JPS6012434B2 - 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 - Google Patents
亜鉛−ニツケル合金電気めつき液Info
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- JPS6012434B2 JPS6012434B2 JP56130341A JP13034181A JPS6012434B2 JP S6012434 B2 JPS6012434 B2 JP S6012434B2 JP 56130341 A JP56130341 A JP 56130341A JP 13034181 A JP13034181 A JP 13034181A JP S6012434 B2 JPS6012434 B2 JP S6012434B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は露気めつきにより光沢良好なＺｎ−Ｎｉ合金め
つきを行うためのめつき液に関するものである。
つきを行うためのめつき液に関するものである。
Ｚｎ−Ｎｉ合金めつきはＮｉめつきまたはＺｎめつきに
比較して非常に優れた耐食性を有するので、このめつき
のためにいろいろなめつき液が古くから提案されている
。
比較して非常に優れた耐食性を有するので、このめつき
のためにいろいろなめつき液が古くから提案されている
。
しかしながら、Ｚｎ−Ｎｉ合金めつきはＮｉめつき等に
有効な光沢剤をめつき液に添加しても光沢面を得ること
が難しく、また均一電着性にもや）難があり、このため
わずかに鋼板、線材等高度の光沢と均一電着性を必要と
しない分野における運締めつきにおいてのみ実用化され
ているのが現状である。
有効な光沢剤をめつき液に添加しても光沢面を得ること
が難しく、また均一電着性にもや）難があり、このため
わずかに鋼板、線材等高度の光沢と均一電着性を必要と
しない分野における運締めつきにおいてのみ実用化され
ているのが現状である。
そこで本発明者らはＺｎ一Ｎｉ合金めつきの光沢外観、
均一電着性及び皮膜の物性を改善するため、めつき液組
成について広く検討した結果、塩化亜鉛、塩化ニッケル
及び塩化アンモニウムをＺｎ２十として１０〜９雌／夕
、Ｎｉ２十として５〜６雌／そ、Ｎ山十として５〜１２
雌／その範囲で、ただし、Ｚｎ２十／Ｎｉ２十（重量比
）が２．５以下であるごとく含有し、さらにポリオキシ
アルキレン鎖を有する界面活性剤を含有するそとを特徴
とする亜鉛一ニッケル合金電気めつき液から光沢と均一
電着性に優れたＺｎ−Ｎｉ合金めつきを得ることに成功
した。
均一電着性及び皮膜の物性を改善するため、めつき液組
成について広く検討した結果、塩化亜鉛、塩化ニッケル
及び塩化アンモニウムをＺｎ２十として１０〜９雌／夕
、Ｎｉ２十として５〜６雌／そ、Ｎ山十として５〜１２
雌／その範囲で、ただし、Ｚｎ２十／Ｎｉ２十（重量比
）が２．５以下であるごとく含有し、さらにポリオキシ
アルキレン鎖を有する界面活性剤を含有するそとを特徴
とする亜鉛一ニッケル合金電気めつき液から光沢と均一
電着性に優れたＺｎ−Ｎｉ合金めつきを得ることに成功
した。
またさらに、以上のめつき液に適宜２次光沢剤を選んで
添加することにより、鏡面光沢も可能になることを見い
だした。本発明によるめつき液は塩化物を主剤としＮ比
＋を含有するいわゆる塩化アンモン格である。
添加することにより、鏡面光沢も可能になることを見い
だした。本発明によるめつき液は塩化物を主剤としＮ比
＋を含有するいわゆる塩化アンモン格である。
硫酸浴では本発明による効果は全く得られない。めつき
裕中の金属濃度はＺｎ２十が１０〜９０ｇ／夕、Ｎｉ２
十が５〜６雌ノそであり、これらの範囲外では光沢に優
れためつき外観は得られない。しかも、Ｚぜ＋とＮｉ２
十の濃度は、Ｚ〆＋／Ｎｉ２十（重量比）ミ２．５なる
関係を満足する必要がある。上記濃度比が２．５を越え
ると、めつき外観は均一にならず、中電流部が無光沢め
つきとなる。また、めつき液にはＮＨ４十が必要である
が、この最少必要量はＺｎ”濃度が高くなるにつれて増
す。Ｚｎ２十が５〜１雌／そのとき、ＮＨ４十の最少必
要量は約滋ノそである。ＮＨ４十は過剰に添加しても何
ら問題はないが、その溶解限度は約１２０ｇ／そである
。めつき液のｐＨは４．７〜８．０であることが望まし
い。４．７以下でめつきの析出が粗雑になり、均一な外
観が得られない。また、８．０以上ではめつきが曇ると
ともに格からアンモニアガスが発生し、作業環境を悪化
