DE2000410C3 - Ruthenium enthaltende Elektrolytlösung und ihre Herstellung - Google Patents
Ruthenium enthaltende Elektrolytlösung und ihre HerstellungInfo
- Publication number
- DE2000410C3 DE2000410C3 DE19702000410 DE2000410A DE2000410C3 DE 2000410 C3 DE2000410 C3 DE 2000410C3 DE 19702000410 DE19702000410 DE 19702000410 DE 2000410 A DE2000410 A DE 2000410A DE 2000410 C3 DE2000410 C3 DE 2000410C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ruthenium
- electrolyte solution
- solution according
- solution
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 38
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 title claims description 37
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 title claims description 22
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 27
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- -1 ruthenium ions Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- GEHMBYLTCISYNY-UHFFFAOYSA-N Ammonium sulfamate Chemical compound [NH4+].NS([O-])(=O)=O GEHMBYLTCISYNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 claims description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 11
- 229940021013 electrolyte solution Drugs 0.000 description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 4
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- BPEVHDGLPIIAGH-UHFFFAOYSA-N ruthenium(3+) Chemical class [Ru+3] BPEVHDGLPIIAGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 244000248349 Citrus limon Species 0.000 description 1
- 235000005979 Citrus limon Nutrition 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical class OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWDHECJYKJINMO-UHFFFAOYSA-K S(N)([O-])(=O)=O.[Ru+3].S(N)([O-])(=O)=O.S(N)([O-])(=O)=O Chemical compound S(N)([O-])(=O)=O.[Ru+3].S(N)([O-])(=O)=O.S(N)([O-])(=O)=O CWDHECJYKJINMO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- UWBHMRBRLOJJAA-UHFFFAOYSA-N oxaluric acid Chemical compound NC(=O)NC(=O)C(O)=O UWBHMRBRLOJJAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- OJLCQGGSMYKWEK-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+);triacetate Chemical compound [Ru+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O OJLCQGGSMYKWEK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y15/00—Nanotechnology for interacting, sensing or actuating, e.g. quantum dots as markers in protein assays or molecular motors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
- C25D3/52—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals characterised by the organic bath constituents used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
Die Erfindung betriift eine rutheniumhaltige Elektrolytlösung,
die sich zur galvanischen Abscheidung von r>5
Ruthenium eignet, und ein Verfahren zur Herstellung derselben.
Aus US-PS 31 23 544 ist ein wäßriges saures Rutheniumbad bekannt, das Ruthenium in Form eines
Komplexes und Sulfaminsäure gelöst enthält. Die b"
Herstellung dieses Elektrolyten erfordert mehrere Fällungs- und Lösungsstufen, was zu schlechteren
Ausbeuten führt. Der so erhaltene Elektrolyt ist außerdem nicht stabil, und die mit ihm erhaltenen
Niederschläge neigen zu Unregelmäßigkeiten. b>
Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen
stabileren Elektrolyten zu schaffen, der einwandfreie Rutheniumüberzüge erg-bt, sowie dessen Herstellung zu
vereinfachen.
Die Lösung dieser Aufgabe liegt in der Bereitstellung eines wäßrigen. Ruthenium enthaltenden Elektrolyten,
der sich dadurch kennzeichnet, daß er eine wäßrige
Lösung mit meinem pH-Wert im Bereich von 1,2 bis 3,0
darstellt und
(a) Ruthenium-Ionen eines Komplexes mit organischer Säure,
(b) Sulfamat-lonen und
(c) Ammonium-Ionen
enthält
Die mit diesem Elektrolyten hergestellten Niederschläge sind glänzend, haften fest an der Unterlage und
sind frei von Unregelmäßigkeiten. Sie sind hart ohne
daß sich eine starke Rißbildung zeigt
Die Herstellung der Elektrolytlösung erfolgt indem man eine wäßrige Lösung erhitzt die eine Ruthenium^!!)-Verbindung
und eine organische Säure enthält, und zu dieser Lösung Sulfaminsäure und ein Ammoniumsalz
hinzufügt
Ruthenium(lll)-Verbindungen für die Zwecke der
Erfindung sind z. B. Ruthenium(lll)-halogenide, -sulfat
und -nitrat, Oxide und Hydroxide des Rutheniums in Lösung in Salpetersäure, organische Salze des dreiwertigen
Rutheniums, z. B. Ruthenium-acetat, und Ruthenium(III)-sulfamat
Die bevorzugte Ruthenium(lII)-Verbindung für die Zwecke der Erfindung stellt das
Rutheniumtrichlorid dar. Als Ruthenium(IIl)-Verbindüngen für die Zwecke der Erfindung können auch
Ruthenium(l11)-Verbindungen des Handels Verwendung finden, die in unterschiedlichen Anteilen zwei- und
vierwertiges Ruthenium enthalten können. Die Ruthenium(III)-Verbindungen
können auch Kristallwasser enthalten. Wenn notwendig, kann man die Ruthenium(III)-Verbindungen
vor der Verwendung gemäß der Erfindung einer Vorbehandlung mit Salpetersäure zur
Bildung einer Lösung unterwerfen.
