JPS6012434B2 - 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 - Google Patents
亜鉛−ニツケル合金電気めつき液Info
- Publication number
- JPS6012434B2 JPS6012434B2 JP56130341A JP13034181A JPS6012434B2 JP S6012434 B2 JPS6012434 B2 JP S6012434B2 JP 56130341 A JP56130341 A JP 56130341A JP 13034181 A JP13034181 A JP 13034181A JP S6012434 B2 JPS6012434 B2 JP S6012434B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyoxyethylene
- plating
- plating solution
- zinc
- chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims description 3
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 64
- -1 polyoxyethylene Polymers 0.000 claims description 28
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 14
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 8
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N Benzalacetone Natural products CC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N trans-benzylideneacetone Chemical group CC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N 0.000 claims description 6
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims description 5
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamaldehyde Chemical compound O=C\C=C\C1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N 0.000 claims description 4
- 229940117916 cinnamic aldehyde Drugs 0.000 claims description 4
- KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N cinnamic aldehyde Natural products O=CC=CC1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 4
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims description 4
- FPYUJUBAXZAQNL-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C=O FPYUJUBAXZAQNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 claims description 2
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 claims 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 8
- 229910007567 Zn-Ni Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910007614 Zn—Ni Inorganic materials 0.000 description 7
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 6
- JQGGAELIYHNDQS-UHFFFAOYSA-N Nic 12 Natural products CC(C=CC(=O)C)c1ccc2C3C4OC4C5(O)CC=CC(=O)C5(C)C3CCc2c1 JQGGAELIYHNDQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000136 polysorbate Polymers 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010011224 Cough Diseases 0.000 description 1
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical compound C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 210000000689 upper leg Anatomy 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は露気めつきにより光沢良好なＺｎ−Ｎｉ合金め
つきを行うためのめつき液に関するものである。
つきを行うためのめつき液に関するものである。
Ｚｎ−Ｎｉ合金めつきはＮｉめつきまたはＺｎめつきに
比較して非常に優れた耐食性を有するので、このめつき
のためにいろいろなめつき液が古くから提案されている
。
比較して非常に優れた耐食性を有するので、このめつき
のためにいろいろなめつき液が古くから提案されている
