DE2347681A1 - Elektrolyt und verfahren zum galvanischen abscheiden von platin - Google Patents

Elektrolyt und verfahren zum galvanischen abscheiden von platin

Info

Publication number
DE2347681A1
DE2347681A1 DE19732347681 DE2347681A DE2347681A1 DE 2347681 A1 DE2347681 A1 DE 2347681A1 DE 19732347681 DE19732347681 DE 19732347681 DE 2347681 A DE2347681 A DE 2347681A DE 2347681 A1 DE2347681 A1 DE 2347681A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
platinum
electrolyte
acid
mixture
electrodeposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19732347681
Other languages
English (en)
Other versions
DE2347681C2 (de
Inventor
Alan Blair
David Roy Mason
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Catalysts UK Holdings Ltd
Original Assignee
Engelhard Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Engelhard Industries Ltd filed Critical Engelhard Industries Ltd
Publication of DE2347681A1 publication Critical patent/DE2347681A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2347681C2 publication Critical patent/DE2347681C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Manufacture Of Switches (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Description

S patentatmSttei
Dr Ing- Walter Abilz
Dr Dieter F. Morf 21. September 1973
Dr" Hans-A. Brauns HLF-13585
ENGELHARD INDUSTRIES LIMITED
St. Nicholas House, St. Nicholas Road, Sutton,
Surrey, England
Elektrolyt und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin
Die vorliegende Erfindung betrifft die galvanische Abscheidung von Platin und bezieht sich auf einen neuartigen Elektrolyten für das Überziehen mit Platin sowie auf ein Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin unter Verwendung des genannten Elektrolyten.
Es wurde empfohlen, für das Überziehen mit Platin einen sauren Elektrolyten auf der Grundlage des Reaktionsproduktes, das man durch Behandeln des sogenannten Platin "P"-Salzes, welches das Diamino dinitrop latin /Pt (NH^2 C^p )p/ darstellt, mit einer Mischung von 'Schwefel- und Orthophosphorsäure erhält, zu verwenden. Um glänzende, dicke, haftende Platinabscheidungen zu erhalten, ist es jedoch erforderlich, diesen Elektrolyten bei einer Temperatur von 75 his 100° 0
- 1 4098U/1124
zu betreiben, was wiederum die Verwendung von Erhitzern in den Galvanisierungstanks notwendig macht, die kostspielig sind und wertvollen Raum in den G alvani sie rung stank s einnehmen, so dass infolgedessen die Verwendung dieses Elektrolyten, vom Standpunkt der Wirtschaftlichkeit aus gesehen, weniger attraktiv ist. Ein weiterer wirtschaftlicher und praktischer Nachteil des Arbeitens in diesem hohen Temperaturbereich ist der, dass durch die Verdampfung des Elektrolyten ein erhöhter Verlust an Wasser eintritt, was ein häufiges Nachfüllen von Wasser erforderlich macht.
Es wurde nun überraschenderweise gefunden, dass es möglich ist, wenn "P"-Salz mit einer Mischung von Phosphorsäuren umgesetzt wird, die vorzugsweise Orthophosphorsäure und Pyrophosphorsäure enthält, einen sauren Elektrolyten zu erhalten, der sogar bei Umgebungstemperaturen oder massig erhöhten Temperaturen vollständig glänzende, dicke, haftende PlatinabScheidungen ergeben kann und infolgedessen sowohl wirtschaftliche als auch praktische Vorteile gegenüber dem zuvor erwähnten, früher empfohlenen, sauren Elektrolyten auf der Grundlage des Eeaktionsproduktes von "P"-Salz mit Schwefel- und Orthophosphorsäure aufweist.
Gemäss einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird somit ein saurer Elektrolyt für die galvanische Abscheidung von glänzenden und verhältnismässig dicken Platinablagerungen bereitgestellt, der eine Lösung enthält, die durch Umsetzen von "P"-Salz mit einer Mischung von zwei oder mehr Phosphorsäuren erhältlich ist.
