DE2261944A1 - Bad zum galvanischen abscheiden von ruthenium - Google Patents
Bad zum galvanischen abscheiden von rutheniumInfo
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Description
Dipl.-lng. H. Sauerland ■ Dr.-lng. R. König ■ Dipl.-lng. K. Bergen
Patentanwälte - * 4000 DOrj-se'riorf no · Cecil'Rnallee 76 ■ Telefon -43273a
■ —
15. Dezember 1972 28 168 K
International Nickel Limited, Thames House, Millbank,
London, S.W. 1 England
"Bad zum galvanischen Abscheiden von Ruthenium"
Die Erfindung bezieht sich auf ein Bad zum ,galvanischen
Abscheiden von Ruthenium.
Es ist bekannt, galvanisch abgeschiedene Rutheniumüberzüge bei elektrischen Kontakten, beispielsweise von Zungenschaltern
sowie für andere Zwecke zu verwenden, die eine hohe Verschleißfestigkeit oder ein dekoratives Aussehen
erfordern.
In der deutschen Offenlegungsschrift 1 803 524 ist ein Verfahren
zum Herstellen einer komplexen Rutheniumverbindung beschrieben, bei dem eine wässrige Lösung von Rutheniumchlorid
mit einem Überschuß an Sulphamatsäure bis zur Hydrolyse
des Sulphamats erhitzt und anschließend die komplexe Verbindung aus der Lösung abgetrennt wird. Die komplexe
Rutheniumverbindung enthält das Ruthenium als Anionenkomplex
mit der Bruttoformel:
(Ru2N(H2O)2Y8)3-,
in der Y ein Chlor oder Brom bedeutet. Des weiteren be-
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INSPECTED
schreibt die deutsche Offenlegungsschrift ein Verfahren
zum galvanischen Abscheiden von Ruthenium unter Verwendung eines wässrig-sauren Elektrolyten mit derartigen
Anionen und einem pH-Wert von höchstens 4. Vorzugsweise werden die Anionen in Form ihrer Ammoniumsalze mit
der Bruttoformel
in den Elektrolyten eingeführt. Schließlich ergibt sich aus der Offenlegungsschrift, daß die komplexe Rutheniumverbindung
eine Stickstoffbrücke aufweist, die durch die
folgende Strukturformel gekennzeichnet werden kann:
Durch Versuche konnte nun festgestellt werden, daß mit derartigen Bädern hergestellte Überzüge nur bis zu einer Dikke
von etwa 2 bis 3J^m glänzend sind. Mit zunehmender Dikke
kommt es nämlich zur Bildung von Oberflächenrissen sowie schließlich zu einem matten und grauen Aussehen des
Überzugs.
Hiervon ausgehend, liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Bad zu schaffen, das das galvanische Abscheiden
auch dickerer Überzüge ohne Beeinträchtigung des Aussehens gestattet. Die Lösung dieser Aufgabe basiert auf der Feststellung,
daß sich glänzende und insbesondere auch rissfreie Rutheniumüberzüge mit größerer Dicke von beispielsweise
5 ii^rn aus einem Bad galvanisch abscheiden lassen, das
aus einer Lösung mit einem pH-Wert von höchstens 4 und einer
komplexen Ruthenium-Verbindung mit der Stickstoffbrücke
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besteht und im wesentlichen frei von HaIogenidiönen
ist sowie mindestens 15 g/l Sulphationen enthält.
Das erfindungsgemäße Bad kann in üblicher Weise angesetzt
werden, beispielsweise durch Lösen einer (Ru0N (ILpO)2Yq) -Ionen enthaltenden Verbindung, .beispielsweise
eines Ammoniumsalzes, in dem Y entweder Chlor
oder Brom ist, in Wasser unter -Zugabe einer ausreichenden Menge an Alkalien, beispielsweise Kaliumhydroxyd,
um ein Ausfällen der Verbindung
Ru2N(0H)5.nH20
zu bewirken. Die vorerwähnte Verbindung wird dann abgefiltert und gründlich mit Wasser ausgewaschen, um Halogenide
oder andere Verunreinigungen zu entfernen'. Selbstverständlich kann die erwähnte Ruthenium-Verbindung auch
auf andere Weise hergestellt werden. So kann beispielsweise auch eine wässrige, (Ru(NO)C1,~) -Ionen üblicherweise
als Kaliumsalz enthaltende Lösung beispielsweise mit Kaliumhydroxyd unter Zugabe eines Reduktionsmittels
wie Formaldehyd basisch gemacht werden. Beim Erwärmen der Lösung beispielsweise mittels Wasserdampf bildet sich
ein Niederschlag von Ru2N(OH)■,-.nH20, der abgefiltert und
gründlich mit Wasser ausgewaschen wird.