させる。本発明においては、上記塩類のほかに、めつき
光沢と均一電着性を改善するのに特異的に有効なポリオ
キシァルキレン鎖を有する非イオン性界面活性剤を添加
する。
裕中の金属濃度はＺｎ２十が１０〜９０ｇ／夕、Ｎｉ２
十が５〜６雌ノそであり、これらの範囲外では光沢に優
れためつき外観は得られない。しかも、Ｚぜ＋とＮｉ２
十の濃度は、Ｚ〆＋／Ｎｉ２十（重量比）ミ２．５なる
関係を満足する必要がある。上記濃度比が２．５を越え
ると、めつき外観は均一にならず、中電流部が無光沢め
つきとなる。また、めつき液にはＮＨ４十が必要である
が、この最少必要量はＺｎ”濃度が高くなるにつれて増
す。Ｚｎ２十が５〜１雌／そのとき、ＮＨ４十の最少必
要量は約滋ノそである。ＮＨ４十は過剰に添加しても何
ら問題はないが、その溶解限度は約１２０ｇ／そである
。めつき液のｐＨは４．７〜８．０であることが望まし
い。４．７以下でめつきの析出が粗雑になり、均一な外
観が得られない。また、８．０以上ではめつきが曇ると
ともに格からアンモニアガスが発生し、作業環境を悪化
させる。本発明においては、上記塩類のほかに、めつき
光沢と均一電着性を改善するのに特異的に有効なポリオ
キシァルキレン鎖を有する非イオン性界面活性剤を添加
する。
本発明のめつき液に用いるこの型の界面活性剤として特
に優れているのは、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル〔たとえばライオン欄の「リポノツクス○ＣＳ」〕、
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル〔たとえ
ばライオン■の「リポノツクスＮＣＴＪ〕、ボリオキシ
エチレンポリオキシフ。ロピレンエーテル〔たとえば旭
電化工業■の「プルロニックＬ６４」〕、ポリオキシェ
チレン脂肪酸ェステル〔たとえばライオンアクゾ■の「
エソフアツト○／２０」〕、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン〔たとえばライオンアクゾ■の「エソミンＣ／
２５」〕、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸ェステ
ル〔たとえば花王アトラス■の「トウイーン４０」〕、
ポリオキシエチレン２，４，７，９−テトラメチル−５
ーデシンー４，７ージオール〔たとえば日進化学工業■
の「サーフイノール４８５」〕、ポリオキシエチレンア
ミド〔たとえばライオンアクゾ■の「ヱソマイド○／１
５」〕、ポリオキシエチレンポリオキシフ。ロピレンェ
チレンジアミン〔たとえば旭電化工業■の「テトロニツ
ク７０４」〕などである。これらの化合物を添加するこ
とにより、前記塩化アンモン格からのめつきの析出は微
細化し、光沢及び均一電着性が著しく改良される。
に優れているのは、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル〔たとえばライオン欄の「リポノツクス○ＣＳ」〕、
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル〔たとえ
ばライオン■の「リポノツクスＮＣＴＪ〕、ボリオキシ
エチレンポリオキシフ。ロピレンエーテル〔たとえば旭
電化工業■の「プルロニックＬ６４」〕、ポリオキシェ
チレン脂肪酸ェステル〔たとえばライオンアクゾ■の「
エソフアツト○／２０」〕、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン〔たとえばライオンアクゾ■の「エソミンＣ／
２５」〕、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸ェステ
ル〔たとえば花王アトラス■の「トウイーン４０」〕、
ポリオキシエチレン２，４，７，９−テトラメチル−５
ーデシンー４，７ージオール〔たとえば日進化学工業■
の「サーフイノール４８５」〕、ポリオキシエチレンア
ミド〔たとえばライオンアクゾ■の「ヱソマイド○／１
５」〕、ポリオキシエチレンポリオキシフ。ロピレンェ
チレンジアミン〔たとえば旭電化工業■の「テトロニツ
ク７０４」〕などである。これらの化合物を添加するこ
とにより、前記塩化アンモン格からのめつきの析出は微
細化し、光沢及び均一電着性が著しく改良される。
この化合物は、通常０．１ｇノク以下の添加量では十分
な効果は期待できない。また、これを大過剰に添加して
も問題はないが、２００ｇ／そ以上添加するのは経済的
に無益である。以上のようなめつき格を用いて得られる