。
しかしながら、Ｚｎ−Ｎｉ合金めつきはＮｉめつき等に
有効な光沢剤をめつき液に添加しても光沢面を得ること
が難しく、また均一電着性にもや）難があり、このため
わずかに鋼板、線材等高度の光沢と均一電着性を必要と
しない分野における運締めつきにおいてのみ実用化され
ているのが現状である。
有効な光沢剤をめつき液に添加しても光沢面を得ること
が難しく、また均一電着性にもや）難があり、このため
わずかに鋼板、線材等高度の光沢と均一電着性を必要と
しない分野における運締めつきにおいてのみ実用化され
ているのが現状である。
そこで本発明者らはＺｎ一Ｎｉ合金めつきの光沢外観、
均一電着性及び皮膜の物性を改善するため、めつき液組
成について広く検討した結果、塩化亜鉛、塩化ニッケル
及び塩化アンモニウムをＺｎ２十として１０〜９雌／夕
、Ｎｉ２十として５〜６雌／そ、Ｎ山十として５〜１２
雌／その範囲で、ただし、Ｚｎ２十／Ｎｉ２十（重量比
）が２．５以下であるごとく含有し、さらにポリオキシ
アルキレン鎖を有する界面活性剤を含有するそとを特徴
とする亜鉛一ニッケル合金電気めつき液から光沢と均一
電着性に優れたＺｎ−Ｎｉ合金めつきを得ることに成功
した。
均一電着性及び皮膜の物性を改善するため、めつき液組
成について広く検討した結果、塩化亜鉛、塩化ニッケル
及び塩化アンモニウムをＺｎ２十として１０〜９雌／夕
、Ｎｉ２十として５〜６雌／そ、Ｎ山十として５〜１２
雌／その範囲で、ただし、Ｚｎ２十／Ｎｉ２十（重量比
）が２．５以下であるごとく含有し、さらにポリオキシ
アルキレン鎖を有する界面活性剤を含有するそとを特徴
とする亜鉛一ニッケル合金電気めつき液から光沢と均一
電着性に優れたＺｎ−Ｎｉ合金めつきを得ることに成功
した。
またさらに、以上のめつき液に適宜２次光沢剤を選んで
添加することにより、鏡面光沢も可能になることを見い
だした。本発明によるめつき液は塩化物を主剤としＮ比
＋を含有するいわゆる塩化アンモン格である。
添加することにより、鏡面光沢も可能になることを見い
だした。本発明によるめつき液は塩化物を主剤としＮ比
＋を含有するいわゆる塩化アンモン格である。
硫酸浴では本発明による効果は全く得られない。めつき
裕中の金属濃度はＺｎ２十が１０〜９０ｇ／夕、Ｎｉ２
十が５〜６雌ノそであり、これらの範囲外では光沢に優
れためつき外観は得られない。しかも、Ｚぜ＋とＮｉ２
十の濃度は、Ｚ〆＋／Ｎｉ２十（重量比）ミ２．５なる
関係を満足する必要がある。上記濃度比が２．５を越え
ると、めつき外観は均一にならず、中電流部が無光沢め
つきとなる。また、めつき液にはＮＨ４十が必要である
が、この最少必要量はＺｎ”濃度が高くなるにつれて増
す。Ｚｎ２十が５〜１雌／そのとき、ＮＨ４十の最少必
要量は約滋ノそである。ＮＨ４十は過剰に添加しても何
ら問題はないが、その溶解限度は約１２０ｇ／そである
。めつき液のｐＨは４．７〜８．０であることが望まし
い。４．７以下でめつきの析出が粗雑になり、均一な外
観が得られない。また、８．０以上ではめつきが曇ると
ともに格からアンモニアガスが発生し、作業環境を悪化
させる。本発明においては、上記塩類のほかに、めつき
光沢と均一電着性を改善するのに特異的に有効なポリオ
キシァルキレン鎖を有する非イオン性界面活性剤を添加
する。
裕中の金属濃度はＺｎ２十が１０〜９０ｇ／夕、Ｎｉ２
十が５〜６雌ノそであり、これらの範囲外では光沢に優
れためつき外観は得られない。しかも、Ｚぜ＋とＮｉ２
十の濃度は、Ｚ〆＋／Ｎｉ２十（重量比）ミ２．５なる
関係を満足する必要がある。上記濃度比が２．５を越え
ると、めつき外観は均一にならず、中電流部が無光沢め
つきとなる。また、めつき液にはＮＨ４十が必要である
が、この最少必要量はＺｎ”濃度が高くなるにつれて増
す。Ｚｎ２十が５〜１雌／そのとき、ＮＨ４十の最少必
要量は約滋ノそである。ＮＨ４十は過剰に添加しても何
ら問題はないが、その溶解限度は約１２０ｇ／そである
。めつき液のｐＨは４．７〜８．０であることが望まし
い。４．７以下でめつきの析出が粗雑になり、均一な外
観が得られない。また、８．０以上ではめつきが曇ると
ともに格からアンモニアガスが発生し、作業環境を悪化
させる。本発明においては、上記塩類のほかに、めつき
光沢と均一電着性を改善するのに特異的に有効なポリオ
キシァルキレン鎖を有する非イオン性界面活性剤を添加
する。
本発明のめつき液に用いるこの型の界面活性剤として特
に優れているのは、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル〔たとえばライオン欄の「リポノツクス○ＣＳ」〕、
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル〔たとえ
ばライオン■の「リポノツクスＮＣＴＪ〕、ボリオキシ
エチレンポリオキシフ。ロピレンエーテル〔たとえば旭
電化工業■の「プルロニックＬ６４」〕、ポリオキシェ
チレン脂肪酸ェステル〔たとえばライオンアクゾ■の「
エソフアツト○／２０」〕、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン〔たとえばライオンアクゾ■の「エソミンＣ／
２５」〕、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸ェステ
ル〔たとえば花王アトラス■の「トウイーン４０」〕、
ポリオキシエチレン２，４，７，９−テトラメチル−５
ーデシンー４，７ージオール〔たとえば日進化学工業■
の「サーフイノール４８５」〕、ポリオキシエチレンア
ミド〔たとえばライオンアクゾ■の「ヱソマイド○／１
５」〕、ポリオキシエチレンポリオキシフ。ロピレンェ
チレンジアミン〔たとえば旭電化工業■の「テトロニツ
ク７０４」〕などである。これらの化合物を添加するこ
とにより、前記塩化アンモン格からのめつきの析出は微
細化し、光沢及び均一電着性が著しく改良される。
に優れているのは、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル〔たとえばライオン欄の「リポノツクス○ＣＳ」〕、
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル〔たとえ