Die feste Verbindung von Ru2N(0H)c.nH20 wird alsdann in
Schwefel- und/oder Sulphamatsäure gelöst und bei etwa 1000C zwischen einer und acht Stunden gerückflußt. Die dabei
entstehende Lösung enthält Sulphationen in einer vom Säurezusatz abhängigen Menge. Es wurde festgestellt, daß in
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einer Sulphamatsäure enthaltende Lösung eine beinahe
vollständige Hydrolyse der Säure insbesondere dann stattfindet, wenn über längere Zeiten gerückflußt wird.
Eine auf diese Weise hergestellte Lösung läßt sich daher direkt als basischer Elektrolyt zum galvanischen
Abscheiden von Ruthenium oder bei nicht ausreichend hoher Sulphationen-Konzentration nach einem Zusatz eines
löslichen Sulphatsalzes, beispielsweise von Ammonium-, Natrium- oder Kaliumsulphat verwenden.
Im allgemeinen sollte die Sulphationen-Konzentration 15 g/l übersteigen, um rissfreie Überzüge zu gewährleisten.
Die Sulphationen-Konzentration sollte jedoch normalerweise 100 g/l nicht übersteigen, da höhere Konzentrationen
keine weiteren Verbesserungen mit sich bringen, jedoch die Stromausbeute verringern.
Es ist wesentlich, daß der pH-Wert des Elektrolyten höchstens 4 beträgt. In der Praxis sollte der pH-Wert
bei 0,5 bis 4, vorzugsweise bei 1 bis 3 liegen. Im Falle zu geringer pH-Werte erfolgt das Abscheiden des Rutheniums
bei nur geringer Kathodenstromdichte, während bei zu hohem pH-Wert der Niederschlag schwarz ist. Außerdem
kann ein steigender pH-Wert zur Bildung eines bräunlichen, nicht aus metallischem Ruthenium bestehenden Niederschlags
an der Kathode führen. Wird das Bad in der obenbeschriebenen Weise unter Verwendung von Ru2N(OH)R-IiH2O angesetzt, dann
sollte der pH-Wert 1 bis 1,5 betragen; erläßt sich leicht durch einen Zusatz von beispielsweise Kalium-Natrium oder
Ammoniumhydroxyd erhöhen oder durch einen Zusatz von Schwefel- oder Sulphamatsäure erniedrigen. In ähnlicher Weise
kann der pH-Wert während des Verfahrens korrigiert und eingestellt werden. 30 98 27/1029
Das Bad enthält üblicherweise 1 bis 20 g/l Ruthenium.
Obgleich höhere Rutheniumkonz entr at ionen zulässig sind, ergeben sie keine besonderen Vorteile^ Außerdem
erhöhen sich mit steigender Rutheniumkonzentration die Rutheniumverluste und steigen die Verfahrenskosten. Vorzugsweise wird das Bad bei Rutheniumkonzentrationen
über 20 g/l umgerührt.
Der Elektrolyt wird vorzugsweise durch Sulphamate stabilisiert,
die gegebenenfalls in üblicher Weise als Ammonium-, Kalium- oder Natriumsulphamat zugesetzt werden
können. Die Konzentration der Sulphamationen sollte mindestens 2 g/l, üblicherweise 20 g/l betragen und
auf diesem Wert während des Verfahrens gehalten werden. Sulphamatverluste entstehen üblicherweise durch eine
anodische Oxydation, was es erforderlich macht, die SuI-phamatkonzentration
von Zeit zu Zeit zu überprüfen und gegebenenfalls weiteres Sulphamat zuzusetzen. Ein galvanisches
Abscheiden von Überzügen aus nicht in der vorerwähnten Weise stabilisierten Bädern können zu schwärzlichen
Überzügen führen.
