DE304857C - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE291994T | 1913-10-16 | ||
| DE304857T | 1916-05-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE304857C true DE304857C (OSRAM) | 1918-04-08 |
Family
ID=32043836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1916304857D Expired DE304857C (OSRAM) | 1913-10-16 | 1916-05-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE304857C (OSRAM) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE752280C (de) * | 1941-03-18 | 1953-05-26 | Gustav Weissenberg | Verfahren zur Darstellung von reinstem Silicium |
| DE1061593B (de) * | 1956-06-25 | 1959-07-16 | Siemens Ag | Vorrichtung zur Gewinnung reinsten Halbleitermaterials fuer elektrotechnische Zwecke |
| DE1102117B (de) * | 1954-05-18 | 1961-03-16 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen von reinstem Silicium |
| DE1140549B (de) * | 1954-05-18 | 1962-12-06 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen von reinstem kristallinem Germanium, Verbindungen von Elementen der ó¾. und ó§.oder ó�. und ó÷. Gruppe des Periodischen Systems und von oxydischem Halbleitermaterial |
| DE1180353B (de) * | 1956-11-05 | 1964-10-29 | Plessey Co Ltd | Verfahren zum Herstellen kristallinen Siliciums hoechster Reinheit |
| DE1221611B (de) * | 1954-06-24 | 1966-07-28 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von kuenstlichen Edelsteinen oder Halbedelsteinen oder von zur spanabhebenden Bearbeitung geeigneten Hartstoffen |
| DE1262472B (de) * | 1956-07-12 | 1968-03-07 | Siemens Ag | Verfahren zur Waermebehandlung von hochreinem Halbleitermaterial durch in dem Halbleiter fliessenden Strom |
-
1916
- 1916-05-28 DE DE1916304857D patent/DE304857C/de not_active Expired
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE752280C (de) * | 1941-03-18 | 1953-05-26 | Gustav Weissenberg | Verfahren zur Darstellung von reinstem Silicium |
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| DE1140549B (de) * | 1954-05-18 | 1962-12-06 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen von reinstem kristallinem Germanium, Verbindungen von Elementen der ó¾. und ó§.oder ó�. und ó÷. Gruppe des Periodischen Systems und von oxydischem Halbleitermaterial |
| DE1221611B (de) * | 1954-06-24 | 1966-07-28 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von kuenstlichen Edelsteinen oder Halbedelsteinen oder von zur spanabhebenden Bearbeitung geeigneten Hartstoffen |
| DE1061593B (de) * | 1956-06-25 | 1959-07-16 | Siemens Ag | Vorrichtung zur Gewinnung reinsten Halbleitermaterials fuer elektrotechnische Zwecke |
| DE1262472B (de) * | 1956-07-12 | 1968-03-07 | Siemens Ag | Verfahren zur Waermebehandlung von hochreinem Halbleitermaterial durch in dem Halbleiter fliessenden Strom |
| DE1180353B (de) * | 1956-11-05 | 1964-10-29 | Plessey Co Ltd | Verfahren zum Herstellen kristallinen Siliciums hoechster Reinheit |
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