DE1085003B - Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumueberzuegen - Google Patents

Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumueberzuegen

Info

Publication number
DE1085003B
DE1085003B DEM34128A DEM0034128A DE1085003B DE 1085003 B DE1085003 B DE 1085003B DE M34128 A DEM34128 A DE M34128A DE M0034128 A DEM0034128 A DE M0034128A DE 1085003 B DE1085003 B DE 1085003B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
rhodium
bath
sulfuric acid
coatings
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEM34128A
Other languages
English (en)
Inventor
Frank Herbert Reid
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mond Nickel Co Ltd
Original Assignee
Mond Nickel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mond Nickel Co Ltd filed Critical Mond Nickel Co Ltd
Publication of DE1085003B publication Critical patent/DE1085003B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Auf Metallen galvanisch abgeschiedene Rhodiumüberzüge von mindestens 0,0025 mm Dicke sind korrosions- und verschleißfest; sie werden unter anderem als Gleitkontaktoberflächen verwendet.
Diese Überzüge zeigen eine auch von den Abscheidungsbedingungen abhängige hohe innere Zugspannung, die z. B. 80 bis 160 kg/mm2 betragen kann. Wenn die Rhodiumüberzüge dicker als 0,0025 mm sind, führt diese Spannung zu senkrecht zum Grundmetall verlaufenden Rissen, die nach dem sogenannten ίο elektrografischen Verfahren festgestellt werden können, bei welchem das durch die Risse freigelegte Grundmetall zu ihrer Sichtbarmachung auf einem geeigneten Prüfpapier dient. Alle Angaben der Beschreibung beziehen sich auf nach diesem Verfahren nachweisbare Risse.
Da nun Risse im allgemeinen und insbesondere dann unerwünscht sind, wenn die Rhodiumüberzüge korrodierenden Einflüssen ausgesetzt sind, hat sich der Erfinder die Aufgabe gestellt, diese Rißbildung zu verringern oder zu verhindern.
Es wurde gefunden, daß dies möglich ist, wenn dem zum Abscheiden von Rhodiumüberzügen verwendeten, aus Rhodiumsulfat, -phosphat, -fluoborat oder irgendeiner Mischung hiervon oder aus Rhodiumsulfat und freier Schwefelsäure bestehenden Bad Selensäure oder ein Alkalimetallselenat zugesetzt wird; bei Rhodiumüberzügen, die aus den bisher gelegentlich verwendeten Rhodiumsulfamatlösungen abgeschieden werden, wird die Rißbildung durch den Zusatz von Selen oder eines Selenates nicht verringert.
Das gebräuchlichste Bad besteht aus Rhodiumsulfat; da es im allgemeinen durch Verdünnen von konzentrierten Lösungen hergestellt wird, die durch Lösen von Rhodiumhydroxyd in Schwefelsäure erhalten werden, enthält es etwas freie Schwefelsäure. Oft wird auch noch Schwefelsäure zugesetzt, um den Gehalt des Bades an freier Schwefelsäure zu erhöhen.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von galvanisch abgeschiedenen Rhodiumüberzügen wird vorzugsweise unter Verwendung eines derartigen Bades mit einem Zusatz von Selensäure durchgeführt.
Wenn auch schon ein geringer Selensäurezusatz, z. B. von 0,008 g/l, die Rißbildung verringert, ist es nach den Erkenntnissen des Erfinders trotzdem wünsehenswert, einem keine oder nur wenig freie Schwefelsäure enthaltenden Bad zumindest 0,05 g/l und vorzugsweise zumindest 0,4 g/l zuzusetzen, um die Rißbildung praktisch zu verhindern.
Es wurde ferner festgestellt, daß nicht mehr als 1,0 g/l Selensäure zugesetzt werden sollten, wenn die Härte des Überzuges, die bei steigendem Selensäurezusatz fällt, von Bedeutung ist.
Selbst bei einem Selensäuregehalt bis zu 25 g/l eines Bad und Verfahren
zum galvanischen Abscheiden
von Rhodiumüberzügen
Anmelder:
The Mond Nickel Company Limited,
London
Vertreter: Dr.-Ing. G. Eichenberg
und Dipl.-Ing. H. Sauerland, Patentanwälte,
Düsseldorf, Cecilienallee 76
Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 10. Mai 1956
Frank Herbert Reid,
Hounslow, Middlesex (Großbritannien),
ist als Erfinder genannt worden
durch Lösen von Rhodiumhydroxyd in Selensäure hergestellten Bades können rissefreie Rhodiumüberzüge erhalten werden; ihre Oberflächenbeschaffenheit ist aber wenig befriedigend.
Da festgestellt wurde, daß die Rhodiumüberzüge Selen enthalten, das im Bad wieder ergänzt werden muß, und auch das Rhodium im Bad wieder ergänzt werden muß, ist es am zweckmäßigsten, dem bei der Herstellung und Ergänzung des Bades verwendeten Rhodiumkonzentrat Selensäure zuzusetzen.
Der Selengehalt der Überzüge, die bei dem bevorzugten Selensäurezusatz von nicht über 1,0· g/l erhalten werden, liegt in der Größenordnung von 2 Gewichtsprozent.
Von Bedeutung ist auch die Rhodiumkonzentration. Ist diese zu niedrig, werden selbst beim Zusatz von Selensäure keine rissefreien Überzüge erhalten. Bei 5 g/l Rhodium treten noch einige Risse auf, während praktisch rissefreie Überzüge bei 10 g/l Rhodium unter Zusatz der bevorzugten Selensäuremenge erhalten werden. Die normalerweise zur Herstellung der stärksten, über 0,025 mm liegenden Rhodiumüberzüge angewendete maximale Konzentration beträgt 20 g/l Rhodium.