Organische Säuren für die Zwecke der Erfindung sind z. B. ein-, zwei- und dreibasische, aliphatische Carbonsäuren,
die eine oder mehrere Hydroxylgruppen enthalten können, z. B. Essig-, Zitronen-, Oxal-, Wein-,
Hepton-, Apfel-, Glucon-, Milch- und Glykolsäure. Als organische Säure bevorzugt wird die Essigsäure, die
man vorzugsweise in einer solchen Menge einsetzt, daß der Elektrolyt insgesamt 0,1 bis 20, insbesondere 0,5 bis
5 g freie und in Komplexform befindliche Essigsäure/l enthält. Die Mengen anderer organischer Säuren bei der
Anwendung gemäß der Erfindung sind vorzugsweise chemisch den bevorzugten Essigsäuremengen äquivalent.
Vorzugsweise setzt man für die Zwecke gemäß der Erfindung Sulfaminsäure in solcher Menge ein, daß die
Lösung insgesamt 10 bis 300, insbesondere 15 bis 250 g freie und in Komplexform befindliche Sulfaminsäure/1
enthält
Die Rutheniumkonzentration in der Elektrolytlösung kann sehr verschieden gewählt werden, aber vorzugsweise
arbeitet man mit einem Gehalt an Ruthenium von 1 bis 50, insbesondere 5 bis 20 g/l.
Als Ammoniumsalz wird das Ammoniumsulfamat bevorzugt, das vorzugsweise in einer solchen Menge
zugesetzt wird, daß die Elektrolytlösung 1 bis 75, insbesondere 10 bis 30 g/l enthält.
Die Elektrolytlösungen gemäß der Erfindung werden vorzugsweise aus einem Konzentrat zubereitet, das
Ruthenium in einer Menge von 50 g/l oder mehr enthält,
wobei man das Konzentrat auch zur Auffrischung der
Elektrolytlösung während ihres Einsatzes verwendet Zur Konzentrat-Herstellung kann man eine wäßrige
Lösung mit meinem Rutheniumgehalt (in Form von Rutheniumtrichlorid) von 300 g mit 30 bis 50 ml
Essigsäure behandeln, die anfallende Lösung 2 Std. rückflußbehandeln, hierauf mit !94Og Sulfaminsäure
versetzen und die so gebildete Lösung weitere 3 Std. erhitzen, worauf man 250 g Ammoniumsulfamat hinzugibt
und die anfallende Lösung auf ein Konzentrat mit einem Rutheniumgehalt von 50 g/l oder mehr einengt
Zur Bildung einer Elektrolytlösung gemäß der Erfindung verdünnt man das Konzentrat auf eine
Rutheniumkonzentration von 1 bis 50, vorzugsweise 5 bis 20 g/L Während des Verdünnens versetzt man mit
ungefähr 1 g Ammoniumsulfamat/g Ruthenium in dem Konzentrat
Zur Erzielung einer Elektrolytlösung gemäß der Erfindung wird der pH-Wert der Lösung durch Zusatz
verdünnten Ammoniaks (5 bis 10% Ammoniak) auf 1,2 bis 3,0, vorzugsweise 1,6 bis 2,0, eingestellt Die
Herstellung von Elektrolytlösungen gemäß der Erfindung aus dem in der obigen Weise hergestellten
Konzentrat und die Anwendung der so erhaltenen Elektrolytlösungen ist in den Beispielen erläutert
Bei dem galvanischen Prozeß dient der Gegenstand, dessen Oberfläche zu beschichten ist, als Kathode,
während die Anode z. B. von einer Platinanode oder platinierten Titananode gebildet werden kann. Wenn
gewünscht, kann man die Oberfläche des Metallgegenstandes vor der Behandlung in dem Rutheniumbad
vergolden. Das Bad kann bei Temperaturen von 20 bis 80° C Anwendung finden und wird vorzugsweise bei
Temperaturen von 60 bis 70° C eingesetzt. Der pH-Wert
des Bades wird so gelenkt, daß er während der Abscheidung im Bereich von 1,2 bis 3,0, vorzugsweise 1,6
bis 2,0, liegt. Man kann bei Kathodenstromdichten von 0,54 bis 5,4 A/dm2 arbeiten, wobei ein Bereich von 1,1 bis
2,2 A/dm2 bevorzugt wird. Die Kaihodenstromausbeute
liegt im Bereich von 40 bis 75%.