Obgleich die Badtemperatur unkritisch ist, liegt sie üblicherweise
bei 50 bis 70°C, da sich mit fallender Badtemperatur auch die Abscheidungsgeschwindigkeit verringert,
während höhere Badtemperaturen zu übermäßigen Verdampfungsverlusten führen. Außerdem läßt sich das Verfahren bei Bad-,temperaturen
unter 500C nur innerhalb bestimmter Stromdichten
durchführen, da die Kathodenstromausbeute rasch mit βίο
ner Erhöhung der Kathodenstromdichte auf etwa 1 A/dm abfällt.:
Die Kathodenstromdichte beträgt bei Badtemperatureh von 50 bis 700C vorzugsweise 1 bis 4 A/dm , im Hinblick auf
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eine optimale Kathodenstromausbeute vorzugsweise 1 bis
2 A/dm2.
Durch Versuche konnte belegt werden, daß sich mit dem erfindungsgemäßen Bad galvanische Überzüge mit einer
Schichtdicke bis 5 IiM und mehr zufriedenstellend abscheiden
lassen. Dabei ist anzunehmen, daß es aufgrund geringer innerer Spannungen im Niederschlag möglich ist,
derartige Schichtdicken rissfrei zu bilden. Die inneren Spannungen können während des Verfahrens leicht durch
Einspannen des einen Endes der zu überziehenden Kathode mittels einer auf das andere Ende der Kathode ausgeübten
konstanten Kraft einer mit einem Meßgerät verbundenen Feder bestimmt werden. Die Änderung der auf die
Kathode ausgeübten Kraft aufgrund der inneren Spannungen
des Rutheniumniederschlags kann auf diese Weise festgestellt und in einer die inneren Spannungen kennzeichnenden
Eichkurve gegen die Zeit aufgetragen werden. Die Kurve wird dann in üblicher Weise für Vergleichszwecke
verwendet, wobei die innere Spannung für eine bestimmte Zeit bei einer bestimmten Standarddicke, beispielsweise
bei einer Schichtdicke von 1 i-nn abgelesen werden kann.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand mehrerer Ausführungsbeispiele des näheren erläutert.
Bei einem Versuch wurden 10 g (Ru2N(H2O)2Cl8) (NH^), in
400 cm destilliertem Wasser gelöst und die Lösung auf 900C
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erwärmt. Tropfenweise wurde dann eine konzentrierte Lösung
von Kaliumhydroxyd zugesetzt, bis der -pH-Wert der Lösung 9,5 Betrug. Der sich bildende Niederschlag aus
RUpN(OH)1^nHpO wurde abgefiltert und zum Entfernen der
Chloride gründlich mit Wasser gewaschen. Ein üblicher Silbernitrat-Versuch, bestätigte die völlige Abwesenheit
von Chloriden. Außerdem konnte kein Ruthenium in der filtrierten Lösung oder dem Waschwasser festgestellt
werden. Der Niederschlag wurde dann in eine wässrige Lösung mit 20 g Sulphamatsäure gegeben und das Lösungsvolumen
auf 300 cm gebracht. Die JLösung wurde 65 Stunden gerückflußt, wobei sich eine dunkelrote und klare Lösung
bildete. Die Lösung wurde dann abgekühlt und besaß einen pH-Wert von 1. Dieser pH-Wert wurde durch einen Zusatz
von Kaliumhydroxyd auf 1,5 erhöht und die Lösung dann als Bad zum Abscheiden der Rutheniumniederschlage A und B
auf kathodisch geschalteten dünnvergoldeten Kupferscheiben unter den folgenden Bedingungen verwendet:
Sulphatkonz entration | (g/i) | 60 | 60 |
Sulphamatkonz entrati on | (g/l) | ' 3 | . 3 |
Rutheniumkonz entrati on | (g/l) | 11 | 11 |
Badtemperatur | (0C) | 70 | 70 |
pH-Wert | 1,5 | 1,5 | |
Kathodenstromdichte | (A/dm2) | CVl | 4 |
Anodenstromdichte | (A/dm2) | 0.2 | 0.4 |
Behandlungszeit | (min.) | 140 | 140 |
Niederschlagsdichte | (/am) | 9.3 | 11.2 |
Kathodenstromausbeute | (%) | 26 | 18 |
innere Spannungen bei | |||
einer Schichtdicke von | |||
/ 30 | (cb/mm ) | 17 | 17 |
S827/1029 |
Die Überzüge waren glänzend und rissfrei.