めつきは、完全な鏡面光沢とはならないが、従来のＺｎ
−Ｎｉ合金めつきに比べるとはるかに微結晶性の均一な
外観を示し、鏡面光沢を必要としない場合には十分使用
できる。
な効果は期待できない。また、これを大過剰に添加して
も問題はないが、２００ｇ／そ以上添加するのは経済的
に無益である。以上のようなめつき格を用いて得られる
めつきは、完全な鏡面光沢とはならないが、従来のＺｎ
−Ｎｉ合金めつきに比べるとはるかに微結晶性の均一な
外観を示し、鏡面光沢を必要としない場合には十分使用
できる。
そしてこのめつき液にいわゆる２次光沢剤的な作用を有
する化合物を添加しておくと、上記微結晶性のＺｎ−Ｎ
ｉ合金めつきは一層繊密化し、美麗な鏡面光沢を示すも
のとなる。
する化合物を添加しておくと、上記微結晶性のＺｎ−Ｎ
ｉ合金めつきは一層繊密化し、美麗な鏡面光沢を示すも
のとなる。
上記界面活性剤を含有する本発明のめつき液に添加する
２次光沢剤として特に優れているのは、アリールアルデ
ヒド（たとえばｏ−クロロベンスアルデヒド）、アリー
ルケトン（たとえばペンジルメチルケトン、フエニルエ
チルケトン）、アリールオレフインアルデヒド（たとえ
ばシンナムアルデヒド）、アリールオレフインケトン（
たとえばペンザルアセトン）等の、アリール基を有する
アルデヒドまたはケトンである。
２次光沢剤として特に優れているのは、アリールアルデ
ヒド（たとえばｏ−クロロベンスアルデヒド）、アリー
ルケトン（たとえばペンジルメチルケトン、フエニルエ
チルケトン）、アリールオレフインアルデヒド（たとえ
ばシンナムアルデヒド）、アリールオレフインケトン（
たとえばペンザルアセトン）等の、アリール基を有する
アルデヒドまたはケトンである。
これらの２次光沢剤の添加量は０．０１〜滋／夕が適当
である。後／そ以上は溶解いこくいばかりでなく、低電
流部にスキップ現象（めつき禾析出）があらわれること
がある。この本発明によるめつき液を用いためつき方法
としては、通常のＺｎめつきあるいはＮｉめつきと同様
、ラック及びバレルによる方法が可能である。
である。後／そ以上は溶解いこくいばかりでなく、低電
流部にスキップ現象（めつき禾析出）があらわれること
がある。この本発明によるめつき液を用いためつき方法
としては、通常のＺｎめつきあるいはＮｉめつきと同様
、ラック及びバレルによる方法が可能である。
また、望ましいめつき作業条件は次に示すとおりである
。陰極電流密度：１〜鉛ノｄめ 陽極電流密度：１〜船ノｄの 浴 室：３０〜４０こ０ 陽極：Ｚｎ及びＮｉを約９：１で用い、浴中のＺｎ２十
及びＮｉ２十の濃度を維持する（Ｚｎ陽極のみを用い、
減少する裕中のＮｉ２十に対しては塩化ニッケル及び塩
化ニッケ ルを補充することも可能である。
。陰極電流密度：１〜鉛ノｄめ 陽極電流密度：１〜船ノｄの 浴 室：３０〜４０こ０ 陽極：Ｚｎ及びＮｉを約９：１で用い、浴中のＺｎ２十
及びＮｉ２十の濃度を維持する（Ｚｎ陽極のみを用い、
減少する裕中のＮｉ２十に対しては塩化ニッケル及び塩
化ニッケ ルを補充することも可能である。
）。格のｐＨ調整：塩酸またはアンモニア水を用いて行
う。
う。
次に本発明の実施例について述べる。以下の例はすべて
２６７の【ハルセルを用いてめつきを行ったものである
。めつき条件は次のとおりである。電流：２Ａ め
つき時間：５分格温：３５ｏ０ 陽極：Ｚｎ 陰極：ブライト鋼板 実施例 １ 浴組成±ＺｎＣ１２ １０腿／そ、ＮｉＣ１２・紐２０
１２雌ノ〆、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇ／〆、サーフイノール
４８５礎ノそｐＨ５．５ハルセル試験の結果、半光沢で
均一な外観が得られた。
２６７の【ハルセルを用いてめつきを行ったものである
。めつき条件は次のとおりである。電流：２Ａ め
つき時間：５分格温：３５ｏ０ 陽極：Ｚｎ 陰極：ブライト鋼板 実施例 １ 浴組成±ＺｎＣ１２ １０腿／そ、ＮｉＣ１２・紐２０
１２雌ノ〆、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇ／〆、サーフイノール
４８５礎ノそｐＨ５．５ハルセル試験の結果、半光沢で
均一な外観が得られた。
また均一電着性を調べるためハルセルの膜厚分布を測定
したが、その結果は第１図に示すとおりである。比較例
１ 格組成：ＺｎＣ１２ １００ｇ／そ、ＮｊＣ１２・ＳＬ
Ｏ１２０ｇノク、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇノそ、ＰＨ５．５
ハルセル試験の結果、高電流部から中電流部にかけては