ばライオン■の「リポノツクスＮＣＴＪ〕、ボリオキシ
エチレンポリオキシフ。ロピレンエーテル〔たとえば旭
電化工業■の「プルロニックＬ６４」〕、ポリオキシェ
チレン脂肪酸ェステル〔たとえばライオンアクゾ■の「
エソフアツト○／２０」〕、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン〔たとえばライオンアクゾ■の「エソミンＣ／
２５」〕、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸ェステ
ル〔たとえば花王アトラス■の「トウイーン４０」〕、
ポリオキシエチレン２，４，７，９−テトラメチル−５
ーデシンー４，７ージオール〔たとえば日進化学工業■
の「サーフイノール４８５」〕、ポリオキシエチレンア
ミド〔たとえばライオンアクゾ■の「ヱソマイド○／１
５」〕、ポリオキシエチレンポリオキシフ。ロピレンェ
チレンジアミン〔たとえば旭電化工業■の「テトロニツ
ク７０４」〕などである。これらの化合物を添加するこ
とにより、前記塩化アンモン格からのめつきの析出は微
細化し、光沢及び均一電着性が著しく改良される。
この化合物は、通常０．１ｇノク以下の添加量では十分
な効果は期待できない。また、これを大過剰に添加して
も問題はないが、２００ｇ／そ以上添加するのは経済的
に無益である。以上のようなめつき格を用いて得られる
めつきは、完全な鏡面光沢とはならないが、従来のＺｎ
−Ｎｉ合金めつきに比べるとはるかに微結晶性の均一な
外観を示し、鏡面光沢を必要としない場合には十分使用
できる。
な効果は期待できない。また、これを大過剰に添加して
も問題はないが、２００ｇ／そ以上添加するのは経済的
に無益である。以上のようなめつき格を用いて得られる
めつきは、完全な鏡面光沢とはならないが、従来のＺｎ
−Ｎｉ合金めつきに比べるとはるかに微結晶性の均一な
外観を示し、鏡面光沢を必要としない場合には十分使用
できる。
そしてこのめつき液にいわゆる２次光沢剤的な作用を有
する化合物を添加しておくと、上記微結晶性のＺｎ−Ｎ
ｉ合金めつきは一層繊密化し、美麗な鏡面光沢を示すも
のとなる。
する化合物を添加しておくと、上記微結晶性のＺｎ−Ｎ
ｉ合金めつきは一層繊密化し、美麗な鏡面光沢を示すも
のとなる。
上記界面活性剤を含有する本発明のめつき液に添加する
２次光沢剤として特に優れているのは、アリールアルデ
ヒド（たとえばｏ−クロロベンスアルデヒド）、アリー
ルケトン（たとえばペンジルメチルケトン、フエニルエ
チルケトン）、アリールオレフインアルデヒド（たとえ
ばシンナムアルデヒド）、アリールオレフインケトン（
たとえばペンザルアセトン）等の、アリール基を有する
アルデヒドまたはケトンである。
２次光沢剤として特に優れているのは、アリールアルデ
ヒド（たとえばｏ−クロロベンスアルデヒド）、アリー
ルケトン（たとえばペンジルメチルケトン、フエニルエ
チルケトン）、アリールオレフインアルデヒド（たとえ
ばシンナムアルデヒド）、アリールオレフインケトン（
たとえばペンザルアセトン）等の、アリール基を有する
アルデヒドまたはケトンである。
これらの２次光沢剤の添加量は０．０１〜滋／夕が適当
である。後／そ以上は溶解いこくいばかりでなく、低電
流部にスキップ現象（めつき禾析出）があらわれること
がある。この本発明によるめつき液を用いためつき方法
としては、通常のＺｎめつきあるいはＮｉめつきと同様
、ラック及びバレルによる方法が可能である。
である。後／そ以上は溶解いこくいばかりでなく、低電
流部にスキップ現象（めつき禾析出）があらわれること
がある。この本発明によるめつき液を用いためつき方法
としては、通常のＺｎめつきあるいはＮｉめつきと同様
、ラック及びバレルによる方法が可能である。
また、望ましいめつき作業条件は次に示すとおりである
。陰極電流密度：１〜鉛ノｄめ 陽極電流密度：１〜船ノｄの 浴 室：３０〜４０こ０ 陽極：Ｚｎ及びＮｉを約９：１で用い、浴中のＺｎ２十
及びＮｉ２十の濃度を維持する（Ｚｎ陽極のみを用い、
減少する裕中のＮｉ２十に対しては塩化ニッケル及び塩
化ニッケ ルを補充することも可能である。
。陰極電流密度：１〜鉛ノｄめ 陽極電流密度：１〜船ノｄの 浴 室：３０〜４０こ０ 陽極：Ｚｎ及びＮｉを約９：１で用い、浴中のＺｎ２十
及びＮｉ２十の濃度を維持する（Ｚｎ陽極のみを用い、
減少する裕中のＮｉ２十に対しては塩化ニッケル及び塩
化ニッケ ルを補充することも可能である。
）。格のｐＨ調整：塩酸またはアンモニア水を用いて行
う。
う。
次に本発明の実施例について述べる。以下の例はすべて
２６７の【ハルセルを用いてめつきを行ったものである
。めつき条件は次のとおりである。電流：２Ａ め
つき時間：５分格温：３５ｏ０ 陽極：Ｚｎ 陰極：ブライト鋼板 実施例 １ 浴組成±ＺｎＣ１２ １０腿／そ、ＮｉＣ１２・紐２０
１２雌ノ〆、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇ／〆、サーフイノール
４８５礎ノそｐＨ５．５ハルセル試験の結果、半光沢で
均一な外観が得られた。
２６７の【ハルセルを用いてめつきを行ったものである
。めつき条件は次のとおりである。電流：２Ａ め
つき時間：５分格温：３５ｏ０ 陽極：Ｚｎ 陰極：ブライト鋼板 実施例 １ 浴組成±ＺｎＣ１２ １０腿／そ、ＮｉＣ１２・紐２０
１２雌ノ〆、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇ／〆、サーフイノール
４８５礎ノそｐＨ５．５ハルセル試験の結果、半光沢で
均一な外観が得られた。
また均一電着性を調べるためハルセルの膜厚分布を測定
したが、その結果は第１図に示すとおりである。比較例
１ 格組成：ＺｎＣ１２ １００ｇ／そ、ＮｊＣ１２・ＳＬ
Ｏ１２０ｇノク、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇノそ、ＰＨ５．５
ハルセル試験の結果、高電流部から中電流部にかけては
灰色無光沢めつきとなり、低電流部は黒色の析出となっ
た。
したが、その結果は第１図に示すとおりである。比較例
１ 格組成：ＺｎＣ１２ １００ｇ／そ、ＮｊＣ１２・ＳＬ
