DE2635397C3 - Stromlos arbeitende Verkupferungsbäder - Google Patents

Stromlos arbeitende Verkupferungsbäder

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DE2635397C3
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electroless copper
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Johannes Maria Eindhoven Jans (Niederlande)
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Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents
    • C23C18/405Formaldehyde

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Description

Die Erfindung bezieht sich auf stromlos arbeitende wässerige Verkupferungsbäder und betrifft insbesondere einen Zusatz zur Stabilisierung dieser Bäder.
Stromlos arbeitende Verkupferungsbäder enthalten in der Regel Formaldehyd oder eine Formaldehyd liefernde Verbindung als Reduktionsmittel, Kupferionen und eine oder mehrere Verbindungen, die mit Cupriionen einen Komplex bilden. Die Reduktion von Kupferionen zu Metall kann mit diesen Mitteln nur in einem alkalischen Milieu, vorzugsweise in einem PH-Bereich zwischen 12 und 13, erfolgen.
Aus der US-PS 30 95 309 ist ein derartiges alkalisches Bad bekannt, mit dem duktiles Kupfer auf Metallkeimschichten abgeschieden werden kann, die sowohl auf chemischen als auch auf photographischem Wege erhalten worden sein können und die katalytisch auf die Kupferabscheidung einwirken. Dieses Verkupferungsbad enthält ein anorganisches Cyanid und/oder ein organisches Nitril als Komplexbildner.
Aus der britischen Patentschrift 13 30 332 ist ein Verkupferungsbad bekannt, das als wesentliche Bestandteile ein lösliches Kupfersalz, einen oder mehrere Komplexbildner, Formaldehyd und eine Polyoxyalkylenverbindung enthält.
Die Stabilität stromlos arbeitender Verkupferungslösungen ist immer ein heikler Punkt gewesen. Um eine Verbesserung in dieser Hinsicht zu erreichen, wurden verschiedene Maßnahmen versucht, wie Filtrieren, Zusatz einer großen Menge an Methanol, Hindurchleiten von Sauerstoff und Komplexbildung vom Cupriionen. Letztere Maßnahme besteht nach der genannten US-PS 30 95 309 in einem Zusatz von Cyanid.
In der offengelegten niederländischen Patentanmeldung 73 00 599 wird vorgeschlagen, den Verkupferungslösungen Verbindungen vom Thionophosphattyp zuzusetzen. Als Substituent kann u. a. eine Nitrogruppe vorhanden sein, wie z. B. in der Verbindung Diäthyl-p-nitrophenylthionophosphat, die unter den Trivialnamen »Parathion« bekannt ist. Dieser Typ von Verbindungen ist im allgemeinen besonders giftig, was für industrielle Anwendungen sehr bedenklich ist. Giftigkeit ist übrigens auch der Nachteil der vorgenannten cyanidhaltigen Bäder.
Nun wurde gefunden, daß einfache aromatische
Nitroverbindtsngen zur Stabilisierung stromlos arbeitender Verkupferungslösungen mit Formaldehyd als Reduktionsmittel besonders wirkungsvoll sind. Außerdem tritt eine erhebliche Verbesserung der Selektivität der Muster bei Verstärkung mit diesem Bad im Vergleich zu einem Bad ohne diese Nitroverbindungen auf.
Nach.der Erfindung ist ein wässeriges alkalisches Verkupferungsbad, das Cupriionen, eine Verbindung,
ίο die mit Cupriionen Komplexe bildet. Alkali zur Einstellung des pH-Wertes und Formaldehyd oder eine Formaldehyd liefernde Verbindung enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es außerdem einen Zusatz enthält, der aus einer substituierten aromatischen Nitroverbindung mit mindestens einem Substituenten besteht, gewählt aus Aldehyd, Alkyl, Nitro, Sulfonsäure,
Hydroxyalkyl, Hydroxyketoalkyl-(CO - CH2O4) und
Amino.
Es ist vorteilhaft wenn das erfindungsgemäße
Verkupferungsbad außerdem mindestens eine polyalkylenoxidische Verbindung enthält, wie übrigens an sich aus der britischen Patentschrift 13 30 332 bekannt ist
An Hand der nachstehenden Beispiele wird die Erfindung nunmehr näher erläutert Verschiedene aromatische Nitroverbindungen wurden den Bädern der folgenden zwei Zusammensetzungen zugesetzt:
I 7,5 g/l CuSO4-SH2O
85 g/l Kaliumnatriumtartrat (Seignettesalz)
15 g/l Na2CO3
12 g/l NaOH
36 ml/1 Formalin (37gew.-%ige Lösung):
Betriebstemperatur 25° C
7,5 g/l CuSO4 · 5 H2O
21 g/l Tetranatriumsalz von Äthylendiamintetraessigsäure
3 g/l NaOH
7 ml/1 Formalin (37gew.-%ige Lösung)
2 g/l »Triton QS 44«
Betriebstemperatur 700C.
»Triton QS 44« ist ein AlkylphenoxypoJyalkylenphosphatester mit einem Molgewicht von etwa 800 und mit etwa 8 Äthoxygruppen. Dem Bad I wurde 0,1 g/l und dem Bad II wurde 1 g/I eines der folgenden Nitrobenzolderivate und dann 10 ml/1 einer Lösung von 2 g/l PdCl2 zugesetzt In der nachstehenden Übersicht ist die Zeitdauer in Minuten angegeben, nach der die Bäder unstabil wurden.
Zugesetzte Verbindung Bad! Bad Il
Keine 0- 2 0- 2
2-Chlor-4-NitroaniIin 10-15 5-10
55 m-Nitrobenzaldehyd 15-20 15-20
p-Nitrotoluol 20-25 5-10
m-Nitrobenzolsulfonsäure 20-25 5-10
o-Nitrobenzaldehyd 25-30 25-30
1,3-Dinitrobenzol 30-35 25-30
60 p-Nitrobenzaldehyd 60-65 40-45
Keine Verbesserung der Stabilität wurde bei Zusatz von u.a. halogeniertem Nitrobenzol, methoxyüertem Nitrobenzol und unsubstituiertem Nitrobenzol festgestellt. Die Ablagerungsgeschwindigkeiten des Kupfers, d. h. 2 μηι pro Stunde für Bad I und 4 μπι pro Stunde für Bad Il bei der angegebenen Betriebstemperatur, wurden durch den Zusatz nicht beeinflußt.

