DE3108467C2 - Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung - Google Patents
Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-LegierungInfo
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- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 48
- VXAWCKIQYKXJMD-UHFFFAOYSA-N ethynamine Chemical compound NC#C VXAWCKIQYKXJMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 9
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 title abstract description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title abstract description 3
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 title abstract description 3
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 5
- -1 nickel amine Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L disodium;naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,3,6-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf ein Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung für dekorative und/oder technische Überzüge. Das Bad besteht grundsätzlich aus einer wäßrigen Lösung von Palladium- und Nickel amin mit einem Palladiumgehalt von 5 bis 30 g/l und einem Nickelgehalt im Bereich von ebenfalls 5 bis 30 g/l. Das Palladium/Nickel-Verhältnis ist so eingestellt, daß die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90 Gew.% aufweist. Um eine einwandfreie Mischkristallbildung zu erreichen, lehrt die Erfindung die Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols oder deren mehrerer als Mischkristallbildner.
Description
Dimethylpropin-2-ylamin
1 -Diethylaminopropin-{2)
1 -Diethylaminopropin-{2)
l-DiethyIaminopentin-2-ol-(4) M
1-Dimethylaminopropin-(2)
1,1 -Dieihyipropin-2-yiamin
1,1 -Dieihyipropin-2-yiamin
oder Mischungen davon verwendet wird.
25
Die Erfindung geht aus von einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Le- J0
gierung für dekorative und/oder technische Oberzüge,
bestehend aus einer wäßrigen Lösung von Palladium- und Nickelamminen mit einem Palladiumgehalt im
Bereich von 5 bis 30 g/l, einem Nickelgehalt im Bereich voiv ebenfalls 5 bis 30 g/l und mit einem Zusatz von js
Sulfonsäuren und/oder deren Salzen sowie gegebenenfalls eines Leitsalzes und das Palladium/Nickel-Verhältnis
so eingestellt ist, daß die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90 Gew.-%
aufweist. Ein mit Hilfe eines solchen Bades hergestellter Überzug dient als Goldersatz.
Bei den bekannten Bädern (GB-PS 11 43 178) dient der Zusatz an Salzen der Sulfonsäuren der Glanzbildung.
Im einzelnen werden genannt Salze der Naphthalin-Sulfon-Säure und aromatische Sulfonamide,
wie das Natrium-Salz der Naphthalin- 1,5-disulfon-Säure.
das Natrium-Salz der Naphthalin-1,3,6-trisulfon-Säurc
sowie Saccharin (o-Sulfobenzoesäureimid) und p-Toluolsulfonamid. Der Zusatz eines Leitsalzes, z. B.
eines Ammoniumsalzes einer organischen oder anorganischen
Säure, ist dabei ebenfalls bekannt. In der Praxis hat sich gezeigt, daß die mit einem solchen Bad
hergestellten Überzüge in mechanischer Hinsicht den Anforderungen nicht entsprechen — und selbst der
Glanz ist für viele dekorative Zwecke nicht ausreichend. Diese Mängel beruhen nach Erkenntnissen, die der
Erfindung zugrunde liegen, auf mangelhafter Mischkristallbildung.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das gattungsgemäße Bad so einzurichten, daß eine einwandfreie
Mischkristallbildung erfolgt.
Zur Lösung dieser Aufgabe lehrt die Erfindung die Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines
Aminoalkohol oder deren mehrere als Mischkristallbildner bei einem Bad zur galvanischen Abscheidung
einer Palladium/Nickel-Legierung für dekorative und/ oder technische Überzüge, welches Bad aus einer
wäßrigen Lösung von Palladium- und Nickelammin mit einem Palladiumgehalt von 5 bis 30 g/l und einem
Nickelgehalt im Bereich von ebenfalls 5 bis 30 g/l sowie gegebenenfalls eines Leitsalzes besteht und das
Palladium/Nickel-Verhältnis so eingestellt ist, daß die
galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90 Gew,-% aufweist Eine bevorzugte
Ausführungsform der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Zusatz aus
Dimethylpropin-2-ylamin
1 -Diethylaminopropin-(2)
1 -Diethylaminopentin-2-oI-(4)
l-Dimethylaminopropin-(2)
1,1 -Diethylpropin-2-yIamin
1 -Diethylaminopropin-(2)
1 -Diethylaminopentin-2-oI-(4)
l-Dimethylaminopropin-(2)
1,1 -Diethylpropin-2-yIamin
oder Mischungen davon verwendet wird.