Ｏ１２０ｇノク、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇノそ、ＰＨ５．５
ハルセル試験の結果、高電流部から中電流部にかけては
灰色無光沢めつきとなり、低電流部は黒色の析出となっ
た。
また、実施例１の場合と同様にめつき膜厚分布を測定し
たが、結果は第１図に示すとおりである。
たが、結果は第１図に示すとおりである。
これにより、サーフィノール４８５の添加はＺｎ−Ｎｉ
合金めつきの光沢と均一電着性の改善に効果があること
が確認された。
合金めつきの光沢と均一電着性の改善に効果があること
が確認された。
実施例 ２
裕組成：ＺｎＣ１２ １を／夕、ＮｊＣ１２・細２０
１６ｇ／そ、ＮＨ４ＣＩ２５０ｇ／夕、サーフイノ−ル
４８５舷／夕、ベンザルアセトン ０．０頭ノそ、ｐＨ
６．８ハルセル試験の結果、高電流部にわずかにクラッ
クが生じたものの、中電流部から低電流部は鏡面光沢の
良好なめつきが得られた。
１６ｇ／そ、ＮＨ４ＣＩ２５０ｇ／夕、サーフイノ−ル
４８５舷／夕、ベンザルアセトン ０．０頭ノそ、ｐＨ
６．８ハルセル試験の結果、高電流部にわずかにクラッ
クが生じたものの、中電流部から低電流部は鏡面光沢の
良好なめつきが得られた。
実施例 ３
格組成：ＺｎＣ１２２０ｇノそ、ＮｉＣ１２・母ＬＯ１
５咳／そ、ＮＡＣＩＩ舷／夕、ＫＣ１ ８雌ノク、リボ
ノックスＮＣＴ被／そ、ベンザルアセトン ０．０唆／
そ、ｐＨ５．０ハルセル試験の結果、高麗流部にわずか
なクラツクを生じたが、他の部分は鏡面光沢のめつきが
得られた。
５咳／そ、ＮＡＣＩＩ舷／夕、ＫＣ１ ８雌ノク、リボ
ノックスＮＣＴ被／そ、ベンザルアセトン ０．０唆／
そ、ｐＨ５．０ハルセル試験の結果、高麗流部にわずか
なクラツクを生じたが、他の部分は鏡面光沢のめつきが
得られた。
実施例 ４
浴組成：ＺｎＣ１２８雌ノ夕、ＮｊＣ１２・母ＬＯ １
２雌／そ、ＮＨＣＩ １８雌／夕、プルロニツクＬ６４
１ｇ／〆、シンナムアルデヒド ０．０蟹ノそ、ｐＨ５
．５ハルセル試験の結果、わずかに曇りを生じているも
のの、鏡面に近いめつきが得られた。
２雌／そ、ＮＨＣＩ １８雌／夕、プルロニツクＬ６４
１ｇ／〆、シンナムアルデヒド ０．０蟹ノそ、ｐＨ５
．５ハルセル試験の結果、わずかに曇りを生じているも
のの、鏡面に近いめつきが得られた。
実施例 ５
浴組成：ＺｎＣ１２７雌ノク、ＮｉＣ１２・母Ｌ０２４
雌／そ、ＮＨ４ＣＩ ６雌／そ、ェソミンＣ／２５１ｇ
／そ、ｏ−クロロベンズアルデヒド ０．０２ｇ／そ、
ｐＨ５．３ハルセル試験の結果、わずかに曇りを生じて
いるものの、鏡面光沢に近いめつきが得られた。
雌／そ、ＮＨ４ＣＩ ６雌／そ、ェソミンＣ／２５１ｇ
／そ、ｏ−クロロベンズアルデヒド ０．０２ｇ／そ、
ｐＨ５．３ハルセル試験の結果、わずかに曇りを生じて
いるものの、鏡面光沢に近いめつきが得られた。
実施例 ６裕組成：ＺｎＣ１２２雌／そ、ＮｉＣ１２・
細２０ ２処／〆、Ｎ比ＣＩ２５０ｇ／夕、ェソマィド
○／１５を／〆、フエニルエチルケトン ０．１ｇノ
夕、ｐＨ６．８ハルセル試験の結果、高電流部にわずか
なクラックを生じたものの、鏡面光沢に近いめつきが得
られた。
細２０ ２処／〆、Ｎ比ＣＩ２５０ｇ／夕、ェソマィド
○／１５を／〆、フエニルエチルケトン ０．１ｇノ
夕、ｐＨ６．８ハルセル試験の結果、高電流部にわずか
なクラックを生じたものの、鏡面光沢に近いめつきが得
られた。
また、中電流部におけるめつき皮膜中のＮｉ含有量を分
析したところ、７．３％であった。
析したところ、７．３％であった。
実施例 ７裕組成：ＺｎＣ１２ １２０ｇ／そ、ＮｉＣ
１２・細２０１２雌ノ夕、ＮＨ４ＣＩ２４雌／〆、サー
フイノール４８５１０ｇノ〆、ベンザルアセトン ０．
斑／夕、ｐＨ５．６ハルセル試験の結果、全面鏡面光沢
めつきが得られた。
１２・細２０１２雌ノ夕、ＮＨ４ＣＩ２４雌／〆、サー
フイノール４８５１０ｇノ〆、ベンザルアセトン ０．
斑／夕、ｐＨ５．６ハルセル試験の結果、全面鏡面光沢
めつきが得られた。
また、ハルセル板の高電流側から２肌、５肌、８弧の部
分におけるめつき皮膜中のＮｉ含有量を分析した結果、
それぞれ７．６％、７．９％、１０．７％であった。
分におけるめつき皮膜中のＮｉ含有量を分析した結果、
それぞれ７．６％、７．９％、１０．７％であった。
また、実施例１の場合と同様にハルセルのめつき膜厚分
布を測定したが、その結果は第１図に示すとおりである
。またさらに、本発明によるＺｎ−Ｎｉ合金めつきの耐
食性を調べるため、このめつき液により鋼板にほぼ均一
に約３仏ｍめつきを行ったものと、これと同機に、光沢
Ｎｉめつき及び光沢塩イゼｎめつきしたものとを塩水噂
霧試験した。この結果、Ｎｉめつき、Ｚｎめつき、赤さ
び発生時間はそれぞれ８時間、４鞘時間であったのに対
し、Ｚｎ−Ｎｉめつきは１６畑時間と４〜２Ｍ音の耐食
性を示した。実施例 ８ 裕組成：ＺｎＣｌ２ １００ｇ／そ、ＮｉＣ１２１曲２
０１４０ｇ／〆、ＮＨ４ＣＩ ２０雌／で、ェソフアツ
ト○／２０蟹／夕、ベンザルアセトン ０．０５ｇ／ぞ
、ＰＨ５．５ハルセル試験の結果、全面鏡面光沢めつき
が得られた。
布を測定したが、その結果は第１図に示すとおりである
。またさらに、本発明によるＺｎ−Ｎｉ合金めつきの耐
食性を調べるため、このめつき液により鋼板にほぼ均一
に約３仏ｍめつきを行ったものと、これと同機に、光沢
Ｎｉめつき及び光沢塩イゼｎめつきしたものとを塩水噂
霧試験した。この結果、Ｎｉめつき、Ｚｎめつき、赤さ
び発生時間はそれぞれ８時間、４鞘時間であったのに対
し、Ｚｎ−Ｎｉめつきは１６畑時間と４〜２Ｍ音の耐食
性を示した。実施例 ８ 裕組成：ＺｎＣｌ２ １００ｇ／そ、ＮｉＣ１２１曲２
０１４０ｇ／〆、ＮＨ４ＣＩ ２０雌／で、ェソフアツ
ト○／２０蟹／夕、ベンザルアセトン ０．０５ｇ／ぞ
、ＰＨ５．５ハルセル試験の結果、全面鏡面光沢めつき
が得られた。
実施例 ９裕組成：ＺｎＣ１２ １００ｇ／そ、ＮｊＣ
１２・母ＬＯ１５雌／夕、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇ／そ、界
面活性剤 ５ｇ／夕、ベンザルアセトン １．０ｇノク
、ｐＨ５．５（界面活性剤としてはリポノックスＯＣＳ
、トウィーン４０又はテトロニツク７０４を用いた。