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Wässeriges alkalisches Verkupferungsbad zur stromlosen Ablagerung von Kupferschichten, welches Bad Cupriionen, eine mit Cuprüonen Komplexe bildende Verbindung, Alkali zur Einstellung des pH-Wertes und Formaldehyd oder eine Formaldehyd liefernde Verbindung enthält, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad außerdem einen Zusatz enthält, der aus einer substituierten aromatischen Nitroverbindung mit mindestens einem der Substituenten Aldehyd, Alkyl, Nitro, Sulfonsäure, Hydroxyalkyl, α-hydroxyketoalkyl und Amino besteht.
2. Verkupferungsbad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es außerdem ein Polyalkylenglykol mit mindestens 4 Alkylenoxid-(Alkoxy-)gruppen enthält.
3. Verwendung des Bades nach den Ansprüchen 1 und 2 zur stromlosen Verkupferung von Gegenständen.
DE2635397A 1975-08-19 1976-08-06 Stromlos arbeitende Verkupferungsbäder Expired DE2635397C3 (de)

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DE2635397B2 DE2635397B2 (de) 1978-03-23
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BE (1) BE845254A (de)
BR (1) BR7605351A (de)
CA (1) CA1067652A (de)
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FR (1) FR2321551A1 (de)
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HK (1) HK42179A (de)
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