Das Bad erlaubt die Erzielung von Rutheniumniederschlägen mit einer Vickers-Härte von 800 bis 900 und
einer Dicke von bis zu 5 μπι, ohne daß sich eine starke
Rißbildung einstellt
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuterung der Erfindung.
100 ml des in der obigen Weise zubereiteten Konzentrates und 5 g Ammoniumsulfamat wurden zu
Wasser hinzugefügt Der pH-Wert der Lösung wurde mit 50%iger Ammoniumhydroxidlösung auf 2,0 eingestellt
und die Lösung dann mit Wasser auf ein Volumen von 11 verdünnt bzw. aufgefüllt, wobei eine Elektrolytlösung
mit einem pH-Wert von 2,0 anfiel, die als Bad bei der galvanischen Abscheidung von Ruthenium bei
folgenden Bedingungen eingesetzt wurde:
| Temperatur | 70° C |
| Kathodenstromdichte | 2,2 A/dm2 |
| Anode | Platin |
| Kathode | Messing, poliert, |
| mit 1 bis 2 μη)& | |
| Zeit | 20 min |
Am Ende der galvanischen Behandlung lag auf der Kathode ein haftender, glänzender Rutheniumüberzug
von 4,23 μΐη Dicke vor. Die Kathodenstromausbeute
errechnete sich zu 41%.
200 ml des in der obigen Weise zubereiteten Konzentrats und 10 g Ammoniumsuifamat wurden zu
Wasser hinzugefügt Der pH-Wert der Lösung wurde
mit 50%iger Ammoniumhydroxidlösung auf 2,0 eingestellt und die Lösung mit Wasser auf 11 aufgefüllt wobei
eine Lösung mit einem pH-Wert von 2,0 anfiel, die als
Bad bei der galvanischen Abscheidung von Ruthenium bei folgenden Bedingungen eingesetzt wurde:
Anode
Kathode
Zeit
70°C
1,1 A/dm2
Platin
1,1 A/dm2
Platin
Messing, poliert,
mit 1 bis 2 μΐη Gold
10 min
mit 1 bis 2 μΐη Gold
10 min
Am Ende der galvanischen Behandlung lag auf der Kathode ein haftender, glänzender Rutheniumüberzug
von 1,52 μίτι Dicke vor. Die Kathodenstromausbeute
errechnete sich zu 58,4%.
240 ml des in der obigen Weise zubereiteten 2) Konzentrates und 12g Ammoniumsulfamat wurden zu
Wasser hinzugefügt Der pH-Wert der Lösung wurde mit 50%iger Ammoniumhydroxidlösung auf 2,0 eingestellt
und die Losung mit Wasser auf 11 aufgefüllt, wobei
eine Lösung mit einem pH-Wert von 2,0 anfiel, die als ω Bad bei der galvanischen Abscheidung von Ruthenium
bei folgenden Bedingungen eingesetzt wurde:
Am Ende der galvanischen Behandlung lag auf der Kathode ein haftender, glänzender Rutheniumüberzug
von 1,90 μιη Dicke vor. Die Kathodenstromausbeute
errechnete sich zu 73,0%.