Die Erfindung geht von der Erkenntnis aus, daß an Stelle der bekannten Salze von Sulfonsäuren eingesetzte
Acetylenamine und/oder Aminoalkohole zu überraschenden
Effekten führen:
Wählt man den Zusatz nach der Lehre der Erfindung, so erhält man nämlich aus dem Bad durch galvanische
Abscheidung Palladium/Nickelüberzüge, die sich durch feine und gleichmäßige Kristallite und einwandfreie
Mischkristallbildung auszeichnen. Das erhöht Glanz, Duktilität und Korrosionsbeständigkeit unter den
verschiedensten korrosiven Einflüssen. Darüber hinaus ist der Einebnungseffekt verbessert
Im folgenden wird die Erfindung anhand von typischen Ausführungsbeispielen ausführlicher erläutert:
(Zusatz eines Acetylenamins)
Es wird folgender Elektrolyt hergestellt:
Es wird folgender Elektrolyt hergestellt:
20 g Palladium 8Is(Pd(NHj)4)CI2
10 g Nickel 3Is(Ni(NH3J6)SO4
50 g Leiisalz als (NH4)ZSO4 oder NH4CI zur
Einstellung einer ausreichenden Leitfähigkeit des Elektrolyten
NH4OH zur Einstellung eines
pH-Wertes 8,5 Wasser für I Bad
0,03 ml l.l-Dimethylpropin-2-ylamin
Badtemperatur bei der galvanischen Abscheidung 30° C, leichte Warenbewegung, kathodische Stromdichte
Es wurde auf gebürstetem Messingblech eine glänzende Palladium-Nickel-Schicht mit geringer
Einebnung ohne sichtbare Inhibitionserscheinungen abgeschieden. Zur Überprüfung der Korrosionsbeständigkeit
wurde das so erhaltene Testblech bei Raumtemperatur für 60 s in eine verdünnte Salpetersäure
getaucht, die zu gleichen Teilen aus konzentrierter Salpetersäure und Wasser hergestellt wurde. Es ist kein
Korrosions-Angriff sichtbar.
II 43 178 und setzt man dem Elektrolyten anstelle von
dem zuvor angegebenen Acetylenamin 10 g Natriumnaphthalin-1,3,6-trisulfonat
zu, so erhält man Palladium-Nickel-Schichten, die in dem zuvor beschriebenen Salpetersäure-Test erheblich korrodieren und außerdem
einen geringeren Glanz ohne Einebnungsverhalten zeigen. Die Ursache der Korrosion liegt in einer
mangelhaften MischkristaII^Bildung, sofern mit aromatischen
Sulfonsäure-Salzen anstelle der vorgeschlagenen Acetylenaminen als ^lanzbildner gearbeitet wird, —
Durch Röntgen-Untersuchungen war freies Nickel
feststellbar, was die Ursache der Korrosion darstellt.
