corrosion proofing metal articles |
US3420754A (en) * | 1965-03-12 | 1969-01-07 | Pittsburgh Steel Co | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
US3558442A (en) * | 1969-01-31 | 1971-01-26 | Wheeling Pittsburgh Steel Corp | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
DE3011991A1 (de) * | 1979-03-30 | 1980-10-02 | Sumitomo Metal Ind | Verfahren zur elektroplattierung eines stahlbandes mit einer zn-ni- legierung |
US4282073A (en) * | 1979-08-22 | 1981-08-04 | Thomas Steel Strip Corporation | Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates |
US4313802A (en) * | 1979-02-15 | 1982-02-02 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method of plating steel strip with nickel-zinc alloy |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1521029C3 (de) * | 1966-05-28 | 1984-01-19 | Dr.-Ing. Max Schlötter GmbH & Co KG, 7340 Geislingen | Saures galvanisches Glanzzinkbad |
US4070256A (en) * | 1975-06-16 | 1978-01-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Acid zinc electroplating bath and process |
SU571528A1 (ru) * | 1975-09-17 | 1977-09-05 | Pavlov Anatolij V | Электролит дл осаждени сплавов на основе цинка |
SU827608A1 (ru) * | 1978-05-12 | 1981-05-07 | Предприятие П/Я В-8173 | Электролит дл осаждени покрытийиз СплАВА циНК-НиКЕль |
US4268364A (en) * | 1980-03-18 | 1981-05-19 | Inco Research & Development Center Inc. | Nickel-zinc alloy deposition from a sulfamate bath |
-
1981
- 1981-08-21 JP JP56130341A patent/JPS6012434B2/ja not_active Expired
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1982
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- 1982-08-23 GB GB08224176A patent/GB2104920B/en not_active Expired
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB548184A (en) * | 1940-12-21 | 1942-09-29 | Standard Steel Spring Co | Corrosion proofing metal articles |
US2419231A (en) * | 1940-12-21 | 1947-04-22 | Standard Steel Spring Co | Electroplated corrosion proof metal articles and method of making the same |
US3420754A (en) * | 1965-03-12 | 1969-01-07 | Pittsburgh Steel Co | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
US3558442A (en) * | 1969-01-31 | 1971-01-26 | Wheeling Pittsburgh Steel Corp | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
US4313802A (en) * | 1979-02-15 | 1982-02-02 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method of plating steel strip with nickel-zinc alloy |
DE3011991A1 (de) * | 1979-03-30 | 1980-10-02 | Sumitomo Metal Ind | Verfahren zur elektroplattierung eines stahlbandes mit einer zn-ni- legierung |
US4282073A (en) * | 1979-08-22 | 1981-08-04 | Thomas Steel Strip Corporation | Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3231054A1 (de) | 1983-03-03 |
GB2104920B (en) | 1985-02-27 |
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KR840001231A (ko) | 1984-03-28 |
JPS6012434B2 (ja) | 1985-04-01 |
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