Gemäss einem anderen Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zum galvanischen Abscheiden von glänzenden und verhältnismässig dicken Platinabla'gerungen bereitgestellt, gemäss dem man eine Platinschicht aus einem erfindungsgemässen, sauren Elektrolyten auf einem Grundmetall oder einer Grundlegierung galvanisch abscheidet.
— 2 —
/»0981 4/1124
HLF-13585
Der erfindungsgemässe, saure Elektrolyt kann durch Umsetzen von 11P"-Salz mit einer Phosphorsäuremischung hergestellt werden, indem "beispielsweise eine Mischung unter Rückfluss gekocht wird, die man dadurch erhält, dass man die Phosphorsäurenmischung zu einer Aufschlämmung von "P"-Salz in Wasser in der Weise gibt, dass man eine konzentrierte Lösung erhält, die dann mit Wasser so weit verdünnt wird, dass sich die verlangte Konzentration an Platinmetall ergibt. Vorteilhafterweise wird entweder dem Reaktionsgemisch oder der konzentrierten oder verdünnten Lösung ein Stabilisator einverleibt. Ein geeigneter Stabilisator ist Ammoniumdihydrogen-orthophosphat, das in einer Menge von beispielsweise 1 bis 20 g und vorzugsweise von 2 g je g Platinmetall zugesetzt werden kann. Anderseits kann auch Diammoniumhydrogen-orthophosphat als Stabilisator verwendet werden.
Die Mischung von Phosphor säuren, die bei der Herstellung des erfindungsgemässen Elektrolyten verwendet wird, ist vorzugsweise eine Mischung, die mindestens Orthophosphorsäure und Pyrophosphorsäure in beträchtlichen Mengen erhält^ vorteilhafterweise ist sie eine Mischung, die mindestens 40 Gew.% von jeweils Orthophosphorsäure und Pyrophosphorsäure enthält. Eine derartige Mischung, die sich als besonders geeignet erwiesen hat, ist das im Handel.erhältliche Produkt, das in dem Vereinigten Königreich von der Albright & Wilson Limited unter der Handelsbezeichnung "Conphos"-Säure vertrieben wird und das 54- Gew.% Orthophosphorsäure, 41 Gew.% Pyrophosphorsäure und 5 Gew.% Triphosphorsäure (Hj-P^O „) enthält. Eine andere geeignete Mischung ist die im Handel als "Superphosphorsäure" bekannte Mischung, die Orthophosphorsäure und Pyrophosphorsäure mit oder ohne eine oder mehrere Polyphosphorsäuren enthält und die ein Äquivalent von 72 bis 85 Gew.% P2O5 aufweist.
Der erfindungsgemässe Elektrolyt kann 5 bis 20 g/l an Platin enthalten und weist normalerweise einen pH-Wert im Bereich
- 3 40981 4/1124
von 0,4· bis 1,5 auf. Der Elektrolyt wird normalerweise mit Platin- oder mit platinüberzogenen Titananoden "bei einem. Anoden-zu-Kathoden-Verhältnis von mindestens 3 : 1 und einer Stromdichte von 0,538 "bis 2,153 V dm2 (5 to 20 amperes per square foot) verwendet. Die Arbeitstemperatur ist normalerweise entweder Umgebungstemperatur oder eine massig erhöhte Temperatur, d. h. eine Temperatur im Bereich von etwa 15 bis 55° C. Höhere Temperaturen können, wenn gewünscht, angewandt werden, es werden aber dann die Nachteile des Arbeitens bei hohen Temperaturen angetroffen, auf die oben eingegangen wurde. Der Elektrolyt kann normalerweise unter Bewegen verwendet werden, wobei dies ein zusätzlicher Vorteil gegenüber dem oben erwähnten, zum Stand der Technik gehörenden Elektrolyten ist, bei dem das Bewegen zur Erzielung glänzender, haftender PlatinabScheidungen wesentlich ist.
Das für die Herstellung des erfindungsgemässen, sauren Elektrolyten verwendete "P"-Salz kann durch Umsetzen von Natriumnitrit mit Platinammoniumchlorid, (NH^)^tCl^, bei etwa 95° C und Ausfällen des sich ergebenden "P"-Salzes mit Ammoniumhydroxid hergestellt werden.
Der erfindungsgemässe Elektrolyt kann zum Herstellen von Platinzierüberzügen auf beispielsweise Messing oder zum Überziehen von Metallen, beispielsweise von Tantal oder Titan, zur Verwendung bei elektrochemischen Verfahren verwendet werden. Zu industriellen Anwendungen des Elektrolyten gehören beispielsweise das Überziehen vom Molybdän-Eöhrengittern und von elektrischen Hochtemperaturkontakten.
