DE304857C - - Google Patents
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- DE304857C DE304857C DE1916304857D DE304857DD DE304857C DE 304857 C DE304857 C DE 304857C DE 1916304857 D DE1916304857 D DE 1916304857D DE 304857D D DE304857D D DE 304857DD DE 304857 C DE304857 C DE 304857C
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- H01C—RESISTORS
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- C01B35/02—Boron; Borides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B4/00—Electrothermal treatment of ores or metallurgical products for obtaining metals or alloys
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B1/00—Single-crystal growth directly from the solid state
- C30B1/02—Single-crystal growth directly from the solid state by thermal treatment, e.g. strain annealing
- C30B1/06—Recrystallisation under a temperature gradient
- C30B1/08—Zone recrystallisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/08—Reaction chambers; Selection of materials therefor
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/02104—Forming layers
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- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
Description
KAISERLICHES
PATENTAMT.
Das Patent 291994, Kl. 21, schützt ein Verfahren
zur Herstellung von Metalldrähten, -fäden oder -bändern, die aus einem ihren
Gesamtquerschnitt und ihre Gebrauchslänge ausfüllenden Kristall bestehen. Das Verfahren
besteht darin, daß das Rohmaterial im pulverförmigen Zustand in die gewünschte Form
gebracht wird, worauf durch äußere Beeinflussung des pulverförmigen Materials an einer
Stelle die Kristallisation eingeleitet und dann in der Weise weitergeführt wird, daß ein
Kristallkeim veranlaßt wird, so weiter zu wachsen, daß er schließlich den ganzen Draht,
Faden oder das Band ausfüllt. Als besonderer Fall der Ausführung ist in der Patentschrift
291994 die Herstellung eines Drahtes beschrieben, der aus einer festen Lösung von
Thoroxyd in Wolfram besteht. Diese feste Lösung hat das Bestreben, in langen Kristallsäulen
anzuschießen, und ist wegen dieser und anderer hervorragender Eigenschaften ein äußerst wertvolles Material für die Herstellung
von Leuchtdrähten für die Glühlampenfabrikation. Die Herstellung eines solchen Drahtes ist in der Patentschrift eingehend
beschrieben. Es möge hier nur als wesentlichster Punkt bei diesem Verfahren folgendes
~: erwähnt werden.
Die Umbildung des amorphen Materials in das kristallisierte findet nicht in der Weise
statt, daß das amorphe Material geschmolzen 'wird und beim Erstarren in den kristallisierten
Zustand übergeht, sondern die Temperatur bleibt unter der Schmelztemperatur, doch wird sie der Schmelztemperatur so weit
genähert, daß eine gewisse Beweglichkeit der Moleküle erreicht wird. Es hat dies zur
Folge, daß der Faden nicht mit beliebiger Geschwindigkeit durch die heiße Zone geführt
werden kann, sondern dieselbe ist abhängig von der Geschwindigkeit, mit der sich die
Moleküle umzulagern vermögen, d. h. mit der Geschwindigkeit, mit der der Kristall weiter
zu wachsen vermag. Es ist zweckmäßig, um die Bildung neuer Kristallkeime zu verhindem,
die Durchzugsgeschwindigkeit etwas geringer zu wählen als die Fortwachsgeschwindigkeit
des Kristalls, so daß der Kristall dem pulverförmigen Material entgegeneilt und dadurch
die Bildung neuer schädlicher Metallkeime verhindert.
Die Erfinderin hat bereits zur Zeit der Anmeldung des Hauptpatentes den Gedanken
verfolgt, das Verfahren auch auf nicht metallische Körper zu übertragen, und hat später
mit den durch das Verfahren des Hauptpatentes gesammelten Erfahrungen die Versuche
auf Nichtmetalle mit gleich günstigem Erfolg ausgedehnt. Es hat sich gezeigt, daß
es in manchen Fällen vorteilhaft ist, genau nach dem Verfahren des Hauptpatentes zu
arbeiten, indem man fein verteilte Substanzen vorgeformt in die Heizquelle einbringt und
durchzieht, wobei die vorgeformten Körper
aus dem endgültigen Material bestehen und durch das Verfahren nur in die einheitlich
kristallisierte Form übergeführt werden. Der vorgeformte Körper kann aber auch aus einem
Material bestehen, das erst bei der hohen Temperatur mit oder ohne Einwirkung der
Gase, in denen die Glühung vor sich geht, das gewünschte Material abscheidet. Man
geht z. B. von einem Element aus, das bei
ίο dem Verfahren unter Reaktion mit dem Gase
in eine bestimmte Verbindung übergeht, oder man geht von einer Verbindung aus, die mit
dem Gas bestimmte Reaktionen eingeht, oder die Gase bleiben vollständig indifferent, und
der gewünschte Körper wird durch Zersetzung eines zusammengesetzten Körpers gebildet.
Auch kann das Verfahren in der Weise ausgeführt werden, daß die zur Weiterbildung
des Endproduktes notwendige Substanz nicht aus einem vorgeformten Material entnommen
wird, sondern daß das Material aus dem Gase abgeschieden wird und so zum Vergrößern
des Kristalls dient. Bei diesem Verfahren wird ein Kristall im allgemeinen nach allen
Richtungen wachsen. Er kann, wie in der Hauptpatentschrift beschrieben, aber auch
dadurch in einer Richtung beeinflußt werden, daß er aus der Heizzone herausgezogen oder
die Heizquelle an ihm vorbeibewegt wird.
