JP4527743B2 - ルテニウム金属粉末の製造方法 - Google Patents
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- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 161
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 78
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 11
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 152
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 70
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 30
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 40
- 239000000047 product Substances 0.000 description 30
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 27
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 20
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 16
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 15
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 14
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 13
- 238000001036 glow-discharge mass spectrometry Methods 0.000 description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 8
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- -1 ruthenium ions Chemical class 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSAWJDWGUUYIPS-UHFFFAOYSA-N O.O.[Ru]=O Chemical compound O.O.[Ru]=O GSAWJDWGUUYIPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 1
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Description
陽極(アノード):Ru+4OH-→RuO4 2-+2H++4e- ・・・(a)
陰極(カソード):RuO4 2-+8H++6e-→Ru+4H2O ・・・(b)
陰極(カソード):RuO4 2-+4H++2e-→RuO2・2H2O ・・・(c)
塩基性の電解液中でルテニウムターゲット材の端材(ルテニウム含有材)を陽極として用いて電気分解し、陰極への析出物を回収し、これを非酸化性雰囲気で加熱乾燥した。
上記実験例1において、Naイオンのモル濃度を0.00025mol/Lになるように調整すると共に、電流密度を0.01A/cm2とする点以外は、上記実験例1と同じ条件で電気分解した。なお、電解液のpHは10.4であった。
上記実験例1において、Naイオンのモル濃度を0.77mol/Lになるように調整すると共に、電流密度を0.03A/cm2とする点以外は、上記実験例1と同じ条件で電気分解した。なお、電解液のpHは13.9であった。
上記実験例1において、電圧を1Vとし、電流密度を0.01A/cm2とする点以外は、上記実験例1と同じ条件で電気分解した。なお、電解液のpHは13.3であった。
上記実験例1において、電圧を5Vとし、電流密度を0.05A/cm2とする点以外は、上記実験例1と同じ条件で電気分解した。なお、電解液のpHは13.3であった。
上記実験例1において、陽極として電解液が浸透するTi製のメッシュ状の容器に塊状のルテニウム廃棄物を100g投入したものを用いる代わりに、電解液が浸透するNi製のメッシュ状の容器に塊状のルテニウム廃棄物を100g投入したものを用いた。
上記実験例1において、電解液としてイオン交換水にNaOHを添加してNaイオンのモル濃度(アルカリ金属イオンのモル濃度)を調整する代わりに、KOHを添加してKイオンのモル濃度(アルカリ金属イオンのモル濃度)を0.25mol/Lに調整した点以外は、上記実験例1と同じ条件で電気分解した。なお、電解液のpHは13.1であった。
上記実験例2において、電解液としてイオン交換水にNaOHを添加してNaイオンのモル濃度(アルカリ金属イオンのモル濃度)を調整する代わりに、KOHを添加してKイオンのモル濃度(アルカリ金属イオンのモル濃度)を0.00025mol/Lに調整した点以外は、上記実験例2と同じ条件で電気分解した。なお、電解液のpHは10.2であった。
上記実験例3において、電解液としてイオン交換水にNaOHを添加してNaイオンのモル濃度(アルカリ金属イオンのモル濃度)を調整する代わりに、KOHを添加してKイオンのモル濃度(アルカリ金属イオンのモル濃度)を0.77mol/Lに調整した点以外は、上記実験例3と同じ条件で電気分解した。なお、電解液のpHは13.7であった。
上記実験例1において、電解液としてNaイオンのモル濃度(アルカリ金属イオンのモル濃度)が1.32mol/Lとなるように調整したものを用いる点と、電流密度を0.05A/cm2とする点以外は、上記実験例1と同じ条件で電気分解した。電解液のpHは14以上であった。
上記実験例1において、電解液としてNaイオンのモル濃度(アルカリ金属イオンのモル濃度)が0.000025mol/Lと低くなるように調整したものを用いる点と、電圧を3Vとする点と、電流密度を0.01A/cm2とする点以外は、上記実験例1と同じ条件で電気分解した。電解液のpHは9.3であった。
上記実験例1において、電解液としてNH3を14.7mol/L含有するアンモニア水溶液を用いる点以外は、上記実験例1と同じ条件で電気分解した。なお、アルカリ金属イオンのモル濃度は0mol/Lであり、電解液のpHは12.2であった。
Claims (1)
- アルカリ金属イオンを0.0001〜1.0mol/Lの範囲で含有するアルカリ金属の水酸化物または炭酸化物からなる塩基性電解液中で、ルテニウム含有材を陽極として用いて電気分解する工程と、
陰極に析出したルテニウム金属粉末を回収する工程、
を含むことを特徴とするルテニウム金属粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007060756A JP4527743B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | ルテニウム金属粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007060756A JP4527743B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | ルテニウム金属粉末の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008223061A JP2008223061A (ja) | 2008-09-25 |
JP4527743B2 true JP4527743B2 (ja) | 2010-08-18 |
Family
ID=39842018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007060756A Active JP4527743B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | ルテニウム金属粉末の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4527743B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011004887A1 (ja) * | 2009-07-09 | 2011-01-13 | 株式会社東芝 | 高純度モリブデン粉末およびその製造方法 |
JP5525301B2 (ja) | 2010-03-24 | 2014-06-18 | 国立大学法人東北大学 | 金属微粒子・金属酸化物微粒子の製造方法、金属微粒子・金属酸化物微粒子、並びに金属含有ペーストおよび金属膜・金属酸化物膜 |
KR101285284B1 (ko) * | 2011-04-26 | 2013-07-11 | 희성금속 주식회사 | 폐 루테늄(Ru) 타겟을 이용한 초고순도 루테늄(Ru) 분말 및 타겟의 제조방법 |
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Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1191435A (en) * | 1969-01-07 | 1970-05-13 | Engelhard Ind Ltd | Improvements in or relating to Electrode position of Ruthenium. |
-
2007
- 2007-03-09 JP JP2007060756A patent/JP4527743B2/ja active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008223061A (ja) | 2008-09-25 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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