(Zusatz einer Kombination von Acetylenaminen)
Es wird folgender Elektrolyt hergestellt:
Es wird folgender Elektrolyt hergestellt:
20 g Palladium als (Pd(NH3J4)SO4
10 g Nickel EIs(Ni(NH3J6)Cb
50 g Leitsalz als (NH4J2SO4 oder NH4CI zur Einstellung einer ausreichenden
10 g Nickel EIs(Ni(NH3J6)Cb
50 g Leitsalz als (NH4J2SO4 oder NH4CI zur Einstellung einer ausreichenden
NH4OH zur Einstellung eines pH-Wertes 8,5 Wasser für 11 Bad
0,03 ml l,!-Dimethylpropin-2-ylamin
0,03 ml l-Dimethylammopropin-(2)
0,03 ml l-Dimethylammopropin-(2)
Badtemperatur bei der galvanischen Abscheidung 30° C, leichte Warenbewegung, kathodische Stromdichte
1 A/dm2, Expositionszeit 10 mJn.
Auf gebürstetem Messingblech erhält man eine glänzende Palladium-Nickel-Schicht mit verbesserter
Einebnung gegenüber Versuch 1. Inhibitionserscheinungen sind nicht erkennbar. Der Salpetersäure-Test nach
Versuch 1 wurde bestanden.
Claims (2)
- Patentansprüche:J1 Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines AminoaJkohoIs oder deren mehrere als Mischkristallbildner bei einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer PaUadium/Niekel-Legierung für dekorative und/oder technische Überzüge, welches Bad aus einer wäßrigen Lösung von Palladium- und Nickelammin mit einem Palladiumgehalt von 5 bis 30 g/l und einem Nickelgehalt im Bereich von ebenfalls 5 bis 30 g/I sowie gegebenenfalls eines Leitsalzes besteht und das Palladium/Nickel-Verhältnis so eingestellt ist, daß die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90 Gew.-% aufweist
- 2. Ausführungsform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Zusatz aus
Priority Applications (13)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3108467A DE3108467C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
GB8205450A GB2094348B (en) | 1981-03-06 | 1982-02-24 | Electrolytic deposition of palladium nickel alloy |
ZA821368A ZA821368B (en) | 1981-03-06 | 1982-03-02 | A bath for the electrolytic deposition of a palladium-nickel alloy |
AU81047/82A AU535304B2 (en) | 1981-03-06 | 1982-03-02 | Palladium-nickel alloy electrodeposition bath |
JP57032482A JPS5816088A (ja) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | パラジウム/ニッケル合金を電気的に析出する浴 |
BE2/59610A BE892343A (fr) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | Bain de depot galvanoplastique d'alliages nickel-palladium, procede d'utilisation de ce bain |
AT0082282A AT377014B (de) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | Verfahren zur galvanischen abscheidung einer ueberzugsschicht aus palladium/-nickel-mischkristallen |
SE8201298A SE8201298L (sv) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | Bad for galvanisk utfellning av en palladium/nickel-legering |
FR8203612A FR2501242A1 (fr) | 1981-03-06 | 1982-03-04 | Bain de depot galvanoplastique d'alliages nickel-palladium, procede d'utilisation de ce bain |
BR8201173A BR8201173A (pt) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Emprego de uma amina de acetileno e/ou de um ou varios aminoalcoois |
US06/355,246 US4416740A (en) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Method and bath for the electrodeposition of palladium/nickel alloys |
IT19990/82A IT1150625B (it) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Bagno per la deposizione galvanica di una lega palladio/nichel |
NL8200907A NL8200907A (nl) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3108467A DE3108467C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3108467A1 DE3108467A1 (de) | 1982-09-16 |
DE3108467C2 true DE3108467C2 (de) | 1983-05-26 |
Family
ID=6126474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3108467A Expired DE3108467C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4416740A (de) |
JP (1) | JPS5816088A (de) |
AT (1) | AT377014B (de) |
AU (1) | AU535304B2 (de) |
BE (1) | BE892343A (de) |
BR (1) | BR8201173A (de) |