Sowohl zur Verhinderung der Hydrolyse des Rhodiumsalzes im Bad als auch zur Erzeugung eines wesentlichen metallischen Niederschlages an der Kathode im Betrieb sollte bei Verwendung eines Sulfat-
009 549/367
elektrolyten genügend freie Schwefelsäure vorhanden sein. Da nun ein durch Lösen von Rhodiumhydroxyd in Schwefelsäure hergestellter Elektrolyt praktisch immer freie Schwefelsäure enthält, ist ein besonderer Schwefelsäurezusatz in der Regel nicht unbedingt erforderlich. Weil aber insbesondere bei dünnen Überzügen die Neigung zur Rißbildung bei niedriger Schwefelsäurekonzentration trotz des Zusatzes von Selensäure größer wird, ist es wünschenswert, mit einer Konzentration von zumindest 50 ml/1 Schwefelsäure mit einem spezifischen Gewicht von 1,83 zu arbeiten. Andererseits neigen bei zu hoher Schwefelsäurekonzentration die Überzüge zum Rauhwerden. Daher zieht es der Erfinder vor, mit Schwefelsäurekonzentrationen zu arbeiten, die unter 100 ml/1 liegen.
Infolge der Ergänzung des Elektrolyten mit konzentrierter Rhodiumsulfatlösung steigt der Schwefelsäuregehalt im Betrieb; es empfiehlt sich daher, bei der Herstellung der Ausgangslösung den geringstmöglichen Schwefelsäuregehalt zu wählen.
Demzufolge enthält das zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens vorzugsweise verwendete Bad 5 bis 20 g/l Rhodium als Sulfat, bis zu 100 ml/1 freie Schwefelsäure mit einem spezifischen Gewicht von 1,83 und 0,05 bis 1,0 g/l Selensäure.
Die zweckmäßigsten Arbeitsbedingungen entsprechen im wesentlichen den bisher bei Abwesenheit von Selensäure oder eines Selenates üblichen Bedingungen. Die Badtemperatur kann von 20 bis 75° C schwanken. Da aber bei höheren Temperaturen die Rhodiumüberzüge die Neigung zeigen, an Glätte zu verlieren, sowie bei niedrigen Temperaturen sich eine gesteigerte Neigung zur Rißbildung in den Überzügen zeigt, und zwar insbesondere bei niedrigen Schwefelsäurekonzentrationen, wird bevorzugt eine Temperatür von 50° C angewendet.
Die Stromdichte kann von 0,5 bis 4,0 A/dm2 schwanken; zur Herstellung praktisch rissefreier Überzüge ist bei Anwendung eines Bades mit zugesetzter Schwefelsäure eine Temperatur von 75° C erforderlich, während bei Anwendung eines Bades ohne zugesetzte Schwefelsäure die Stromdichte erheblich unter 4 A/dm2 Hegen sollte. Vorzugsweise beträgt sie 1 bis 2 A/dm2.
Die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren erzielten Ergebnisse gehen aus folgenden Beispielen hervor.
Beispiel I
Ein Rhodiumüberzug von 0,0175 mm Dicke, der aus einem Bad mit 10 g/l Rhodium als Sulfat, dem keine Schwefelsäure zugesetzt war, bei einer Temperatur von 45° C und einer Stromdichte von 2 A/dm2 niedergeschlagen wurde, zeigte eine starke Rißbildung. Nach dem Zusatz von 0,4 g/l Selensäure wurde unter denselben Arbeitsbedingungen ein rissefreier Rhodiumüberzug von 0,025 mm Dicke erhalten.
Beispiel II
Ein Rhodiumüberzug von 0,0175 mm Dicke, der aus einem Bad mit 10 g/l Rhodium als Sulfat, dem 70 ml/1 Schwefelsäure mit einem spezifischen Gewicht von 1,83 zugesetzt waren, bei einer Temperatur von 45° C und einer Stromdichte von 2 A/dm2 niedergeschlagen wurde, zeigte eine mäßige Rißbildung.
Nach dem Zusatz von 0,4 g/l Selensäure wurde ein rissefreier Rhodiumüberzug von 0,03 mm Dicke erhalten.
Beispiel III
Das Bad wurde durch Lösen von Rhodiumhydroxyd in einer 20 g Rhodium entsprechenden Menge in 85 ml 30%ige Fluoborsäure und Verdünnen der Lösung bis zu einer Konzentration von 20 g/l Rhodium hergestellt. Ein aus diesem Bad bei einer Temperatur von 50° C und einer Stromdichte von 1 A/dm2 niedergeschlagener Rhodiumüberzug von 0,025 mm Dicke zeigte eine leichte Rißbildung. Nach dem Zusatz von 0,8 g/l Selensäure wurde unter gleichen Arbeitsbedingungen ein rissefreier Rhodiumüberzug von 0,025 mm Dicke erhalten.
Beispiel IV
Das Bad wurde durch Lösen von Rhodiumhydroxyd in einer 20 g Rhodium entsprechenden Menge in 40 ml 85%ige Phosphorsäure und Verdünnen der Lösung bis zu einer Konzentration von 10 g/l Rhodium hergestellt. Ein aus diesem Bad bei einer Temperatur von 50° C und einer Stromdichte von 1 A/dm2 niedergeschlagener Rhodiumüberzug von 0,0175 mm Dicke zeigte eine erhebliche Rißbildung. Nach dem Zusatz von 0,8 g/l Selensäure wurde unter gleichen Arbeitsbedingungen ein rissefreier Rhodiumüberzug von 0,02 mm Dicke erhalten.
Beispiel V
Das Bad wurde durch Mischen von 20 g/l Rhodium als konzentriertes Rhodiumphosphat und 150 ml/1 Schwefelsäure hergestellt, d. h., das Bad bestand aus einer Mischung von Rhodiumsalzen. Ein aus diesem Bad bei einer Temperatur von 50° C und einer Stromdichte von 1 A/dm2 niedergeschlagener Rhodiumüberzug von 0,025 mm Dicke zeigte eine mäßige Rißbildung. -Nach dem Zusatz von 0,8 g/l Selensäure wurde ein rissefreier Rhodiumüberzug von 0,0225 mm Dicke erhalten.