Herstellung kristallisierten Siliciumkarbids aus amorphem.
Amorphes Siliciumkarbid wird mit einem Bindemittel zu einer Paste verarbeitet und
zu dünnen Fäden ausgespritzt. Diese Fäden werden dem Verfahren des Patentes 291994
unterworfen. Da Siliciumkarbid bei 2200° C in Silicium und Graphit zerfällt, ist die Temperatur
der Heizspirale auf ungefähr 2100° C zu halten.
Herstellung von Siliciumkarbid aus Silicium und Kohle.
Äußerst feines amorphes Silicium wird mit reinem Kohlenstoff und einem kohlenstoffhaltigen
Mittel innig gemischt und zu einer Paste verarbeitet. Die Kohlenstoffmenge ist unter Berücksichtigung des aus dem Bindemittel
durch Verkohlen entstehenden Kohlenstoffes so zu bemessen, daß sie den stöchiometrischen
Verhältnissen der gewünschten Verbindung entspricht. Aus der Paste werden Fäden 0. dgl. geformt und nach Patent
291994 unter entsprechender Anpassung der Versuchsbedingungen in Kristall übergeführt.
Das Verfahren kann auch in der Weise abgeändert werden, daß an Stelle des Siliciums
Siliciumdioxyd verwendet wird. Die hinzuzufügende Kohlenstoffmenge ist dann dementsprechend
höher zu bemessen, so daß ein Teil derselben zur Reduktion des Dioxydes zu Silicium verfügbar ist. Das den Vorgang
umgebende Gas kann dabei entweder nur mechanisch dazu dienen, die gasförmigen Reaktionsprodukte
zu entfernen, oder es kann auch chemisch an der Reaktion teilnehmen, indem es, je nach dem ob es kohlend oder
entkohlend wirken soll, geringe Mengen von kohlenstoff- oder sauerstoffhaltigen Gasen enthält.
Diese Gasreaktion wird zweckentsprechend dann benutzt, wenn die in dem Rohfaden vorhandenen Stoffe nicht ganz genau
den stöchiometrischen Verhältnissen entsprechen.
Herstellung kristallisierten Siliciums aus Siliciumwasserstoffen.
Ein kleiner Kristall aus Silicium wird in eine Heizspirale gebracht und auf Weißglut
erhitzt. Durch eine feine Düse bläst man dann auf den Kristall Siliciumwasserstoffe,
die zweckmäßig durch Wasserstoff verdünnt werden können. Die Siliciumwasserstoffe zerfallen
bei hoher Temperatur leicht in ihre Komponenten, und das sich abscheidende Silicium lagert sich auf dem glühenden Kristall
ab. Bei der hohen Temperatur und wegen der Anwesenheit des bereits kristallisierten
Siliciums ist diese Abscheidung nicht amorph, sondern die einzelnen Siliciumpartikelchen
scheiden sich in kristallisierter Form ab. Der Kristall übt dabei einen richtenden
Einfluß auf dieses Material aus, es dient zur Vergrößerung des Kristalls. Da es in den
meisten Fällen nicht rnöglich ist, die Reaktion so zu leiten, daß alles aus den Siliciumwasserstoffen
abgeschiedene Silicium zur Kristallbildung verbraucht wird, sondern da durch den Gasstrom meist etwas Silicium mit fortgeführt
wird, ist die Heizspirale in Gefahr, mit diesem Silicium chemische Reaktionen einzugehen. Falls dadurch ernste Komplikationen
zu befürchten sind, kann die Erhitzung des Kristalls durch Bestrahlung erfolgen,
wobei die strahlende Heizquelle räumlich von dem zu erhitzenden Kristall getrennt
ist.
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung kristallisierter
nicht metallischer Körper, dadurch gekennzeichnet, daß der vorgebildete, noch nicht einheitlich kristallisierte Körper dem
Verfahren nach Patent 291994 unterworfen wird, wodurch ein einheitlicher Kristall
gebildet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der vorgebildete Kör-'
per aus einem Element oder einer Verbindung besteht, die bei dem Verfahren
mit oder ohne Einwirkung des den Körper umgebenden Gases in andere Verbindungen oder Elemente übergeführt wird.
3. Verfahren zur Herstellung kristallisierter Körper, dadurch gekennzeichnet, daß ein Kristallkeim in einem Gas, das
das Material des Kristalls abzuscheiden vermag, erhitzt wird, so daß der Kristallkeim
sich vergrößert, wobei er dadurch, daß seine Lage in bezug auf die Heizquelle verändert wird, in einer gewünschten
Richtung beeinflußt werden kann.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE291994T | 1913-10-16 | ||
DE304857T | 1916-05-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE304857C true DE304857C (de) | 1918-04-08 |
Family
ID=32043836
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1916304857D Expired DE304857C (de) | 1913-10-16 | 1916-05-28 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE304857C (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE752280C (de) * | 1941-03-18 | 1953-05-26 | Gustav Weissenberg | Verfahren zur Darstellung von reinstem Silicium |
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-
1916
- 1916-05-28 DE DE1916304857D patent/DE304857C/de not_active Expired
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