１２・母ＬＯ１５雌／夕、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇ／そ、界
面活性剤 ５ｇ／夕、ベンザルアセトン １．０ｇノク
、ｐＨ５．５（界面活性剤としてはリポノックスＯＣＳ
、トウィーン４０又はテトロニツク７０４を用いた。
）ハルセル試験の結果、いずれの場合も全面鏡面光沢め
つきが得られた。
つきが得られた。
このように、本発明は非常に優れた耐食性を有するＺｎ
−Ｎ量合金めつきに優れた光沢と均一電着性を与えるこ
とに成功したもので、これによりＺｎ−Ｎｉ合金めつき
が一般のめつきにも適用できるようになり、工業上大き
な意義をもつものである。
−Ｎ量合金めつきに優れた光沢と均一電着性を与えるこ
とに成功したもので、これによりＺｎ−Ｎｉ合金めつき
が一般のめつきにも適用できるようになり、工業上大き
な意義をもつものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は実施例１、実施例７及び比較例１によるめつき
の膜厚分布を測定した結果を示すグラフである。 才１図
の膜厚分布を測定した結果を示すグラフである。 才１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 塩化亜鉛、塩化ニツケル及び塩化アンモニウムをＺ
ｎ＾２＾＋として１０〜９０ｇ／ｌ、Ｎｉ＾２＾＋を５
〜６０ｇ／ｌ、ＮＨ＿４＾＋として５〜１２０ｇ／ｌの
範囲で、但しＺｎ＾２＾＋／Ｎｉ＾２＾＋（重量比）が
２．５以下であるごとく含有し、さらにポリオキシアル
キレン鎖を有する界面活性剤を含有することを特徴とす
る亜鉛−ニツケル合金電気めつき液。 ２ ポリオキシアルキレン鎖を有する界面活性剤がポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンポリオ
キシプロピレンエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レン２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，
７−ジオール、ポリオキシエチレンアルキルアミドまた
はポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエチレンジ
アミンである特許請求の範囲第１項記載のめつき液。 ３ ｐＨが４．７〜８．０である特許請求の範囲第１項
記載のめつき液。 ４ 塩化亜鉛、塩化ニツケル及び塩化アンモニウムをＺ
ｎ＾２＾＋として１０〜９０ｇ／ｌ、Ｎｉ＾２＾＋とし
て５〜６０ｇ／ｌ、ＮＨ＿４＾＋として５〜１２０ｇ／
ｌの範囲で、だしＺｎ＾２＾＋／Ｎｉ＾２＾＋（重量比
）が２．５以下であるごとく含有し、さらにポリオキシ
アルキレン鎖を有する界面活性剤及び２次光沢剤として
アリールアルデヒド、アリールケトン、アリールオレフ
インアルデヒドまたはアリールオレフインケトンを含有
することを特徴とする亜鉛−ニツケル合金電気めつき液
。 ５ ２次光沢剤がベンザルアセトン、シンナムアルデヒ
ド、ｏ−クロロベンズアルデヒドまたはフエニルエチル
ケトンである特許請求の範囲第４項記載のめつき液。 ６ ｐＨが４．７〜８．０である特許請求の範囲第４項
記載のめつき液。
Priority Applications (13)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56130341A JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
| AU87056/82A AU534369B2 (en) | 1981-08-21 | 1982-08-11 | Electrodeposition of zinc-nickel alloys |
| NLAANVRAGE8203266,A NL184070C (nl) | 1981-08-21 | 1982-08-19 | Waterig bad voor elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen; alsmede voortbrengselen met een dergelijke afzetting. |
| CA000409819A CA1210732A (en) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composition and process for the electrodeposition of zinc-nickel alloy deposits |
| KR8203747A KR880001584B1 (ko) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | 아연-니켈합금 전착용 수용성 조성물 |
| FR8214424A FR2511707A1 (fr) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composition et procede pour l'electrodeposition de depots d'alliages zinc-nickel |
| IT68027/82A IT1156492B (it) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composizione acquosa per l elettro deposizione di leghe di zinco e nichel e procedimento di elettrode posizione utilizzante tale composizione |
| IN970/CAL/82A IN157700B (ja) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | |
| ES515149A ES515149A0 (es) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | "un procedimiento para obtener depositos electroliticos brillantes y uniformes de aleacion de zinc-niquel". |
| MX194081A MX158623A (es) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composicion acuosa mejorada para la electrodeposicion de depositos de aleacion de zinc y niquel |
| BR8204892A BR8204892A (pt) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composicao aquosa para a eletroposicao de ligas de zinco-niquel e processo para produzir eletrodepositos de ligas de zinco-niquel uniformes e brilhantes |
| DE3231054A DE3231054A1 (de) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Waessriges elektrolytbad zur kathodischen abscheidung von zink-nickel-legierungen und seine verwendung |
| GB08224176A GB2104920B (en) | 1981-08-21 | 1982-08-23 | Electrodeposition of zinc-nickel alloy deposits |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56130341A JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5834189A JPS5834189A (ja) | 1983-02-28 |
| JPS6012434B2 true JPS6012434B2 (ja) | 1985-04-01 |
Family
ID=15032062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56130341A Expired JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6012434B2 (ja) |
| KR (1) | KR880001584B1 (ja) |
| AU (1) | AU534369B2 (ja) |
| BR (1) | BR8204892A (ja) |
| CA (1) | CA1210732A (ja) |
| DE (1) | DE3231054A1 (ja) |
| ES (1) | ES515149A0 (ja) |
| FR (1) | FR2511707A1 (ja) |
| GB (1) | GB2104920B (ja) |
| IN (1) | IN157700B (ja) |
| IT (1) | IT1156492B (ja) |
| MX (1) | MX158623A (ja) |
| NL (1) | NL184070C (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622776U (ja) * | 1985-06-21 | 1987-01-09 | ||
| JPS6236178U (ja) * | 1985-08-21 | 1987-03-03 | ||
| JPS62113272U (ja) * | 1985-12-31 | 1987-07-18 | ||
| CN103451693A (zh) * | 2013-07-29 | 2013-12-18 | 山东建筑大学 | 一种镍含量稳定的碱性锌镍合金脉冲电镀方法 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3465347D1 (en) * | 1983-11-01 | 1987-09-17 | Nippon Steel Corp | Process for electroplating a metallic material with an iron-zinc alloy |
| JPS60228693A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-13 | Kawasaki Steel Corp | Ｚｎ−Ｎｉ合金めつき鋼板の製造方法 |
| JPS61110794A (ja) * | 1984-11-06 | 1986-05-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 銅箔の表面処理方法 |
| US4666791A (en) * | 1985-12-06 | 1987-05-19 | Bethlehem Steel Corporation Of Delaware | Ni-Zn electroplated product resistant to paint delamination |
| US4772362A (en) * | 1985-12-09 | 1988-09-20 | Omi International Corporation | Zinc alloy electrolyte and process |
| JPS6353285A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-07 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | 亜鉛−ニツケル合金めつき液 |
| KR100417930B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-31 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