DE (1) | DE3108467C2 (de) |
FR (1) | FR2501242A1 (de) |
GB (1) | GB2094348B (de) |
IT (1) | IT1150625B (de) |
NL (1) | NL8200907A (de) |
SE (1) | SE8201298L (de) |
ZA (1) | ZA821368B (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4564426A (en) * | 1985-04-15 | 1986-01-14 | International Business Machines Corporation | Process for the deposition of palladium-nickel alloy |
US4628165A (en) * | 1985-09-11 | 1986-12-09 | Learonal, Inc. | Electrical contacts and methods of making contacts by electrodeposition |
US5034190A (en) * | 1986-01-31 | 1991-07-23 | Westinghouse Electric Corp. | Apparatus for conducting accelerated corrosion testing of nickel alloys |
US4778574A (en) * | 1987-09-14 | 1988-10-18 | American Chemical & Refining Company, Inc. | Amine-containing bath for electroplating palladium |
WO1992000368A1 (en) * | 1990-06-22 | 1992-01-09 | Caschem, Inc. | Cable grease composition and articles incorporating same |
WO2020129095A1 (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | Top Finish 2002 S.R.L. | Galvanic bath for making a corrosion- and oxidation-resistant palladium and nickel alloy-based plating, preparation and use thereof |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2781306A (en) * | 1956-04-27 | 1957-02-12 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of nickel |
US3002903A (en) * | 1958-09-26 | 1961-10-03 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
US3133006A (en) * | 1962-05-28 | 1964-05-12 | Barnet D Ostrow | Acid nickel plating bath |
US3186926A (en) * | 1962-08-13 | 1965-06-01 | Hofmann Hans | Electroplating solution containing a diester of selenious acid |
JPS4733176B1 (de) * | 1967-01-11 | 1972-08-23 | ||
GB1485665A (en) * | 1975-03-27 | 1977-09-14 | Permalite Chem Ltd | Nickel electroplating |
US4077855A (en) * | 1976-05-04 | 1978-03-07 | Francine Popescu | Bright nickel electroplating bath and process |
DE2825966A1 (de) * | 1978-06-14 | 1980-01-03 | Basf Ag | Saures galvanisches nickelbad, das sulfobetaine als glanz- und einebnungsmittel enthaelt |
DE2943028A1 (de) * | 1978-11-01 | 1980-05-08 | M & T Chemicals Inc | Galvanisches nickelbad |
-
1981
- 1981-03-06 DE DE3108467A patent/DE3108467C2/de not_active Expired
-
1982
- 1982-02-24 GB GB8205450A patent/GB2094348B/en not_active Expired
- 1982-03-02 AU AU81047/82A patent/AU535304B2/en not_active Ceased
- 1982-03-02 ZA ZA821368A patent/ZA821368B/xx unknown
- 1982-03-03 JP JP57032482A patent/JPS5816088A/ja active Pending
- 1982-03-03 SE SE8201298A patent/SE8201298L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-03-03 AT AT0082282A patent/AT377014B/de not_active IP Right Cessation
- 1982-03-03 BE BE2/59610A patent/BE892343A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-03-04 FR FR8203612A patent/FR2501242A1/fr active Granted
- 1982-03-05 NL NL8200907A patent/NL8200907A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-03-05 BR BR8201173A patent/BR8201173A/pt unknown
- 1982-03-05 US US06/355,246 patent/US4416740A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-03-05 IT IT19990/82A patent/IT1150625B/it active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
NICHTS-ERMITTELT |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL8200907A (nl) | 1982-10-01 |
AU535304B2 (en) | 1984-03-15 |
BE892343A (fr) | 1982-07-01 |
ZA821368B (en) | 1983-01-26 |
FR2501242B1 (de) | 1985-04-12 |
JPS5816088A (ja) | 1983-01-29 |
GB2094348A (en) | 1982-09-15 |
US4416740A (en) | 1983-11-22 |
AT377014B (de) | 1985-01-25 |
GB2094348B (en) | 1985-08-07 |
FR2501242A1 (fr) | 1982-09-10 |
IT8219990A0 (it) | 1982-03-05 |
BR8201173A (pt) | 1982-11-23 |
ATA82282A (de) | 1984-06-15 |
DE3108467A1 (de) | 1982-09-16 |
AU8104782A (en) | 1982-09-09 |
SE8201298L (sv) | 1982-09-07 |
IT1150625B (it) | 1986-12-17 |
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