灰色無光沢めつきとなり、低電流部は黒色の析出となっ
た。
したが、その結果は第１図に示すとおりである。比較例
１ 格組成：ＺｎＣ１２ １００ｇ／そ、ＮｊＣ１２・ＳＬ
Ｏ１２０ｇノク、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇノそ、ＰＨ５．５
ハルセル試験の結果、高電流部から中電流部にかけては
灰色無光沢めつきとなり、低電流部は黒色の析出となっ
た。
また、実施例１の場合と同様にめつき膜厚分布を測定し
たが、結果は第１図に示すとおりである。
たが、結果は第１図に示すとおりである。
これにより、サーフィノール４８５の添加はＺｎ−Ｎｉ
合金めつきの光沢と均一電着性の改善に効果があること
が確認された。
合金めつきの光沢と均一電着性の改善に効果があること
が確認された。
実施例 ２
裕組成：ＺｎＣ１２ １を／夕、ＮｊＣ１２・細２０
１６ｇ／そ、ＮＨ４ＣＩ２５０ｇ／夕、サーフイノ−ル
４８５舷／夕、ベンザルアセトン ０．０頭ノそ、ｐＨ
６．８ハルセル試験の結果、高電流部にわずかにクラッ
クが生じたものの、中電流部から低電流部は鏡面光沢の
良好なめつきが得られた。
１６ｇ／そ、ＮＨ４ＣＩ２５０ｇ／夕、サーフイノ−ル
４８５舷／夕、ベンザルアセトン ０．０頭ノそ、ｐＨ
６．８ハルセル試験の結果、高電流部にわずかにクラッ
クが生じたものの、中電流部から低電流部は鏡面光沢の
良好なめつきが得られた。
実施例 ３
格組成：ＺｎＣ１２２０ｇノそ、ＮｉＣ１２・母ＬＯ１
５咳／そ、ＮＡＣＩＩ舷／夕、ＫＣ１ ８雌ノク、リボ
ノックスＮＣＴ被／そ、ベンザルアセトン ０．０唆／
そ、ｐＨ５．０ハルセル試験の結果、高麗流部にわずか
なクラツクを生じたが、他の部分は鏡面光沢のめつきが
得られた。
５咳／そ、ＮＡＣＩＩ舷／夕、ＫＣ１ ８雌ノク、リボ
ノックスＮＣＴ被／そ、ベンザルアセトン ０．０唆／
そ、ｐＨ５．０ハルセル試験の結果、高麗流部にわずか
なクラツクを生じたが、他の部分は鏡面光沢のめつきが
得られた。
実施例 ４
浴組成：ＺｎＣ１２８雌ノ夕、ＮｊＣ１２・母ＬＯ １
２雌／そ、ＮＨＣＩ １８雌／夕、プルロニツクＬ６４
１ｇ／〆、シンナムアルデヒド ０．０蟹ノそ、ｐＨ５
．５ハルセル試験の結果、わずかに曇りを生じているも
のの、鏡面に近いめつきが得られた。
２雌／そ、ＮＨＣＩ １８雌／夕、プルロニツクＬ６４
１ｇ／〆、シンナムアルデヒド ０．０蟹ノそ、ｐＨ５
．５ハルセル試験の結果、わずかに曇りを生じているも
のの、鏡面に近いめつきが得られた。
実施例 ５
浴組成：ＺｎＣ１２７雌ノク、ＮｉＣ１２・母Ｌ０２４
雌／そ、ＮＨ４ＣＩ ６雌／そ、ェソミンＣ／２５１ｇ
／そ、ｏ−クロロベンズアルデヒド ０．０２ｇ／そ、
ｐＨ５．３ハルセル試験の結果、わずかに曇りを生じて
いるものの、鏡面光沢に近いめつきが得られた。
雌／そ、ＮＨ４ＣＩ ６雌／そ、ェソミンＣ／２５１ｇ
／そ、ｏ−クロロベンズアルデヒド ０．０２ｇ／そ、
ｐＨ５．３ハルセル試験の結果、わずかに曇りを生じて
いるものの、鏡面光沢に近いめつきが得られた。
実施例 ６裕組成：ＺｎＣ１２２雌／そ、ＮｉＣ１２・
細２０ ２処／〆、Ｎ比ＣＩ２５０ｇ／夕、ェソマィド
○／１５を／〆、フエニルエチルケトン ０．１ｇノ
夕、ｐＨ６．８ハルセル試験の結果、高電流部にわずか
なクラックを生じたものの、鏡面光沢に近いめつきが得
られた。
細２０ ２処／〆、Ｎ比ＣＩ２５０ｇ／夕、ェソマィド
○／１５を／〆、フエニルエチルケトン ０．１ｇノ
夕、ｐＨ６．８ハルセル試験の結果、高電流部にわずか
なクラックを生じたものの、鏡面光沢に近いめつきが得
られた。
また、中電流部におけるめつき皮膜中のＮｉ含有量を分
析したところ、７．３％であった。
析したところ、７．３％であった。
実施例 ７裕組成：ＺｎＣ１２ １２０ｇ／そ、ＮｉＣ
１２・細２０１２雌ノ夕、ＮＨ４ＣＩ２４雌／〆、サー
フイノール４８５１０ｇノ〆、ベンザルアセトン ０．
斑／夕、ｐＨ５．６ハルセル試験の結果、全面鏡面光沢
めつきが得られた。
１２・細２０１２雌ノ夕、ＮＨ４ＣＩ２４雌／〆、サー
フイノール４８５１０ｇノ〆、ベンザルアセトン ０．
斑／夕、ｐＨ５．６ハルセル試験の結果、全面鏡面光沢
めつきが得られた。
また、ハルセル板の高電流側から２肌、５肌、８弧の部
分におけるめつき皮膜中のＮｉ含有量を分析した結果、
それぞれ７．６％、７．９％、１０．７％であった。
分におけるめつき皮膜中のＮｉ含有量を分析した結果、
それぞれ７．６％、７．９％、１０．７％であった。
また、実施例１の場合と同様にハルセルのめつき膜厚分