| KR100417931B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-30 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
| KR100368221B1 (ko) * | 1998-09-01 | 2003-04-21 | 주식회사 포스코 | 염화물욕가용성양극을사용한아연-니켈합금전기도금용액및이용액을이용한아연-니켈합금전기도금강판의제조방법 |
| KR20020010046A (ko) * | 2000-07-28 | 2002-02-02 | 이구택 | 아연-니켈 도금강판의 오염 방지제 |
| US7442286B2 (en) | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
| CN105002532A (zh) * | 2015-08-21 | 2015-10-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种低泡型弱酸性氯化物锌镍合金电镀液 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE470874A (ja) * | 1940-12-21 | |||
| US3420754A (en) * | 1965-03-12 | 1969-01-07 | Pittsburgh Steel Co | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
| DE1521029C3 (de) * | 1966-05-28 | 1984-01-19 | Dr.-Ing. Max Schlötter GmbH & Co KG, 7340 Geislingen | Saures galvanisches Glanzzinkbad |
| US3558442A (en) * | 1969-01-31 | 1971-01-26 | Wheeling Pittsburgh Steel Corp | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
| JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
| US4070256A (en) * | 1975-06-16 | 1978-01-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Acid zinc electroplating bath and process |
| SU571528A1 (ru) * | 1975-09-17 | 1977-09-05 | Pavlov Anatolij V | Электролит дл осаждени сплавов на основе цинка |
| SU827608A1 (ru) * | 1978-05-12 | 1981-05-07 | Предприятие П/Я В-8173 | Электролит дл осаждени покрытийиз СплАВА циНК-НиКЕль |
| US4313802A (en) * | 1979-02-15 | 1982-02-02 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method of plating steel strip with nickel-zinc alloy |
| JPS5839236B2 (ja) * | 1979-03-30 | 1983-08-29 | 住友金属工業株式会社 | 合金電気メッキ方法 |
| US4282073A (en) * | 1979-08-22 | 1981-08-04 | Thomas Steel Strip Corporation | Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates |
| US4268364A (en) * | 1980-03-18 | 1981-05-19 | Inco Research & Development Center Inc. | Nickel-zinc alloy deposition from a sulfamate bath |
-
1981
- 1981-08-21 JP JP56130341A patent/JPS6012434B2/ja not_active Expired
-
1982
- 1982-08-11 AU AU87056/82A patent/AU534369B2/en not_active Ceased
- 1982-08-19 NL NLAANVRAGE8203266,A patent/NL184070C/xx not_active IP Right Cessation
- 1982-08-20 FR FR8214424A patent/FR2511707A1/fr active Granted
- 1982-08-20 DE DE3231054A patent/DE3231054A1/de active Granted
- 1982-08-20 IT IT68027/82A patent/IT1156492B/it active
- 1982-08-20 CA CA000409819A patent/CA1210732A/en not_active Expired
- 1982-08-20 ES ES515149A patent/ES515149A0/es active Granted
- 1982-08-20 MX MX194081A patent/MX158623A/es unknown
- 1982-08-20 BR BR8204892A patent/BR8204892A/pt unknown
- 1982-08-20 KR KR8203747A patent/KR880001584B1/ko active
- 1982-08-20 IN IN970/CAL/82A patent/IN157700B/en unknown