400 ml des in der obigen Weise zubereiteten Konzentrats und 20 g Ammoniumsulfamat wurden zu
Wasser hinzugefügt Der pH-Wert der Lösung wurde mit 50%iger Ammoniumhydroxidlösung auf 2,0 eingestellt
und die Lösung mit Wasser auf 1 1 aufgefüllt, wobei eine Lösung mit meinem pH-Wert von 2,0 anfiel, die als
Bad bei der galvanischen Abscheidung von Ruthenium bei folgenden Bedingungen eingesetzt wurde:
| Temperatur | 70° C |
| Kathodenstromdichte | 1,1 A/dm2 |
| Anode | Platin |
| Kathode | Messing, poliert. |
| mit 2 μπι Gold | |
| Zeit | 10 min |
Anode
Kathode
Zeit
70° C
1,1 A/dm2
Platin
1,1 A/dm2
Platin
Messing, poliert,
mit 1 bis 2 μπι Gold
10 min
mit 1 bis 2 μπι Gold
10 min
Am Ende der galvanischen Behandlung lag auf der Kathode ein haftender, glänzender Rutheniumüberzug
von 1,14 μπι Dicke vor. Die Kathodenstromausbeute errechnete sich zu 43,0%.
Wie die obigen Beispiele zeigen, tritt trotz breiter Variation der Arbeitsbedingungen keine Anodenverfärbung
oder Ausfällung auf und werden glänzende, fest an der Unterlage haftende und von Unregelmäßigkeiten
freie Rutheniumniederschläge erhalten.
Claims (10)
1. Beständige, wäßrige, zum Einsatz bei der galvanischen Abscheidung von Ruthenium geeignete
Elektrolytlösung, die Ruthenium in komplexer Bindung sowie Sulfaminsäure enthält, dadurch
gekennzeichnet, daß sie eine wäßrige Lösung mit einem pH-Wert im Bereich von 1,2 bis 3,0
darstellt und
a) Ruthenium-Ionen eines Komplexes mit organischer Säure,
b) Sulfamat-Ionen und
c) Ammonium-Ionen
enthält.
2. Elektrolytlösung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Rutheniumgehalt von 5 bis 20 g/l.
3. Elektrolytlösung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Säure
eine ein-, zwei- oder dreibasische, aliphatische 2u
Carbonsäure ist
4. Elektrolytlösung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Carbonsäure eine oder
mehrere Hydroxylgruppen enthält
5. Elektrolytlösung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Säure Essigsäure
ist
6. Elektrolytlösung nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch einen Gesamtgehalt an freier und in
Komplexform befindlicher Essigsäure von 0,5 bis 5 g/l.
7. Elektrolytlösung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch einen
Gesamtgehalt an freier und in Komplexform befindlicher Sulfaminsäure von 15 bis 250 g/l. «
8. Elektrolytlösung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch einen
Gehalt an Ammoniumsulfamat von 10 bis 30 g/l.
9. Verfahren zur Herstellung der Elektrolytlösung gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, ■»<>
dadurch gekennzeichnet, daß man eine wäßrige, Ruthenium(Ill)-Verbindung und organische Säure
enthaltende Lösung erhitzt und durch Zusatz von Sulfaminsäure und Ammoniumsalz eine Elektrolytlösung
mit einem pH-Wert im Bereich von 1,2 bis 3,0 bildet.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß man als Ruthenium(111)-Verbindung
Rutheniumtrichlorid verwendet.