Die nachfolgenden Beispiele veranschaulichen die Erfindung. Beispiel 1
Platinammoniumchlorid wurde in einer Menge, die 100 g Pt äquivalent ist, mit 4 Liter entmineralisierten Wassers ver-
- 4- 4098 U/ 1 1 2 4
mischt, und das erhaltene Gemisch wurde auf 95° c erhitzt.
wurde das erhitzte Gemisch langsam und unter Rühren mit einer Lösung von 465 g Natriumnitrit in 1,5 Liter entmineralisiertein Wasser versetzt, wobei man die Temperatur nicht unterhalb 95° C abfallen liess. Nachdem die Zugabe beendet war, wurde die erhaltene Lösung 30 Minuten lang gekocht und dann abkühlen gelassen. Ammoniaklösung (50 V/V, 0,880 S.G.) wurde langsam unter Rühren zugegeben, bis die Ausfällung des "P"-Salzes beendet war. Das Gemisch wurde filtriert und der erhaltene "P^'-Salz-Niederschlag wurde frei von Chloridionen gewaschen, ohne dass man das "P"-Salz trocken werden liess.
Das in dieser Weise erhaltene "P"-Salz wurde mit Wasser unter Bildung einer Aufschlämmung vermischt und 500 ml Conphosßäure wurden zu der Aufschlämmung zugegeben. Dann wurde Ammoniumdihydrogen-orthophosphat in einer Menge von 2 g des Ammoniumsalzes je g. Platin zugesetzt, und das erhaltene Gemisch wurde 30 Minuten lang unter Rückfluss gekocht, um eine konzentrierte Lösung zu bilden, die durch Zugabe von entmineralisiertem Wasser derart, dass sich eine Platinkonzentration von 10 g/l ergab, verdünnt wurde. Der in dieser Weise hergestellte Elektrolyt wies einen pH-Wert von 1,5 auf. Die galvanische Abscheidung von Platin aus diesem Elektrolyten wurde dann unter Verwendung einer Platinanode und einer polierten Messingkathode unter den nachstehenden Bedingungen durchgeführt:
Temperatur 45 c
Zeit 10 Minuten
Bewegen kein
Ano den- zu-Katho den-Verhältnis s · '
Stromdichte 1,076 Ampere/dm
Katho denwi rkung sgrad 41,5%
— 5 —
4098U/1 124
Man erhielt eine vollständig glänzende, haftende Platinabscheidung, die 0,6 Mikrometer dick war und eine Härte von etwa 350 HV aufwies.
Beispiel 2 bis 8
Es wurden Elektrolyse hergestellt und in ähnlicher Weise, wie in Beispiel 1 "beschrieben, gemäss den Angaben in der nachstehenden Tabelle verwendet:
Beispiel 2 3. 4* 5.6 7
Pt g/i 10 5 10 10 5 10 6
Temp.0C 35 20 45 45 20 45 45
Zeit, Min . 10 10 60 120 150 120 120
Bewegen nein nein lang
sam
CE*
lang
sam
CE*
nein lang
sam
CE*
lang
sam
CE*
Strom
dichte
(A/dm2)
0,646 0,538 1,076 1,076 1,076 1,076 1,076
Kathoden-
wirkungs-
grad, %
34,6 29 33,6 34,5 26,5 55,7 41,2
Dicke d-
Abschei
dung
(Mikro
meter)
0,3 0,21 2,9 6,0 11,5 9,9 8,7
Ausse
hen
glän
zend
glän
zend
glän
zend
glän
zend
glän
zend
glän
zend
glän
zend
* CE-Bewegung durch Kathodens tab
Beispiel °/
Es wurde eine Aufschlämmung hergestellt, indem 8,5 g "P"-SaIz (das 5 g HLatinmetall enthielt) mit Wasser vermischt wurden, und die Aufschlämmung wurde mit 10 g Diammoniumhydrogen-orthophosphat und dann mit 63 ml der im Handel erhältlichen "Superphosphorsäure", die eine Mischung dar-
- 6 ■409814/1124
* 23Λ7681
stellt, welche Orthophosphorsäure und Pyrophosphorsäure, und zwar eine 7? Ms 85 Gew.% PoOc äquivalente Menge enthält, versetzt. Das sich ergehende Gemisch wurde erhitzt und 30 "bis 40 Minuten lang unter Rückfluss gekocht, "bis sämtliches festes Material sich aufgelöst hatte, und die erhaltene Lösung wurde mit Wasser derart verdünnt, dass sich 5OO ml der verlangten Platinüberzugslösung ergaben, die eine Platinkonzentration von 10 g/l und einen pH-Wert von 1,1 his 1,2 aufwies.
Die Platinüberzugslösung wurde zum galvanischen Abscheiden von Platin auf einer Kathode, die einen polierten, vernickelten Messingstreifen enthielt, hei einer Stromdichte von 0,538 Ampere/dm und einer Temperatur von 50 Ms 55° c während 10 Minuten ohne Bewegen verwendet.
Der erhaltene Überzug war 0,3 Mikrometer dick, praktisch spiegelglänzend und von ausgezeichneter Farbe.
— 7 — O 9 8 U / 1 1 2 4