Claims (4)

Patentansprüche:
1. Bad zur Verringerung oder Verhinderung der Rißbildung galvanisch abgeschiedener Rhodiumüberzüge, im wesentlichen bestehend aus Rhodiumsulfat, -phosphat, -fiuoborat oder irgendeiner Mischung hiervon oder aus Rhodiumsulfat und freier Schwefelsäure, dadurch gekennzeichnet, daß es Selensäure oder ein Alkalimetallselenat enthält.
2. Bad, bestehend aus Rhodiumsulfat und freier Schwefelsäure, nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es wenigstens 0,05 g/l, vorzugsweise 0,4 bis 1,0 g/l Selensäure enthält.
3. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es 5 bis 20 g/l Rhodium als Sulfat, vorzugsweise wenigstens 50 ml/1 freie Schwefelsäure und 0,05 bis 1,0 g/l, vorzugsweise wenigstens 0,4 g/l Selensäure enthält.
4. Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Rhodium aus einem Bad nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Temperatur von 20 bis 75° C, vorzugsweise von annähernd 50° C, und eine Stromdichte von 0,5 bis 4 A/dm2, vorzugsweise von 1 bis 2 A/dm2, angewendet wird.
© 009 549/367 6.60
DEM34128A 1956-05-10 1957-05-09 Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumueberzuegen Pending DE1085003B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB14604/56A GB808958A (en) 1956-05-10 1956-05-10 Improvements relating to the electrodeposition of rhodium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1085003B true DE1085003B (de) 1960-07-07