35,2 g (Ru2N(H2O)2Cl8) (NH)3 wurden in 500 cnr5 destilliertem
Wasser gelöst und die Lösung anschließend auf 900C gebracht. Danach wurde der pH-Wert durch tropfenweises
Zugeben einer konzentrierten Kaliumhydroxyd-Lösung auf 9,5 eingestellt. Der sich dabei bildende Niederschlag
von Ru2N(H2O)c.nH20 wurde abgefiltert und mit Wasser
gründlich gewaschen, um die Chloride zu entfernen. Mittels eines üblichen Silbernitrats-Versuches wurde alsdann
festgestellt, daß der Niederschlag keinerlei Chloride mehr enthielt. Außerdem enthielten die filtrierte
Lösung und das Waschwasser kein Ruthenium. Der gewaschene Niederschlag wurde alsdann in eine Lösung von 10 cm^ konzentrierter,
mit Wasser auf ein Volumen von 500 cnr verdünnter Schwefelsäure gegeben und die Lösung zwei Stunden
gerückflußt. Nach dem Kühlen wurde die Lösung mit Wasser verdünnt, um die Rutheniumkonzentration auf 6 g/l zu verringern,
Schließlich wurden der Lösung 20 g/l Ammoniumsulphat und 20 g/l Ammoniumsulphamat zugesetzt und der pH-Wert
mittels wässrigen Ammoniaks auf 1,5 eingestellt. Die fertige Lösung wurde dann als Bad zum Abscheiden von Ruthenium
auf einer kathodisch geschalteten dünnvergoldeten Kupferscheibe unter den nachfolgend aufgeführten Bedingungen
verwendet.
Badtemperatur (0C) 70 pH-Wert 1.5
Kathodenstromdichte (A/dm ) 1
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Anodenstromdichte | (A/dm2) | 0.1 |
Behandlungszeit | (min.) | 120 |
Stromausbeute | (#) | 33 |
innere Spannungen "bei | ||
1 ,-m Schichtdicke | (cb/mm ) | 20 |
Dicke des Niederschlags ( ( m) . 5
Der Niederschlag war glänzend und rissfrei.
Im Vergleich zu dem vorerwähnten Wert beträgt die unter
ähnlichen Bedingungen gemessene innere Spannung eines Rutheniumnieder s chi age s aus einein Bad mit tu" 1^ 1^ ηΛ ηΊ Λ
normalerweise 40 bis 60 cb/mm .
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Claims (10)
1. Halogenidionenfreies Bad zum galvanischen Abscheiden von
Ruthenium mit einem pH-Wert von höchstens 4 und Ruthenium als Komplex mit der Stickstoffbrücke Ru-^-i-N^-s^-Ru
und mindestens 1,5 g/l Sulphationen,
2. Bad nach Anspruch 1, das jedoch 1 bis 20 g/l Ruthenium enthält.
3. Bad nach Anspruch 1 oder 2, dessen pH-Wert jedoch 0,5 bis 4 beträgt.
4. Bad nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dessen Sulphationenkonzentration jedoch höchstens 100 g/l
beträgt.
5. Bad nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, das jedoch zusätzlich nochmindestens 2 g/l Sulphamationen enthält.
6. Bad nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, das durch Lösen von RuJNKOHJi-.n^O in Schwefel- und/oder SuI-phamatsäure,
Rückflußen der Lösung und Einstellen der Sulphati onenkonz ent rati on sowie des pH-Wertes hergestellt worden
ist.
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7. Bad nach Anspruch 6, dessen Rutheniumkomplex durch Lösen einer (Ru2N(H2O)2Yg)^~-Ionen mit Y als Chlor oder
Brom in Wasser mit einem Alkalizusatz bis zum Ausfällen der Rutheniumverbi-ndung hergestellt worden ist.
8. Bad nach Anspruch 6, dessen Rutheniumkomplex durch einen
Zusatz von Alkalien- zu einer wässrigen Lösung von
(Ru(NO)Cl1-) -Ionen, Zusatz von Formaldehyd und Erwärmen
der Lösung bis zum Ausscheiden des Komplexes hergestellt worden ist.
9. Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Ruthenium unter Verwendung eines Bades nach einem oder mehreren der
Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
. daß die Badtemperatur 50 bis 70°C beträgt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kathodenstromdichteibis 4 A/dm2 beträgt. . . · '
303827/1029
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0018165A1 (de) * | 1979-04-10 | 1980-10-29 | Inco Europe Limited | Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Ruthenium, konzentrierte Lösung zur Badherstellung und mit Ruthenium beschichteter Gegenstand |
DE19741990C1 (de) * | 1997-09-24 | 1999-04-29 | Degussa | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von spannungsarmen, rißfesten Rutheniumschichten, Verfahren zur Herstellung und Verwendung |
DE19815568A1 (de) * | 1998-03-31 | 1999-10-07 | Bebig Isotopentechnik Und Umwe | Verfahren zur elektrolytischen Erzeugung von radioaktiven Ruthenium-Schichten auf einem Träger sowie radioaktive Ruthenium-Strahlenquellen |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1520140A (en) * | 1976-06-08 | 1978-08-02 | Inco Europ Ltd | Electrodeposition of ruthenium |
US4082624A (en) * | 1976-12-03 | 1978-04-04 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Articles electrodeposited with ruthenium and processes of producing such articles |
JPS63259095A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Nippon Mining Co Ltd | ルテニウムめつき液 |
US5783313A (en) * | 1995-12-22 | 1998-07-21 | Baldwin Hardware Corporation | Coated Article |
US5693427A (en) * | 1995-12-22 | 1997-12-02 | Baldwin Hardware Corporation | Article with protective coating thereon |
CN107021464B (zh) * | 2017-06-07 | 2019-10-15 | 王晓波 | 一种[μ-氮-双(四氯一水合钌)]酸钾的合成方法以及电子元器件表面镀钌的方法 |
CN109234757B (zh) * | 2018-10-18 | 2020-07-28 | 任杰 | 一种均匀稳定的钌铱双金属掺杂钛电极的制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE412665A (de) * | 1935-01-16 | |||
GB1244309A (en) * | 1967-10-18 | 1971-08-25 | Int Nickel Ltd | Electrodeposition of ruthenium |
CH508055A (fr) * | 1969-03-21 | 1971-05-31 | Sel Rex Corp | Procédé de placage électrolytique de ruthénium, et bain aqueux pour la mise en oeuvre de ce procédé |
US3625840A (en) * | 1970-01-19 | 1971-12-07 | Engelhard Ind Ltd | Electrodeposition of ruthenium |
-
1971
- 1971-12-17 GB GB5878071A patent/GB1407592A/en not_active Expired
-
1972
- 1972-12-12 US US00314390A patent/US3793162A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-12-15 FR FR7244916A patent/FR2163734B1/fr not_active Expired
- 1972-12-18 JP JP47127597A patent/JPS4868432A/ja active Pending
- 1972-12-18 IT IT54799/72A patent/IT974137B/it active
- 1972-12-18 DE DE19722261944 patent/DE2261944A1/de active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0018165A1 (de) * | 1979-04-10 | 1980-10-29 | Inco Europe Limited | Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Ruthenium, konzentrierte Lösung zur Badherstellung und mit Ruthenium beschichteter Gegenstand |
DE19741990C1 (de) * | 1997-09-24 | 1999-04-29 | Degussa | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von spannungsarmen, rißfesten Rutheniumschichten, Verfahren zur Herstellung und Verwendung |
DE19815568A1 (de) * | 1998-03-31 | 1999-10-07 | Bebig Isotopentechnik Und Umwe | Verfahren zur elektrolytischen Erzeugung von radioaktiven Ruthenium-Schichten auf einem Träger sowie radioaktive Ruthenium-Strahlenquellen |
DE19815568C2 (de) * | 1998-03-31 | 2000-06-08 | Bebig Isotopentechnik Und Umwe | Verfahren zur Herstellung von medizinischen radioaktiven Ruthenium-Strahlenquellen durch elektrolytische Abscheidung von radioaktivem Ruthenium auf einem Träger, mit diesem Verfahren hergestellte Strahlenquellen und Elektrolysezelle zur Erzeugung von radioaktiven Ruthenium-Schichten |
US6319190B1 (en) | 1998-03-31 | 2001-11-20 | Bebig Isotopentechnik Und Umweltdiagnostik Gmbh | Medicinal radioactive ruthenium radiation sources with high dosage rate and method for producing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1407592A (en) | 1975-09-24 |
FR2163734B1 (de) | 1975-03-28 |
FR2163734A1 (de) | 1973-07-27 |
IT974137B (it) | 1974-06-20 |
JPS4868432A (de) | 1973-09-18 |
US3793162A (en) | 1974-02-19 |
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