50
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB105169A GB1191435A (en) | 1969-01-07 | 1969-01-07 | Improvements in or relating to Electrode position of Ruthenium. |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2000410A1 DE2000410A1 (de) | 1970-07-16 |
| DE2000410B2 DE2000410B2 (de) | 1978-11-30 |
| DE2000410C3 true DE2000410C3 (de) | 1979-08-09 |
Family
ID=9715317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19702000410 Expired DE2000410C3 (de) | 1969-01-07 | 1970-01-07 | Ruthenium enthaltende Elektrolytlösung und ihre Herstellung |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS4914449B1 (de) |
| DE (1) | DE2000410C3 (de) |
| ES (1) | ES375190A1 (de) |
| FR (1) | FR2027873A1 (de) |
| GB (1) | GB1191435A (de) |
| NL (1) | NL164330C (de) |
| SE (1) | SE354299B (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59115151U (ja) * | 1983-01-25 | 1984-08-03 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 歯車伝達装置 |
| DE19741990C1 (de) * | 1997-09-24 | 1999-04-29 | Degussa | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von spannungsarmen, rißfesten Rutheniumschichten, Verfahren zur Herstellung und Verwendung |
| JP4527743B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2010-08-18 | アサヒプリテック株式会社 | ルテニウム金属粉末の製造方法 |
-
1969
- 1969-01-07 GB GB105169A patent/GB1191435A/en not_active Expired
-
1970
- 1970-01-02 SE SE1170A patent/SE354299B/xx unknown
- 1970-01-05 ES ES375190A patent/ES375190A1/es not_active Expired
- 1970-01-07 JP JP219170A patent/JPS4914449B1/ja active Pending
- 1970-01-07 NL NL7000175A patent/NL164330C/xx active
- 1970-01-07 DE DE19702000410 patent/DE2000410C3/de not_active Expired
- 1970-01-07 FR FR7000410A patent/FR2027873A1/fr active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES375190A1 (es) | 1972-06-16 |
| NL164330C (nl) | 1980-12-15 |
| DE2000410B2 (de) | 1978-11-30 |
| SE354299B (de) | 1973-03-05 |
| GB1191435A (en) | 1970-05-13 |
| DE2000410A1 (de) | 1970-07-16 |
| FR2027873A1 (en) | 1970-10-02 |
| NL7000175A (de) | 1970-07-09 |
| JPS4914449B1 (de) | 1974-04-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2947821C2 (de) | ||
| AT271127B (de) | Verfahren und Bad zur Herstellung eines Iridiumüberzuges | |
| DE889099C (de) | Verfahren und Bad zum UEberziehen von Gegenstaenden aus Aluminium und Aluminiumlegierungen | |
| DE3012999C2 (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von hochglänzenden und duktiler Goldlegierungsüberzügen | |
| DE1803524A1 (de) | Rutheniumverbindung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE3011991C2 (de) | Verfahren zur Elektroplattierung eines Stahlbandes mit einer glänzenden Zn-Ni-Legierung | |
| DE647334C (de) | Elektrolyt zur Erzeugung elektrolytischer Niederschlaege von Ruthenium | |
| DE3400670A1 (de) | Waessriges goldsulfit enthaltendes galvanisches bad und verfahren zur galvanischen abscheidung von gold unter verwendung dieses bades | |
| DE2114119A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Ruthenium und Elektrolysebad zur Durchfuehrung dieses Verfahrens | |
| DE2000410C3 (de) | Ruthenium enthaltende Elektrolytlösung und ihre Herstellung | |
| DE2035599C3 (de) | Wäßrig saures Bad zur elektrolytischen Erzeugung von anodischen Oxidschichten mit bronzenen Farbtonen auf Werkstucken aus Aluminium und Aluminiumlegierungen | |
| DE2261944A1 (de) | Bad zum galvanischen abscheiden von ruthenium | |
| DE1959907A1 (de) | Rutheniumkomplex und seine Verwendung bei der Elektroplattierung | |
| EP0619386B1 (de) | Elektrolytische Abscheidung von Palladium oder Palladiumlegierungen | |
| DE3925839A1 (de) | Verfahren zur erzeugung schwarzer ueberzuege auf zink oder zinklegierungen | |
| DE3300543A1 (de) | Waessrig-saure chromatierloesung und verfahren zur herstellung gefaerbter chromatueberzuege auf elektrochemisch abgeschiedenen zink-nickel-legierungen | |
| DE2347681C2 (de) | Elektrolyt und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin | |
| DE1111897B (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden glaenzender Goldlegierungsueberzuege | |
| DE2131815A1 (de) | Elektrolytische Vergoldungsloesungen und Verfahren zu ihrer Verwendung | |
| DE633091C (de) | Verfahren zur Vorbehandlung von Aluminium und Aluminiumlegierungen zwecks Aufbringung von galvanischen Niederschlaegen | |
| DE3135597C2 (de) | Verfahren zur Auffrischung einer Palladium/Nickel-Legierung-Plattierungslösung mit Palladium | |
| DE2439656C2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung einer Zinn-Nickel-Legierung | |
| DE973986C (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Indium, insbesondere Indiumueberzuegen | |
| DE692124C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Oxydation von Eisen und Stahl | |
| DE688398C (de) | Verfahren zur Herstellung silberhaltiger, galvanischer Niederschlaege |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |