JPS5834189A - 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 - Google Patents

亜鉛−ニツケル合金電気めつき液

Info

Publication number
JPS5834189A
JPS5834189A JP56130341A JP13034181A JPS5834189A JP S5834189 A JPS5834189 A JP S5834189A JP 56130341 A JP56130341 A JP 56130341A JP 13034181 A JP13034181 A JP 13034181A JP S5834189 A JPS5834189 A JP S5834189A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chloride
surfactant
chain
zinc
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP56130341A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6012434B2 (ja
Inventor
Masaaki Kamiya
上谷 正明
Hidenori Tsuji
秀徳 辻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Udylite Co Ltd
Original Assignee
Ebara Udylite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Udylite Co Ltd filed Critical Ebara Udylite Co Ltd
Priority to JP56130341A priority Critical patent/JPS6012434B2/ja
Priority to AU87056/82A priority patent/AU534369B2/en
Priority to NLAANVRAGE8203266,A priority patent/NL184070C/xx
Priority to IT68027/82A priority patent/IT1156492B/it
Priority to KR8203747A priority patent/KR880001584B1/ko
Priority to IN970/CAL/82A priority patent/IN157700B/en
Priority to DE3231054A priority patent/DE3231054A1/de
Priority to ES515149A priority patent/ES8308366A1/es
Priority to MX194081A priority patent/MX158623A/es
Priority to FR8214424A priority patent/FR2511707A1/fr
Priority to CA000409819A priority patent/CA1210732A/en
Priority to BR8204892A priority patent/BR8204892A/pt
Priority to GB08224176A priority patent/GB2104920B/en
Publication of JPS5834189A publication Critical patent/JPS5834189A/ja
Publication of JPS6012434B2 publication Critical patent/JPS6012434B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明状電気めつ1!により光沢良好なZm−Ni合金
めつ自を行うためのめっき液に関するものである。
Zn−Ni  合金めつ自はNiめつ愈また社Znめつ
IK比較゛して非常に優れた耐食性を有するので、この
めっきのためにいろ−ろなめつ電液が古くから提案され
ている。
しかしながら、Zgs−Ni合金めつ@ FIN iめ
つ愈等に有効な光沢剤をめっき液に添加しても光沢面を
得ることが難しく、また均一電着性にもや一■があ艶、
このためわずかに鋼板、線材等高度の光沢と均一電着性
を必要としな≠公費における連続めり自にお−てのみ実
用化されているのが現状である。
そζで本発明者らはZm−Ni合金めり自の光沢外観、
均−電着性及び皮膜の物性を欽曽するため、めり愈iu
i處につ−て広く検討した結果、塩化墓船、塩化ニッケ
ル及び塩化アンモニウムを2−“として1・〜IOg/
L、Ni寓1として5〜160g / As NHa″
+としてII”l!Og/jの範囲で、ただし、Za雪
十/Ni”(重量比)が15以下であるととく含有し、
さもl(&リオキシアル中しン鎖を有する昇画活性剤を
含有することを特徴とすゐ亜鉛−ニッケル会金電気めつ
電液から光沢と均一電着性に優れえz+a−Ni合金め
り愈を得るととに成功し友。11さらに、以上のめつ電
液に適宜雪状光沢剤を選んで添加することによ抄、鏡函
光沢%胃能になりことを見いだした。
本発明によるめり電液は塩化物を主剤としNH,tを含
有するーわゆる塩化アンそン篤浴である。硫酸浴で紘本
発@による効果は全く得られない。めり自浴中の金属濃
度1jZn”+が10〜9611/l−lN11+がs
〜sag/zであ抄、これ、らOSm外で鯰党沢に優れ
た6つ龜外観社得ら5れな−。しか1、Z *” J−
N i ” t)濃度lrl、Zss”/Ni”十(重
量比)≦11なる関係を満足する必要がある。
上記濃度比が2.、sを越えると、めつ龜外観FA均一
にならず、中電流部が無光沢めつ自となる。また、めつ
電波に#iNH,が必要であるが、この最少必要量はZ
gs”+濃度が高くなるにつれて増す。Zml”II 
5〜l Og / AOと亀、NH,o最少必要量轄約
sg/lである。NH,は過剰に添加しても何ら問題は
な−が、そO溶解限度は約120 g / Lである。
めっき液のpH社4.7〜10であることが望まし一〇
表7以下で紘めつ愈O析出が粗雑に1に砂、均一な外観
が得られ1に≠。また、10以上ではめつ自が−るとと
もに浴からアンモニアガスが発生し、作IIIg4境を
悪化させる。
本発明にお−ては、上記塩類の鐘かに、めり自光沢と均
一電着性を改曽するOKW員的に有効なぎリオ中ジアル
キレン鎖を有する非イオン性界函活性剤を添加する。本
発明のめつ1波に用いるζowio界画活性剤として特
Ellれて−るの韓、lリオキシエチレンアル中ルエ・
−チル〔たとえばライオン■O「リポノックス0C8J
 )、mリオキシエチレンアルキルアリールエーテル〔
たとえdライオン@1)rW&ノックスNC’rJ )
、ポリオキシエナレン19オキシブ四ピレンエーテル〔
たとえ社旭電化工aSの「プルリエツクL4$44)、
−9オキシエチレン脂肪酸エステル〔たとえばライオン
アタゾ■の「エソ7アツ)0/zoJ]、I9オキシエ
チレンアルキルアミン〔たとえdライオンアタゾ@O[
エソミンC/zsJ]、*リオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル〔たとえば花王アトラス■の[シウィー
ン4oJ]、&リオキシエチレン !、4,7.1−テ
シテメチルーS#デシン−4,7−ジオール〔たとえば
日進化学1康@Or?−74/−ha s s 」)、
19オキシエチレンアミド〔たとえばライオンアクゾ■
の[エソマイト0/l 5J ]、プリオキシエチレン
プリオ今シブ讐ピレンエチレンシア之ン〔たとえ社旭電
化工業@O「テ)−ニック?(14J)などである。
これらQ化合物を添加することによシ、前記塩化アンモ
ン浴からOめつ自の析出は微調化し、光沢及び陶−電着
性が着しく改良される。この化合物は、通常o、xg/
を以下の添加量でれ十分な効果社期待で禽な−0また、
これを大過剰に添加しても関題韓な!が、200fl/
を以上添加するのは経済的に無益である。
以上のようなめつき浴を用いて得られるめつ自は、完全
な鏡面光沢とはならな−が、従来□ Z tx−Ni会
金めつ愈に比べるとはるかに微結晶性の均一な外観を示
し、鏡面光沢を必要としない場合KIIi十分使用でき
る。
モしてこのめつ1液に−わゆる1次光沢剤的な作用を有
する化合物を添加しておくと、上記微結晶性のN1−Z
a会金めつ龜は一層緻密化し、美麗な鏡面光沢を示すも
のとなる。
上記界画活性剤を含有する本発明のめり電液に添加する
2次光沢剤として時に優れて−るのは、アリールアルデ
ヒド(たとえば0−りWttペンスアルデヒド)、アリ
ールケシン(たとえdベンジルメチルケトン、フェニル
エチルケトン)、アリールオレフィンアルデヒド(たと
えばシンナムアルデヒF)、アリールオレアインケFン
(たとえばベンザルアセシン)等の、アリール基を有す
るアルデヒドまたは+)ンである。これらの2次光沢剤
OII加量&i6.01〜2g/lが適当である。
zg/を以上社溶解しK<いばかヤでなく、低電流部に
スキップ具象(めつ1未析出)があられれることがある
こO本発明によるめっき液を用−ためっき方法としては
、逓當O2履めつ龜ある一層Niめつきと同様、ラック
及びバレルによる方法が可能である。壜た、望まし―め
つ愈作業条件社次に示すとお勤である。
陰極電流密度=1〜8ム/ d m” −極電流密度=1〜S A / d vn寓浴    
 温:30740℃ 陽極:Zm及びN1を約9=1で用−1浴中のZmQ及
びNil+の濃度を維持する(Zn陽極のみを用い、減
少する浴中 ONkm+に対しては塩化ニラナルを補充することも可
能である。)。
浴opu調整!塩酸また社アンモニア水を用−て行う。
次に本発明の実施例につ−て述べる。以下の例はすべて
267−へルセルを用−てめり自を行ったものである。
めつ自条件は次のとおシである。
電流:2A   めり龜時間:S分 浴温:ss’c   陽極:zn 陰極雪プライ)鋼板 実施例I Imp:ZlnClt ′11019g/z、NiC1
1−sH,Os z o g/l、 NH,CI 24
0 g/L%ナーフイノー#48 S  I g/ 1
. pH51ハルセル試験の結果、半光択で均一な外観
が得られた。また均一電着性を調べるため^ルセルの膜
厚分布を測定し′kが、その結果#i第1閣に示すと′
ss艶である。
比較例1 浴部4:ZmC1,1(10g/j%NiC1,。
5HsOt z o g/1%NH,C1冨40g/I
−sHLs へル七ル試験り結果、高電流部から中電流部にかけては
灰色無光沢めつ龜とな)、低電流部は黒色O析出とを5
た・ tた、実施例1の場合と同様にめつ電膜厚分布を測定し
たが、結果は第igに示すとお砂であゐ・ これによ!、9−フイノール48sの添加はZm−Ni
会会めつIO光沢と均一電着性の改曽に効果があること
が確認され−k。
実施例言 WIlrflill& 、:Lm Cl 312 g 
/ l−s N t C1B ・@ HI O* 6 
g / I−s NH6Cl  250 g /’sナ
ーフイノールass  sg/lsベンザルア* ) 
>  L * I! g / L 、p HIL II
八へセル試験の結果、高電流部にわずかにクラックが生
じたものの、中電流部から低電流部社鏡画光沢O良好な
めり自が得られた。
実施例3 浴組成: ZtsC1120g/ t、 Nt C1g
 ・@HaOZ 50 g/Z%NH4C1i 5 K
/LsKCI  sag/ls りぎノフタスNCT 
 21/1− s ヘ> f # 7 * ) >  
6−04 g / t s 9 H5,6−^ルセル試
験の結果、高電流部にわずかなタラツクを生じたが、他
の部分は鏡面光沢のめっきが得られた@ 実施例4 浴組成: ZnCA章 801171%NiC1,。
sH,0120g/l、 NHaCl 180 g/L
1プルシニツクLs41g/Axシンナムアルデヒド 
o、o2x/l、pHts八ルセへ試験の結果、わずか
に曇珈を生じているものの、鏡面に近−めつきが得られ
た。
実施例5 浴部*:ZnC1,フOg/l、NiC1m。
6H富Og  4 og/z、NH,C1sow/l。
エソミンC/251g/As・−クロロベンズアルデヒ
ド 0.02 g/l、 PH5,3八ルセル試験の結
果、わず1PKll砂を生じている400.鏡面光沢に
近−めつ11が得られた。
実施例6 濠1−*: ZmCl、   26 g/ t−、Ni
C15・6H寓0  意 4  g/l、  NH,C
1z  s  o  g/’sエン!イド O/ 11
 2 g / t、 7エエルエチルケ)ン (1,1
g/ t、 pH8,1八ル令ル試験の結果、高電流部
にわずかなタラツタを生じたものの、鏡面光沢に近−め
つ自が得られた。
まえ、中電流部Kiけるめ一9自皮膜中のNi□含有量
を分析し友とζろ、7.3≦であった。
実施例7 浴組成3 ZmCl、  120 g/ L%NI C
1@ ・@)I、o   1 2  G  g/ L、
  NH,C1240jig/l、t−フイ/−# 4
8 sl 0 g/ tlへ:yザルアセ)ン 0.3
 g/ L、 pHL6八ルセル試験の結果、全面鏡面
光沢めっきが得られた。
また、ハル七ル板の高電流側から2a&、!!6゜$纒
の部分におけるめつ亀皮腹中ONM含有量を分析した結
果、それぞれ7.6%、7.I≦、10.7−であった
。tえ、実施例10場合と同様に^ルセルのめつ金膜厚
分布を測定したが、その結果は第1図に示すとお鰺であ
る。またさらに、本発明によるZs−Ni合金めり自の
耐食性を調べるため、ζOめつ1液により鋼板に轢は均
一に約3#講めつ亀を行つえものと、これと同様に1光
沢Nlめつ愈及び光沢塩化Zmめつ龜したものとを塩水
噴霧試験した。この結果、Niめつ自、zaめつ自の赤
さび発生時間はそれぞれ$時間、40時間であったのに
対し、Zm −Nj メツ@d 1 m ()時fRf
ト4〜2a倍0耐食性を示した。
実施例8 浴部311 : ZIIC1寓i 00 g/ As 
N I C”* ’@1(,0146fl/l、  N
H,CI    2 6 0  g/L、エソ7アツ)
07to  鵞x / t sペンデルアセトン &O
5g/j、9H!L5ハルセル試験の結果、全面鏡面光
沢めつ自が得られえ。
実施例9 浴11js Zmoll  100 g/z%NiCl
、 −si(mo   1 1 0  g / L、 
 NHHCl2   z  4 og/l、 昇m活性
剤 sg/A、ペンデルアセトンL@g/A%pH1,
s  (界面活性剤として韓ツプノツタスOC8、シウ
ィーン40又はテ)胃ニッタ764を用−た0) へル七ル試験の結果、−ずれの場合も全面鏡面光沢めつ
龜が得られた0 このように、本発明は非常に優れ大耐食性を有するZm
−Ni合金めつ1に優れ友光沢と均一電着性を与え為こ
とに成功したもので、これによシZn−Ni合金めつき
が一般のめつ龜にも適用できるようにな抄、工業上大食
な意−を1つ1のである・ t  mmo簡単な説明 第1図社実施例1、実施例2及び比較例1によるめつ亀
の膜厚分布を測定した結果を示すグ517である。
代理人 弁理士 榎  井  −職

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)塩化亜鉛、塩化ニッケル及び塩化アン毫ニウムを
    ZnS+として10〜90 g/ t、 Ni”十をs
     〜s o g/Ax NHa+としてS〜120 g
    /Lの範囲で、但しZn雪十/N i l+(重量比)
    がU以下であるどと〈含有し、さらにlリオキシアルキ
    レン鎖を有する界面活性剤を含有することを特徴とする
    亜鉛−ニッケル合金電気めっき液。 (2)キリオキシアルキレン鎖を有すゐ界fI活性剤が
    プリオキシエチレンアルキルエーテル、Iリオキシエチ
    レンアルキ身アリールエーテル、ポリオキシエチレンプ
    リオキシプロピレンエーテル、ぎ雫オキシエチレン脂肪
    酸エステル、19オ命ジエチレンアルキルアミン、ポリ
    オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、llIr9
    オキシエチレン 2,4.?、I・テトラメチル−5−
    デシン−4,7−ジオール、プリオキシエチレンアルキ
    ルア之ドまたはぎリオキシエチレンポ呼オキシブーピレ
    ンエチレンジアミンである特許請求の@1第1項記載O
    めつ含液@(3)pHが4.7〜LOである特許請求の
    範囲第1項記載Oめつ1波。 ←) 植化亜船、塩化ニッケル及び塩化アンモニラA 
    @ Z 11″十として10−$011/1SNi”と
    してS〜・@g/j、Nl(、+として!!N120g
    /lo11mlで、たffLZm”ンNi”(重量比)
    がLH以下であるごとく含有し、さもK(リオキシアル
    キレン鎖を有する界面活性剤及び2次光液剤としてアラ
    ールアルデヒド、アリールケシン、アリールオレフィン
    アルデヒドま、たは了り−ルオレフインナ)ンを含有す
    ることを曹微とする墓船−エツナル合金電気めっき液。 00  冨次光沢剤がペンずルアセトン1.シンナムア
    ルデヒド、〇−タWWペンスアルデヒドt′kIfiL
    7エエルエチルケシンである特許請求の範**4項記載
    のめつ11液。 (6)pHが4.7〜86である特許請求の範囲第4項
    記載Oめつ1液。
JP56130341A 1981-08-21 1981-08-21 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 Expired JPS6012434B2 (ja)

Priority Applications (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56130341A JPS6012434B2 (ja) 1981-08-21 1981-08-21 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液
AU87056/82A AU534369B2 (en) 1981-08-21 1982-08-11 Electrodeposition of zinc-nickel alloys
NLAANVRAGE8203266,A NL184070C (nl) 1981-08-21 1982-08-19 Waterig bad voor elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen; alsmede voortbrengselen met een dergelijke afzetting.
IT68027/82A IT1156492B (it) 1981-08-21 1982-08-20 Composizione acquosa per l elettro deposizione di leghe di zinco e nichel e procedimento di elettrode posizione utilizzante tale composizione
KR8203747A KR880001584B1 (ko) 1981-08-21 1982-08-20 아연-니켈합금 전착용 수용성 조성물
IN970/CAL/82A IN157700B (ja) 1981-08-21 1982-08-20
DE3231054A DE3231054A1 (de) 1981-08-21 1982-08-20 Waessriges elektrolytbad zur kathodischen abscheidung von zink-nickel-legierungen und seine verwendung
ES515149A ES8308366A1 (es) 1981-08-21 1982-08-20 "un procedimiento para obtener depositos electroliticos brillantes y uniformes de aleacion de zinc-niquel".
MX194081A MX158623A (es) 1981-08-21 1982-08-20 Composicion acuosa mejorada para la electrodeposicion de depositos de aleacion de zinc y niquel
FR8214424A FR2511707A1 (fr) 1981-08-21 1982-08-20 Composition et procede pour l'electrodeposition de depots d'alliages zinc-nickel
CA000409819A CA1210732A (en) 1981-08-21 1982-08-20 Composition and process for the electrodeposition of zinc-nickel alloy deposits
BR8204892A BR8204892A (pt) 1981-08-21 1982-08-20 Composicao aquosa para a eletroposicao de ligas de zinco-niquel e processo para produzir eletrodepositos de ligas de zinco-niquel uniformes e brilhantes
GB08224176A GB2104920B (en) 1981-08-21 1982-08-23 Electrodeposition of zinc-nickel alloy deposits

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56130341A JPS6012434B2 (ja) 1981-08-21 1981-08-21 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5834189A true JPS5834189A (ja) 1983-02-28
JPS6012434B2 JPS6012434B2 (ja) 1985-04-01

Family

ID=15032062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56130341A Expired JPS6012434B2 (ja) 1981-08-21 1981-08-21 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液

Country Status (13)

Country Link
JP (1) JPS6012434B2 (ja)
KR (1) KR880001584B1 (ja)
AU (1) AU534369B2 (ja)
BR (1) BR8204892A (ja)
CA (1) CA1210732A (ja)
DE (1) DE3231054A1 (ja)
ES (1) ES8308366A1 (ja)
FR (1) FR2511707A1 (ja)
GB (1) GB2104920B (ja)
IN (1) IN157700B (ja)
IT (1) IT1156492B (ja)
MX (1) MX158623A (ja)
NL (1) NL184070C (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4877496A (en) * 1986-08-22 1989-10-31 Nippon Hyomen Kagaku Kabushiki Kaisha Zinc-nickel alloy plating solution
KR20020010046A (ko) * 2000-07-28 2002-02-02 이구택 아연-니켈 도금강판의 오염 방지제
KR100368221B1 (ko) * 1998-09-01 2003-04-21 주식회사 포스코 염화물욕가용성양극을사용한아연-니켈합금전기도금용액및이용액을이용한아연-니켈합금전기도금강판의제조방법
KR100417931B1 (ko) * 1996-12-26 2004-03-30 주식회사 포스코 아연-니켈합금전기도금액
KR100417930B1 (ko) * 1996-12-26 2004-03-31 주식회사 포스코 아연-니켈합금전기도금액
CN105002532A (zh) * 2015-08-21 2015-10-28 哈尔滨工业大学 一种低泡型弱酸性氯化物锌镍合金电镀液

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0144711B1 (en) * 1983-11-01 1987-08-12 Nippon Steel Corporation Process for electroplating a metallic material with an iron-zinc alloy
JPS60228693A (ja) * 1984-04-25 1985-11-13 Kawasaki Steel Corp Zn−Ni合金めつき鋼板の製造方法
JPS61110794A (ja) * 1984-11-06 1986-05-29 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 銅箔の表面処理方法
JPS622776U (ja) * 1985-06-21 1987-01-09
JPS6236178U (ja) * 1985-08-21 1987-03-03
US4666791A (en) * 1985-12-06 1987-05-19 Bethlehem Steel Corporation Of Delaware Ni-Zn electroplated product resistant to paint delamination
US4772362A (en) * 1985-12-09 1988-09-20 Omi International Corporation Zinc alloy electrolyte and process
JPS62113272U (ja) * 1985-12-31 1987-07-18
US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
CN103451693B (zh) * 2013-07-29 2015-08-26 山东建筑大学 一种镍含量稳定的碱性锌镍合金脉冲电镀方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE470874A (ja) * 1940-12-21
US3420754A (en) * 1965-03-12 1969-01-07 Pittsburgh Steel Co Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel
DE1521029C3 (de) * 1966-05-28 1984-01-19 Dr.-Ing. Max Schlötter GmbH & Co KG, 7340 Geislingen Saures galvanisches Glanzzinkbad
US3558442A (en) * 1969-01-31 1971-01-26 Wheeling Pittsburgh Steel Corp Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel
JPS5128533A (en) * 1974-09-04 1976-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki
US4070256A (en) * 1975-06-16 1978-01-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Acid zinc electroplating bath and process
SU571528A1 (ru) * 1975-09-17 1977-09-05 Pavlov Anatolij V Электролит дл осаждени сплавов на основе цинка
SU827608A1 (ru) * 1978-05-12 1981-05-07 Предприятие П/Я В-8173 Электролит дл осаждени покрытийиз СплАВА циНК-НиКЕль
US4313802A (en) * 1979-02-15 1982-02-02 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Method of plating steel strip with nickel-zinc alloy
JPS5839236B2 (ja) * 1979-03-30 1983-08-29 住友金属工業株式会社 合金電気メッキ方法
US4282073A (en) * 1979-08-22 1981-08-04 Thomas Steel Strip Corporation Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates
US4268364A (en) * 1980-03-18 1981-05-19 Inco Research & Development Center Inc. Nickel-zinc alloy deposition from a sulfamate bath

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4877496A (en) * 1986-08-22 1989-10-31 Nippon Hyomen Kagaku Kabushiki Kaisha Zinc-nickel alloy plating solution
KR100417931B1 (ko) * 1996-12-26 2004-03-30 주식회사 포스코 아연-니켈합금전기도금액
KR100417930B1 (ko) * 1996-12-26 2004-03-31 주식회사 포스코 아연-니켈합금전기도금액
KR100368221B1 (ko) * 1998-09-01 2003-04-21 주식회사 포스코 염화물욕가용성양극을사용한아연-니켈합금전기도금용액및이용액을이용한아연-니켈합금전기도금강판의제조방법
KR20020010046A (ko) * 2000-07-28 2002-02-02 이구택 아연-니켈 도금강판의 오염 방지제
CN105002532A (zh) * 2015-08-21 2015-10-28 哈尔滨工业大学 一种低泡型弱酸性氯化物锌镍合金电镀液

Also Published As

Publication number Publication date
AU534369B2 (en) 1984-01-26
CA1210732A (en) 1986-09-02
DE3231054C2 (ja) 1989-04-27
IT8268027A0 (it) 1982-08-20
NL184070B (nl) 1988-11-01
FR2511707B1 (ja) 1985-05-03
FR2511707A1 (fr) 1983-02-25
ES515149A0 (es) 1983-08-16
GB2104920B (en) 1985-02-27
JPS6012434B2 (ja) 1985-04-01
BR8204892A (pt) 1983-08-02
KR880001584B1 (ko) 1988-08-24
DE3231054A1 (de) 1983-03-03
KR840001231A (ko) 1984-03-28
GB2104920A (en) 1983-03-16
ES8308366A1 (es) 1983-08-16
AU8705682A (en) 1983-02-24
IT1156492B (it) 1987-02-04
NL8203266A (nl) 1983-03-16
MX158623A (es) 1989-02-20
NL184070C (nl) 1989-04-03
IN157700B (ja) 1986-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5834189A (ja) 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液
CA2342219C (en) Aqueous alkaline cyanide-free bath for the galvanic deposition of zinc or zinc alloy coatings
US3925170A (en) Method and composition for producing bright palladium electrodepositions
GB2294472A (en) Cationic quaternary ammonium polymer additive in alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths
CN103132114A (zh) 耐磨工件及其耐磨镀层的制造方法
JPS60436B2 (ja) 金属表面の電着処理方法
US3812566A (en) Composite nickel iron electroplate and method of making said electroplate
JPH10102278A (ja) 銅−スズ合金メッキ用ピロリン酸浴
JPS60169588A (ja) 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴
JPS58210189A (ja) 縮合重合体光沢剤を含有する亜鉛合金めつき浴
KR900000283B1 (ko) Zn-Ni합금도금 강판의 제조방법
US4543167A (en) Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath
CA1149324A (en) Silver electrodeposition composition and process
US3793162A (en) Electrodeposition of ruthenium
US5194140A (en) Electroplating composition and process
NO784204L (no) Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten
US3960677A (en) Acid zinc electroplating
EP0088192B1 (en) Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath
JPH025833B2 (ja)
US3580821A (en) Bright silver electroplating
US4138294A (en) Acid zinc electroplating process and composition
US3186926A (en) Electroplating solution containing a diester of selenious acid
US4244790A (en) Composition and method for electrodeposition of black nickel
US3969198A (en) Ni-Fe electro-plating
US3655533A (en) Zinc electroplating process and acidic zinc fluoborate electrolyte therefor