Claims (11)

  1. Pätentan s ρ rüehe
    Saurer Elektrolyt zum galvanischen Abscheiden von Platin, enthaltend eine Lösung, die durch Umsetzen von Diaminodinitroplatin mit einer Mischung von zwei oder mehr Phosphorsäuren erhältlich ist.
  2. 2. Saurer Elektrolyt zum galvanischen Abscheiden von Platin, enthaltend eine Lösung, die durch Umsetzen von Diaminodinitroplatin mit einer Mischung von zwei oder mehr Phosphorsäuren erhalten wurde.
  3. 3. Elektrolyt nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Diaminodinitroplatin mit einer Mischung umgesetzt ist, die mindestens 40 Gew.% von jeweils Orthophosphorsäure und Pyrophosphor säure enthält.
  4. 4. Elektrolyt nach Anspruch 3i dadurch gekennzeichnet, dass die genannte Mischung 54- Gew.% Orthophosphorsäure, 41 Gew.% Pyrophosphor säure und 5 Gew.% Triphosphorsäure enthält.
  5. 5· Elektrolyt nach Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, dass die genannte Mischung Orthophosphorsäure und Pyrophosphorsäure und fakultativ eine oder mehr Polyphosphorsäuren, und zwar eine 72 bis 85 Gew.% ?2^5 äquivalente Menge enthält.
  6. 6. Elektrolyt, nach einem der Ansprüche 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolyt 5 bis 20 g/l Platin enthält und einen pH-Wert im Bereich von 0,4- bis 1,5 aufweist.
  7. 7- Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin, dadurch gekennzeichnet, dass man Platin auf einem Metall
    - 8 -4 0 9.8 U/ 1 1 24
    HLF-13585 ■
    3 . 7347681
    oder einer Legierung als Kathode unter Verwendung eines Elektrolyten gemäss einem der Ansprüche 1 bis galvanisch abscheidet.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet, dass man eine Platin- oder eine mit Platin überzogene Titananode verwendet und das Anoden-zu- Kathoden-Verhältnis mindestens 3 :1 beträgt.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass man die galvanische Abscheidung bei einer Stromdichte von 0,538 bis 2,153 A/dm2 durchführt.
  10. 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9j dadurch gekennzeichnet, dass man die galvanische Abscheidung bei einer Temperatur im Bereich von 15 bis 55° C durchführt.
  11. 11. Verfahren nach einem der Ansprüche- 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass man die galvanische Abscheidung ohne Bewegen durchführt.
    - 9 - ORIGINAL INSPECTiD
    409814/1124
DE19732347681 1972-09-21 1973-09-21 Elektrolyt und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin Expired DE2347681C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB4383372A GB1431548A (en) 1972-09-21 1972-09-21 Electrodeposition of plantinum

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2347681A1 true DE2347681A1 (de) 1974-04-04
DE2347681C2 DE2347681C2 (de) 1982-07-01