布を測定したが、その結果は第１図に示すとおりである
。またさらに、本発明によるＺｎ−Ｎｉ合金めつきの耐
食性を調べるため、このめつき液により鋼板にほぼ均一
に約３仏ｍめつきを行ったものと、これと同機に、光沢
Ｎｉめつき及び光沢塩イゼｎめつきしたものとを塩水噂
霧試験した。この結果、Ｎｉめつき、Ｚｎめつき、赤さ
び発生時間はそれぞれ８時間、４鞘時間であったのに対
し、Ｚｎ−Ｎｉめつきは１６畑時間と４〜２Ｍ音の耐食
性を示した。実施例 ８ 裕組成：ＺｎＣｌ２ １００ｇ／そ、ＮｉＣ１２１曲２
０１４０ｇ／〆、ＮＨ４ＣＩ ２０雌／で、ェソフアツ
ト○／２０蟹／夕、ベンザルアセトン ０．０５ｇ／ぞ
、ＰＨ５．５ハルセル試験の結果、全面鏡面光沢めつき
が得られた。
布を測定したが、その結果は第１図に示すとおりである
。またさらに、本発明によるＺｎ−Ｎｉ合金めつきの耐
食性を調べるため、このめつき液により鋼板にほぼ均一
に約３仏ｍめつきを行ったものと、これと同機に、光沢
Ｎｉめつき及び光沢塩イゼｎめつきしたものとを塩水噂
霧試験した。この結果、Ｎｉめつき、Ｚｎめつき、赤さ
び発生時間はそれぞれ８時間、４鞘時間であったのに対
し、Ｚｎ−Ｎｉめつきは１６畑時間と４〜２Ｍ音の耐食
性を示した。実施例 ８ 裕組成：ＺｎＣｌ２ １００ｇ／そ、ＮｉＣ１２１曲２
０１４０ｇ／〆、ＮＨ４ＣＩ ２０雌／で、ェソフアツ
ト○／２０蟹／夕、ベンザルアセトン ０．０５ｇ／ぞ
、ＰＨ５．５ハルセル試験の結果、全面鏡面光沢めつき
が得られた。
実施例 ９裕組成：ＺｎＣ１２ １００ｇ／そ、ＮｊＣ
１２・母ＬＯ１５雌／夕、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇ／そ、界
面活性剤 ５ｇ／夕、ベンザルアセトン １．０ｇノク
、ｐＨ５．５（界面活性剤としてはリポノックスＯＣＳ
、トウィーン４０又はテトロニツク７０４を用いた。
１２・母ＬＯ１５雌／夕、ＮＨ４ＣＩ２４０ｇ／そ、界
面活性剤 ５ｇ／夕、ベンザルアセトン １．０ｇノク
、ｐＨ５．５（界面活性剤としてはリポノックスＯＣＳ
、トウィーン４０又はテトロニツク７０４を用いた。
）ハルセル試験の結果、いずれの場合も全面鏡面光沢め
つきが得られた。
つきが得られた。
このように、本発明は非常に優れた耐食性を有するＺｎ
−Ｎ量合金めつきに優れた光沢と均一電着性を与えるこ
とに成功したもので、これによりＺｎ−Ｎｉ合金めつき
が一般のめつきにも適用できるようになり、工業上大き
な意義をもつものである。
−Ｎ量合金めつきに優れた光沢と均一電着性を与えるこ
とに成功したもので、これによりＺｎ−Ｎｉ合金めつき
が一般のめつきにも適用できるようになり、工業上大き
な意義をもつものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は実施例１、実施例７及び比較例１によるめつき
の膜厚分布を測定した結果を示すグラフである。 才１図
の膜厚分布を測定した結果を示すグラフである。 才１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 塩化亜鉛、塩化ニツケル及び塩化アンモニウムをＺ
ｎ＾２＾＋として１０〜９０ｇ／ｌ、Ｎｉ＾２＾＋を５
〜６０ｇ／ｌ、ＮＨ＿４＾＋として５〜１２０ｇ／ｌの
範囲で、但しＺｎ＾２＾＋／Ｎｉ＾２＾＋（重量比）が
２．５以下であるごとく含有し、さらにポリオキシアル
キレン鎖を有する界面活性剤を含有することを特徴とす
る亜鉛−ニツケル合金電気めつき液。 ２ ポリオキシアルキレン鎖を有する界面活性剤がポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンポリオ
キシプロピレンエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レン２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，
７−ジオール、ポリオキシエチレンアルキルアミドまた
はポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエチレンジ
アミンである特許請求の範囲第１項記載のめつき液。 ３ ｐＨが４．７〜８．０である特許請求の範囲第１項
記載のめつき液。 ４ 塩化亜鉛、塩化ニツケル及び塩化アンモニウムをＺ
ｎ＾２＾＋として１０〜９０ｇ／ｌ、Ｎｉ＾２＾＋とし
て５〜６０ｇ／ｌ、ＮＨ＿４＾＋として５〜１２０ｇ／
ｌの範囲で、だしＺｎ＾２＾＋／Ｎｉ＾２＾＋（重量比