- 1982-08-23 GB GB08224176A patent/GB2104920B/en not_active Expired
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622776U (ja) * | 1985-06-21 | 1987-01-09 | ||
| JPS6236178U (ja) * | 1985-08-21 | 1987-03-03 | ||
| JPS62113272U (ja) * | 1985-12-31 | 1987-07-18 | ||
| CN103451693A (zh) * | 2013-07-29 | 2013-12-18 | 山东建筑大学 | 一种镍含量稳定的碱性锌镍合金脉冲电镀方法 |
| CN103451693B (zh) * | 2013-07-29 | 2015-08-26 | 山东建筑大学 | 一种镍含量稳定的碱性锌镍合金脉冲电镀方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5834189A (ja) | 1983-02-28 |
| IN157700B (ja) | 1986-05-24 |
| FR2511707A1 (fr) | 1983-02-25 |
| NL8203266A (nl) | 1983-03-16 |
| CA1210732A (en) | 1986-09-02 |
| AU534369B2 (en) | 1984-01-26 |
| DE3231054A1 (de) | 1983-03-03 |
| AU8705682A (en) | 1983-02-24 |
| IT8268027A0 (it) | 1982-08-20 |
| KR840001231A (ko) | 1984-03-28 |
| GB2104920A (en) | 1983-03-16 |
| GB2104920B (en) | 1985-02-27 |
| BR8204892A (pt) | 1983-08-02 |
| DE3231054C2 (ja) | 1989-04-27 |
| ES8308366A1 (es) | 1983-08-16 |
| ES515149A0 (es) | 1983-08-16 |
| KR880001584B1 (ko) | 1988-08-24 |
| FR2511707B1 (ja) | 1985-05-03 |
| MX158623A (es) | 1989-02-20 |
| NL184070B (nl) | 1988-11-01 |
| NL184070C (nl) | 1989-04-03 |
| IT1156492B (it) | 1987-02-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Pushpavanam et al. | Corrosion behaviour of electrodeposited zinc-nickel alloys | |
| CA2159268C (en) | Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes | |
| JPS6012434B2 (ja) | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 | |
| US5234574A (en) | Process for direct zinc electroplating of aluminum strip | |
| JPS60169588A (ja) | 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴 | |
| JP4307810B2 (ja) | 亜鉛ニッケル電解質から亜鉛ニッケル合金を析出させる方法 | |
| WO2009139384A1 (ja) | 銅‐亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法 | |
| US3892638A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys | |
| WO2009103567A1 (en) | Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts | |
| CN204585986U (zh) | 镀镍-铬部件 | |
| GB2116588A (en) | Electroplated zinc-cobalt alloy | |
| JPS6021235B2 (ja) | コバルト−亜鉛合金電気メツキ浴組成物とメツキ方法 | |
| JPS6256959B2 (ja) | ||
| JPS6141998B2 (ja) | ||
| CN104233401A (zh) | 一种Cu-Co合金的电镀制备方法 | |
| Bhat et al. | Corrosion performance of zinc based binary and ternary alloy coatings | |
| US3630856A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
| CA1050471A (en) | Electroplating of rhodium-ruthenium alloys | |
| JPS5928598A (ja) | 電気メツキ用Ｐｂ合金製不溶性陽極 | |
| JPH07278875A (ja) | 亜鉛−マンガン合金アルカリ性めっき浴及び該めっき浴を用いためっき方法 | |
| CA1076516A (en) | Zinc anode benefaction | |
| CN115125590B (zh) | 一种耐腐蚀的电镀镀锌丝及其加工工艺 | |
| CN111850631B (zh) | 高光泽装饰性镀铑层电镀液 | |
| US4042470A (en) | Brass plating | |
| JPH0762274B2 (ja) | 金色調鏡面製品 |