Family

ID=10430508

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19732347681 Expired DE2347681C2 (de) 1972-09-21 1973-09-21 Elektrolyt und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS5717077B2 (de)
DE (1) DE2347681C2 (de)
FR (1) FR2200371B1 (de)
GB (1) GB1431548A (de)
IT (1) IT996174B (de)
NL (1) NL7313074A (de)
SE (1) SE390315B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110894617A (zh) * 2018-09-13 2020-03-20 深圳市永达锐国际科技有限公司 3d铂金电铸工艺方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1089796A (en) * 1976-11-17 1980-11-18 Thomas F. Davis Electroplating palladium
JPS5811000B2 (ja) * 1977-03-31 1983-02-28 新日本製鐵株式会社 水溶液の電解に用いる不溶性陽極の製造方法
GB201100447D0 (en) * 2011-01-12 2011-02-23 Johnson Matthey Plc Improvements in coating technology
FR2989694B1 (fr) * 2012-04-19 2015-02-27 Snecma Procede de fabrication d'un bain electrolytique pour la realisation d'une sous-couche metallique a base de platine sur un substrat metallique

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1184173B (de) * 1958-08-06 1964-12-23 Sel Rex Corp Bad zum galvanischen Abscheiden dicker, heller Platinueberzuege

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3515651A (en) * 1966-02-07 1970-06-02 Katsuhiro Ohkubo Plating solutions for rhodium and rhodium alloy platings having low internal stress
US3671408A (en) * 1971-05-25 1972-06-20 Sel Rex Corp Rhodium-platinum plating bath and process

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1184173B (de) * 1958-08-06 1964-12-23 Sel Rex Corp Bad zum galvanischen Abscheiden dicker, heller Platinueberzuege

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110894617A (zh) * 2018-09-13 2020-03-20 深圳市永达锐国际科技有限公司 3d铂金电铸工艺方法

Also Published As

Publication number Publication date
NL7313074A (de) 1974-03-25
JPS5717077B2 (de) 1982-04-08
SE390315B (sv) 1976-12-13
DE2347681C2 (de) 1982-07-01
IT996174B (it) 1975-12-10
FR2200371A1 (de) 1974-04-19
JPS4987535A (de) 1974-08-21
FR2200371B1 (de) 1978-11-10
GB1431548A (en) 1976-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2447897A1 (de) Chromhaltige galvanische baeder
DE2318985C2 (de) Wäßriges alkalisches Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden Zinkschichten
DE832982C (de) Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer
DE1496917A1 (de) Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege
DE1144074B (de) Bad zum galvanischen Abscheiden dicker, spannungsfreier Platinueberzuege
DE1017000B (de) Bad und Verfahren fuer die elektrolytische Abscheidung von Kupferueberzuegen
DE2347681C2 (de) Elektrolyt und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin
DE587807C (de) Verfahren zum elektrolytischen Niederschlagen von Palladium
DE1621060A1 (de) Elektrolyt fuer die elektrolytische Abscheidung von schwarzen Chromueberzuegen
DE2261944A1 (de) Bad zum galvanischen abscheiden von ruthenium
DE641107C (de) Verfahren zum galvanischen Niederschlagen von Zinn
AT523922B1 (de) Elektrolytbad für Palladium-Ruthenium-Beschichtungen
DE888191C (de) Bad und Verfahren zur galvanischen Vernicklung
DE608757C (de) Verfahren zur Erzeugung elektrolytischer Chromueberzuege
DE3219666A1 (de) Bad zur galvanischen abscheidung von ruthenium auf einem substrat und ein verfahren zur abscheidung von ruthenium auf einem substrat mit diesem bad
DE701803C (de) Verfahren zur Verminderung der UEberspannung bei der elektrolytischen Entwicklung von Wasserstoff in Wasserzersetzern
DE323066C (de) Verfahren zur Reinigung der Oberflaeche von Gegenstaenden aus Eisen oder Stahl auf elektrolytischem Wege
DE951605C (de) Badzusammensetzung und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Zink
DE1621067A1 (de) Goldgalvanisierbad
DE606052C (de) Verfahren zur Herstellung von elektrolytischen Platinniederschlaegen
DE2948999A1 (de) Galvanisches bad zur abscheidung von gold
DE973986C (de) Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Indium, insbesondere Indiumueberzuegen
DE495581C (de) Verfahren zur Herstellung galvanischer UEberzuege von Chrom auf Metallen
US2057476A (en) Electrodeposition of rhodium
DE1085003B (de) Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumueberzuegen

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8125 Change of the main classification
D2 Grant after examination
8339 Ceased/non-payment of the annual fee