）が２．５以下であるごとく含有し、さらにポリオキシ
アルキレン鎖を有する界面活性剤及び２次光沢剤として
アリールアルデヒド、アリールケトン、アリールオレフ
インアルデヒドまたはアリールオレフインケトンを含有
することを特徴とする亜鉛−ニツケル合金電気めつき液
。 ５ ２次光沢剤がベンザルアセトン、シンナムアルデヒ
ド、ｏ−クロロベンズアルデヒドまたはフエニルエチル
ケトンである特許請求の範囲第４項記載のめつき液。 ６ ｐＨが４．７〜８．０である特許請求の範囲第４項
記載のめつき液。
Priority Applications (13)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56130341A JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
| AU87056/82A AU534369B2 (en) | 1981-08-21 | 1982-08-11 | Electrodeposition of zinc-nickel alloys |
| NLAANVRAGE8203266,A NL184070C (nl) | 1981-08-21 | 1982-08-19 | Waterig bad voor elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen; alsmede voortbrengselen met een dergelijke afzetting. |
| ES515149A ES8308366A1 (es) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | "un procedimiento para obtener depositos electroliticos brillantes y uniformes de aleacion de zinc-niquel". |
| MX194081A MX158623A (es) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composicion acuosa mejorada para la electrodeposicion de depositos de aleacion de zinc y niquel |
| IN970/CAL/82A IN157700B (ja) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | |
| CA000409819A CA1210732A (en) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composition and process for the electrodeposition of zinc-nickel alloy deposits |
| KR8203747A KR880001584B1 (ko) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | 아연-니켈합금 전착용 수용성 조성물 |
| FR8214424A FR2511707A1 (fr) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composition et procede pour l'electrodeposition de depots d'alliages zinc-nickel |
| IT68027/82A IT1156492B (it) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composizione acquosa per l elettro deposizione di leghe di zinco e nichel e procedimento di elettrode posizione utilizzante tale composizione |
| BR8204892A BR8204892A (pt) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composicao aquosa para a eletroposicao de ligas de zinco-niquel e processo para produzir eletrodepositos de ligas de zinco-niquel uniformes e brilhantes |