Family

ID=10044231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEM34128A Pending DE1085003B (de) 1956-05-10 1957-05-09 Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumueberzuegen

Country Status (7)

Country Link
US (1) US2866740A (de)
BE (1) BE557396A (de)
CH (1) CH362581A (de)
DE (1) DE1085003B (de)
FR (1) FR1174957A (de)
GB (1) GB808958A (de)
NL (2) NL106193C (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2992099A (en) * 1956-05-10 1961-07-11 Int Nickel Co Rhodium alloy
US3130137A (en) * 1959-10-14 1964-04-21 Nippon Electric Co Manufacture of selenium rectifier cell
US4330376A (en) * 1979-03-05 1982-05-18 Atlantic Richfield Company Process for inhibiting titanium corrosion
US7326327B2 (en) * 2003-06-06 2008-02-05 Formfactor, Inc. Rhodium electroplated structures and methods of making same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR793196A (fr) * 1935-04-03 1936-01-18 Heraeus Gmbh W C Procédé de préparation de dépôts électrolytiques de rhodium et objets recouverts du dit dépôt
US2384501A (en) * 1942-02-02 1945-09-11 American Platinum Works Platinum metal catalysts and the manufacture thereof
BE484443A (de) * 1947-08-19
US2461933A (en) * 1947-12-24 1949-02-15 Paul T Smith Rhodium alloy coatings and method of making same

Also Published As

Publication number Publication date
CH362581A (fr) 1962-06-15
BE557396A (de)
FR1174957A (fr) 1959-03-18
NL217128A (de)
GB808958A (en) 1959-02-11
US2866740A (en) 1958-12-30
NL106193C (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH647269A5 (de) Plattierungsloesung fuer die ablagerung einer palladium/nickel-legierung.
DE1144074B (de) Bad zum galvanischen Abscheiden dicker, spannungsfreier Platinueberzuege
DE2847961C2 (de)
DE1017000B (de) Bad und Verfahren fuer die elektrolytische Abscheidung von Kupferueberzuegen
DE3400670A1 (de) Waessriges goldsulfit enthaltendes galvanisches bad und verfahren zur galvanischen abscheidung von gold unter verwendung dieses bades
DE1085003B (de) Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumueberzuegen
DE813914C (de) Verfahren zur elektrolytischen Niederschlagung von Rhodium
DE3219666C2 (de) Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Ruthenium und ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Ruthenium unter Verwendung dieses Bades
DE2032867C3 (de) Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge
DE3108467C2 (de) Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung
DE608757C (de) Verfahren zur Erzeugung elektrolytischer Chromueberzuege
DE706592C (de) Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Nickelueberzuegen
DE1184173B (de) Bad zum galvanischen Abscheiden dicker, heller Platinueberzuege
DE2511119A1 (de) Zusatzmittel fuer die elektroplattierung
CH649318A5 (de) Bad zur galvanischen abscheidung einer palladium/nickel-legierung.
DE2347681C2 (de) Elektrolyt und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin
DE3108466C2 (de) Verwendung eines Acetylenalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung
DE3135597C2 (de) Verfahren zur Auffrischung einer Palladium/Nickel-Legierung-Plattierungslösung mit Palladium
DE323066C (de) Verfahren zur Reinigung der Oberflaeche von Gegenstaenden aus Eisen oder Stahl auf elektrolytischem Wege
DE3139641A1 (de) "galvanisches bad und verfahren zur abscheidung halbglaenzender duktiler und spannungsfreier nickelueberzuege"
DE1007141B (de) Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden festhaftender glaenzender Chromueberzuege auf Glanzflaechen aus Antimon, Zinn, Silber und Blei
DE1086508B (de) Saures galvanisches Kupferbad
DE973986C (de) Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Indium, insbesondere Indiumueberzuegen
DE3514673A1 (de) Galvanisches verchromungsbad und verchromungsverfahren
DE606052C (de) Verfahren zur Herstellung von elektrolytischen Platinniederschlaegen