| DE3231054A DE3231054A1 (de) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Waessriges elektrolytbad zur kathodischen abscheidung von zink-nickel-legierungen und seine verwendung |
| GB08224176A GB2104920B (en) | 1981-08-21 | 1982-08-23 | Electrodeposition of zinc-nickel alloy deposits |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56130341A JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5834189A JPS5834189A (ja) | 1983-02-28 |
| JPS6012434B2 true JPS6012434B2 (ja) | 1985-04-01 |
Family
ID=15032062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56130341A Expired JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6012434B2 (ja) |
| KR (1) | KR880001584B1 (ja) |
| AU (1) | AU534369B2 (ja) |
| BR (1) | BR8204892A (ja) |
| CA (1) | CA1210732A (ja) |
| DE (1) | DE3231054A1 (ja) |
| ES (1) | ES8308366A1 (ja) |
| FR (1) | FR2511707A1 (ja) |
| GB (1) | GB2104920B (ja) |
| IN (1) | IN157700B (ja) |
| IT (1) | IT1156492B (ja) |
| MX (1) | MX158623A (ja) |
| NL (1) | NL184070C (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622776U (ja) * | 1985-06-21 | 1987-01-09 | ||
| JPS6236178U (ja) * | 1985-08-21 | 1987-03-03 | ||
| JPS62113272U (ja) * | 1985-12-31 | 1987-07-18 | ||
| CN103451693A (zh) * | 2013-07-29 | 2013-12-18 | 山东建筑大学 | 一种镍含量稳定的碱性锌镍合金脉冲电镀方法 |
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|---|---|---|---|---|
| EP0144711B1 (en) * | 1983-11-01 | 1987-08-12 | Nippon Steel Corporation | Process for electroplating a metallic material with an iron-zinc alloy |
| JPS60228693A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-13 | Kawasaki Steel Corp | Ｚｎ−Ｎｉ合金めつき鋼板の製造方法 |
| JPS61110794A (ja) * | 1984-11-06 | 1986-05-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 銅箔の表面処理方法 |
| US4666791A (en) * | 1985-12-06 | 1987-05-19 | Bethlehem Steel Corporation Of Delaware | Ni-Zn electroplated product resistant to paint delamination |
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| KR100417931B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-30 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
| KR100417930B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-31 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
| KR100368221B1 (ko) * | 1998-09-01 | 2003-04-21 | 주식회사 포스코 | 염화물욕가용성양극을사용한아연-니켈합금전기도금용액및이용액을이용한아연-니켈합금전기도금강판의제조방법 |
| KR20020010046A (ko) * | 2000-07-28 | 2002-02-02 | 이구택 | 아연-니켈 도금강판의 오염 방지제 |
| US7442286B2 (en) | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
| CN105002532A (zh) * | 2015-08-21 | 2015-10-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种低泡型弱酸性氯化物锌镍合金电镀液 |
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| DE1521029C3 (de) * | 1966-05-28 | 1984-01-19 | Dr.-Ing. Max Schlötter GmbH & Co KG, 7340 Geislingen | Saures galvanisches Glanzzinkbad |
| US3558442A (en) * | 1969-01-31 | 1971-01-26 | Wheeling Pittsburgh Steel Corp | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
| JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
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-
1981
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-
1982
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- 1982-08-19 NL NLAANVRAGE8203266,A patent/NL184070C/xx not_active IP Right Cessation
- 1982-08-20 IN IN970/CAL/82A patent/IN157700B/en unknown
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- 1982-08-20 MX MX194081A patent/MX158623A/es unknown
- 1982-08-20 CA CA000409819A patent/CA1210732A/en not_active Expired
- 1982-08-20 DE DE3231054A patent/DE3231054A1/de active Granted
- 1982-08-20 BR BR8204892A patent/BR8204892A/pt unknown
- 1982-08-20 FR FR8214424A patent/FR2511707A1/fr active Granted
- 1982-08-20 KR KR8203747A patent/KR880001584B1/ko active
- 1982-08-20 IT IT68027/82A patent/IT1156492B/it active
- 1982-08-23 GB GB08224176A patent/GB2104920B/en not_active Expired
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| DE3231054C2 (ja) | 1989-04-27 |
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